JP4665717B2 - Hoop material plating tank and plating apparatus using the same - Google Patents
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Description
本発明は、フープ材を送行させてメッキ処理を行うのに好適なメッキ処理槽及びそれを用いたメッキ処理装置に関する。 The present invention relates to a plating tank suitable for performing plating by feeding a hoop material and a plating apparatus using the same.
図１１は、特許文献１に記載されている種類の従来のフープ材浸漬方式のメッキ処理装置に用いられるメッキ処理槽の平面図を示したものである。このメッキ処理装置１は、フープ材送入口である第一スリット部１１ａとフープ材送出口である第二スリット部１１ｂとが設けられた外槽１１と、フープ材送入口である第一スリット部１２ａとフープ材送出口である第二スリット部１２ｂとが設けられ内部に処理液が満たされた内槽１２とから構成されている。なお、外槽１１の底部には液抜き口１１ｃが設けられている。また、内槽１２の第一スリット部１２ａと第二スリット部１２ｂにローラー３ａ、３ｂをガイドとして備えている。そして、このメッキ処理槽１の内部を通過することにより、フープ材２は水洗、表面処理等のメッキ処理を施される。
このようなメッキ処理槽１を用いてメッキ処理を行う場合、フープ材２が内槽１２の第二スリット部１２ｂを通過する際に、フープ材２と第二スリット部１２ｂとの隙間から、内槽１２の内部に満たされた処理液が流れ出てしまうという問題があった。そのため、特許文献１に記載されたメッキ処理槽では、内槽１２のスリット部１２ａ、１２ｂにローラー３ａ、３ｂをガイドとして備えることにより、処理液の流出を抑えている。しかし、フープ材２の送行速度が速いほど流出量は増加し、また流出を完全に防ぐことは困難であった。
When plating is performed using such a
そして、内槽１２の第二スリット部１２ｂからのフープ材の送出方向、即ち処理液の流出方向の位置に外槽１１の第二スリット部１１ｂが形成されているため、図１２に示すように複数のメッキ処理槽を連続して設置し処理を行う場合、前工程を行うメッキ処理槽の処理液が、流出する勢いによっては、その次工程を行う隣接したメッキ処理槽へ持ち出される可能性があった。
And since the
本発明は、このような問題点を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、内槽からの処理液の流出があっても、フープ材の送行速度を速くすることができ、メッキ処理槽の外部へ処理液の持ち出しが生じないメッキ処理槽及びメッキ処理装置を提供することである。 The present invention has been made to solve such problems, and the object of the present invention is to increase the feeding speed of the hoop material even when the processing liquid flows out from the inner tank. It is possible to provide a plating treatment tank and a plating treatment apparatus which can be carried out and the treatment liquid is not taken out of the plating treatment tank.
上記の目的を達成するために、本発明のメッキ処理槽は、所定の処理液が内部に満たされており、平面形状が方形であって、側壁にフープ材を送入する第一スリット部とフープ材を送出する第二スリット部とを設けた内槽と、内部に前記内槽を備えており、平面形状が方形であって、側壁にフープ材を送入する第一スリット部とフープ材を送出する第二スリット部とを設けた外槽と、からなるメッキ槽において、前記外槽の第二スリット部は、前記内槽の第二スリット部から前記フープ材を送出する方向の位置以外の位置に設けられており、前記外槽の内部であって前記内槽の第二スリット部近傍位置には、フープ材の送行方向を変更する少なくとも一つの送行方向転換用ローラーを備えたことを特徴とする。 In order to achieve the above object, the plating treatment tank of the present invention is filled with a predetermined treatment liquid, has a square planar shape, and has a first slit portion for feeding a hoop material to the side wall. An inner tub provided with a second slit portion for feeding a hoop material, and a first slit portion and a hoop material which are provided with the inner tub inside, have a square planar shape, and feed the hoop material into the side wall. An outer tub provided with a second slit portion for feeding out the second tub, wherein the second slit portion of the outer tub is other than a position in a direction in which the hoop material is fed out from the second slit portion of the inner tub. And at least one feeding direction changing roller for changing the feeding direction of the hoop material in the inner tank and in the vicinity of the second slit portion of the inner tank. Features.
