JP2002322438A - Masking tape - Google Patents

Masking tape

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JP2002322438A
JP2002322438A JP2001124767A JP2001124767A JP2002322438A JP 2002322438 A JP2002322438 A JP 2002322438A JP 2001124767 A JP2001124767 A JP 2001124767A JP 2001124767 A JP2001124767 A JP 2001124767A JP 2002322438 A JP2002322438 A JP 2002322438A
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JP
Japan
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masking tape
sensitive adhesive
pressure
resin
layer
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Application number
JP2001124767A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuhiro Shimomura
和弘 下村
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Sekisui Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sekisui Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a masking tape excellent in via-hole processability by UV laser method without leaving a residue on a via-hole wall or a via-hole bottom and capable of easily forming a finely processible via-hole. SOLUTION: In this masking tape, an adhesive layer is formed on one side of a base material layer having <=10% light transmittance of 300-380 nm wave length.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、UVレーザー法に
よるビアホール加工時のマスキングテープに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a masking tape for processing a via hole by a UV laser method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体の小型化に伴い、半導体を
搭載するプリント配線板やパッケージ等にも小型化が要
求されており、ビアホールの小径化が進んでいる。
2. Description of the Related Art In recent years, with the miniaturization of semiconductors, printed wiring boards and packages on which semiconductors are mounted are also required to be miniaturized.

【0003】従来、プリント基板に対するビアホール加
工の方法としてはフォトビア法が一般的であったが、ビ
アホールの小径化に伴い、最近ではCO2 レーザーやU
Vレーザーを用いるビアホール加工法が一般的となりつ
つある。
Conventionally, as a method for via holes for the printed circuit board is photo via methods were common, with the diameter of the via hole, and recently a CO 2 laser and U
Via hole processing using a V laser is becoming common.

【0004】プリント基板をビアホール加工した後、こ
のビアホール内に導電性ペーストを充填してプリント配
線板やパッケージ等の層間導通を行うが、導電性ペース
トを充填する際に導電性ペーストの付着を避けねばなら
ない部分を被覆してマスキング(保護)するためにマス
キングテープが使用される。
After a printed board is processed with a via hole, a conductive paste is filled into the via hole to perform interlayer conduction of a printed wiring board, a package, or the like. However, when the conductive paste is filled, the conductive paste is prevented from adhering. Masking tape is used to cover and mask (protect) critical parts.

【0005】上記マスキングテープには、被覆部分を十
分にマスキングするためにマスキングテープを構成する
基材層が優れた機械的物性、耐熱性、耐久性等を有する
こと、マスキングテープを構成する粘着剤層が被覆部分
(被着体)に対して優れた密着性を有すること、使用後
のマスキングテープが被覆部分に糊残りすることのない
優れた再剥離性を有していること等が要求される。ま
た、マスキングテープを被覆部分に貼り付けた後にビア
ホール加工を行うため、マスキングテープ自体にもビア
ホール加工適性が要求される。
[0005] The above-mentioned masking tape has to have a base layer constituting the masking tape having excellent mechanical properties, heat resistance, durability, etc. in order to sufficiently mask the covering portion, and an adhesive forming the masking tape. It is required that the layer has excellent adhesion to the coated portion (substrate) and that the used masking tape has excellent removability without leaving adhesive on the coated portion. You. In addition, since the via hole processing is performed after the masking tape is attached to the covering portion, the masking tape itself is required to have via hole processing aptitude.

【0006】ビアホール加工法の内、CO2 レーザーを
用いる方法の場合、マスキングテープへのビアホール加
工性は優れているものの、ビアホール壁やビアホール底
部にマスキングテープに用いられている樹脂の残渣が残
るという問題点がある。
[0006] Among the via hole processing methods, in the case of a method using a CO 2 laser, although the via hole processing property to the masking tape is excellent, the residue of the resin used for the masking tape remains on the via hole wall and the bottom of the via hole. There is a problem.

