JP4665444B2 - Production method of epoxy resin - Google Patents

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Description

本発明は成形時の流動性と硬化性、及び硬化物の耐熱性に優れ、金型汚れが少なく、かつ色相が良好であり、電子部品封止材料、光学材料等として好適に用いる事が出来るエポキシ樹脂の製造方法に関する。   The present invention is excellent in fluidity and curability during molding, and heat resistance of a cured product, has little mold contamination, and has a good hue, and can be suitably used as an electronic component sealing material, an optical material, and the like. The present invention relates to a method for producing an epoxy resin.

エポキシ樹脂は、種々の硬化剤で硬化させることにより、一般的に機械的性質、耐水性、耐薬品性、耐熱性、電気的性質などに優れた硬化物となり、電子部品封止材料、光学材料、プリント配線基板、積層板材料、レジストインキ、層間絶縁材料、繊維強化複合材料、塗装材料、成型材料、接着材料などの幅広い分野に使用されている。   Epoxy resins can be cured with various curing agents, resulting in cured products with excellent mechanical properties, water resistance, chemical resistance, heat resistance, electrical properties, etc. It is used in a wide range of fields such as printed wiring boards, laminated board materials, resist inks, interlayer insulation materials, fiber reinforced composite materials, coating materials, molding materials, and adhesive materials.

ところで、電子機器の世界的な価格低下傾向に伴い、電子部品製造工程では様々な合理化手段が望まれている。例えばトランスファモールドによる樹脂封止の生産性を上げること、すなわち短時間で硬化成型することができ、かつ成型物に不良がない連続生産性に優れたエポキシ樹脂及びこれを用いた組成物が望まれている。   By the way, with the worldwide price reduction trend of electronic devices, various rationalization means are desired in the electronic component manufacturing process. For example, there is a demand for an epoxy resin excellent in continuous productivity and a composition using the epoxy resin that can increase the resin sealing productivity by transfer molding, that is, can be cured and molded in a short time and the molded product has no defects. ing.

また、近年の光を利用した情報処理技術の発展を背景に、発光素子や受光素子等の光半導体素子の封止材料として、色相に優れるエポキシ樹脂を用いたエポキシ樹脂組成物による樹脂封止が主流になっているが、この分野でも合理化手段として連続生産性に優れたものが望まれているのは勿論のこと、金型汚れから生じる成型品表面の汚れが深刻な問題となっている。   Also, with the development of information processing technology using light in recent years, resin sealing with an epoxy resin composition using an epoxy resin with excellent hue as a sealing material for optical semiconductor elements such as light emitting elements and light receiving elements Although it has become mainstream, in this field, as well as a rationalization means that is excellent in continuous productivity is desired, as well as contamination on the surface of a molded product resulting from mold contamination is a serious problem.

そこで、一般的に使用されるオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂を用いた組成物よりも硬化性や硬化物の耐熱性が改善される例として、2価フェノールとアルデヒド類とエピハロヒドリンとを原料とした特定の溶融粘度を有するエポキシ樹脂が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。前記特許文献1に提案されたエポキシ樹脂は、2価フェノールとアルデヒド類とを酸性触媒存在下で縮合反応させ、そこで用いた溶剤や発生する水分等を除去するために高温下で蒸留する工程を経て、多価フェノール類を単離した後、エピハロヒドリンと反応を行ってエポキシ樹脂を得ているが、これを用いて得られる硬化物の機械強度や熱時弾性率が不足し、離型性が悪化する問題を有していた。また、得られるエポキシ樹脂は淡黄色に着色しやすいため、光半導体素子の封止材料等としてはその使用量が制限される等の問題があった。   Therefore, as an example of improving curability and heat resistance of the cured product compared to the composition using generally used ortho cresol novolac type epoxy resin, identification using dihydric phenol, aldehydes and epihalohydrin as raw materials An epoxy resin having a melt viscosity of 2 is proposed (for example, see Patent Document 1). The epoxy resin proposed in Patent Document 1 comprises a step of subjecting a dihydric phenol and an aldehyde to a condensation reaction in the presence of an acidic catalyst, followed by distillation at a high temperature in order to remove the solvent used and the generated water. After isolating polyphenols, the epoxy resin is obtained by reacting with epihalohydrin, but the cured product obtained by using this lacks the mechanical strength and thermal elastic modulus and has a releasability. Had a problem to worsen. In addition, since the resulting epoxy resin is easily colored pale yellow, there is a problem that the amount of use thereof is limited as a sealing material for an optical semiconductor element.

特開2001−064358号公報(第2−4頁)JP 2001-064358 (page 2-4)

従って、本発明が解決しようとする課題は、硬化性や耐熱性が飛躍的に改善されるとともに、従来に比較して著しく金型汚れおよび成型品表面の汚れが少なく、かつ色相が良好であるエポキシ樹脂の製造方法を提供することにある。   Therefore, the problem to be solved by the present invention is that the curability and heat resistance are drastically improved, the mold stain and the surface of the molded product are significantly less than the conventional one, and the hue is good. It is providing the manufacturing method of an epoxy resin.

本発明者等は上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、2価フェノール類とアルデヒド類とを酸性触媒存在下で縮合反応させた後、中和及び/又は水洗後、120℃以上の加熱蒸留を行うことなく引き続きグリシジルエーテル化反応を行うことによって、色相が良好なエポキシ樹脂を高収率で得る事ができ、且つ得られるエポキシ樹脂を用いた組成物の硬化性、硬化物の耐熱性が飛躍的に改善されるとともに、金型汚れおよび成型品表面の汚れが少なく、大量生産性に優れることを見出し、本発明を完成した。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors conducted a condensation reaction of dihydric phenols and aldehydes in the presence of an acidic catalyst, and then neutralized and / or washed with water, and then heated and distilled at 120 ° C. or higher. By continuing the glycidyl etherification reaction without carrying out the step, an epoxy resin having a good hue can be obtained in a high yield, and the curability of the composition using the obtained epoxy resin and the heat resistance of the cured product are improved. The present invention has been completed by finding that it is dramatically improved, that there is little mold contamination and contamination on the surface of the molded product, and excellent mass productivity.

即ち、本発明は、2価フェノール類(x1)とアルデヒド類(x2)とを酸性触媒(I)の存在下、120℃以下で縮合反応させて多価フェノール類(a)を得た後、中和及び/又は水洗し、120℃以上の加熱蒸留を行うことなく引き続きエピハロヒドリン(x3)を加え、塩基性触媒(II)の存在下にグリシジルエーテル化反応させてエポキシ樹脂(A)を得ることを特徴とするエポキシ樹脂の製造方法を提供するものである。 That is, the present invention provides a polyhydric phenol (a) by subjecting a dihydric phenol (x1) and an aldehyde (x2) to a condensation reaction at 120 ° C. or lower in the presence of an acidic catalyst (I). Neutralization and / or washing with water, followed by addition of epihalohydrin (x3) without performing heating distillation at 120 ° C. or higher, and epoxidation reaction in the presence of basic catalyst (II) to obtain epoxy resin (A) The manufacturing method of the epoxy resin characterized by these is provided.

本発明のエポキシ樹脂の製造方法は製造効率に優れ、かつ得られるエポキシ樹脂は遊離フェノール類やオルソ位にイソプロピリデン結合を有するビスフェノール等の低分子量化合物が抑制されるため好色相となる。また、これを含むエポキシ樹脂組成物は金型汚れや成型品表面の汚れが少なく、耐熱性も高い。以上より、本発明の製造方法により得られるエポキシ樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物は電子部品の封止用、光学材料用、積層板用、複合材料用、レジスト、接着剤、塗料、土木用等の広範囲の用途に極めて有効である。   The method for producing an epoxy resin of the present invention is excellent in production efficiency, and the resulting epoxy resin becomes a lustrous phase because free molecular weight compounds such as free phenols and bisphenol having an isopropylidene bond at the ortho position are suppressed. Moreover, the epoxy resin composition containing this has few mold stain | pollution | contamination and the stain | pollution | contamination of the molded article surface, and its heat resistance is also high. As described above, the epoxy resin composition containing the epoxy resin obtained by the production method of the present invention is used for sealing electronic parts, for optical materials, for laminated plates, for composite materials, resists, adhesives, paints, civil engineering, etc. It is extremely effective for a wide range of applications.

本発明の製造方法は、2価フェノール類(x1)とアルデヒド類(x2)とを酸性触媒(I)の存在下120℃以下で縮合反応させて多価フェノール類(a)を得た後、中和及び/又は水洗し、120℃以上の加熱蒸留を行うことなく引き続きエピハロヒドリン(x3)を加え塩基性触媒(II)の存在下にグリシジルエーテル化反応させてエポキシ樹脂(A)を得ることを特徴とする。 In the production method of the present invention, a polyhydric phenol (a) is obtained by subjecting a dihydric phenol (x1) and an aldehyde (x2) to a condensation reaction at 120 ° C. or less in the presence of an acidic catalyst (I). Neutralization and / or washing with water, followed by addition of epihalohydrin (x3) without performing heating distillation at 120 ° C. or higher, and glycidyl etherification reaction in the presence of basic catalyst (II) to obtain epoxy resin (A) Features.

通常、フェノール類とアルデヒド類との縮合反応により得られる多価フェノール類を原料として用いるエポキシ樹脂の製造方法は、フェノール類とアルデヒド類とを酸性触媒の存在下で反応させ、水洗により該触媒を除去した後、加熱減圧下条件にて未反応フェノール類や水分を蒸留回収したのち、溶融状態で一旦取り出し冷却して固化させる多価フェノール類の製造工程(縮合反応)と、この多価フェノール類と過剰量のエピハロヒドリンとを塩基触媒にて反応させるエポキシ樹脂の製造工程(グリシジルエーテル化反応)との2段階に分かれている(以下、従来法と略記する)。   Usually, a method for producing an epoxy resin using a polyhydric phenol obtained by a condensation reaction of a phenol and an aldehyde as a raw material reacts the phenol with an aldehyde in the presence of an acidic catalyst, and the catalyst is washed with water. After removal, after distillation and recovery of unreacted phenols and moisture under conditions of heating and decompression, a polyphenols production process (condensation reaction) in which it is once taken out in a molten state and cooled and solidified, and these polyphenols And an excess amount of epihalohydrin are divided into two steps, namely, a production process of epoxy resin (glycidyl etherification reaction) in which a base catalyst is reacted (hereinafter abbreviated as conventional method).