また、本発明のメッキ処理槽は、前記外槽の内部であって前記内槽の第一スリット部近傍に、少なくとも一つの送行方向転換用ローラーを備えていても良い。 Moreover, the plating tank of this invention may be equipped with the at least 1 roller for a transfer direction change inside the said outer tank and the 1st slit part vicinity of the said inner tank.
また、本発明のメッキ処理槽は、前記外槽の内部であって前記内槽の第二スリット部近傍に、二つの送行方向転換用ローラーを備えていても良い。 Moreover, the plating tank of this invention may be equipped with the roller for two sending direction change inside the said outer tank and the 2nd slit part vicinity of the said inner tank.
また、本発明のメッキ処理槽は、前記外槽の内部であって前記内槽の第一スリット部近傍に、二つの送行方向転換用ローラーを備えていても良い。 Moreover, the plating tank of this invention may be equipped with the two rollers for a feed direction change inside the said outer tank and the 1st slit part vicinity of the said inner tank.
また、本発明のメッキ処理槽は、前記外槽の底部に液抜き口を設けることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the plating tank of the present invention is provided with a liquid draining port at the bottom of the outer tank.
また、上記の目的を達成するために、本発明のメッキ処理装置は、上記のメッキ処理槽のうちの複数のメッキ処理槽を備え、前工程を行うメッキ処理槽の外槽のスリット部の一つと、その次工程を行うメッキ処理槽の外槽のスリット部の一つとを整合させて設置したことを特徴とする。 In order to achieve the above object, the plating apparatus of the present invention includes a plurality of plating treatment tanks among the above-described plating treatment tanks, and is one of the slit portions of the outer tank of the plating treatment tank that performs the previous process. And one of the slit portions of the outer tank of the plating treatment tank for performing the next process.
また、本発明のメッキ処理装置は、フープ材が送入される第一スリット部と、フープ材が送出される第二スリット部とを有する張力制御処理槽を備え、前記張力制御処理槽の前記第一スリット部と前工程を行う前記メッキ処理槽の外槽のスリット部の一つとを整合させ、前記張力制御処理槽の前記第二スリット部とその次工程を行う前記メッキ処理槽の外槽のスリット部の一つとを整合させて配置させても良い。 The plating apparatus of the present invention includes a tension control processing tank having a first slit part into which the hoop material is fed and a second slit part into which the hoop material is fed, and the tension control processing tank includes the tension control processing tank. Aligning the first slit portion with one of the slit portions of the outer tank of the plating treatment tank that performs the previous process, the second slit portion of the tension control treatment tank and the outer tank of the plating treatment tank that performs the next process One of the slit portions may be aligned and disposed.
本発明によれば、内槽からの処理液の流出があっても、メッキ処理槽の外部へ液の持ち出しが生じない。そのため、フープ材の送行速度を従来の装置に比べ速くすることが可能となる。また、メッキ処理槽を連設して構成したメッキ処理装置においては、次工程のメッキ処理槽の処理液の濃度管理が容易となる。 According to the present invention, even if the processing liquid flows out from the inner tank, the liquid is not taken out of the plating processing tank. Therefore, it is possible to increase the feeding speed of the hoop material as compared with the conventional apparatus. In addition, in a plating apparatus configured by connecting plating treatment tanks, it is easy to manage the concentration of the treatment liquid in the plating process tank in the next step.
本発明の実施の形態を、図示した実施例によって説明する。 Embodiments of the present invention will be described with reference to the illustrated examples.
図１を用いて実施例１を説明する。本実施例は本発明のメッキ処理槽に係るものであって、図１はそのメッキ処理槽の構成を示す平面図である。 Example 1 will be described with reference to FIG. The present embodiment relates to a plating tank of the present invention, and FIG. 1 is a plan view showing the configuration of the plating tank.
