JP2009167240A - Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof - Google Patents

Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof Download PDF

Info

Publication number
JP2009167240A
JP2009167240A JP2008004029A JP2008004029A JP2009167240A JP 2009167240 A JP2009167240 A JP 2009167240A JP 2008004029 A JP2008004029 A JP 2008004029A JP 2008004029 A JP2008004029 A JP 2008004029A JP 2009167240 A JP2009167240 A JP 2009167240A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
resin composition
bisphenol
present
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008004029A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasumasa Akatsuka
泰昌 赤塚
Uzuhiko Ueda
珍比古 上田
Masayuki Itai
政幸 板井
Masato Ueda
政人 上田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Kayaku Co Ltd
Original Assignee
Nippon Kayaku Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Kayaku Co Ltd filed Critical Nippon Kayaku Co Ltd
Priority to JP2008004029A priority Critical patent/JP2009167240A/en
Publication of JP2009167240A publication Critical patent/JP2009167240A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy resin exhibiting high heat resistance and excellent mechanical strengths. <P>SOLUTION: The epoxy resin is a bisphenol A novolak-type epoxy resin having a softening point of 60-100°C, where the ratio of the monosubstituted phenol residue (A) to the disubstituted phenol residue (B), (A)/(B), is at least 15. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、耐熱性・機械強度に優れたエポキシ樹脂に関する。   The present invention relates to an epoxy resin excellent in heat resistance and mechanical strength.

エポキシ樹脂としては、一般にビスフェノールAのジグリシジルエーテル(液状)が広く知られており、更に高耐熱性が要求される分野においてはフェノールノボラックやクレゾールノボラックのポリグリシジルエーテル化物が主に用いられている。   As the epoxy resin, diglycidyl ether (liquid form) of bisphenol A is generally widely known, and polyglycidyl etherified products of phenol novolac and cresol novolac are mainly used in fields where high heat resistance is required. .

WO2004/020492号WO2004 / 020492

また、半導体封止材や基板などの電子部品用途においては、近年の環境保護意識の高まりから半田付けを行う場合、従来の鉛含有半田から、鉛フリー半田へと急速に移行している。鉛フリー半田は従来の半田と比べて融解温度が約20℃高いため、電子部品に使用されている樹脂の耐熱性や機械強度が劣る場合、樹脂中に含まれる微量の水分が半田浴に晒した際、部品内で急激に蒸発し部品の内部や外観に損傷をもたらす現象が生じ易くなる。このような問題を解決するために耐熱性、機械強度に優れたエポキシ樹脂が待ち望まれている。   Further, in the application of electronic parts such as semiconductor encapsulants and substrates, when soldering is performed due to the recent increase in environmental protection awareness, the conventional lead-containing solder is rapidly shifting to lead-free solder. Since lead-free solder has a melting temperature about 20 ° C higher than that of conventional solder, if the heat resistance and mechanical strength of the resin used in electronic components are inferior, a small amount of water contained in the resin is exposed to the solder bath. In such a case, a phenomenon in which the components rapidly evaporate and damages the inside or appearance of the component is likely to occur. In order to solve such problems, an epoxy resin excellent in heat resistance and mechanical strength has been awaited.

本発明者らはこうした実状に鑑み、耐熱性や機械強度に優れたエポキシ樹脂を求めて鋭意研究した結果、本発明を完成させるに到った。   In light of these circumstances, the present inventors have intensively studied for an epoxy resin excellent in heat resistance and mechanical strength, and as a result, completed the present invention.

すなわち本発明は
(1)軟化点が60〜100℃であるビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂において下記式
That is, the present invention relates to (1) a bisphenol A novolac type epoxy resin having a softening point of 60 to 100 ° C.