前記縮合反応において、フェノール類としてビスフェノールAを使用した場合には、得られる多価フェノール類の結合基としてはメチレン結合の他、イソプロピリデン結合を有する。このイソプロピリデン結合は、水洗後に残存する微量の酸性触媒の存在により、蒸留回収中(高温の環境下)に分解再配列を起こし、遊離フェノールやオルソ位にイソプロピリデン結合を有するビスフェノール等の低分子量化合物が生成しやすくなる。このような低分子量化合物を含有する多価フェノール類を原料として用いたエポキシ樹脂から得られる硬化物は、架橋密度に不均一な部分が生じ、特に水酸基を有さない低分子量化合物はエポキシ化する事が出来ないため、架橋密度を低下させることになり、耐熱性、機械的物性等が不足し、金型汚れおよび成型品表面の汚れの原因となる。   In the condensation reaction, when bisphenol A is used as the phenol, the resulting polyphenols have an isopropylidene bond in addition to a methylene bond. This isopropylidene bond is decomposed and rearranged during distillation recovery (high temperature environment) due to the presence of a small amount of acidic catalyst remaining after washing with water, and low molecular weight such as bisphenol having isopropylidene bond in the free phenol or ortho position. A compound is easily formed. A cured product obtained from an epoxy resin using polyhydric phenols containing such a low molecular weight compound as a raw material has a non-uniform portion in the crosslink density, and particularly a low molecular weight compound having no hydroxyl group is epoxidized. Since this cannot be performed, the crosslink density is lowered, heat resistance, mechanical properties, etc. are insufficient, which may cause mold contamination and contamination of the molded product surface.

また、2価フェノール類を用いた場合には、前述のように蒸留工程中、微量な酸性触媒によって遊離フェノール類が生成する事があり、これが生成する工程や多価フェノール類の取り出し時の空気酸化によってキノン化した着色物質となる(一般的にこのようなキノン体はその含有量が極微量であったとしても、樹脂全体に対する着色効果が非常に高い)ため、得られるエポキシ樹脂の色相を悪化させるほか、エポキシ当量の増加といった品質低下を引き起こす。本発明の製造方法は、縮合反応の後の精製工程に起因すると考えられるこれらの問題を解決するものである。   In addition, when dihydric phenols are used, free phenols may be generated by a small amount of acidic catalyst during the distillation process as described above. It becomes a colored substance that is quinonated by oxidation (in general, even if the content of such a quinone is very small, the coloring effect on the whole resin is very high) In addition to aggravating, it causes quality degradation such as an increase in epoxy equivalent. The production method of the present invention solves these problems considered to be caused by the purification step after the condensation reaction.

本発明で用いる2価フェノール類(x1)としては、特に制限されるものではなく、例えば、ビスフェノールA、4,4’−ジヒドロキシベンゾフェノン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)エーテル、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)スルフィド、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)スルホン、ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)スルホン、1,1’−ビス(3−t−ブチル−6−メチル−4−ヒドロキシフェニル)ブタン等のビスフェノール類;ハイドロキノン、レゾルシン等のジオキシベンゼン類;ジヒドロキシナフタレン、ビス(ヒドロキシナフチル)メタン、1,1’−ビナフトール等の2価のナフトール類;ビス(4−ヒドロキシフェニル)ジシクロペンタン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロヘキサン、1,1−ビス(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン等の脂環式構造含有2価フェノール類、その他4,4’−ジヒドロキシビフェニル−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニルなどが挙げられ、これらの中でもビスフェノール類、特にビスフェノールAが得られるエポキシ樹脂(A)の流動性や硬化性、耐熱性の改善効果が一層顕著なものとなる点から好ましい。   The dihydric phenols (x1) used in the present invention are not particularly limited. For example, bisphenol A, 4,4′-dihydroxybenzophenone, bis (4-hydroxyphenyl) ether, bis (4-hydroxy-) 3-methylphenyl) ether, bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) ether, bis (4-hydroxyphenyl) sulfide, bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) sulfide, bis (3,5- Dimethyl-4-hydroxyphenyl) sulfide, bis (4-hydroxyphenyl) sulfone, bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) sulfone, bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) sulfone, 1,1 ′ -Bis (3-tert-butyl-6-methyl-4-hydroxyphenyl) but Bisphenols such as hydroquinone and resorcin; divalent naphthols such as dihydroxynaphthalene, bis (hydroxynaphthyl) methane and 1,1′-binaphthol; bis (4-hydroxyphenyl) dicyclopentane 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (3,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) cyclohexane, etc. Alicyclic structure-containing dihydric phenols and other 4,4′-dihydroxybiphenyl-3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenyl and the like. Among these, bisphenols, particularly bisphenol A can be obtained. Improvement of fluidity, curability and heat resistance of epoxy resin (A) From the viewpoint that becomes more pronounced.

本発明で用いるアルデヒド類(x2)としては、1分子中に1個以上のアルデヒド基をもつ化合物であれば特に限定されるものではなく、例示するならば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド、クロトンアルデヒドなどが挙げられ、これらの中でもホルムアルデヒドが得られるエポキシ樹脂(A)の流動性や硬化性、耐熱性の改善効果が一層優れたものになることから特に好ましい、   The aldehyde (x2) used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having one or more aldehyde groups in one molecule. For example, formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, crotonaldehyde, etc. Among these, the fluidity and curability of the epoxy resin (A) from which formaldehyde is obtained, and the heat resistance improvement effect is particularly preferable,

前記フェノール類(x1)と前記アルデヒド類(x2)とを酸性触媒(I)の存在下で反応させて多価フェノール類(a)を得る手法としては、温度条件として120℃以下であれば良く、特に限定されるものではない。温度条件として120℃を超える場合は、アルデヒド類(x2)の揮発蒸散が起こりやすく、収率が悪くなるため好ましくない。特に好ましい温度は50〜120℃である。   As a method for obtaining the polyhydric phenols (a) by reacting the phenols (x1) and the aldehydes (x2) in the presence of the acidic catalyst (I), the temperature condition may be 120 ° C. or less. There is no particular limitation. When the temperature condition exceeds 120 ° C., the aldehydes (x2) are liable to evaporate and the yield decreases, which is not preferable. A particularly preferred temperature is 50 to 120 ° C.

フェノール類(x1)とアルデヒド類(x2)との反応比率としては特に限定されるものではなく、目的とするエポキシ樹脂(A)の分子量(核体数)、粘度等に応じて適宜選択されるものであるが、反応収率と得られるエポキシ樹脂の溶融粘度等に優れる点から、フェノール類(x1)1モルに対してアルデヒド類(x2)を0.4〜1.1モル使用する事が好ましい。   The reaction ratio between the phenols (x1) and the aldehydes (x2) is not particularly limited, and is appropriately selected according to the molecular weight (number of nuclei), viscosity, etc. of the target epoxy resin (A). However, from the viewpoint of excellent reaction yield and melt viscosity of the resulting epoxy resin, it is possible to use 0.4 to 1.1 mol of aldehyde (x2) per mol of phenol (x1). preferable.

この反応で用いる酸性触媒(I)としても特に限定されず、本発明で得られるエポキシ樹脂(A)は何れの酸性触媒を用いても、同じ触媒を用いて従来法によって得られるエポキシ樹脂と比較して色相が良好となるが、反応が速やかに進行し、且つ反応後の処理(中和若しくは水洗)が容易である点から、硫酸、パラトルエンスルホン酸、蓚酸、リン酸等を用いる事が好ましく、特にリン酸を用いた場合、最も色相が良好となり、また反応釜として一般的に用いられるステンレス鋼への腐食性が小さいため好ましい。   The acidic catalyst (I) used in this reaction is not particularly limited, and the epoxy resin (A) obtained in the present invention is compared with an epoxy resin obtained by a conventional method using the same catalyst regardless of which acidic catalyst is used. Although the hue becomes good, sulfuric acid, paratoluenesulfonic acid, oxalic acid, phosphoric acid, etc. may be used from the viewpoint that the reaction proceeds promptly and the treatment after the reaction (neutralization or washing with water) is easy. Particularly, when phosphoric acid is used, it is preferable because the hue is most favorable and the corrosiveness to stainless steel generally used as a reaction kettle is small.

前記酸性触媒(I)の使用量としては、フェノール類(x1)100重量部に対し有効成分として0.01〜2重量部である事が好ましい。前記酸性触媒(I)の形態としても特に限定されず、水溶液でも固形でも良い。   The amount of the acidic catalyst (I) used is preferably 0.01 to 2 parts by weight as an active ingredient with respect to 100 parts by weight of the phenols (x1). The form of the acidic catalyst (I) is not particularly limited, and may be an aqueous solution or a solid.

この縮合反応の具体的手法としては、反応容器にフェノール類(x1)とアルデヒド類(x2)との混合物に酸性触媒(I)を一括添加または除々に添加しならが50〜120℃の温度で常圧下または減圧下で0.5〜10時間反応させる方法が挙げられる。この際、反応速度を高める等の目的で有機溶媒を併用しても良く、溶媒としては特に限定されないが、例えばメタノール、エタノール、1−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール等のアルコール類やメチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩化メチレン等が挙げられ、単独でも2種以上を混合して用いる事が出来る。これらの中でも引き続き行うグリシジルエーテル化反応でも反応速度を高める効果があることからアルコール類を用いる事が好ましい。   As a specific method for this condensation reaction, acidic catalyst (I) is added to a mixture of phenols (x1) and aldehydes (x2) in a reaction vessel at once or gradually, but at a temperature of 50 to 120 ° C. The method of making it react for 0.5 to 10 hours under a normal pressure or pressure reduction is mentioned. In this case, an organic solvent may be used in combination for the purpose of increasing the reaction rate, and the solvent is not particularly limited. For example, methanol, ethanol, 1-propyl alcohol, isopropyl alcohol, 1-butanol, secondary butanol, tertiary Examples include alcohols such as butanol, cellosolves such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve, benzene, toluene, xylene, methylene chloride, and the like, and these can be used alone or in combination. Of these, the glycidyl etherification reaction to be performed subsequently has an effect of increasing the reaction rate, and therefore it is preferable to use alcohols.

