JP4665564B2 - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
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Description
また、特許文献2には、基板中央部から周辺部に向かって表面に純水を流し、配向膜表面の吸着活性を落とす工程と、その後純水シャワー処理によって洗浄を行う工程とを有する液晶表示装置の製造方法が開示されている。
一般に、ラビング直後の配向膜(ポリイミド膜)の表面は、分子レベルで見ると結合の切断、分子鎖の伸張等再配列が行われたことにより、非常に活性な状態にある。そして、このような活性な状態にある分子の切断箇所や再配列箇所は、ラビング時に生じるラビングカスやポリイミドカス等の吸着サイトとなってしまい、これらを吸着することでシミ・ムラを生じさせ、結果的に表示不良を引き起こしていると考えられる。
そこで、本発明では、強制的に配向膜の吸着活性を落とすことで配向膜表面にラビングカスやポリイミドカス等の異物が吸着するのを速やかに防止し、これによってシミやムラなどの表示不良を防止した。
また、溶剤や界面活性剤などの洗浄剤を用いることなく純水を用いているので、リンスを十分に行う必要がないことから生産効率が良く、さらに、処理を搬送しつつ行う点からも生産効率が良好となる。また、単に純水をカーテン状に流下させるだけなので、装置構成も比較的簡易となる。
このように純水の流下方向を基板の移送方向に一致させれば、基板表面に純水を流下させた際、この純水と基板との間の相対的な動きが少なくなることで、基板表面上に純水を静かに載せることが可能になり、したがって純水の流動によって前記異物が配向膜表面に付着しあるいは吸着してしまうことが抑えられ、さらには、配向膜表面での水和がより速やかに起こるようになる。
また、純水の流下時における基板の移送方向の速度を基板の移送速度にほぼ一致させれば、純水と基板との間の相対的な動きがより少なくなる。
前記基板が例えば中・小型の単位基板を多数有したものの場合であっても、本発明では、基板中央部から周辺部に向かって洗浄水を拡げるノズルを用いることなく、純水をカーテン状に流下させる装置さえあればよいため、装置構成が簡易であり、その制御も非常に容易となる。したがって、基板に対して単位基板がどのように配置されていても、その対応が可能かつ容易となる。
図1は、本発明の液晶表示装置の製造方法を実施するための、装置の一例の概略構成を示す図であり、図1中符号1は基板洗浄装置である。この基板洗浄装置1は、基板W上に配向膜を塗布し、これをラビング処理した後の洗浄を行うためのもので、前洗浄処理を行うための第1処理室2と、ブラッシング処理を行うための第2処理室3と、超音波洗浄を行うための第3処理室4と、エアーナイフ洗浄等を行うための第4処理室5と、乾燥処理を行うための第5処理室6とを順次連設して備えたものである。なお、この基板洗浄装置1には、前記各処理室2〜6間に通じて基板Wを搬送するための搬送ローラ7が一列に設けられており、これによって基板Wは、各処理室2〜6間をこの順に通り抜けるようになっている。
このとき、前述したように二つの貯留部13a、13bは、スリット11の長さ方向で均一な深さ形状を有したものとなっているので、スリット11から流下する純水の流量は、スリット11の長さ方向においてほぼ均一になる。
また、このような構成からなる水供給装置8は、図2中矢印で示す基板Wの搬送方向と直交する方向に前記スリット11の長さ方向が一致するよう配置され、かつ、該スリット11が基板Wの搬送方向側に位置するように、すなわち、第1の貯留部13aが基板Wの搬送方向における後方側となり、第2の貯留部13bが基板Wの搬送方向における前方側となるように配置される。このような配置構成により、水供給装置8から供給される純水の水平方向における流下方向(流動方向)、すなわち流下時における飛び出し方向は、基板Wの搬送方向に一致するようになっている。
例えば、スリット11の長さを450mmとした場合に、水供給装置8への供給量(すなわち水供給装置8からの供給量)を10〜20リットル/分程度とする。また、このときの基板Wの搬送速度については、例えば1800mm/分とする。なお、基板Wの幅については、当然ながらスリット11の長さと同等以下とされ、前記したようにスリット11の長さを450mmとした場合に、基板Wの幅は例えば400mm程度としている。
また、純水を基板Wの表面に載せることで、この純水の基板W表面上での流動を抑えることができ、したがってこの純水の流動によってラビングカスやポリイミドカス等の異物が配向膜表面に移動し、ここに付着しあるいは吸着してしまうことを抑えることができる。
なお、前記異物が配向膜表面に移動し、ここに付着しても、該異物が前述したように電気的、または化学的に吸着することなく、単に物理的に載っているだけであるので、第2の処理室3以降での洗浄処理により、これを容易に除去することができる。
また、このような洗浄処理によれば、溶剤や界面活性剤などの洗浄剤を用いることなく純水を用いているので、リンスを十分に行う必要がないことから生産効率が良く、さらに、処理を搬送しつつ行う点からも生産効率が良好となる。また、単に純水をカーテン状に流下させるだけなので、装置構成も比較的簡易となる。