Figure 2009167240
で表されるフェノール残基(A)と、下記式(3)
Figure 2009167240
And a phenol residue (A) represented by the following formula (3)

Figure 2009167240
で表されるフェノール残基(B)の比率(A)/(B)が15以上であるエポキシ樹脂、
(2)上記(1)記載のエポキシ樹脂、硬化剤を含むエポキシ樹脂組成物、
(3)硬化促進剤を含有する上記(2)記載のエポキシ樹脂組成物、
(4)無機充填剤を含有する上記(2)乃至(3)記載のエポキシ樹脂組成物、
(5)上記(2)乃至(4)のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物の硬化物、
を提供するものである。
Figure 2009167240
An epoxy resin in which the ratio (A) / (B) of the phenol residue (B) represented by
(2) the epoxy resin according to (1) above, an epoxy resin composition containing a curing agent,
(3) The epoxy resin composition according to the above (2), which contains a curing accelerator,
(4) The epoxy resin composition according to the above (2) to (3), which contains an inorganic filler,
(5) A cured product of the epoxy resin composition according to any one of (2) to (4) above,
Is to provide.

本発明のエポキシ樹脂を用いた硬化物は耐熱性が高く、しかも機械強度に優れるため、鉛フリー半田を使用する電子部品用途に好適である。   A cured product using the epoxy resin of the present invention has high heat resistance and excellent mechanical strength, and is therefore suitable for electronic parts using lead-free solder.

本発明のエポキシ樹脂は、特定のビスフェノールAノボラック樹脂をグリシジルエーテル化して得ることができる。この原料として使用されるビスフェノールAノボラック樹脂はビスフェノールAとホルマリンとを酸触媒の存在下で縮合反応させることにより得ることが出来る。本発明のエポキシ樹脂の原料として好適なビスフェノールAノボラック樹脂の軟化点は通常90〜150℃であり、好ましくは100〜140℃である。ビスフェノールAノボラック樹脂の軟化点は反応に用いるビスフェノールAとホルマリンとの仕込み比率によって、ほぼ一義的に定まる。前記軟化点のビスフェノールAノボラック樹脂を得るためのビスフェノールAとホルマリンとの仕込みモル比率は通常ビスフェノールA1モルに対してホルマリン0.50〜0.95モルであり、好ましくは0.55〜0.90モルである。   The epoxy resin of the present invention can be obtained by glycidyl etherification of a specific bisphenol A novolac resin. The bisphenol A novolak resin used as the raw material can be obtained by subjecting bisphenol A and formalin to a condensation reaction in the presence of an acid catalyst. The softening point of a bisphenol A novolak resin suitable as a raw material for the epoxy resin of the present invention is usually 90 to 150 ° C, preferably 100 to 140 ° C. The softening point of the bisphenol A novolac resin is determined almost uniquely by the charge ratio of bisphenol A and formalin used in the reaction. The molar ratio of bisphenol A and formalin used to obtain the softening point bisphenol A novolak resin is usually 0.50 to 0.95 mol, preferably 0.55 to 0.90, with respect to 1 mol of bisphenol A. Is a mole.

前記酸触媒としてはシュウ酸、パラトルエンスルホン酸、リン酸などが挙げられる。縮合反応の方法に関しては、特に制限されるものではないが、下記式   Examples of the acid catalyst include oxalic acid, p-toluenesulfonic acid, and phosphoric acid. The method of the condensation reaction is not particularly limited, but the following formula

Figure 2009167240
で表される、フェノール残基(A’)と下記式
Figure 2009167240
A phenol residue (A ′) represented by the following formula:

Figure 2009167240
で表されるフェノール残基(B’)の比率(A’)/(B’)が15以上になる方法を選択する必要がある。その例の1つとして特許文献1で例示されているような不均一系反応を採用することが出来る。
Figure 2009167240
It is necessary to select a method in which the ratio (A ′) / (B ′) of the phenol residue (B ′) represented by As one example, a heterogeneous reaction exemplified in Patent Document 1 can be employed.