また、前記縮合反応で得られる多価フェノール類(a)の着色が大きい場合は、それを抑制する為に、酸化防止剤や還元剤を添加しても良い。前記酸化防止剤としては特に限定されないが、例えば2,6−ジアルキルフェノール誘導体などのヒンダードフェノール系化合物や2価のイオウ系化合物や3価のリン原子を含む亜リン酸エステル系化合物などを挙げることができる。また、前記還元剤としては特に限定されないが、例えば次亜リン酸、亜リン酸、チオ硫酸、亜硫酸、ハイドロサルファイトまたはこれら塩などが挙げられる。   Moreover, when the coloring of polyhydric phenol (a) obtained by the said condensation reaction is large, in order to suppress it, you may add antioxidant and a reducing agent. The antioxidant is not particularly limited, and examples thereof include hindered phenol compounds such as 2,6-dialkylphenol derivatives, divalent sulfur compounds, and phosphite compounds containing trivalent phosphorus atoms. be able to. The reducing agent is not particularly limited, and examples thereof include hypophosphorous acid, phosphorous acid, thiosulfuric acid, sulfurous acid, hydrosulfite, and salts thereof.

この反応で得られた多価フェノール類(a)を中和及び/または水洗した後、120℃以上の加熱蒸留を行うことなく、引き続きエピハロヒドリン(x3)と塩基性触媒(II)を加え、グリシジルエーテル化反応を行う。120℃以上の加熱蒸留を行うのは従来法であり、前述のように得られるエポキシ樹脂(A)の色相や硬化物の耐熱性等に悪影響を及ぼすことになる。   After neutralizing and / or washing with water the polyhydric phenols (a) obtained by this reaction, epihalohydrin (x3) and basic catalyst (II) are subsequently added without performing heating distillation at 120 ° C. or higher, and glycidyl Perform etherification reaction. It is a conventional method to perform heating distillation at 120 ° C. or higher, which adversely affects the hue of the epoxy resin (A) obtained as described above, the heat resistance of the cured product, and the like.

前記中和に用いることが出来る塩基性化合物としては、特に限定されるものではないが、グリシジルエーテル化反応での副反応が起こりにくい点から、無機化合物である事が好ましく、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カルシウムなどが挙げられる。中和の度合いとしては、反応混合物の水相のpHとして6〜8、特にpH=7〜8であることが好ましい。   The basic compound that can be used for the neutralization is not particularly limited, but is preferably an inorganic compound from the viewpoint that a side reaction in the glycidyl etherification reaction hardly occurs. For example, potassium hydroxide Sodium hydroxide, calcium hydroxide, magnesium hydroxide, potassium carbonate, sodium carbonate, calcium hydrogen carbonate and the like. As the degree of neutralization, the pH of the aqueous phase of the reaction mixture is preferably 6 to 8, particularly preferably pH = 7 to 8.

水洗を行う場合には、混合物にイオン交換水等を加えて混合した後、水相をバキューム等にて取り除く方法が挙げられる。この時、除去した水相のpHを測定し、pH=6〜8、好ましくは7〜8になるまで水洗を繰り返すことが好ましい。また、中和後に水洗を行う等の複数の工程によって酸性触媒(I)を除去しても良い。   In the case of washing with water, there is a method in which ion-exchanged water or the like is added to the mixture and mixed, and then the aqueous phase is removed with vacuum or the like. At this time, it is preferable to measure the pH of the removed aqueous phase and repeat washing with water until pH = 6 to 8, preferably 7 to 8. Further, the acidic catalyst (I) may be removed by a plurality of steps such as washing with water after neutralization.

グリシジルエーテル化する工程は種々の方法に準じて行うことが出来、特に限定されるものではない。例えば、前記で得られた多価フェノール類(a)のフェノール性水酸基1モルに対し、エピハロヒドリン(x3)2〜10モルを添加し、この混合物に、多価フェノール類(a)のフェノール性水酸基1モルに対し0.9〜2.0モルの塩基性触媒(II)を一括添加または徐々に添加しながら20〜120℃の温度で0.5〜10時間反応させる。この時使用する塩基性触媒(II)としては固形でもその水溶液を使用してもよく、水溶液を使用する場合は、連続的に添加すると共に、反応混合物中から減圧下、または常圧下、連続的に水及びエピハロヒドリン(x3)を留出させ、更に分液して水は除去しエピハロヒドリンは反応混合物中に連続的に戻す方法でもよい。   The step of glycidyl etherification can be performed according to various methods and is not particularly limited. For example, 2 to 10 mol of epihalohydrin (x3) is added to 1 mol of the phenolic hydroxyl group of the polyhydric phenol (a) obtained above, and the phenolic hydroxyl group of the polyhydric phenol (a) is added to this mixture. The reaction is carried out at a temperature of 20 to 120 ° C. for 0.5 to 10 hours while 0.9 to 2.0 mol of basic catalyst (II) is added all at once or gradually. The basic catalyst (II) used at this time may be solid or an aqueous solution thereof. When an aqueous solution is used, it is continuously added and continuously added from the reaction mixture under reduced pressure or normal pressure. In this method, water and epihalohydrin (x3) are distilled off, and further separated to remove water, and epihalohydrin is continuously returned to the reaction mixture.

ここで用いる事が出来るエピハロヒドリン(x3)としては、例えばエピクロルヒドリン、エピブロモヒドリン等が挙げられる。なかでも入手が容易なことからエピクロルヒドリンが好ましい。   Examples of the epihalohydrin (x3) that can be used here include epichlorohydrin, epibromohydrin, and the like. Of these, epichlorohydrin is preferable because it is easily available.

なお、工業生産を行う際は、エポキシ樹脂生産の初バッチでは仕込みエピハロヒドリンの全てを新しいものを使用するが、次バッチ以降は、粗反応生成物から回収されたエピハロヒドリンと、反応で消費される分に相当する新しいエピハロヒドリンとを併用することが好ましい。   When industrial production is performed, the first batch of epoxy resin production uses all of the prepared epihalohydrin, but after the next batch, the epihalohydrin recovered from the crude reaction product and the amount consumed in the reaction. It is preferable to use a new epihalohydrin corresponding to

また、前記塩基性触媒(II)としても特に限定されないが、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩及びアルカリ金属水酸化物等が挙げられる。特にグリシジルエーテル化反応の触媒活性に優れる点からアルカリ金属水酸化物が好ましく、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが挙げられる。使用に際しては、これらのアルカリ金属水酸化物を10〜55重量%程度の水溶液の形態で使用してもよいし、固形の形態で使用しても構わない。また、前記中和で用いた塩基性化合物と同一であっても、異なっていても良い。   The basic catalyst (II) is not particularly limited, and examples thereof include alkaline earth metal hydroxides, alkali metal carbonates, and alkali metal hydroxides. In particular, alkali metal hydroxides are preferable from the viewpoint of excellent catalytic activity of the glycidyl etherification reaction, and examples thereof include sodium hydroxide and potassium hydroxide. In use, these alkali metal hydroxides may be used in the form of an aqueous solution of about 10 to 55% by weight or in the form of a solid. Moreover, it may be the same as or different from the basic compound used in the neutralization.

前記反応時に於いては、有機溶媒を併用することにより、反応速度を高めることができる。使用できる有機溶媒としては特に限定されないが、例えば、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、メタノール、エタノール、1−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール等のアルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキサン、ジエトキシエタン等のエーテル類、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒等が挙げられる。これらの有機溶媒は、それぞれ単独で使用してもよいし、また、極性を調整するために適宜二種以上を併用してもよい。   In the reaction, the reaction rate can be increased by using an organic solvent in combination. Although it does not specifically limit as an organic solvent which can be used, For example, alcohols, such as ketones, such as acetone and methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, 1-propyl alcohol, isopropyl alcohol, 1-butanol, secondary butanol, tertiary butanol, methyl cellosolve And cellosolves such as ethyl cellosolve, ethers such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, 1,3-dioxane and diethoxyethane, and aprotic polar solvents such as acetonitrile, dimethyl sulfoxide and dimethylformamide. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more as appropriate in order to adjust the polarity.

前記反応で得られた反応物を水洗後、加熱減圧下、蒸留によって未反応のエピハロヒドリンや併用する有機溶媒を留去する。この時、多価フェノール類(a)を得る際に用いた有機溶媒やその他の不純物等も同時に留去する事が出来る。また更に加水分解性ハロゲンの少ないエポキシ樹脂とするために、得られたエポキシ樹脂を再びトルエン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトンなどの有機溶媒に溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えてさらに反応を行うこともできる。尚、多価フェノール類(a)の合成工程(縮合反応)とエポキシ化する工程(グリシジルエーテル化反応)は連続的に1つの反応釜でおこなっても、2つ以上の独立した反応釜で行っても良い。   After washing the reaction product obtained in the above reaction with water, unreacted epihalohydrin and the organic solvent to be used in combination are distilled off by distillation under heating and reduced pressure. At this time, the organic solvent and other impurities used for obtaining the polyhydric phenols (a) can be distilled off at the same time. Further, in order to obtain an epoxy resin with less hydrolyzable halogen, the obtained epoxy resin is again dissolved in an organic solvent such as toluene, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, and alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide. Further reaction can be carried out by adding an aqueous solution of the product. The synthesis process (condensation reaction) of polyhydric phenols (a) and the epoxidation process (glycidyl etherification reaction) may be performed continuously in one reaction kettle or in two or more independent reaction kettles. May be.