本実施例のメッキ処理槽１は、従来のメッキ処理槽と同様に、フープ材送入口である第一スリット部１１ａとフープ材送出口である第二スリット部１１ｂとが設けられた外槽１１と、フープ材送入口である第一スリット部１２ａとフープ材送出口である第二スリット部１２ｂとが設けられ内部に処理液が満たされた内槽１２とから構成されている。なお、外槽１１の底部には液抜き口１１ｃが設けられている。また、内槽の第一スリット部１２ａと第二スリット部１２ｂには、それぞれローラー３ａ、３ｂがガイドとして備えられている。
The
さらに、メッキ処理槽１には、外槽１１の内部であり内槽１２の第二スリット１２ｂの近傍位置に送行方向転換用ローラー４が設けられている。
Further, the
なお、図中の矢印は、フープ材２を内槽の第二スリット部１２ｂから送出するときに、内槽１２から内槽１２の内部に満たされた処理液が流出する方向を示したものである。また、この方向は、フープ材２が内槽１２の第二スリット部１２ｂから送出される方向と一致している。
In addition, the arrow in a figure shows the direction from which the process liquid with which the inside of the
本実施例においては、フープ材２はまず、メッキ処理槽１の外槽１１の第一スリット部１１ａ、ローラー３ａが備えられた内槽１２の第一スリット部１２ａを通過し、内槽１２の内部に満たされた処理液に浸漬される。フープ材２は、この処理液に浸漬されることにより、所定のメッキ処理を施される。
In the present embodiment, the
次に、フープ材２は、ローラー３ｂが備えられた内槽１２の第二スリット部１２ｂを通過し、送行方向転換用ローラー４により送行方向を９０度変更された後、外槽１１の第二スリット部１１ｂを通過しメッキ処理槽１の外部へと送られる。このとき、内槽１２の第二スリット部１２ｂから図１において矢印で示した方向へ、処理液が流出し、フープ材２が送出される方向に位置する外槽１１の壁面に衝突する。しかし、外槽１１の第二スリット部１１ｂは、フープ材２が送出される方向以外に位置する壁面に設けられているため、処理液が外槽１１の外部へと持ち出されず、液抜き口１１ｃから排出される。
Next, the
図２を用いて実施例２を説明する。本実施例は本発明のメッキ処理槽に係るものであって、図２はそのメッキ処理槽の構成を示す平面図である。 A second embodiment will be described with reference to FIG. This embodiment relates to a plating tank of the present invention, and FIG. 2 is a plan view showing the configuration of the plating tank.
この図２から分かるように、上記した実施例１の場合には、メッキ処理槽１は送行方向転換用ローラーを一つしか備えていないのに対し、本実施例の場合には、外槽１１の内部であり内槽１２の第一スリット部１２ａの近傍位置に第一の送行方向転換用ローラー４ａを備えており、外槽１１の内部であり内槽１２の第二スリット部１２ｂの近傍位置に第二の送行方向転換用ローラー４ｂを備えている。また、外槽１１の第一スリット部１１ａは下方の壁面の左方位置に設けられている。
As can be seen from FIG. 2, in the case of the above-described
このような構成をした本実施例においては、フープ材２は、外槽１１に送入された後、第一の送行方向転換用ローラー４ａにより送行方向が９０度変更され、内槽１２の内部へ送入される。その他の構成は、実施例１の場合と全く同じであるため、同じ符号を付け、それらについての説明を省略する。
In the present embodiment having such a configuration, after the
図３を用いて実施例３を説明する。本実施例は本発明のメッキ処理槽に係るものであって、図３はそのメッキ処理槽の構成を示す平面図である。 Example 3 will be described with reference to FIG. This embodiment relates to a plating tank of the present invention, and FIG. 3 is a plan view showing the configuration of the plating tank.
この図３から分かるように、上記した実施例１の場合には、メッキ処理槽１は送行方向転換用ローラーを一つしか備えていないのに対し、本実施例の場合には、外槽１１の内部であり内槽１２の第二スリット部１２ｂの近傍位置に二つの送行方向転換用ローラー４1、４2を備えている。また、外槽１１の第二スリット部１１ｂは同じ壁面の上方位置に設けられている。
As can be seen from FIG. 3, in the case of the above-described
このように構成した本実施例においては、フープ材２は、内槽１２から送出された後、二つの送行方向転換用ローラー４1、４2により、送行方向が二度変更され、外槽１１から送出される。そのため、外槽１１の第二スリット部１１ｂが、フープ材２の送出側の壁面に設けられているが、送出方向の位置に設けられていないので、処理液がメッキ処理槽１の外部に持ち出されることはない。その他の構成は、実施例１の場合と全く同じであるため、同じ符号を付け、それらについての説明を省略する。
In the present embodiment configured as described above, after the
図４を用いて実施例４を説明する。本実施例は本発明のメッキ処理槽に係るものであって、図４はそのメッキ処理槽の構成を示す平面図である。 Example 4 will be described with reference to FIG. This embodiment relates to the plating tank of the present invention, and FIG. 4 is a plan view showing the configuration of the plating tank.