前記フェノール樹脂のエポキシ化は通常、フェノール樹脂とエピハロヒドリンを反応させる。
本発明においてエピハロヒドリンとしてはエピクロルヒドリンやエピブロムヒドリンを用いることが出来る。エピハロヒドリンの量はビスフェノールAノボラック樹脂中の水酸基1当量に対し通常2〜15モル、好ましくは3〜12モルである。
In the epoxidation of the phenol resin, the phenol resin and epihalohydrin are usually reacted.
In the present invention, epichlorohydrin or epibromohydrin can be used as the epihalohydrin. The amount of epihalohydrin is usually 2 to 15 mol, preferably 3 to 12 mol, per 1 equivalent of hydroxyl group in the bisphenol A novolak resin.

アルカリ金属水酸化物としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられ、固体でも、その水溶液を使用しても良く、水溶液を使用する場合は連続的に反応系内に添加すると同時に減圧下、または常圧下水及びエピハロヒドリンを流出させ更に分液し、水は除去しエピハロヒドリンは反応系内に連続的に戻す方法でもよい。アルカリ金属水酸化物の使用量は水酸基の1当量に対して通常1.0〜1.2モルであり、好ましくは1.05〜1.15モルである。反応温度は通常20〜110℃であり、好ましくは25〜100℃である。反応時間は通常0.5〜15時間であり、好ましくは1〜10時間である。   Examples of the alkali metal hydroxide include sodium hydroxide, potassium hydroxide, and the like. Solid or an aqueous solution thereof may be used. When an aqueous solution is used, it is continuously added to the reaction system and simultaneously under reduced pressure. Alternatively, normal pressure sewage and epihalohydrin may be allowed to flow out and separated, water may be removed, and epihalohydrin may be continuously returned to the reaction system. The usage-amount of an alkali metal hydroxide is 1.0-1.2 mol normally with respect to 1 equivalent of a hydroxyl group, Preferably it is 1.05-1.15 mol. The reaction temperature is usually 20 to 110 ° C, preferably 25 to 100 ° C. The reaction time is usually 0.5 to 15 hours, preferably 1 to 10 hours.

反応を促進させるためにメタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ターシャリーブタノールなどのアルコール類、或いはジメチルスルホキシド、ジメチルスルホンなどの非プロトン性極性溶媒を添加してもよい。アルコール類を使用する場合、その使用量はエピハロヒドリンの量に対して通常〜重量%、好ましくは〜重量%である。非プロトン性極性溶媒を使用する場合、その使用量はエピハロヒドリンの量に対して通常10〜150重量%、好ましくは15〜120重量%である。   In order to accelerate the reaction, alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol and tertiary butanol, or aprotic polar solvents such as dimethyl sulfoxide and dimethyl sulfone may be added. When alcohols are used, the amount used is usually ~ wt%, preferably ~ wt%, based on the amount of epihalohydrin. When an aprotic polar solvent is used, the amount used is usually 10 to 150% by weight, preferably 15 to 120% by weight, based on the amount of epihalohydrin.

また、エピハロヒドリンとビスフェノールAノボラック樹脂の溶液にテトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライドなどの4級アンモニウム塩を触媒として添加しアルカリ金属水酸化物の固体または水溶液を加え20〜100℃で1〜10時間反応させる方法でもよい。   In addition, a quaternary ammonium salt such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, tetraethylammonium bromide, trimethylbenzylammonium chloride or the like is added as a catalyst to a solution of epihalohydrin and bisphenol A novolak resin to obtain a solid or aqueous solution of an alkali metal hydroxide. In addition, a method of reacting at 20 to 100 ° C. for 1 to 10 hours may be used.