前述の手法に従って得られるエポキシ樹脂(A)は、従来法を行ったときよりも、多価フェノール類(a)の取り出し工程を必要としない等の理由により、原料仕込み数量より得られる理論数量の95重量%以上、場合によっては98重量%以上の高い収率で得る事が出来、工業的生産に好適に用いる事が出来る製造方法である。   The epoxy resin (A) obtained according to the above-mentioned method has a theoretical quantity obtained from the raw material charge quantity because the polyphenols (a) are not required to be taken out from the conventional process. It is a production method that can be obtained with a high yield of 95% by weight or more, and in some cases 98% by weight or more, and can be suitably used for industrial production.

また、得られるエポキシ樹脂(A)の色相としても良好であり、例えば、ビスフェノールAを原料として用いた場合には、従来法ではハーゼンカラー(エポキシ樹脂とアセトンを等重量混合した樹脂溶液を用いてJIS K6901記載の方法に準拠して得られる色数)が180以上のものしか得られていない事に対して、本発明の製造方法に従って合成した場合には、該ハーゼンカラーとして160以下であり、特に30〜100程度のものも容易に得られる。   Also, the hue of the resulting epoxy resin (A) is good. For example, when bisphenol A is used as a raw material, the conventional method uses a Hazen color (resin solution in which an equal weight of epoxy resin and acetone is used). When the number of colors obtained according to the method described in JIS K6901 is only 180 or more, when synthesized according to the production method of the present invention, the Hazen color is 160 or less, In particular, about 30 to 100 are easily obtained.

本発明の製造方法によって得られるエポキシ樹脂(A)の使用方法、用途等については、なんら制限されるものではなく、通常エポキシ樹脂を使用する電子部品封止材料、光学材料、プリント配線基板、積層板材料、レジストインキ、層間絶縁材料、繊維強化複合材料、塗装材料、成型材料、接着材料分野等に広く用いることが出来、特に、得られる硬化物の耐熱性、機械的特性が良好である点から、金型を用いて連続生産を行う封止材料や、色相が良好である点から、光学材料用として好適に用いる事が出来る。   The usage method and application of the epoxy resin (A) obtained by the production method of the present invention are not limited at all, and an electronic component sealing material, an optical material, a printed wiring board, and a laminate that normally use an epoxy resin. Can be widely used in the fields of plate materials, resist inks, interlayer insulation materials, fiber reinforced composite materials, coating materials, molding materials, adhesive materials, etc., especially the heat resistance and mechanical properties of the resulting cured products are good Therefore, it can be suitably used as an optical material from the viewpoint of a sealing material for continuous production using a mold and a good hue.

本発明のエポキシ樹脂(A)は、硬化剤や他のエポキシ樹脂と併用することによりエポキシ樹脂組成物として使用することが出来る。その他のエポキシ樹脂と併用する場合、本発明の製造方法によるエポキシ樹脂(A)の全エポキシ樹脂中に占める割合は30重量%以上が好ましく、特に40重量%以上が好ましい。   The epoxy resin (A) of this invention can be used as an epoxy resin composition by using together with a hardening | curing agent and another epoxy resin. When used in combination with other epoxy resins, the proportion of the epoxy resin (A) in the total epoxy resin by the production method of the present invention is preferably 30% by weight or more, particularly preferably 40% by weight or more.

併用できるその他のエポキシ樹脂としては特に限定されないが、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂、ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂等の液状度エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール付加反応型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型エポキシ樹脂、ビフェニル変性ノボラック型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂、ブロム化フェノールノボラック型エポキシ樹脂などが挙げられる。またブチルグリシジルエーテル、アルキルフェノールグリシジルエーテル、脂肪鎖カルボン酸グリシジルエステルなどの反応性希釈剤型のエポキシ樹脂や、脂環式エポキシ樹脂などの液状エポキシ樹脂なども挙げられる。また前記他のエポキシ樹脂は単独で用いてもよく、2種以上を混合してもよい。   Other epoxy resins that can be used in combination are not particularly limited. For example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, resorcin type epoxy resin, hydroquinone type epoxy resin, catechol Type epoxy resin, dihydroxynaphthalene type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, tetramethylbiphenyl type epoxy resin etc. liquidity epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, tetraphenylethane Type epoxy resin, dicyclopentadiene-phenol addition reaction type epoxy resin, phenol aralkyl type epoxy resin, naphthol novolac type epoxy Fatty, naphthol aralkyl type epoxy resin, naphthol-phenol co-condensed novolac type epoxy resin, naphthol-cresol co-condensed novolac type epoxy resin, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin modified phenolic resin type epoxy resin, biphenyl modified novolac type epoxy resin, tetrabromo Examples thereof include bisphenol A type epoxy resins and brominated phenol novolac type epoxy resins. Also included are reactive diluent type epoxy resins such as butyl glycidyl ether, alkylphenol glycidyl ether, and aliphatic chain carboxylic acid glycidyl ester, and liquid epoxy resins such as alicyclic epoxy resins. Moreover, the said other epoxy resin may be used independently and may mix 2 or more types.

前記硬化剤としては特に限定されないが、例えばアミン系化合物、酸無水物系化合物、フェノ−ル系化合物などが挙げられ、なかでも電子部品封止材用としては、フェノール系化合物が硬化性、耐熱性に優れる点から好ましく、光学材料用途としては、色相および耐熱性のバランスが良好な酸無水物系化合物が好ましい。   Although it does not specifically limit as said hardening | curing agent, For example, an amine compound, an acid anhydride type compound, a phenol type compound etc. are mentioned, Especially for electronic component sealing materials, a phenol type compound is sclerosing | hardenable and heat-resistant. From the viewpoint of excellent properties, an acid anhydride compound having a good balance between hue and heat resistance is preferred as an optical material application.

アミン系化合物としては、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ブチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ペンタエチレンヘキサミンなどの脂肪族ポリアミン類、メタキシリレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、フェニレンジアミンなどの芳香族ポリアミン類、1、3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、イソホロンジアミン、ノルボルナンジアミンなどの脂環族ポリアミン類等、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンとより合成されるポリアミド樹脂等が挙げられる。   Examples of amine compounds include aliphatic polyamines such as ethylenediamine, propylenediamine, butylenediamine, hexamethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, and pentaethylenehexamine, and aromatic polyamines such as metaxylylenediamine, diaminodiphenylmethane, and phenylenediamine. Examples thereof include alicyclic polyamines such as 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, isophoronediamine and norbornanediamine, and polyamide resins synthesized from dimer of dicyandiamide and linolenic acid and ethylenediamine.

また、酸無水物系化合物としては、例えば、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸などが挙げられる。   Examples of the acid anhydride compound include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride. And methyl hexahydrophthalic anhydride.

また、フェノール系化合物としては、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、トリメチロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、アミノトリアジン変性フェノール樹脂やこれらの変性物等が挙げられる。また潜在性触媒として、イミダゾ−ル、BF−アミン錯体、グアニジン誘導体なども挙げられる。 Examples of phenolic compounds include phenol novolac resins, cresol novolac resins, aromatic hydrocarbon formaldehyde resin-modified phenol resins, dicyclopentadiene phenol addition resins, phenol aralkyl resins, naphthol aralkyl resins, trimethylol methane resins, tetraphenylols. Examples include ethane resins, naphthol novolak resins, naphthol-phenol co-condensed novolak resins, naphthol-cresol co-condensed novolak resins, biphenyl-modified phenol resins, aminotriazine-modified phenol resins, and modified products thereof. Examples of latent catalysts include imidazole, BF 3 -amine complexes, guanidine derivatives, and the like.

また、これらのアミン系化合物、酸無水物系化合物、フェノ−ル系化合物等の硬化剤は単独で用いてもよく、2種以上を混合してもよい。   Further, these amine compounds, acid anhydride compounds, phenol compounds and the like curing agents may be used alone or in combination of two or more.

前記硬化剤の使用量としては、硬化が円滑に進行し、良好な硬化物物性が得られることから、用いるエポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して0.7〜1.2当量が好ましい。   As the usage-amount of the said hardening | curing agent, since hardening progresses smoothly and favorable hardened | cured material physical property is obtained, 0.7-1.2 equivalent is preferable with respect to 1 equivalent of epoxy groups of the epoxy resin to be used.

また硬化促進剤を使用しても差し支えない。用い得る硬化促進剤の具体例としては2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾ−ル類、2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7等の第3級アミン類、トリフェニルホスフィン等のホスフィン類、オクチル酸スズ等の金属化合物等が挙げられる。硬化促進剤の使用量としてはエポキシ樹脂100重量部に対して0.1〜5.0重量部で、必要に応じて適宜選択される。   A curing accelerator may be used. Specific examples of curing accelerators that can be used include imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2- (dimethylaminomethyl) phenol, 1,8-diaza- And tertiary amines such as bicyclo (5,4,0) undecene-7, phosphines such as triphenylphosphine, and metal compounds such as tin octylate. The use amount of the curing accelerator is 0.1 to 5.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin, and is appropriately selected as necessary.