【0007】そのため、例えば、特開平4−33788
号公報に開示されているようにCO 2 レーザーの出力条
件や加工条件等を変更する必要が生じたり、ビアホール
底部の樹脂残渣を除去するために例えば化学エッチング
による除去のような後工程が必要となり、作業工程が煩
雑になる。
For this reason, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-33788
As disclosed in TwoLaser output power
Conditions, processing conditions, etc.
For example, chemical etching to remove resin residues at the bottom
Post-processing such as removal by
It gets messy.

【0008】一方、ビアホール加工法の内、UVレーザ
ーを用いる方法の場合、ビアホール壁やビアホール底部
における樹脂の残渣が少なく、微細加工が可能であると
いう上記CO2 レーザー法に勝る利点があるものの、通
常のマスキングテープではUV(紫外線)光が透過して
しまうため、マスキングテープ自体へのビアホール加工
が困難であるという問題点がある。
On the other hand, among the via hole processing methods, a method using a UV laser has an advantage over the CO 2 laser method in that the resin residue on the via hole wall and the bottom of the via hole is small and fine processing is possible. Since a normal masking tape transmits UV (ultraviolet) light, there is a problem that it is difficult to form a via hole in the masking tape itself.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
問題点に鑑み、UVレーザー法によるビアホール加工適
性に優れ、ビアホール壁やビアホール底部に残渣を生じ
ることが少なく、微細加工可能なビアホールを簡便に形
成することのできるマスキングテープを提供することに
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide a via hole which is excellent in the suitability for processing a via hole by a UV laser method, has little residue on the via hole wall and the bottom of the via hole, and can be processed finely. An object of the present invention is to provide a masking tape that can be formed easily.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明に
よるマスキングテープは、波長300〜380nmの光
線透過率が10%以下である基材層の片面に粘着剤層が
形成されてなることを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a masking tape having a pressure-sensitive adhesive layer formed on one surface of a base material layer having a light transmittance of 10% or less at a wavelength of 300 to 380 nm. It is characterized by.

【0011】本発明のマスキングテープを構成する基材
層は、波長300〜380nmの光線透過率が10%以
下であることが必要である。尚、本発明で言う光線透過
率とは、JIS K−7105「プラスチックの光学的
特性試験方法」のA法に準拠して測定される光線透過率
を意味する。
The base layer constituting the masking tape of the present invention must have a light transmittance at a wavelength of 300 to 380 nm of 10% or less. In addition, the light transmittance referred to in the present invention means a light transmittance measured according to the method A of JIS K-7105 “Testing method for optical properties of plastics”.

【0012】基材層の上記光線透過率が10%を超える
と、波長300〜380nmの光線(UV)が基材層を
透過してしまうため、基材層のUVレーザー(波長35
5nm)吸収率が低くなり、マスキングテープ自体のU
Vレーザー法によるビアホール加工適性が不十分とな
る。
When the light transmittance of the substrate layer exceeds 10%, light (UV) having a wavelength of 300 to 380 nm is transmitted through the substrate layer.
5nm) Absorbance is low and U of masking tape itself
Via hole processing aptitude by the V laser method becomes insufficient.

【0013】基材層を成形するために用いられる樹脂と
しては、波長300〜380nmの光線透過率を10%
以下とすることが可能であり、マスキングテープの基材
層として必要な優れた機械的物性、耐熱性、耐久性等を
発現し得るものであれば如何なる樹脂であっても良く、
特に限定されるものではないが、例えば、ポリエチレン
テレフタレートのようなポリエステル系樹脂、ポリプロ
ピレンのようなポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系
樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポ
リイミド系樹脂、フッ素系樹脂等のフィルム状(シート
状も含む)に成形可能な各種樹脂が挙げられる。これら
の樹脂は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併
用されても良い。
The resin used to mold the base material layer has a light transmittance of 300% to 380 nm of 10%.
It is possible to be the following, it may be any resin as long as it can express excellent mechanical physical properties, heat resistance, durability and the like required as a base layer of the masking tape,
Although not particularly limited, for example, a film of a polyester resin such as polyethylene terephthalate, a polyolefin resin such as polypropylene, a polystyrene resin, a polycarbonate resin, a polyamide resin, a polyimide resin, a fluorine resin, etc. Various resins that can be formed into a shape (including a sheet shape) are exemplified. These resins may be used alone or in combination of two or more.