すなわち、図1に示したようにブラッシング処理を行うための第2処理室3は、第1処理室2で配向膜表面が失活させられた後、搬送ローラ7で搬送されてきた基板Wの裏面を、回転ブラシ17によってブラッシング処理する。このブラッシング処理中においては、基板Wの表面に、給水管18から比抵抗が18MΩ・m程度の超純水を供給する。このように超純水を供給することで、特に基板Wの表面に付着した主に大きな異物を除去することができる。ここで、この超純水の供給による異物の除去に際しては、前述したように第1処理室2において配向膜表面が失活させられていることから、異物がたとえ配向膜表面上を通っても、ここに吸着されることなく、超純水によって基板Wの外に洗い流される。なお、前記給水管18には配管19が接続されており、この配管19にはポンプ(図示せず)を介して超純水を貯留する超純水貯留槽20が接続されている。
乾燥処理を行うための第5処理室6では、水切り後に基板Wを乾燥炉やホットプレートで加熱乾燥することにより、基板Wの表面に残留した僅かな水分も十分に除去する。
また、純水の流下時における流速についても、基板Wの表面に膜状に載せることができれば、基板との間である程度の相対速度を持たしてもよい。
さらに、第2処理室3以降の洗浄処理の具体的内容についても、前記実施形態に限定されることなく、従来公知の洗浄処理を任意に組み合わせて行うことができる。
10…オーバーフロー容器、11…スリット、14…傾斜面、16…純水貯留槽
Claims (2)
- 基板上に配向膜を塗布し、これをラビング処理した後の洗浄工程における最初の洗浄処理として、
前記基板を搬送しつつ、比抵抗が5MΩ・m以下の純水を、前記基板の搬送方向と直交する方向に沿ってほぼ均一な流量でカーテン状に流下させ、前記純水を基板表面に膜状に載せる処理工程を備え、
前記処理工程において、前記純水の流下時における前記純水の飛び出し方向を、前記基板の移送方向に一致させると共に、前記純水の流下時における前記基板の移送方向での前記純水の流速を、前記基板の移送速度にほぼ一致させることを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記基板が多面取りの基板であることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005068698A JP4665564B2 (ja) | 2005-03-11 | 2005-03-11 | 液晶表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005068698A JP4665564B2 (ja) | 2005-03-11 | 2005-03-11 | 液晶表示装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006251446A JP2006251446A (ja) | 2006-09-21 |
JP4665564B2 true JP4665564B2 (ja) | 2011-04-06 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005068698A Expired - Fee Related JP4665564B2 (ja) | 2005-03-11 | 2005-03-11 | 液晶表示装置の製造方法 |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4665564B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6709314B2 (ja) * | 2018-06-13 | 2020-06-10 | シャープ株式会社 | 液晶用基板の製造方法、及び液晶用基板の処理装置 |
JP2020013127A (ja) * | 2018-07-19 | 2020-01-23 | シャープ株式会社 | 液晶用基板の製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0764091A (ja) * | 1993-08-24 | 1995-03-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | ラビング処理後の角形基板の洗浄方法並びに洗浄装置 |
JP2000180806A (ja) * | 1998-12-14 | 2000-06-30 | Sharp Corp | ガラスクリーニング装置 |
JP2001170582A (ja) * | 1999-12-17 | 2001-06-26 | Sharp Corp | 超音波処理装置およびこれを用いた電子部品の製造方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6455530A (en) * | 1987-08-26 | 1989-03-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of liquid crystal display panel |
-
2005
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0764091A (ja) * | 1993-08-24 | 1995-03-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | ラビング処理後の角形基板の洗浄方法並びに洗浄装置 |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006251446A (ja) | 2006-09-21 |
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RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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