また、前記エポキシ樹脂組成物には、無機質充填材を配合することができる。前記無機質充填材としては、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、窒化珪素、水酸化アルミ等が挙げられる。前記無機充填材の配合量を特に大きくする場合は溶融シリカを用いることが好ましい。前記溶融シリカは破砕状、球状のいずれでも使用可能であるが、溶融シリカの配合量を高め且つ成形材料の溶融粘度の上昇を抑制するためには、球状のものを主に用いる方が好ましい。更に球状シリカの配合量を高めるためには、球状シリカの粒度分布を適当に調整することが好ましい。その充填率は難燃性を考慮して、高い方が好ましく、エポキシ樹脂組成物の全体量に対して65重量%以上が特に好ましい。また導電ペーストなどの用途に使用する場合は、銀粉や銅粉等の導電性充填剤を用いることができる。   Moreover, an inorganic filler can be mix | blended with the said epoxy resin composition. Examples of the inorganic filler include fused silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride, and aluminum hydroxide. When particularly increasing the blending amount of the inorganic filler, it is preferable to use fused silica. The fused silica can be used in either a crushed shape or a spherical shape. However, in order to increase the blending amount of the fused silica and suppress an increase in the melt viscosity of the molding material, it is preferable to mainly use a spherical shape. In order to further increase the blending amount of the spherical silica, it is preferable to appropriately adjust the particle size distribution of the spherical silica. The filling rate is preferably higher in consideration of flame retardancy, and particularly preferably 65% by weight or more with respect to the total amount of the epoxy resin composition. Moreover, when using for uses, such as an electrically conductive paste, electroconductive fillers, such as silver powder and copper powder, can be used.

前記エポキシ樹脂組成物には、必要に応じて、シランカップリング剤、ステアリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の離型剤、顔料、乳化剤等の種々の配合剤を添加することができる。   If necessary, the epoxy resin composition may contain various compounding agents such as a silane coupling agent, a release agent such as stearic acid, palmitic acid, zinc stearate and calcium stearate, a pigment and an emulsifier. it can.

前記エポキシ樹脂組成物には、必要に応じて難燃付与剤も添加できる。前記難燃付与剤としては種々のものが使用できるが、例えば、デカブロモジフェニルエーテル、テトラブロモビスフェノールAなどのハロゲン化合物、赤リンや各種燐酸エステル化合物などの燐原子含有化合物、メラミン或いはその誘導体などの窒素原子含有化合物、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硼酸亜鉛、硼酸カルシウムなどの無機系難燃化合物が例示できる。   A flame retardant imparting agent can be added to the epoxy resin composition as necessary. Various flame retardants can be used, for example, halogen compounds such as decabromodiphenyl ether and tetrabromobisphenol A, phosphorus atom-containing compounds such as red phosphorus and various phosphoric acid ester compounds, melamine or derivatives thereof, etc. Examples thereof include inorganic flame retardant compounds such as nitrogen atom-containing compounds, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, zinc borate, and calcium borate.

前記エポキシ樹脂組成物は、必要に応じて有機溶媒を用いて希釈されたワニス状で用いる事が出来る。有機溶媒は粘度を下げて、流動性や成形性の向上を図るために用いられ、特にその種類は限定されるものではない。例示するならば、メタノール、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、アセトン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムアミドなどが挙げられる。その使用量としては、エポキシ樹脂組成物の固形分値が20〜95重量%の範囲になることが好ましい。   The epoxy resin composition can be used in the form of a varnish diluted with an organic solvent as necessary. The organic solvent is used to lower the viscosity and improve the fluidity and moldability, and the type is not particularly limited. Illustrative examples include methanol, toluene, xylene, diethyl ether, acetone, methyl ethyl ketone, dimethylformamide and the like. As the amount used, it is preferable that the solid content value of the epoxy resin composition is in the range of 20 to 95% by weight.

前記エポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂(A)、必要に応じて併用されるその他のエポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、有機溶剤等を、得られる組成物の粘度に応じた攪拌方法を用いて均一に混合することによって得ることが出来る。前記エポキシ樹脂組成物の形状についてはなんら制限されるものではなく、使用用途、所望の性能等によって、該組成物の形状を適宜選択すればよい。   The said epoxy resin composition uses the stirring method according to the viscosity of the composition obtained, the epoxy resin (A), the other epoxy resin used together as needed, a hardening | curing agent, a hardening accelerator, an organic solvent, etc. Can be obtained by mixing uniformly. The shape of the epoxy resin composition is not limited at all, and the shape of the composition may be appropriately selected depending on the intended use, desired performance, and the like.

前記エポキシ樹脂組成物の使用用途としては、特に制限されるものではなく、例えば、プリント基板用、電子部品の封止材用、レジストインキ、導電ペースト、樹脂注型材料、接着剤、絶縁塗料等のコーティング材料等が挙げられる。   The use application of the epoxy resin composition is not particularly limited. For example, for printed circuit boards, electronic component sealing materials, resist inks, conductive pastes, resin casting materials, adhesives, insulating paints, etc. Coating materials and the like.

前記プリント基板用としては、特にプリプレグ用、銅張り積層板用、ビルドアッププリント基板の層間絶縁材料用に好適に用いることができる。   As the printed circuit board, it can be suitably used particularly for prepregs, copper-clad laminates, and interlayer insulation materials for build-up printed circuit boards.

エポキシ樹脂組成物をプリント基板用プリプレグ用樹脂組成物とするには、該樹脂組成物の粘度によっては無溶媒で用いることもできるが、有機溶剤を用いてワニス化することでプリプレグ用樹脂組成物とすることが好ましい。前記有機溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のアルコール性溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素性溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド等の非アルコール性極性溶媒等沸点160℃以下の溶剤が挙げられ、適宜に2種または、それ以上の混合溶剤として使用することができる。得られた該ワニスを、紙、ガラス布、ガラス不織布、アラミド紙、アラミド布、ガラスマット、ガラスロービング布などの各種補強基材に含浸し、用いた溶剤種に応じた加熱温度、好ましくは50〜170℃で加熱することによって、硬化物であるプリプレグを得ることができる。この時用いる樹脂組成物と補強基材の重量割合としては、特に限定されないが、通常、プリプレグ中の樹脂分が20〜60重量%となるように調整することが好ましい。   In order to make an epoxy resin composition into a resin composition for a prepreg for a printed circuit board, it can be used without a solvent depending on the viscosity of the resin composition, but a resin composition for a prepreg can be made into a varnish using an organic solvent. It is preferable that Examples of the organic solvent include alcoholic solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, and ethyl cellosolve, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, non-alcohols such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and dimethylformamide. Examples thereof include solvents having a boiling point of 160 ° C. or lower, such as a polar solvent, and can be appropriately used as a mixed solvent of two or more. The obtained varnish is impregnated into various reinforcing substrates such as paper, glass cloth, glass nonwoven fabric, aramid paper, aramid cloth, glass mat, and glass roving cloth, and the heating temperature according to the solvent type used, preferably 50 By heating at ˜170 ° C., a prepreg that is a cured product can be obtained. The weight ratio of the resin composition and the reinforcing substrate used at this time is not particularly limited, but it is usually preferable that the resin content in the prepreg is adjusted to 20 to 60% by weight.

エポキシ樹脂組成物から銅張り積層板用樹脂組成物を得るには、上記プリプレグ用樹脂組成物とする方法と同じであり、得られたプリプレグを、例えば特開平7−41543号公報に記載されているように積層し、適宜銅箔を重ねて、1〜10MPaの加圧下に170〜250℃で10分〜3時間、加熱圧着させることにより、銅張り積層板を得ることができる。   In order to obtain a resin composition for a copper-clad laminate from an epoxy resin composition, the method is the same as the above-described resin composition for prepreg, and the obtained prepreg is described in, for example, JP-A-7-41543. Then, a copper-clad laminate can be obtained by stacking copper foils as appropriate and heating and press-bonding them at 170 to 250 ° C. for 10 minutes to 3 hours under a pressure of 1 to 10 MPa.

エポキシ樹脂組成物からビルドアップ基板用層間絶縁材料を得る方法としては特に限定されないが、例えば特公平4−6116号公報、特開平7−304931号公報、特開平8−64960号公報、特開平9−71762号公報、特開平9−298369号公報などに記載の各種方法を採用できる。より具体的には、ゴム、フィラーなどを適宜配合した当該樹脂組成物を、回路を形成した配線基板にスプレーコーティング法、カーテンコーティング法等を用いて塗布した後、硬化させる。その後、必要に応じて所定のスルーホール部等の穴あけを行った後、粗化剤により処理し、その表面を湯洗することによって、凹凸を形成させ、銅などの金属をめっき処理する。前記めっき方法としては、無電解めっき、電解めっき処理が好ましく、また前記粗化剤としては酸化剤、アルカリ、有機溶剤等が挙げられる。このような操作を所望に応じて順次繰り返し、樹脂絶縁層及び所定の回路パターンの導体層を交互にビルドアップして形成することにより、ビルドアップ基盤を得ることができる。但し、スルーホール部の穴あけは、最外層の樹脂絶縁層の形成後に行う。また、銅箔上で当該樹脂組成物を半硬化させた樹脂付き銅箔を、回路を形成した配線基板上に、170〜250℃で加熱圧着することで、粗化面を形成、メッキ処理の工程を省き、ビルドアップ基板を作製することも可能である。   A method for obtaining an interlayer insulating material for a build-up substrate from an epoxy resin composition is not particularly limited. For example, JP-B-4-6116, JP-A-7-304931, JP-A-8-64960, JP-A-9 Various methods described in JP-A-771762 and JP-A-9-298369 can be employed. More specifically, the resin composition appropriately blended with rubber, filler, and the like is applied to a wiring board on which a circuit is formed using a spray coating method, a curtain coating method, or the like, and then cured. Then, after drilling a predetermined through-hole part etc. as needed, it treats with a roughening agent, forms the unevenness | corrugation by washing the surface with hot water, and metal-treats, such as copper. As the plating method, electroless plating or electrolytic plating treatment is preferable, and examples of the roughening agent include an oxidizing agent, an alkali, and an organic solvent. Such operations are sequentially repeated as desired, and a build-up substrate can be obtained by alternately building up and forming the resin insulating layer and the conductor layer having a predetermined circuit pattern. However, the through-hole portion is formed after the outermost resin insulating layer is formed. In addition, a resin-coated copper foil obtained by semi-curing the resin composition on the copper foil is thermocompression-bonded at 170 to 250 ° C. on a circuit board on which a circuit is formed, thereby forming a roughened surface and plating treatment. It is also possible to produce a build-up substrate by omitting the process.