【0014】上記樹脂から成形される基材層の波長30
0〜380nmの光線透過率を10%以下とする方法と
しては、特に限定されるものではないが、例えば、上記
樹脂を主成分とし、これに波長300〜380nmの光
線を遮蔽し得る紫外線吸収剤や例えば黒色顔料などの顔
料等が混練されてなる樹脂組成物をフィルム状に成形し
て基材層とする方法、上記樹脂を主成分とする樹脂組成
物をフィルム状に成形した後、このフィルムの片面もし
くは両面に紫外線吸収剤を塗工して基材層とする方法、
また、上記フィルムの片面もしくは両面に黒色などの色
で印刷や染色等を施して基材層とする方法等が挙げられ
る。これらの方法は、単独で用いられても良いし、2種
類以上が併用されても良い。
The wavelength of the substrate layer formed from the above resin is 30
The method for reducing the light transmittance at 0 to 380 nm to 10% or less is not particularly limited. For example, an ultraviolet absorber mainly containing the above resin and capable of blocking light having a wavelength of 300 to 380 nm is used. Or a method of forming a resin composition obtained by kneading a pigment such as a black pigment into a film to form a base layer, and forming the resin composition containing the resin as a main component into a film, and then forming the film A method of applying a UV absorber on one or both sides of the base material to form a substrate layer,
Further, a method of printing or dyeing a color such as black on one surface or both surfaces of the above-mentioned film to form a base material layer, or the like may be used. These methods may be used alone or in combination of two or more.

【0015】樹脂に紫外線吸収剤や顔料等を混練する方
法としては、例えば、樹脂を加熱溶融する際に紫外線吸
収剤や顔料等を添加して均一に混練する方法等が挙げら
れる。樹脂に対する紫外線吸収剤や顔料等の混練量は、
基材層の前記光線透過率が10%以下となり得る量であ
れば良い。
As a method of kneading the resin with an ultraviolet absorber or a pigment, for example, there is a method of adding an ultraviolet absorber or a pigment or the like when the resin is heated and melted, and uniformly kneading the resin. The kneading amount of UV absorbers and pigments for the resin is
Any amount may be used as long as the light transmittance of the substrate layer can be 10% or less.

【0016】フィルムの片面もしくは両面に紫外線吸収
剤を塗工する方法としては、例えば、紫外線吸収剤を有
機溶剤などの溶媒に溶解もしくは分散させ、この溶液も
しくは分散液をグラビアコーター等を用いてフィルムの
片面もしくは両面に塗工する方法等が挙げられる。フィ
ルムに対する紫外線吸収剤の塗工量は、基材層の前記光
線透過率が10%以下となり得る量であれば良い。
As a method of coating an ultraviolet absorber on one or both surfaces of the film, for example, the ultraviolet absorber is dissolved or dispersed in a solvent such as an organic solvent, and this solution or dispersion is applied to the film using a gravure coater or the like. For example, a method of coating on one side or both sides. The coating amount of the ultraviolet absorber to the film may be any amount as long as the light transmittance of the substrate layer can be 10% or less.

【0017】また、フィルムの片面もしくは両面に印刷
や染色等を施す方法としては、例えば、波長300〜3
80nmの光線を遮蔽し得る印刷インキや染色剤等を用
いて、常法により、フィルムの片面もしくは両面に印刷
や染色等を施す方法等が挙げられる。フィルムに対する
印刷や染色等の度合いは、基材層の前記光線透過率が1
0%以下となり得るものであれば良い。
As a method for printing or dyeing on one or both sides of the film, for example, a wavelength of 300 to 3
A method in which printing or dyeing is performed on one or both surfaces of a film by a conventional method using a printing ink or a dye that can block a light beam of 80 nm is used. The degree of printing or dyeing on the film is such that the light transmittance of the substrate layer is 1
What is necessary is just to be 0% or less.