これらのエポキシ化反応の反応物を水洗後、加熱減圧下で過剰のエピハロヒドリン及び溶剤などで除去する。また更に加水分解性ハロゲンの少ないエポキシ樹脂とするために、回収したエポキシ樹脂をトルエン、メチルイソブチルケトンなどに溶解させ、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えて閉環を確実にすることも出来る。この場合、アルカリ金属水酸化物の使用量はビスフェノールAノボラック樹脂中の水酸基の合計1当量に対して通常0.01〜0.3モル、好ましくは0.05〜0.2モルである。反応温度は通常50〜120℃、反応時間は通常0.5〜2時間である。   The reaction product of these epoxidation reactions is washed with water, and then removed with an excess of epihalohydrin and a solvent under heating and reduced pressure. Furthermore, in order to make an epoxy resin with less hydrolyzable halogen, the recovered epoxy resin is dissolved in toluene, methyl isobutyl ketone, etc., and an aqueous solution of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is added to perform ring closure. Can also be ensured. In this case, the usage-amount of an alkali metal hydroxide is 0.01-0.3 mol normally with respect to the total of 1 equivalent of the hydroxyl group in bisphenol A novolak resin, Preferably it is 0.05-0.2 mol. The reaction temperature is usually 50 to 120 ° C., and the reaction time is usually 0.5 to 2 hours.

反応終了後、生成した塩を濾過、水洗などにより除去し加熱減圧下で溶剤を除去することにより本発明のエポキシ樹脂が得られる。こうして得られたビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂は前述のフェノール残基(A)とフェノール性残基(B)の比率(A)/(B)が通常15以上、好ましくは17以上であることが必要である。この各残基の比率は13C−NMRにおける空位フェニル核の炭素原子の積分値とグリシジル基α位の炭素原子の積分値を比較することにより算出することが出来る。 After completion of the reaction, the produced salt is removed by filtration, washing with water, etc., and the solvent is removed under reduced pressure by heating to obtain the epoxy resin of the present invention. The bisphenol A novolak epoxy resin thus obtained should have a ratio (A) / (B) of the above-mentioned phenol residue (A) to phenolic residue (B) of usually 15 or more, preferably 17 or more. It is. The ratio of each residue can be calculated by comparing the integrated value of the carbon atom of the vacant phenyl nucleus with the integrated value of the carbon atom at the α-position of the glycidyl group in 13 C-NMR.

本発明のエポキシ樹脂は硬化剤、硬化触媒、シアネート樹脂などと組み合わせることにより、硬化性樹脂組成物として使用することが出来る。具体的な用途例としてはプリント配線基板、半導体用封止材、ソルダーレジストなどである。   The epoxy resin of the present invention can be used as a curable resin composition by combining with a curing agent, a curing catalyst, a cyanate resin and the like. Specific examples of applications include printed wiring boards, semiconductor sealing materials, solder resists, and the like.

以下、本発明のエポキシ樹脂組成物について具体的に説明する。   Hereinafter, the epoxy resin composition of the present invention will be specifically described.

本発明のエポキシ樹脂組成物において本発明のエポキシ樹脂は単独で、または他のエポキシ樹脂と併用して用いることが出来る。併用する場合、本発明のエポキシ樹脂の全エポキシ樹脂中に占める割合は30重量%以上が好ましく、特に40%以上が好ましい。   In the epoxy resin composition of the present invention, the epoxy resin of the present invention can be used alone or in combination with other epoxy resins. When used together, the proportion of the epoxy resin of the present invention in the total epoxy resin is preferably 30% by weight or more, particularly preferably 40% or more.

本発明のエポキシ樹脂の他に1分子中に1個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を一部用いることもできる。このとき用いるエポキシ樹脂としては具体的には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂等、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂は単独または2種以上を本発明のエポキシ樹脂に添加して用いてもよい。   In addition to the epoxy resin of the present invention, an epoxy resin having one or more epoxy groups in one molecule can be partially used. Specific examples of the epoxy resin used at this time include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, triphenylmethane type epoxy resin, biphenyl novolac type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, and fat. Examples thereof include cyclic epoxy resins. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more thereof to the epoxy resin of the present invention.