前記電子部品の封止材用としては、半導体チップの封止材用、アンダーフィル用、半導体の層間絶縁膜用に好適に用いることができる。   As the electronic component sealing material, it can be suitably used for a semiconductor chip sealing material, underfill, and semiconductor interlayer insulating film.

エポキシ樹脂組成物を半導体封止材料用に調整するためには、エポキシ樹脂(A)、必要に応じて併用されるその他のエポキシ樹脂、硬化剤、カップリング剤、離型剤などの添加剤や無機充填材などを予備混合した後、押出機、ニ−ダ、ロ−ル等を用いて均一になるまで充分に混合する手法が挙げられる。溶融混合型(無溶媒)組成物の場合は、該組成物を注型、或いはトランスファ−成形機、射出成形機などを用いて成形し、さらに50〜200℃で2〜10時間に加熱することにより硬化物を得ることができ、半導体パッケージ成形はこれに該当する。   In order to adjust the epoxy resin composition for a semiconductor sealing material, an epoxy resin (A), other epoxy resins used in combination as necessary, a curing agent, a coupling agent, an additive such as a release agent, An example is a method in which an inorganic filler or the like is premixed and then sufficiently mixed until uniform using an extruder, kneader, roll, or the like. In the case of a melt mixed type (solvent-free) composition, the composition is cast or molded using a transfer molding machine, an injection molding machine, etc., and further heated at 50 to 200 ° C. for 2 to 10 hours. Thus, a cured product can be obtained, and semiconductor package molding corresponds to this.

またテープ状封止剤として使用する場合には、前述の手法によって得られた樹脂組成物を加熱して半硬化シートを作製し、封止剤テープとした後、この封止剤テープを半導体チップ上に置き、100〜150℃に加熱して軟化させ成形し、170〜250℃で完全に硬化させる方法を挙げることができる。   Moreover, when using as a tape-shaped sealing agent, after heating the resin composition obtained by the above-mentioned method and producing a semi-hardened sheet and using it as a sealing agent tape, this sealing agent tape is used as a semiconductor chip. Examples of the method include placing it on top, heating to 100 to 150 ° C, softening and molding, and completely curing at 170 to 250 ° C.

更にポッティング型液状封止剤として使用する場合には、前述の手法によって得られた樹脂組成物を半導体チップや電子部品上に塗布し、直接、硬化させればよい。   Furthermore, when using as a potting type liquid sealing agent, the resin composition obtained by the above-mentioned method may be applied on a semiconductor chip or an electronic component and directly cured.

エポキシ樹脂組成物をアンダーフィル樹脂として使用する方法についても特に限定されないが、特開平9−266221号公報や「エレクトロニクス分野のプラスチック」(工業調査会発行、1999年、27〜34頁)に記載されるような方法を採用できる。より具体的には、フリップチップ実装時に電極のついた半導体素子と半田のついたプリント配線基板との空隙に、本発明のエポキシ樹脂組成物を毛細管現象を利用してキャピラリーフロー法によって注入し硬化させる方法、予め基板ないし半導体素子上に本発明のエポキシ樹脂組成物を半硬化させてから、加熱して半導体素子と基板を密着させ、完全硬化させるコンプレッションフロー法等が挙げられる。この場合、本発明のエポキシ樹脂組成物は、有機溶剤を含有しない液状のエポキシ樹脂組成物の形態で使用するのが好ましい。特にキャピラリーフロー法を用いる場合には低粘度である必要があり、5000mPa・s以下の粘度であることが好ましい。当該樹脂組成物がこれを超える粘度であれば、室温〜100℃以下に加温して注入することもできる。   The method of using the epoxy resin composition as an underfill resin is not particularly limited, but is described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-266221 and “Plastics in the Electronics Field” (Industry Research Council, 1999, pages 27 to 34). Can be used. More specifically, the epoxy resin composition of the present invention is injected into the gap between the semiconductor element with electrodes and the printed wiring board with solder during flip-chip mounting by a capillary flow method using a capillary phenomenon and cured. And a compression flow method in which the epoxy resin composition of the present invention is semi-cured on a substrate or a semiconductor element in advance, and then the semiconductor element and the substrate are brought into close contact with each other to be completely cured. In this case, the epoxy resin composition of the present invention is preferably used in the form of a liquid epoxy resin composition containing no organic solvent. In particular, when the capillary flow method is used, the viscosity needs to be low, and the viscosity is preferably 5000 mPa · s or less. If the said resin composition is a viscosity exceeding this, it can also inject | pour after heating to room temperature-100 degrees C or less.

エポキシ樹脂組成物を半導体の層間絶縁材料として使用する場合は、例えば特開平6−85091号公報の記載の方法が採用できる。層間絶縁膜に用いる場合は半導体に直接接することになるため、高温環境下において線膨張率の差によるクラックが生じないよう、絶縁材の線膨張率を半導体の線膨張率に近づけることが要求される。また、半導体の微細化、多層化、高密度化による信号遅延の問題に対応するため、絶縁材の低容量化技術が求められており、絶縁材を低誘電化することによってこの問題を解決することができる。当該樹脂組成物は、これらの要求を満たす特性を有するため好ましい。   When the epoxy resin composition is used as a semiconductor interlayer insulating material, for example, the method described in JP-A-6-85091 can be employed. When used as an interlayer insulating film, it will be in direct contact with the semiconductor, so it is required that the linear expansion coefficient of the insulating material be close to the linear expansion coefficient of the semiconductor so that cracks due to the difference in linear expansion coefficient do not occur in a high temperature environment. The In addition, in order to deal with the problem of signal delay due to miniaturization, multilayering, and high density of semiconductors, there is a demand for technology for reducing the capacity of insulating materials, and this problem can be solved by reducing the dielectric of insulating materials. be able to. The resin composition is preferable because it has characteristics satisfying these requirements.

エポキシ樹脂組成物をレジストインキとして使用する場合には、例えば特開平5−186567号公報に記載の方法に準じて、レジストインキ用組成物とした後、スクリーン印刷方式にてプリント基板上に塗布した後、レジストインキ硬化物とする方法が挙げられる。   When the epoxy resin composition is used as a resist ink, for example, according to the method described in JP-A-5-186567, a resist ink composition is applied to a printed circuit board by a screen printing method. Then, the method of setting it as a resist ink hardened | cured material is mentioned.

エポキシ樹脂組成物を導電ペーストとして使用する場合には、例えば、特開平3−46707号公報に記載の微細導電性粒子を該樹脂組成物中に分散させ異方性導電膜用組成物とする方法、特開昭62−40183号公報、特開昭62−76215号公報、特開昭62−176139号公報などに開示されているような室温で液状である回路接続用ペースト樹脂組成物や異方性導電接着剤とする方法が挙げられる。   When using an epoxy resin composition as a conductive paste, for example, a method of dispersing fine conductive particles described in JP-A-3-46707 in the resin composition to form a composition for an anisotropic conductive film A paste resin composition for circuit connection which is liquid at room temperature and is anisotropic as disclosed in JP-A-62-240183, JP-A-62-276215, JP-A-62-176139, etc. And a method of forming a conductive conductive adhesive.

エポキシ樹脂組成物を塗料用樹脂組成物として使用する場合には、例えば、エポキシ樹脂(A)、必要に応じて併用されるその他のエポキシ樹脂、顔料、着色剤、添加剤等を配合し、必要に応じて有機溶剤を加え、ペイントシェーカー、混合ミキサー、ボールミル等の装置を用いて十分に混合し、均一に分散させ、これに硬化剤、硬化促進剤等を更に配合して均一にし、所望の粘度に有機溶剤等で調製する方法を挙げることができる。   When using an epoxy resin composition as a resin composition for paints, for example, an epoxy resin (A), other epoxy resins used in combination as needed, pigments, colorants, additives, etc. are blended and necessary. Depending on the condition, add an organic solvent, mix thoroughly using a device such as a paint shaker, mixing mixer, ball mill, etc., and disperse it uniformly. The viscosity can be prepared with an organic solvent or the like.

前記手法によって得られた塗料用に調製された樹脂組成物は、各種の塗装方法によって様々な基材に塗布することができ、特にその手法は制限されるものではなく、例えば、グラビアコーター、ナイフコーター、ロールコーター、コンマコーター、スピンコーター、バーコーター、刷毛塗り、ディッピング塗布、スプレー塗布、静電塗装等のコーティング方法が挙げられる。また、前記塗料用に調製された樹脂組成物を塗装した後の硬化方法についても特に制限されるものではない。   The resin composition prepared for the paint obtained by the above technique can be applied to various substrates by various coating methods, and the technique is not particularly limited. For example, a gravure coater, a knife Examples of the coating method include a coater, a roll coater, a comma coater, a spin coater, a bar coater, brush coating, dipping coating, spray coating, and electrostatic coating. Further, the curing method after coating the resin composition prepared for the paint is not particularly limited.

エポキシ樹脂組成物を接着剤用樹脂組成物として使用する場合には、例えば、エポキシ樹脂(A)、必要に応じて併用されるその他のエポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、添加剤等を室温または加熱下で混合ミキサー等を用いて均一に混合することによって得ることができ、各種の基材に塗布した後、加熱下に放置することによって基材の接着を行うことができる。   When the epoxy resin composition is used as a resin composition for an adhesive, for example, the epoxy resin (A), other epoxy resin used in combination as necessary, a curing agent, a curing accelerator, an additive, and the like are used at room temperature. Or it can obtain by mixing uniformly using a mixing mixer etc. under a heating, and after apply | coating to various base materials, a base material can be adhere | attached by leaving it to stand under a heating.