【0018】基材層を成形するために用いられる樹脂組
成物には、主成分としての樹脂、波長300〜380n
mの光線を遮蔽し得る紫外線吸収剤や黒色などの顔料等
以外に、本発明の課題達成を阻害しない範囲で必要に応
じて、充填剤、軟化剤、可塑剤、滑剤、難燃剤、帯電防
止剤、防曇剤、着色剤、酸化防止剤(老化防止剤)、熱
安定剤、光安定剤等の各種添加剤の1種類もしくは2種
類以上が添加されていても良い。
The resin composition used for molding the base material layer includes a resin as a main component and a wavelength of 300 to 380 n.
m, other than an ultraviolet absorber or a pigment such as black, which can block light rays, if necessary, within a range not hindering the achievement of the object of the present invention, a filler, a softener, a plasticizer, a lubricant, a flame retardant, an antistatic. One or two or more of various additives such as an agent, an antifogging agent, a colorant, an antioxidant (antioxidant), a heat stabilizer, and a light stabilizer may be added.

【0019】本発明のマスキングテープを構成する基材
層の成形方法としては、特に限定されるものではない
が、例えば、予め調製した樹脂組成物を押出機にて溶融
混練して押出し、Tダイやサーキュラーダイ等を用い
て、フィルム状に成形する方法や、樹脂組成物を有機溶
剤などの溶媒に溶解もしくは分散させた後、キャスト方
式でフィルム状に成形する方法、また、樹脂組成物と後
述する粘着剤層を形成するために用いられる粘着剤との
2層共押出を行って、基材層の成形と粘着剤層の形成と
を同時に一括して行う方法等が挙げられ、いずれの方法
が採られても良い。
The method of forming the base material layer constituting the masking tape of the present invention is not particularly limited. For example, a resin composition prepared in advance is melt-kneaded by an extruder, extruded, and extruded by a T-die. Or using a circular die or the like, a method of forming a film, or a method of forming a film by a cast method after dissolving or dispersing the resin composition in a solvent such as an organic solvent, and a resin composition and a method described below. A method of performing two-layer co-extrusion with an adhesive used to form an adhesive layer to be formed, and simultaneously forming the base layer and forming the adhesive layer at the same time. May be adopted.

【0020】こうして得られる基材層の厚みは、特に限
定されるものではないが、10〜50μmであることが
好ましい。また、上記基材層は、単層であっても良い
し、2層以上の多層であっても良い。
The thickness of the substrate layer thus obtained is not particularly limited, but is preferably from 10 to 50 μm. Further, the base material layer may be a single layer or a multilayer of two or more layers.

【0021】基材層の厚みが10μm未満であると、マ
スキングテープの機械的物性や再剥離性等が不十分とな
ることがあり、逆に50μmを超えると、マスキングテ
ープの貼付性やUVレーザー法によるビアホール加工適
性等が低下することがある。
If the thickness of the substrate layer is less than 10 μm, the mechanical properties and removability of the masking tape may be insufficient, while if it exceeds 50 μm, the adhesion of the masking tape and the UV laser In some cases, the suitability for via hole processing by the method may be reduced.

【0022】本発明のマスキングテープは、上述した基
材層の片面に粘着剤層が形成されてなる。
The masking tape of the present invention comprises a pressure-sensitive adhesive layer formed on one side of the above-mentioned substrate layer.

【0023】上記粘着剤層を形成するために用いられる
粘着剤としては、特に限定されるものではないが、例え
ば、天然ゴム系粘着剤や合成ゴム系粘着剤などのゴム系
(エラストマー系)粘着剤や、アクリル樹脂系粘着剤、
ポリビニルエーテル樹脂系粘着剤、シリコーン樹脂系粘
着剤などの合成樹脂系粘着剤等が挙げられるが、なかで
も、使用後のマスキングテープの再剥離性が優れたもの
となることから、アクリル樹脂系粘着剤が好適に用いら
れる。これらの粘着剤は、単独で用いられても良いし、
2種類以上が併用されても良い。
The pressure-sensitive adhesive used for forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited. For example, a rubber-based (elastomer-based) pressure-sensitive adhesive such as a natural rubber-based pressure-sensitive adhesive or a synthetic rubber-based pressure-sensitive adhesive can be used. Agent, acrylic resin adhesive,
Synthetic resin-based pressure-sensitive adhesives such as polyvinyl ether resin-based pressure-sensitive adhesives and silicone resin-based pressure-sensitive adhesives can be used.Among these, acrylic resin-based pressure-sensitive adhesives are used because the removability of the masking tape after use is excellent. Agents are preferably used. These adhesives may be used alone,
Two or more types may be used in combination.