この図４から分かるように、上記した実施例２の場合には、外槽１１の内部であり内槽１２の第二スリット部１２ｂの近傍位置に備えられた送行方向転換用ローラーは一つだけであるのに対し、本実施例の場合には、二つの送行方向転換用ローラー４ｂ1、４ｂ2を備えている。そして、外槽１１の第二スリット部１１ｂは、同じ壁面の上方位置に設けられている。
As can be seen from FIG. 4, in the case of Example 2 described above, there is only one feed direction changing roller provided in the
このように構成された本実施例においては、フープ材２は、内槽１２から送出された後、二つの送行方向転換用ローラー４ｂ1、４ｂ2により、送行方向が二度変更され、外槽１１から送出される。そのため、外槽１１の第二スリット部１１ｂが、フープ材２の送出側の壁面に設けられているが、送出方向の位置に設けられていないので、処理液がメッキ処理槽１の外部に持ち出されることはない。その他の構成は、実施例２の場合と全く同じであるため、同じ符号を付け、それらについての説明を省略する。
In the present embodiment having such a configuration, the
図５を用いて実施例５を説明する。本実施例は本発明のメッキ処理槽に係るものであって、図５はそのメッキ処理槽の構成を示す平面図である。 Example 5 will be described with reference to FIG. The present embodiment relates to a plating tank of the present invention, and FIG. 5 is a plan view showing the configuration of the plating tank.
この図５から分かるように、上記した実施例２の場合には、外槽１１の内部であり内槽１２の第一スリット部１２ａの近傍位置に備えられた送行方向転換用ローラーは一つだけであるのに対し、本実施例の場合には、二つの送行方向転換用ローラー４ａ1、４ａ2を備えている。そして、外槽１１の第一スリット部１１ａは、同じ壁面の上方位置に設けられている。
As can be seen from FIG. 5, in the case of Example 2 described above, there is only one feed direction changing roller provided in the
このように構成された本実施例においては、フープ材２は、内槽１２へ送入される前に、二つの送行方向転換用ローラー４ａ1、４ａ2により、送行方向が二度変更される。その他の構成は、実施例２の場合と全く同じであるため、同じ符号を付け、それらについての説明を省略する。
In the present embodiment configured as described above, before the
図６を用いて実施例６を説明する。本実施例は本発明のメッキ処理槽に係るものであって、図６はそのメッキ処理槽の構成を示す平面図である。 Example 6 will be described with reference to FIG. The present embodiment relates to a plating tank of the present invention, and FIG. 6 is a plan view showing the configuration of the plating tank.
この図６から分かるように、上記した実施例４の場合には、外槽１１の内部であり内槽１２の第一スリット部１２ａの近傍位置に備えられた送行方向転換用ローラーは一つだけであるのに対し、本実施例の場合には、二つの送行方向転換用ローラー４ａ1、４ａ2を備えている。そして、外槽１１の第一スリット部１１ａは、左方の壁面に設けられている。
As can be seen from FIG. 6, in the case of Example 4 described above, there is only one feeding direction changing roller provided inside the
このように構成された本実施例においては、フープ材２は、内槽１２へ送入される前に、二つの送行方向転換用ローラー４ａ1、４ａ2により、送行方向が二度変更される。その他の構成は、実施例４の場合と全く同じであるため、同じ符号を付け、それらについての説明を省略する。
In the present embodiment configured as described above, before the
図７を用いて実施例７を説明する。本実施例は本発明のメッキ処理装置に係るものであって、図７はそのメッキ処理装置の構成を示す平面図である。 Example 7 will be described with reference to FIG. The present embodiment relates to a plating apparatus of the present invention, and FIG. 7 is a plan view showing the configuration of the plating apparatus.