本発明のエポキシ樹脂組成物が含有する硬化剤としては、例えばアミン系化合物、酸無水物系化合物、アミド系化合物、フェノ−ル系化合物などが挙げられる。用い得る硬化剤の具体例としては、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、ジシアンジアミド、リノレン酸の2量体とエチレンジアミンとより合成されるポリアミド樹脂、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、フェノ−ルノボラック、及びこれらの変性物、イミダゾ−ル、BF3−アミン錯体、グアニジン誘導体などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上併用してもよい。 Examples of the curing agent contained in the epoxy resin composition of the present invention include amine compounds, acid anhydride compounds, amide compounds, phenol compounds, and the like. Specific examples of curing agents that can be used include diaminodiphenylmethane, diethylenetriamine, triethylenetetramine, diaminodiphenylsulfone, isophoronediamine, dicyandiamide, polyamide resin synthesized from linolenic acid and ethylenediamine, phthalic anhydride, triethylene anhydride. Merit acid, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, phenol novolac, and modified products thereof, Examples include, but are not limited to, imidazole, BF 3 -amine complexes, guanidine derivatives, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

本発明のエポキシ樹脂組成物において硬化剤の使用量は、エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して0.7〜1.2当量が好ましい。エポキシ基1当量に対して0.7当量に満たない場合、或いは1.2当量を越える場合、いずれも硬化が不完全になり、良好な硬化物性が得られない恐れがある。   In the epoxy resin composition of the present invention, the amount of the curing agent used is preferably 0.7 to 1.2 equivalents relative to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin. When less than 0.7 equivalent with respect to 1 equivalent of epoxy groups, or when exceeding 1.2 equivalent, in any case, curing may be incomplete, and good cured properties may not be obtained.

本発明のエポキシ樹脂組成物において硬化剤の使用量は、エポキシ樹脂のエポキシ基1当量に対して0.7〜1.2当量が好ましい。エポキシ基1当量に対して0.7当量に満たない場合、或いは1.2当量を越える場合、いずれも硬化が不完全になり、良好な硬化物性が得られない恐れがある。   In the epoxy resin composition of the present invention, the amount of the curing agent used is preferably 0.7 to 1.2 equivalents relative to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin. When less than 0.7 equivalent with respect to 1 equivalent of epoxy groups, or when exceeding 1.2 equivalent, in any case, curing may be incomplete, and good cured properties may not be obtained.

本発明のエポキシ樹脂組成物は必要により硬化促進剤を含有する。
本発明で用いられる硬化促進剤は、通常のエポキシ樹脂の硬化促進剤として機能するものであればよく、また、本発明のエポキシ樹脂組成物においては、促進剤を2種以上組み合わせて使用しても差し支えない。具体的には、2−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、2,4−ジアミノ−6(2’−メチルイミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2’−ウンデシルイミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2’−エチル,4−メチルイミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6(2’−メチルイミダゾール(1’))エチル−s−トリアジン・イソシアヌル酸付加物、2-メチルイミダゾールイソシアヌル酸の2:3付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−3,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−ヒドロキシメチル−5−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニル−3,5−ジシアノエトキシメチルイミダゾールの各種イミダゾール類、及び、それらイミダゾール類とフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ナフタレンジカルボン酸、マレイン酸、蓚酸等の多価カルボン酸との塩類、ジシアンジアミド等のアミド類、1,8−ジアザ−ビシクロ(5.4.0)ウンデセン−7等のジアザ化合物、及び前記化合物のフェノール類、多価カルボン酸類、テトラフェニルボレートとの塩類、又はホスフィン酸類との塩類、テトラブチルアンモニュウムブロマイド、セチルトリメチルアンモニュウムブロマイド、トリオクチルメチルアンモニュウムブロマイド等のアンモニウム塩、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート等の他のホスフィン類、2,4,6−トリスアミノメチルフェノール等のフェノール類、アミンアダクト、及びこれら硬化剤をマイクロカプセルにしたマイクロカプセル型硬化促進剤等が挙げられる。
The epoxy resin composition of the present invention contains a curing accelerator as necessary.
The curing accelerator used in the present invention only needs to function as a curing accelerator for ordinary epoxy resins, and in the epoxy resin composition of the present invention, two or more kinds of accelerators are used in combination. There is no problem. Specifically, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-benzyl-2 -Methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole, 2,4-diamino-6 (2'-methylimidazole (1 ')) Ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2′-undecylimidazole (1 ′)) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2′-ethyl, 4-methylimidazole (1 ')) Ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6 (2'-methylimidazole (1') ) Ethyl-s-triazine-isocyanuric acid adduct, 2-methylimidazole isocyanuric acid 2: 3 adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-3,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl- Various imidazoles of 4-hydroxymethyl-5-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenyl-3,5-dicyanoethoxymethylimidazole, and imidazoles and phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, Salts with polyvalent carboxylic acids such as pyromellitic acid, naphthalenedicarboxylic acid, maleic acid and succinic acid, amides such as dicyandiamide, diaza compounds such as 1,8-diaza-bicyclo (5.4.0) undecene-7, And phenols of the above compounds, polycarboxylic acids , Salts with tetraphenylborate, or salts with phosphinic acids, ammonium salts such as tetrabutylammonium bromide, cetyltrimethylammonium bromide, trioctylmethylammonium bromide, other phosphines such as triphenylphosphine, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate And phenols such as 2,4,6-trisaminomethylphenol, amine adducts, and microcapsule type curing accelerators in which these curing agents are made into microcapsules.