【0024】上記粘着剤の形態は、特に限定されるもの
ではなく、例えば、溶剤型粘着剤、非水エマルジョン型
粘着剤、エマルジョン型粘着剤、ディスパージョン型粘
着剤、ホットメルト型粘着剤、例えば紫外線のような活
性エネルギー線で硬化(重合)し得るモノマー型もしく
はオリゴマー型粘着剤等のいずれの形態であっても良
い。また、上記粘着剤は、非架橋型粘着剤であっても良
いし、架橋型粘着剤であっても良く、1液型粘着剤であ
っても良いし、2液以上の多液型粘着剤であっても良
い。
The form of the pressure-sensitive adhesive is not particularly limited, and examples thereof include a solvent-type pressure-sensitive adhesive, a non-aqueous emulsion-type pressure-sensitive adhesive, an emulsion-type pressure-sensitive adhesive, a dispersion-type pressure-sensitive adhesive, and a hot-melt-type pressure-sensitive adhesive. Any form such as a monomer-type or oligomer-type pressure-sensitive adhesive that can be cured (polymerized) by active energy rays such as ultraviolet rays may be used. Further, the pressure-sensitive adhesive may be a non-cross-linking pressure-sensitive adhesive, a cross-linking pressure-sensitive adhesive, a one-component pressure-sensitive adhesive, or a multi-liquid pressure-sensitive adhesive of two or more liquids. It may be.

【0025】上記粘着剤から形成される粘着剤層の厚み
は、特に限定されるものではないが、固形分の厚みで1
〜20μmであることが好ましい。粘着剤層の上記厚み
が1μm未満であると、マスキングテープの粘着性(タ
ック)や粘着力が不十分となることがあり、逆に20μ
mを超えると、使用後のマスキングテープの再剥離性が
低下することがある。
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer formed from the above-mentioned pressure-sensitive adhesive is not particularly limited.
It is preferably from 20 to 20 μm. If the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is less than 1 μm, the adhesiveness (tack) and adhesive strength of the masking tape may be insufficient, and conversely, 20 μm.
If it exceeds m, the removability of the masking tape after use may decrease.