本実施例に係るメッキ処理装置は、第一メッキ処理槽１と第二メッキ処理槽１’の二つのメッキ処理槽によって構成されている。そして、これらのメッキ処理槽１、１’の内部を連続してフープ材２が通過する構成となっている。なお、本実施例において、第一メッキ処理槽１は、上記実施例１で示したメッキ処理槽であり、第二メッキ処理槽１’は、上記実施例１で示したメッキ処理槽を１８０度反転させて設置したものである。
The plating apparatus according to the present embodiment is composed of two plating treatment tanks, a first
メッキ処理槽１、１’は、フープ材送入口である第一スリット部１１ａ、１１ａ’とフープ材送出口である第二スリット部１１ｂ、１１ｂ’とが設けられた外槽１１、１１’と、フープ材送入口である第一スリット部１２ａ、１２ａ’とフープ材送出口である第二スリット部１２ｂ、１２ｂ’とが設けられ内部にフープ材にメッキ処理を行うための処理液が満たされた内槽１２、１２’とから構成されている。なお、外槽１１、１１’の底部には液抜き口１１ｃ、１１ｃ’が設けられている。また、内槽の第一スリット部１２ａ、１２ａ’と第二スリット部１２ｂ、１２ｂ’には、それぞれローラー３ａ、３ａ’、３ｂ、３ｂ’がガイドとして備えている。
The
さらに、第一メッキ処理槽１は、外槽１１の内部であり第二スリット部１２ｂの近傍位置に送行方向転換用ローラー４を備えている。そして、第一メッキ処理槽１を反転して設置したものである第二メッキ処理槽１’は、外槽１１’の内部であり第一スリット部１２ａ’の近傍位置に、送行方向転換用ローラー４’を備えている。
Further, the
なお、図中の矢印は、フープ材２が内槽１２の第二スリット部１２ｂから送出されるときに、内槽１２から処理液が流出する方向を示したものである。また、この方向は、フープ材２が内槽１２の第二スリット部１２ｂから送出される方向と一致している。
In addition, the arrow in a figure shows the direction in which a process liquid flows out from the
このように構成された本実施例においては、フープ材２は、まず、第一メッキ処理槽１の外槽１１の第一スリット部１１ａ、ローラー３ａが備えられた内槽１２の第一スリット部１２ａを通過し、内槽１２の内部に満たされた処理液に浸漬される。フープ材２は、この処理液に浸漬されることにより、所定のメッキ処理を施される。
In the present embodiment configured as described above, the
次に、フープ材２は、ローラー３ｂが備えられた内槽１２の第二スリット部１２ｂを通過し、送行方向転換用ローラー４により送行方向を９０度変更された後、外槽１１の第二スリット部１１ｂへと送られる。このとき、内槽１２の第二スリット部１２ｂから図７において矢印で示した方向へ、処理液が流出し、フープ材２が送出される方向に位置する外槽１１の壁面に衝突する。しかし、送行方向転換用ローラー４によりフープ材２の送行方向が変更されており、外槽１１の第二スリット部１１ｂは、フープ材２が送出される方向以外に位置する壁面に設けられているため、処理液は外槽１１の外部へと持ち出されず、液抜き口１１ｃから排出される。
Next, the
そして、第一メッキ処理槽１の外槽１１の第二スリット部１１ｂを通過したフープ材２は、外槽１１の第二スリット部１１ｂに整合させられている第二メッキ処理槽１’の外槽１１’の第一スリット部１１ａ’を通過し、第二メッキ処理槽１'の内部へと送られる。その後、フープ材２は送行方向転換用ローラー４’により、再び送行方向を９０度変更され、ローラー３ａ’が備えられた内槽１２’の第一スリット部１２ａ’を通過し、内槽１２’の内部に満たされた処理液に浸漬される。その処理液により、所定のメッキ処理を施された後、外槽１１’の第二スリット部１１ｂ’を通過し、第二メッキ処理装置１’の外部へと送られ、メッキ処理が完了する。
The
本実施例のメッキ処理装置は、上記実施例１と同様の構成のメッキ処理槽を用いて構成されているため、第一メッキ処理槽１から第二メッキ処理槽１'へ処理液が持ち出されることがない。そのため、第二メッキ処理槽１’の内槽１１’に満たされている処理液に第一メッキ処理槽１の処理液が混入することは殆ど無く、第二メッキ処理槽１’の処理液の濃度管理が容易である。なお、本実施例のメッキ処理装置の構成の場合、第二メッキ処理槽１’の処理液は第二メッキ処理槽１’の外部へと流出する場合がある。そのため、第二メッキ処理槽１’の処理液は水であることが好ましい。
Since the plating apparatus of this embodiment is configured using a plating tank having the same configuration as that of the first embodiment, the processing liquid is taken out from the
また、本実施例のように構成した場合には、従来のメッキ処理装置（図１２参照）と比較して、メッキ処理装置の全長を短く抑えることが可能となる。 Moreover, when comprised like a present Example, compared with the conventional plating processing apparatus (refer FIG. 12), it becomes possible to hold down the full length of a plating processing apparatus.