硬化促進剤の使用量は、本発明のエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂全体100重量部に対し通常0.05〜5重量部、好ましくは0.07〜3重量部である。   The usage-amount of a hardening accelerator is 0.05-5 weight part normally with respect to 100 weight part of the whole epoxy resin containing the epoxy resin of this invention, Preferably it is 0.07-3 weight part.

本発明のエポキシ樹脂組成物は、前述した特定のエポキシ樹脂、硬化剤、及び硬化促進剤を必須成分とするが、必要に応じて難燃剤、着色剤、カップリング剤、低応力化付与剤、充填剤などを配合することが出来る。   The epoxy resin composition of the present invention contains the above-described specific epoxy resin, curing agent, and curing accelerator as essential components, but flame retardant, colorant, coupling agent, stress-reducing agent, if necessary, A filler etc. can be mix | blended.

本発明のエポキシ樹脂組成物は各成分を均一に混合することにより得られ従来知られている方法と同様の方法で容易に硬化物を得ることが出来る。例えば本発明のエポキシ樹脂組成物の成分の混合物(必要に応じ充填剤、その他の添加剤等を含む)をニーダー、押し出し機、ロール等を用いて均一に混合した後、溶融し注型或いはトランスファー成形機などを用いて成形し、さらに80〜120℃で1〜12時間加熱することにより硬化物を得ることが出来る。   The epoxy resin composition of the present invention is obtained by uniformly mixing each component, and a cured product can be easily obtained by a method similar to a conventionally known method. For example, a mixture of components of the epoxy resin composition of the present invention (including fillers and other additives as necessary) is uniformly mixed using a kneader, an extruder, a roll, etc., and then melted and cast or transferred. A cured product can be obtained by molding using a molding machine or the like and further heating at 80 to 120 ° C. for 1 to 12 hours.

また本発明のエポキシ樹脂組成物はメチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、ジメチルホルムアミドなどの溶剤に溶解してガラス繊維、ガラス不織布、カーボン繊維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維、アルミナ繊維、紙などの基材に含浸させた後加熱乾燥して得たプリプレグを熱プレス成形して硬化物を得ることも出来る。   In addition, the epoxy resin composition of the present invention is dissolved in a solvent such as methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone, toluene, dimethylformamide and the like, and is based on glass fiber, glass nonwoven fabric, carbon fiber, polyester fiber, polyamide fiber, alumina fiber, paper or the like. A cured product can also be obtained by hot press molding a prepreg obtained by impregnating a material and then drying by heating.