【0026】本発明のマスキングテープの作製方法とし
ては、特に限定されるものではないが、例えば、ロール
コーター等の通常の塗工機を用いて、前記基材層の所定
の面(粘着剤層側の面)に粘着剤を直接的に塗工し、必
要に応じて乾燥、冷却、活性エネルギー線照射等の工程
を経て、粘着剤層を形成した後、必要に応じて離型紙
(剥離紙)や離型フィルム等の離型材の離型処理面を粘
着剤層に積層する方法(直接塗工法)、離型材の離型処
理面に上記と同様の方法で粘着剤層を形成した後、この
粘着剤層を基材層の所定の面(粘着剤層側の面)に積層
して、粘着剤層を基材層の所定の面(粘着剤層側の面)
に転写する方法(転写法)、基材層用の樹脂組成物と粘
着剤層用の粘着剤との2層共押出を行って、基材層の成
形と粘着剤層の形成とを同時に一括して行う方法(2層
共押出法)等が挙げられ、いずれの方法が採られても良
い。また、上記直接塗工法や転写法でマスキングテープ
を作製する場合、基材層の所定の面(粘着剤層側の面)
には、粘着剤層の密着性をより高めるために、予めコロ
ナ放電処理、プラズマ放電処理、プライマー(下塗り
剤)塗工等の下地処理(前処理)が施されていても良
い。尚、基材層の一方の面にのみ紫外線吸収剤が塗工さ
れていたり、印刷や染色等が施されている場合には、基
材層の他方の面に粘着剤層を形成することが好ましい。
The method for producing the masking tape of the present invention is not particularly limited. For example, a regular coating machine such as a roll coater may be used to prepare a predetermined surface of the base layer (adhesive layer). Side) is coated directly with an adhesive, followed by drying, cooling, active energy ray irradiation, etc., if necessary, to form an adhesive layer. If necessary, release paper (release paper) ) Or a method of laminating a release-treated surface of a release material such as a release film on the pressure-sensitive adhesive layer (direct coating method), after forming a pressure-sensitive adhesive layer on the release-treated surface of the release material by the same method as described above, This pressure-sensitive adhesive layer is laminated on a predetermined surface of the base material layer (surface on the pressure-sensitive adhesive layer side), and the pressure-sensitive adhesive layer is laminated on a predetermined surface of the base material layer (surface on the pressure-sensitive adhesive layer side).
Transfer method (transfer method), two-layer co-extrusion of the resin composition for the base layer and the pressure-sensitive adhesive for the pressure-sensitive adhesive layer, and simultaneously forming the base layer and forming the pressure-sensitive adhesive layer simultaneously (Two-layer co-extrusion method), and any of these methods may be employed. When a masking tape is prepared by the direct coating method or the transfer method, a predetermined surface of the base layer (the surface on the side of the adhesive layer)
In order to further enhance the adhesiveness of the pressure-sensitive adhesive layer, a base treatment (pre-treatment) such as a corona discharge treatment, a plasma discharge treatment, and a primer (undercoat) application may be performed beforehand. In addition, when the ultraviolet absorbent is coated only on one surface of the base material layer, or when printing or dyeing is performed, an adhesive layer may be formed on the other surface of the base material layer. preferable.

【0027】[0027]

【発明の実施の形態】本発明をさらに詳しく説明するた
め以下に実施例を挙げるが、本発明はこれら実施例のみ
に限定されるものではない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0028】(実施例1)基材層として紫外線吸収剤が
混練されているポリエステル樹脂フィルムA(商品名
「HB−38」、帝人社製)を用いた。上記基材層の片
面に、アクリル樹脂系粘着剤(商品名「BPS512
5」、東洋インキ製造社製)100重量部に対して硬化
剤(商品名「BXX5134」、東洋インキ製造社製)
0.2重量部を添加した架橋型アクリル樹脂系粘着剤を
固形分(乾燥後)の塗工厚みが5μmとなるように塗工
し、120℃で3分間乾燥して巻き取った後、23℃の
雰囲気下で1週間養生して、マスキングテープを作製し
た。
(Example 1) A polyester resin film A (trade name "HB-38", manufactured by Teijin Limited) in which an ultraviolet absorber was kneaded was used as a base material layer. An acrylic resin-based adhesive (trade name “BPS512”) is provided on one side of the base material layer.
5 ", manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) 100 parts by weight of a curing agent (trade name" BXX5134 ", manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.)
A cross-linked acrylic resin-based pressure-sensitive adhesive to which 0.2 part by weight was added was applied so that the applied thickness of the solid content (after drying) was 5 μm, dried at 120 ° C. for 3 minutes and wound up. Curing was carried out for one week in an atmosphere of ° C. to prepare a masking tape.

【0029】(実施例2)基材層としてポリエステル樹
脂フィルム(商品名「S−38」、帝人社製)の両面に
グラビアコーターで黒ベタ印刷が施された黒色ポリエス
テル樹脂フィルムBを用いたこと以外は実施例1の場合
と同様にして、マスキングテープを作製した。
(Example 2) A black polyester resin film B having a gravure coater on both sides of a polyester resin film (trade name "S-38", manufactured by Teijin Limited) was used as a base material layer. A masking tape was produced in the same manner as in Example 1 except for the above.

【0030】(比較例1)基材層としてポリエステル樹
脂フィルムC(商品名「S−38」)を用いたこと以外
は実施例1の場合と同様にして、マスキングテープを作
製した。
Comparative Example 1 A masking tape was prepared in the same manner as in Example 1 except that a polyester resin film C (trade name “S-38”) was used as the base material layer.