図８を用いて実施例８を説明する。本実施例は本発明のメッキ処理装置に係るものであって、図８はそのメッキ処理装置の構成を示す平面図である。 Example 8 will be described with reference to FIG. This embodiment relates to a plating apparatus of the present invention, and FIG. 8 is a plan view showing the configuration of the plating apparatus.
この図８から分かるように、上記した実施例７の場合には、それぞれのメッキ処理槽には送行方向転換用ローラーが一つずつしか備えられていないのに対し、本実施例の場合には、それぞれのメッキ処理槽に送行方向転換用ローラーが二つずつ備えられている。つまり、本実施例の第一メッキ処理槽１は実施例３のメッキ処理槽であり、本実施例の第二メッキ処理槽１’は第一メッキ処理槽１とは対称的になるように構成されたメッキ処理槽である。
As can be seen from FIG. 8, in the case of Example 7 described above, each plating tank is provided with only one roller for changing the feeding direction, whereas in the case of this example. Each of the plating tanks is provided with two feeding direction changing rollers. That is, the
このような構成をした本実施例においては、フープ材２は、第一メッキ処理槽の内槽１２に満たされた処理液により処理された後、第一メッキ処理槽１の内部に設けられた送行方向転換用ローラー４1、４2により、送行方向を二度変更され、第一メッキ処理槽１の第二スリット部１１ｂを通過して送出される。その後、フープ材２は外槽１１の第二スリット部１１ｂに整合されている外槽１１'の第二スリット部１１ａ’を通過し、送行方向転換用ローラー４1’、４2’により、再度送行方向を二度変更され、内槽１２’に送入される。そして、その後、フープ材２は、実施例７の場合と同様にして、第二メッキ処理槽１’の外部へ送出される。
In the present embodiment having such a configuration, the
その他の構成ついては、実施例７の場合に準じて符号を付けてあるため、それらについての説明は省略する。 Since the other components are labeled according to the case of the seventh embodiment, description thereof will be omitted.
なお、本実施例のメッキ処理装置は、上記実施例７と異なり、従来のメッキ処理装置よりも装置の全長を短くすることはできない。 In addition, unlike the said Example 7, the plating processing apparatus of a present Example cannot make the full length of an apparatus shorter than the conventional plating processing apparatus.
図９を用いて実施例９を説明する。本実施例は本発明のメッキ処理槽に係るものであって、図９はそのメッキ処理装置の構成を示す平面図である。 Example 9 will be described with reference to FIG. This embodiment relates to a plating tank of the present invention, and FIG. 9 is a plan view showing the configuration of the plating apparatus.