プリプレグを作成する一般的な方法としては、本発明の樹脂組成物及び溶剤を所定割合で配合しワニスとする。次いでガラスクロス等にワニスを含浸させたあと、乾燥して樹脂量40〜60%のプリプレグを得る。積層板を得るためにはプリプレグを所定枚数積層しプレス中で90〜160℃で30〜120分、加熱硬化を行うことにより得ることが出来る。   As a general method for preparing a prepreg, the resin composition of the present invention and a solvent are blended at a predetermined ratio to obtain a varnish. Next, glass cloth or the like is impregnated with varnish and dried to obtain a prepreg having a resin amount of 40 to 60%. In order to obtain a laminate, a predetermined number of prepregs can be laminated and heated and cured at 90 to 160 ° C. for 30 to 120 minutes in a press.

次に本発明を更に実施例により具体的に説明するが、以下において部は特に断わりのない限り重量部である。   EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. In the following, parts are parts by weight unless otherwise specified.

合成実施例1
温度計、撹拌機を取り付けた耐圧反応容器内にビスフェノールA、92%パラホルムアルデヒド、リン酸、メタノールを特許文献WO2004/020492に従って、反応せしめ、軟化点133℃のビスフェノールAノボラック樹脂を得た。
Synthesis Example 1
Bisphenol A, 92% paraformaldehyde, phosphoric acid, and methanol were reacted in a pressure-resistant reaction vessel equipped with a thermometer and a stirrer according to Patent Document WO 2004/020492 to obtain a bisphenol A novolac resin having a softening point of 133 ° C.

上記で得られたビスフェノールAノボラック樹脂117部、エピクロロヒドリン370部、メタノール26部を加え70℃で100分かけてフレーク状水酸化ナトリウム40部を加え、更に1時間反応させた後、更に70度に昇温して1時間反応させた。その後水洗を1回行って生成塩等を除去し過剰の未反応エピクロロヒドリンを加熱減圧下で留去した後、残留物にメチルイソブチルケトン346部を加えて溶解した。70℃に昇温した後、30%水酸化ナトリウム水溶液10部を加え1時間反応せしめた後、水洗を3回行い、油層から加熱減圧下で溶剤等を留去することにより本発明のエポキシ樹脂(a)164部を得た。得られたエポキシ樹脂のエポキシ当量は198g/eq、軟化点は82.5℃であり、NMRの積分値から算出されたフェノール残基の比率(A)/(B)は19.7であった。   After adding 117 parts of the bisphenol A novolak resin obtained above, 370 parts of epichlorohydrin and 26 parts of methanol, adding 40 parts of flaky sodium hydroxide over 100 minutes at 70 ° C., and further reacting for 1 hour, The temperature was raised to 70 degrees and reacted for 1 hour. Thereafter, washing with water was performed once to remove generated salts and the like, and excess unreacted epichlorohydrin was distilled off under heating and reduced pressure, and then 346 parts of methyl isobutyl ketone was added to the residue and dissolved. After raising the temperature to 70 ° C., 10 parts of 30% aqueous sodium hydroxide solution was added and reacted for 1 hour, followed by washing with water three times. (A) 164 parts were obtained. The epoxy equivalent of the obtained epoxy resin was 198 g / eq, the softening point was 82.5 ° C., and the ratio (A) / (B) of the phenol residue calculated from the integral value of NMR was 19.7. .

合成実施例2
温度計、撹拌機、コンデンサーを取り付けた反応器にビスフェノールA、92%パラホルムアルデヒド、パラトルエンスルホン酸、イソプロパノールを加えて120℃で時間反応せしめ、反応終了後部のメチルイソブチルケトンを加えて水洗を行い、反応触媒等を除去した。次いで加熱減圧下で溶剤を留去することにより軟化点133℃のビスフェノールAノボラック樹脂を得た。
Synthesis Example 2
Add bisphenol A, 92% paraformaldehyde, paratoluenesulfonic acid, isopropanol to the reactor equipped with a thermometer, stirrer, and condenser and let it react at 120 ° C for an hour, then add methyl isobutyl ketone at the end of the reaction and wash with water. The reaction catalyst and the like were removed. Subsequently, the solvent was distilled off under reduced pressure by heating to obtain a bisphenol A novolak resin having a softening point of 133 ° C.