【0031】実施例1、実施例2および比較例1で用い
た基材層の波長300〜380nmの光線透過率をJI
S K−7105に準拠して測定した。その結果は表1
に示した。また、実施例1、実施例2および比較例1で
作製したマスキングテープの性能(UVレーザー法に
よるビアホール加工適性、導電性ペーストの充填性)
を以下の方法で評価した。その結果も表1に示した。
The light transmittance of the substrate layers used in Examples 1, 2 and Comparative Example 1 at a wavelength of 300 to 380 nm was measured by JI.
It was measured according to SK-7105. Table 1 shows the results.
It was shown to. Further, the performance of the masking tapes produced in Example 1, Example 2 and Comparative Example 1 (suitability for processing via holes by UV laser method, filling property of conductive paste).
Was evaluated by the following method. The results are also shown in Table 1.

【0032】UVレーザー法によるビアホール加工適
性:マスキングテープを銅張積層板のガラスエポキシ板
側に貼り付け、UVレーザー(波長355nm)により
ビアホール加工を行って、下記判定基準によりビアホー
ル加工適性を評価した。 〔判定基準〕 ○‥‥マスキングテープ自体およびガラスエポキシ板の
双方が問題なくビアホール加工できた。 ×‥‥マスキングテープ自体のビアホール加工が困難で
あった。 導電性ペーストの充填性:で形成したビアホールに
導電性ペーストを常法により充填して、下記判定基準に
より充填性を評価した。 〔判定基準〕 ○‥‥マスキングテープ自体およびガラスエポキシ板の
双方のビアホールに導電性ペーストを問題なく充填でき
た。 ×‥‥マスキングテープ自体にビアホールが殆ど形成さ
れていなかったので、導電性ペーストの充填が殆どでき
なかった。
Via-hole processing suitability by UV laser method: A masking tape was attached to the glass epoxy plate side of the copper-clad laminate, and via-hole processing was performed by a UV laser (wavelength: 355 nm), and the via-hole processing suitability was evaluated according to the following criteria. . [Judgment Criteria] ○ ‥‥ Both the masking tape itself and the glass epoxy plate were processed with via holes without any problem. × ‥‥ Via hole processing of the masking tape itself was difficult. Filling property of conductive paste: The via hole formed in the above was filled with a conductive paste by an ordinary method, and the filling property was evaluated according to the following criteria. [Judgment Criteria] ○ ‥‥ Via holes in both the masking tape itself and the glass epoxy plate were filled with the conductive paste without any problem. × ‥‥ Since almost no via hole was formed in the masking tape itself, the conductive paste was hardly filled.

【0033】[0033]

【表1】 [Table 1]

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明のマスキングテープは、波長30
0〜380nmの光線透過率が10%以下である基材層
を用いるので、それ自体がUVレーザー法によるビアホ
ール加工適性に優れ、しかもビアホール壁やビアホール
底部に残渣を生じることが少なく、微細加工可能なビア
ホールを簡便に形成することができる。従って、本発明
のマスキングテープは、プリント基板等に対するUVレ
ーザー法によるビアホール加工時のマスキングテープと
して好適に用いられる。
The masking tape of the present invention has a wavelength of 30.
Since the base material layer having a light transmittance of 0 to 380 nm of 10% or less is used, the substrate itself is excellent in suitability for via hole processing by a UV laser method, and there is little residue on a via hole wall or a bottom of a via hole, and fine processing is possible. A simple via hole can be easily formed. Therefore, the masking tape of the present invention is suitably used as a masking tape at the time of processing a via hole on a printed circuit board or the like by a UV laser method.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 波長300〜380nmの光線透過率が
10%以下である基材層の片面に粘着剤層が形成されて
なることを特徴とするマスキングテープ。
1. A masking tape comprising an adhesive layer formed on one side of a substrate layer having a light transmittance of 10% or less at a wavelength of 300 to 380 nm.
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