エポキシ樹脂組成物から複合材料を得るには粘度によっては無溶媒系で使用することが可能であるが、無溶媒系での扱いが困難な場合は、有機溶剤を用いてワニス化し、該ワニスを補強基材に含浸し、加熱してプリプレグを得た後、それを繊維の方向を少しずつ変えて、擬似的に等方性を持たせるように積層し、その後加熱することにより硬化成形する方法が挙げられる。前記有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のアルコール性溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素性溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミド等の非アルコール性極性溶媒等沸点160℃以下の溶剤が挙げられ、適宜に2種または、それ以上の混合溶剤として使用することができる。加熱温度としては、用いる溶剤の種類を考慮して決定され、好ましくは50〜150℃とされる。補強基材の種類は特に限定されず、例えば炭素繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維、アルミナ繊維、紙、ガラス布、ガラス不織布、アラミド紙、アラミド布、ガラスマット、ガラスロービング布などが挙げられる。樹脂分と補強基材の割合も特に限定されないが、通常、プリプレグ中の樹脂分が20〜60重量%となるように調整するのが好ましい。   Depending on the viscosity, it is possible to use a solvent-free system to obtain a composite material from the epoxy resin composition. However, when it is difficult to handle in a solvent-free system, it is varnished with an organic solvent, and the varnish is used. A method of impregnating a reinforcing base material and heating it to obtain a prepreg, then laminating it so that the direction of the fiber is changed little by little, giving it pseudo-isotropic properties, and then heating to form a prepreg Is mentioned. Examples of the organic solvent include alcoholic solvents such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, methyl cellosolve, and ethyl cellosolve, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, dimethylformamide, and the like. Non-alcoholic polar solvents and the like have a boiling point of 160 ° C. or lower, and can be used as a mixed solvent of two or more as appropriate. The heating temperature is determined in consideration of the type of solvent used, and is preferably 50 to 150 ° C. The type of the reinforcing substrate is not particularly limited, and examples thereof include carbon fiber, polyester fiber, polyamide fiber, alumina fiber, paper, glass cloth, glass nonwoven fabric, aramid paper, aramid cloth, glass mat, and glass roving cloth. The ratio of the resin component and the reinforcing substrate is not particularly limited, but it is usually preferable that the resin component in the prepreg is adjusted to 20 to 60% by weight.

エポキシ樹脂組成物を用いて得られる硬化物は、該樹脂組成物を成形硬化させて得ることができ、成型物、積層物、注型物、接着剤、塗膜、フィルムなどの形態をもつ。例えば、溶融混合型の組成物の場合は、該組成物を注型、或いはトランスファ−成形機、射出成形機などを用いて成形し、さらに80〜250℃で2〜10時間に加熱することにより硬化物を得ることができ、半導体パッケージ成形はこれに該当する。またワニス状組成物の場合は、それを基材に塗装し加熱乾燥するなどして塗膜を得ることができ、塗料はこれに該当する。またまたそれをガラス繊維、カーボン繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維、アルミナ繊維、紙などの基材に含浸させ加熱乾燥してプリプレグを得て、それを熱プレス成形して得ることができ、プリント配線基板用やCFRP用の積層材料はこれに該当する。   A cured product obtained using the epoxy resin composition can be obtained by molding and curing the resin composition, and has a form such as a molded product, a laminate, a cast product, an adhesive, a coating film, and a film. For example, in the case of a melt-mixed type composition, the composition is cast or molded using a transfer molding machine, an injection molding machine, etc., and further heated at 80 to 250 ° C. for 2 to 10 hours. A cured product can be obtained, and semiconductor package molding corresponds to this. In the case of a varnish-like composition, a coating film can be obtained by coating it on a substrate and drying it by heating, and the paint corresponds to this. In addition, it can be obtained by impregnating a base material such as glass fiber, carbon fiber, polyester fiber, polyamide fiber, alumina fiber, paper, etc. and drying by heating to obtain a prepreg, which can be obtained by hot press molding. This applies to the laminated material for CFRP and CFRP.

前記硬化物を得る方法としては、一般的なエポキシ樹脂組成物の硬化方法に準拠すればよいが、例えば加熱温度条件は、組み合わせる硬化剤の種類や用途等によって、適宜選択すればよく、上記方法によって得られた組成物を、室温〜250℃程度の温度範囲で加熱すればよい。成形方法などもエポキシ樹脂組成物の一般的な方法が用いられ、特に本発明で得られるエポキシ樹脂(A)に特有の条件は不要である。   The method for obtaining the cured product may be based on a general method for curing an epoxy resin composition. For example, the heating temperature condition may be appropriately selected depending on the type and use of the curing agent to be combined. What is necessary is just to heat the composition obtained by this in the temperature range of about room temperature-250 degreeC. As a molding method, a general method of an epoxy resin composition is used, and in particular, conditions specific to the epoxy resin (A) obtained in the present invention are unnecessary.

以下、実施例および比較例を挙げて本発明の製造方法を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものでない。尚、表中の性状値の測定条件、および略号の意味は以下の通りである。
[1]色数:エポキシ樹脂5.0gをアセトン5.0gに溶解させたのち、JIS K6901記載のハーゼン色数測定法に準拠した。
[2]エポキシ当量:JIS K−7236に準じた方法で測定した。
[3]収率:2価フェノール類(x1)の使用量から算出した理論収量に対する実収量の重量%
[4]ガラス転移温度:DMA法により測定した。
EXAMPLES Hereinafter, although the manufacturing method of this invention is demonstrated in detail, giving an Example and a comparative example, this invention is not limited only to these Examples. The measurement conditions for the property values in the table and the meanings of the abbreviations are as follows.
[1] Number of colors: After dissolving 5.0 g of epoxy resin in 5.0 g of acetone, it conformed to the Hazen color number measuring method described in JIS K6901.
[2] Epoxy equivalent: Measured by a method according to JIS K-7236.
[3] Yield:% by weight of the actual yield based on the theoretical yield calculated from the amount of dihydric phenol (x1) used.
[4] Glass transition temperature: measured by DMA method.

実施例1〜2
多価フェノール類(a)の合成
加熱装置と攪拌装置とコンデンサと温度計および下部に分液コックが装着された反応装置に窒素ガスを流しながら、表1に示す量のビスフェノールAとビスフェノールA1モルに対し0.62モルの41重量%ホルムアルデヒド水溶液およびビスフェノールA100重量部に対し5重量部のイソプロピルアルコールを添加した。
Examples 1-2
Synthesis of polyhydric phenols (a) While flowing nitrogen gas through a heating device, a stirrer, a condenser, a thermometer, and a reactor equipped with a separator cock at the bottom, the amounts of bisphenol A and bisphenol A 1 mol shown in Table 1 0.62 mol of 41 wt% formaldehyde aqueous solution and 5 parts by weight of isopropyl alcohol were added to 100 parts by weight of bisphenol A.

次いでビスフェノールA100重量部に対し0.2重量部の表1記載の酸性触媒(I)を90℃で添加した。添加後、還流状態(約100℃)まで30分間で昇温し、更に還流状態を保ちながら6時間攪拌した。次いで炭酸カリウムを用いて中和した。中和度合いの確認は、以下の作業によって行った。まず、反応液に中和剤(炭酸カリウム)を加え均一に混合した後、反応液1重量部を取り出し、ここにトルエンを2重量部加え、攪拌した。更に、蒸留水1重量部を加え、攪拌後、静置し、水相のpHをpH試験紙にて測定し、pH=7を確認した。   Next, 0.2 parts by weight of the acidic catalyst (I) shown in Table 1 was added at 90 ° C. with respect to 100 parts by weight of bisphenol A. After the addition, the temperature was raised to a reflux state (about 100 ° C.) over 30 minutes, and the mixture was further stirred for 6 hours while maintaining the reflux state. Then neutralized with potassium carbonate. The degree of neutralization was confirmed by the following work. First, after neutralizing agent (potassium carbonate) was added to the reaction solution and mixed uniformly, 1 part by weight of the reaction solution was taken out, and 2 parts by weight of toluene was added thereto and stirred. Furthermore, 1 part by weight of distilled water was added, and after stirring, the mixture was allowed to stand, and the pH of the aqueous phase was measured with a pH test paper to confirm that pH = 7.

エポキシ樹脂(A)の合成
多価フェノール類(a)の合成後、ひきつづき反応装置に多価フェノール類(a)の水酸基1モルに対して3.5モルのエピクロルヒドリンおよびエピクロルヒドリン100重量部に対し30重量部のイソプロピルアルコールを添加し、溶解させながら40℃まで降温した。
Synthesis of Epoxy Resin (A) After the synthesis of polyhydric phenols (a), the reaction apparatus was subsequently charged with 3.5 moles of epichlorohydrin and 100 parts by weight of epichlorohydrin per mole of hydroxyl groups of polyhydric phenols (a). A part by weight of isopropyl alcohol was added and the temperature was lowered to 40 ° C. while dissolving.

次いで塩基性触媒(II)として表1に示す量の35重量%水酸化カリウム水溶液を2段階に分けて添加した。まず40℃で全量の10重量%を添加して、40℃を保ちながら4時間攪拌した。次いで50℃に昇温して残りの90重量%を50℃を保持しながら3時間要して滴下した。さらに50℃で30分間攪拌した後に、生成塩が飽和濃度になるような量の水を添加して塩を溶解して、攪拌を止めて水層を棄却した。次いで未反応のエピクロルヒドリンを蒸留によって留去し、粗樹脂を得た。   Next, a 35 wt% aqueous potassium hydroxide solution in the amount shown in Table 1 was added in two steps as the basic catalyst (II). First, 10% by weight of the total amount was added at 40 ° C., and the mixture was stirred for 4 hours while maintaining 40 ° C. Next, the temperature was raised to 50 ° C., and the remaining 90% by weight was added dropwise over 3 hours while maintaining 50 ° C. Further, after stirring at 50 ° C. for 30 minutes, an amount of water such that the produced salt has a saturated concentration was added to dissolve the salt, stirring was stopped, and the aqueous layer was discarded. Next, unreacted epichlorohydrin was distilled off to obtain a crude resin.