この図９から分かるように、本実施例のメッキ処理装置は、三つのメッキ処理槽で構成されており、第一メッキ処理槽は実施例１のメッキ処理槽であり、第二メッキ処理槽１’は第一メッキ処理槽１と対称的になるように構成されたメッキ処理槽であって、それらの間に設置された第三メッキ処理槽１”は実施例２のメッキ処理槽において外槽の第二スリットの位置を変えて構成したメッキ処理槽である。
As can be seen from FIG. 9, the plating apparatus of the present embodiment is composed of three plating tanks. The first plating tank is the plating tank of the first embodiment, and the
このように構成した本実施例においては、フープ材２は、第一メッキ処理槽１において上記実施例７と同じように所定の処理を施された後、第一メッキ処理槽１の外槽１１の第二スリット部１１ｂと整合させられている第三メッキ処理槽１”の外槽１１”の第一スリット部１１ａ”を通過し、第三メッキ処理槽１”の内部へと送入される。その後、フープ材２は、送行方向転換用ローラー４ａ”により送行方向が９０度変更され、ローラー３ａ”を備える第一スリット部１２ａ”を通過して内槽１２”の内部へ送入され、内槽１２”の内部に満たされた処理液に浸漬される。処理液により所定の処理を施された後、フープ材２はローラー３ｂ”を備える第二スリット部１２ｂ”を通過して内槽１２”の外部へ送出される。そして、フープ材２は、送行方向転換用ローラー４ｂ”により再度送行方向が９０度変更された後、第二メッキ処理槽１’の外槽１１’の第一スリット部１１ｂ’と整合させられている第三メッキ処理槽１”の外槽１１”の第二スリット部１１ｂ”を通過し、第二メッキ処理槽１’の内部へと送入される。その後、フープ材２は、実施例７のメッキ処理槽内での送行に準じて送行し、第二メッキ処理槽１’の外部へと送出される。
In the present embodiment configured as described above, the
その他の構成は、実施例７の場合に準じて符号を付けてあるため、それらについての説明は省略する。 Since the other configurations are labeled according to the case of the seventh embodiment, description thereof is omitted.
図１０を用いて実施例１０を説明する。本実施例は本発明のメッキ処理装置に係るものであって、図１０はそのメッキ処理装置の構成を示す平面図である。 Example 10 will be described with reference to FIG. This embodiment relates to a plating apparatus of the present invention, and FIG. 10 is a plan view showing the configuration of the plating apparatus.
この図１０から分かるように、上記した実施例９の場合には、メッキ処理装置はメッキ処理槽のみにより構成されているのに対し、本実施例の場合には、第一メッキ処理槽１と第二メッキ処理槽１’との間に、第三メッキ処理槽ではなく、フープ材２の張力を調整する周知の張力調整装置を内蔵した張力制御処理槽５が設置されている。
As can be seen from FIG. 10, in the case of the above-described embodiment 9, the plating apparatus is composed of only the plating tank, whereas in this embodiment, the
このように構成した本実施例においては、フープ材２は、第一メッキ処理槽１の第二スリット部１１ｂに整合させられた張力制御処理槽５の第一スリット部５ａを通過し、張力制御用ローラー６1、６2により張力を制御された後、張力制御処理槽５の第二スリット部５ｂに整合させられた第二メッキ処理槽１’のフープ材送入口１１ａ’を通過し、第二メッキ処理槽１’の内部に送入される。
In the present embodiment configured as described above, the
その他の構成は、実施例９の場合と全く同じであるため、同じ符号を付け、それらについての説明を省略する。また、フープ材２に対するメッキ処理は実施例９の場合に準じて行われるため、それらについての説明も省略する。
Other configurations are exactly the same as those in the ninth embodiment, so the same reference numerals are given and description thereof is omitted. Moreover, since the plating process with respect to the
なお、本実施例の張力制御処理槽５の内部では、フープ材の張力を制御するだけではなく、乾燥を防いだり汚れを落とすためにシャワーによる水洗処理等を行っている。
In the inside of the tension
また、本実施例では、張力制御処理槽５を用いてメッキ処理装置が構成されているが、張力制御処理槽に代わり、メッキ処理以外の処理を行う他の処理槽を設置しても良い。
In the present embodiment, the plating apparatus is configured using the tension
加えて、メッキ処理以外の処理を行う処理槽は、二つのメッキ処理槽の間に設置することが限定されるものではなく、第一メッキ処理槽１の前や第二メッキ処理槽１’の後に設置してもかまわない。
In addition, the processing tank for performing processing other than plating is not limited to be installed between the two plating processing tanks, but in front of the first
なお、上記の実施例７〜１０において、メッキ処理槽及びメッキ処理以外の処理を行う処理槽は三つ以下に限定されるものではなく、四つ以上のメッキ処理槽を設けてもかまわない。 In Examples 7 to 10, the plating tank and the processing tank for performing processes other than plating are not limited to three or less, and four or more plating tanks may be provided.