次いで粗樹脂100重量部に対し150重量部のメチルイソブチルケトンを添加して溶解した後、メチルイソブチルケトン100重量部に対し50重量部のn−ブタノールと12重量部の10重量%水酸化ナトリウム水溶液を加えて、80℃で2時間攪拌して分液した。それを第一燐酸ソーダで中和した後に、共沸によって脱水し、精密濾過を経た後にメチルイソブチルケトンを蒸留によって留去して表1記載のエポキシ当量のエポキシ樹脂(A)を得た。   Next, after adding 150 parts by weight of methyl isobutyl ketone to 100 parts by weight of the crude resin, 50 parts by weight of n-butanol and 12 parts by weight of 10% by weight sodium hydroxide aqueous solution are added to 100 parts by weight of methyl isobutyl ketone. Was added and stirred at 80 ° C. for 2 hours for liquid separation. After neutralizing with sodium phosphate, it was dehydrated by azeotropic distillation, and after passing through microfiltration, methyl isobutyl ketone was distilled off by distillation to obtain an epoxy equivalent epoxy resin (A) shown in Table 1.

Figure 0004665444
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比較例1〜2
多価フェノール類(a’)の合成
表2に示す量のビスフェノールAを用いて、実施例1〜2と同様にして多価フェノール類を合成した後、170℃まで昇温しメタノールや水を蒸留にて留去し、溶融状態で下部の分液コックより抜き出し、次いで室温で冷却固化させ、多価フェノール類(a’)を得た。
Comparative Examples 1-2
Synthesis of polyhydric phenols (a ′) Using the amount of bisphenol A shown in Table 2, after synthesizing polyhydric phenols in the same manner as in Examples 1-2, the temperature was raised to 170 ° C. and methanol or water was added. Distilled off by distillation, extracted from the lower separation cock in the molten state, then cooled and solidified at room temperature to obtain polyhydric phenols (a ′).

エポキシ樹脂(A’)の合成
加熱装置と攪拌装置とコンデンサと温度計および下部に分液コックが装着された反応装置に窒素ガスを流しながら、表2に示す量の多価フェノール類(a’)とエピクロルヒドリンおよびエピクロルヒドリン100重量部に対し30重量部のイソプロピルアルコールを添加しながら40℃まで降温した。次いで実施例1〜2と同様の操作においてエポキシ樹脂(A’)を得た。
Synthesis of Epoxy Resin (A ′) While flowing nitrogen gas through a heating device, a stirring device, a condenser, a thermometer, and a reactor equipped with a separator cock at the bottom, the amount of polyhydric phenols (a ′ ) And epichlorohydrin and 100 parts by weight of epichlorohydrin, the temperature was lowered to 40 ° C. while adding 30 parts by weight of isopropyl alcohol. Subsequently, the epoxy resin (A ') was obtained in the same operation as Examples 1-2.

Figure 0004665444
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試験例1〜2、及び比較試験例1〜2
表3、4に記載した配合に従って、エポキシ樹脂、硬化剤、硬化促進剤、無機充填材及び離型剤を混合した後、加熱ロールを用いて、温度85℃で5分間混練し、次いで冷却した。その後、粉砕して封止樹脂を得た。尚、硬化剤としてはフェノール樹脂[大日本インキ化学工業製、フェノライトTD−2131]を、硬化促進剤としてはトリフェニルホスフィン[北興化学工業株式会社製]を、無機充填剤としては結晶シリカ[龍森社製、商品名3K]を、離型剤としては天然カルナバワックスを使用した。
Test Examples 1-2 and Comparative Test Examples 1-2
According to the composition described in Tables 3 and 4, after mixing the epoxy resin, curing agent, curing accelerator, inorganic filler and release agent, the mixture was kneaded at 85 ° C. for 5 minutes using a heating roll, and then cooled. . Then, it grind | pulverized and obtained sealing resin. As a curing agent, a phenol resin [Dainippon Ink Chemicals, Phenolite TD-2131] is used, as a curing accelerator is triphenylphosphine [made by Hokuko Chemical Co., Ltd.], and as an inorganic filler is crystalline silica [ Natural carnauba wax was used as a mold release agent.

各試験例及び各比較試験例で得られた封止樹脂を用いて、評価用サンプルを下記の方法で作製し、硬化物の耐熱性および金型汚れ性を下記の方法で測定した。耐熱性の評価指標として,ガラス転移温度(DMA法)を測定した。なお、試験片の成形及び後硬化の方法は、トランスファー成型機を用いて、170℃で90秒成形した後、取り出し、175℃で6時間、後硬化した。金型汚れ性は、TO220型の評価用サンプルを連続的に成形し、金型の汚れ状態を目視により観察して評価した。そして250回以下の成形で金型汚れが発生した場合を×とし、500回以上成形しても金型汚れが発生しない場合を◎とし、その中間の場合を○とした。なお、成形の方法は、トランスファー成型機を用いて、170℃で90秒成形した。   Using the sealing resins obtained in each test example and each comparative test example, an evaluation sample was prepared by the following method, and the heat resistance and mold stain resistance of the cured product were measured by the following method. As an evaluation index of heat resistance, glass transition temperature (DMA method) was measured. The test piece was molded and post-cured using a transfer molding machine after molding at 170 ° C. for 90 seconds, and then taken out and post-cured at 175 ° C. for 6 hours. The mold dirtiness was evaluated by continuously molding a TO220 type evaluation sample and visually observing the dirt state of the mold. In addition, the case where mold contamination occurred after molding 250 times or less was marked as x, the case where mold contamination did not occur even after molding 500 times or more was marked as ◎, and the middle case was marked as ◯. As a molding method, molding was performed at 170 ° C. for 90 seconds using a transfer molding machine.

Figure 0004665444
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表3〜4に示したように、各試験例は比較試験例と比べて耐熱性および金型汚れ性が優れていることが確認された。   As shown in Tables 3 to 4, it was confirmed that each test example was superior in heat resistance and mold stain resistance as compared with the comparative test example.

Claims (6)

2価フェノール類(x1)とアルデヒド類(x2)とを酸性触媒(I)の存在下120℃以下で縮合反応させて多価フェノール類(a)を得た後、中和及び/又は水洗し、120℃以上の加熱蒸留を行うことなく引き続きエピハロヒドリン(x3)を加え塩基性触媒(II)の存在下にグリシジルエーテル化反応させてエポキシ樹脂(A)を得ることを特徴とするエポキシ樹脂の製造方法。 Dihydric phenols (x1) and aldehydes (x2) are subjected to a condensation reaction at 120 ° C. or lower in the presence of acidic catalyst (I) to obtain polyhydric phenols (a), and then neutralized and / or washed with water. Production of an epoxy resin characterized by obtaining an epoxy resin (A) by adding epihalohydrin (x3) and subjecting it to glycidyl etherification in the presence of a basic catalyst (II) without performing distillation at 120 ° C. or higher. Method. 酸性触媒(I)がリン酸である請求項1記載のエポキシ樹脂の製造方法。 The method for producing an epoxy resin according to claim 1, wherein the acidic catalyst (I) is phosphoric acid. 塩基性触媒(II)がアルカリ金属水酸化物である請求項1記載のエポキシ樹脂の製造方法。 The method for producing an epoxy resin according to claim 1, wherein the basic catalyst (II) is an alkali metal hydroxide. 2価フェノール類(x1)がビスフェノール類である請求項1記載のエポキシ樹脂の製造方法。 The method for producing an epoxy resin according to claim 1, wherein the dihydric phenol (x1) is a bisphenol. ビスフェノール類がビスフェノールAである請求項記載のエポキシ樹脂の製造方法。 The method for producing an epoxy resin according to claim 4 , wherein the bisphenol is bisphenol A. アルデヒド類(x2)がホルムアルデヒドである請求項1〜の何れか1項記載のエポキシ樹脂の製造方法。 The method for producing an epoxy resin according to any one of claims 1 to 5 , wherein the aldehyde (x2) is formaldehyde.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009167240A (en) * 2008-01-11 2009-07-30 Nippon Kayaku Co Ltd Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
US8777392B2 (en) 2009-04-23 2014-07-15 Konica Minolta Business Technologies, Inc. Inkjet ink and inkjet recording method
JP6620923B2 (en) * 2015-06-05 2019-12-18 Dic株式会社 (Meth) acrylate resin and resist member

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59226067A (en) * 1983-06-08 1984-12-19 Sumitomo Deyurezu Kk Epoxy resin powder coating composition
JPS59226068A (en) * 1983-06-08 1984-12-19 Sumitomo Deyurezu Kk Epoxy resin powder coating composition
JPS61246219A (en) * 1985-04-24 1986-11-01 Sumitomo Chem Co Ltd Polyphenol novolak glycidyl ether, its production and use
JPS61247720A (en) * 1985-04-25 1986-11-05 Sumitomo Chem Co Ltd Polyphenol novolak glycidyl ether its production and use
JP2001040065A (en) * 1999-07-28 2001-02-13 Dainippon Ink & Chem Inc Production of high-purity epoxy resin
JP2001064358A (en) * 1999-08-30 2001-03-13 Dainippon Ink & Chem Inc Epoxy resin composition
WO2004020492A1 (en) * 2002-08-30 2004-03-11 Asahi Organic Chemicals Industry Co., Ltd. Process for producing phenolic novolak

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59226067A (en) * 1983-06-08 1984-12-19 Sumitomo Deyurezu Kk Epoxy resin powder coating composition
JPS59226068A (en) * 1983-06-08 1984-12-19 Sumitomo Deyurezu Kk Epoxy resin powder coating composition
JPS61246219A (en) * 1985-04-24 1986-11-01 Sumitomo Chem Co Ltd Polyphenol novolak glycidyl ether, its production and use
JPS61247720A (en) * 1985-04-25 1986-11-05 Sumitomo Chem Co Ltd Polyphenol novolak glycidyl ether its production and use
JP2001040065A (en) * 1999-07-28 2001-02-13 Dainippon Ink & Chem Inc Production of high-purity epoxy resin
JP2001064358A (en) * 1999-08-30 2001-03-13 Dainippon Ink & Chem Inc Epoxy resin composition
WO2004020492A1 (en) * 2002-08-30 2004-03-11 Asahi Organic Chemicals Industry Co., Ltd. Process for producing phenolic novolak

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