また、送行方向転換用ローラーにより変更される送行方向の角度は、上記各実施例においては９０度であるが、その角度に限定されるものではない。 Further, the angle in the feeding direction changed by the feeding direction changing roller is 90 degrees in each of the above embodiments, but is not limited to this angle.
１、１’、１" メッキ処理槽
１１、１１’、１１" 外槽
１１ａ、１１ａ’、１１ａ”、１２ａ、１２ａ’、１２ａ”、５ａ’ 第一スリット部
１１ｂ、１１ｂ’、１１ｂ”、１２ｂ、１２ｂ’、１２ｂ”、５ｂ’ 第二スリット部
１１ｃ、１１ｃ’、１１ｃ" 液抜き口
１２、１２’、１２" 内槽
２ フープ材
３ａ、３ａ’、３ａ”、３ｂ、３ｂ’、３ｂ” ローラー
４、４’、４ａ’、４ａ”、４ａ1、４ａ2、４ｂ、４ｂ’、４ｂ”、４ｂ1、４ｂ2、４1、４1’、４2、４2’ 送行方向転換用ローラー
５ 張力制御処理槽
６1、６2 張力制御ローラー
1, 1 ', 1 "
Claims (7)
内部に前記内槽を備えており、平面形状が方形であって、側壁にフープ材を送入する第一スリット部とフープ材を送出する第二スリット部とを設けた外槽と、
からなるメッキ槽において、
前記外槽の第二スリット部は、前記内槽の第二スリット部から前記フープ材を送出する方向の位置以外の位置に設けられており、
前記外槽の内部であって前記内槽の第二スリット部近傍位置には、フープ材の送行方向を変更する少なくとも一つの送行方向転換用ローラーを備えたことを特徴とするメッキ処理槽。 The inner tank is filled with a predetermined treatment liquid, has a square planar shape, and has a first slit portion for feeding the hoop material to the side wall and a second slit portion for feeding the hoop material,
The outer tank provided with the inner tank inside, the planar shape is square, and provided with a first slit part for feeding the hoop material to the side wall and a second slit part for feeding the hoop material,
In the plating tank consisting of
The second slit portion of the outer tub is provided at a position other than the position in the direction of feeding the hoop material from the second slit portion of the inner tub,
A plating tank comprising at least one feeding direction changing roller for changing the feeding direction of the hoop material in the outer tank and in the vicinity of the second slit portion of the inner tank.
前工程を行うメッキ処理槽の外槽のスリット部の一つと、その次工程を行うメッキ処理槽の外槽のスリット部の一つとを整合させて設置したことを特徴とするメッキ処理装置。 A plurality of plating tanks among the plating tanks according to claim 1 to 5,
One of the slit parts of the outer tank of the plating process tank which performs a previous process, and one of the slit parts of the outer tank of the plating process tank which performs the next process are installed in alignment.
前記張力制御処理槽の前記第一スリット部と前工程を行う前記メッキ処理槽の外槽のスリット部の一つとを整合させ、前記張力制御処理槽の前記第二スリット部とその次工程を行う前記メッキ処理槽の外槽のスリット部の一つとを整合させて配置されていることを特徴とする請求項６に記載のメッキ処理装置。 A tension control treatment tank having a first slit portion into which the hoop material is fed and a second slit portion into which the hoop material is fed;
The first slit portion of the tension control processing tank is aligned with one of the slit portions of the outer tank of the plating processing tank that performs the previous process, and the second slit section of the tension control processing tank and the next process are performed. The plating apparatus according to claim 6, wherein the plating apparatus is disposed in alignment with one of the slit portions of the outer tank of the plating process tank.
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Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59181870U (en) * | 1983-05-18 | 1984-12-04 | 三菱電機株式会社 | Collection tank of continuous electroplating equipment for strips |
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| JPH1112757A (en) * | 1997-06-26 | 1999-01-19 | Matsushita Electric Works Ltd | Hoop material sealer |
| JP2003342788A (en) * | 2002-05-23 | 2003-12-03 | Chuo Seisakusho Ltd | Liquid leakage preventing device |
-
2005
- 2005-10-27 JP JP2005312752A patent/JP4665717B2/en active Active
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