合成実施例1と同様にエポキシ化反応を行い、エポキシ当量201g/eq、軟化点83.1℃のエポキシ樹脂(b)を得た。NMRの積分値から算出されたフェノール残基の比率(A)/(B)は13.2であった。   Epoxidation was performed in the same manner as in Synthesis Example 1 to obtain an epoxy resin (b) having an epoxy equivalent of 201 g / eq and a softening point of 83.1 ° C. The ratio (A) / (B) of the phenol residue calculated from the integrated value of NMR was 13.2.

実施例1、比較例1
合成実施例1、2で得られた樹脂(a)、(b)に対して硬化剤としてフェノールノボラック(水酸基当量106g/eq、軟化点82℃)と更に硬化促進剤としてトリフェニルホスフィンをエポキシ樹脂100部当たり1部配合し2軸ロールを用いて均一に混合しトランスファー成形機(150〜160℃、150〜200秒、50Kg/cm)により樹脂成形体を調製し、160℃で2時間、更に180℃で8時間かけて硬化させた。
Example 1 and Comparative Example 1
For resins (a) and (b) obtained in Synthesis Examples 1 and 2, phenol novolak (hydroxyl equivalent: 106 g / eq, softening point: 82 ° C.) as a curing agent and triphenylphosphine as a curing accelerator as an epoxy resin. 1 part per 100 parts was mixed uniformly using a biaxial roll, and a resin molded body was prepared by a transfer molding machine (150 to 160 ° C., 150 to 200 seconds, 50 Kg / cm 2 ). Further, it was cured at 180 ° C. for 8 hours.

このようにして作製した試験片について以下の項目及び方法で測定を行った。試験結果は表1に示す。
ガラス転移温度:TMA法
たわみ量:JIS C−6481(曲げ強さ)に準拠して行った。ただし測定値は試験変破壊時のたわみ量を示す。
The test piece thus prepared was measured by the following items and methods. The test results are shown in Table 1.
Glass transition temperature: TMA method Deflection amount: Performed according to JIS C-6481 (bending strength). However, the measured value indicates the amount of deflection at the time of test deformation.

表1
実施例 比較例
エポキシ樹脂 (a) (b)
ガラス転移温度(℃) 162 158
たわみ量(mm) 2.5 2.2
Table 1
Examples Comparative Example Epoxy Resin (a) (b)
Glass transition temperature (° C) 162 158
Deflection (mm) 2.5 2.2

Claims (5)

軟化点が60〜100℃であるビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂において下記式
Figure 2009167240
で表されるフェノール残基(A)と、下記式
Figure 2009167240
で表されるフェノール残基(B)の比率(A)/(B)が15以上であるエポキシ樹脂。
In the bisphenol A novolac type epoxy resin having a softening point of 60 to 100 ° C., the following formula
Figure 2009167240
A phenol residue (A) represented by the following formula:
Figure 2009167240
The epoxy resin whose ratio (A) / (B) of the phenol residue (B) represented by is 15 or more.
請求項1記載のエポキシ樹脂、硬化剤を含むエポキシ樹脂組成物。 An epoxy resin composition comprising the epoxy resin according to claim 1 and a curing agent. 硬化促進剤を含有する請求項2記載のエポキシ樹脂組成物。 The epoxy resin composition of Claim 2 containing a hardening accelerator. 無機充填剤を含有する請求項2乃至3記載のエポキシ樹脂組成物。 The epoxy resin composition according to claim 2, which contains an inorganic filler. 請求項2乃至4のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物の硬化物。 Hardened | cured material of the epoxy resin composition of any one of Claims 2 thru | or 4.
JP2008004029A 2008-01-11 2008-01-11 Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof Pending JP2009167240A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008004029A JP2009167240A (en) 2008-01-11 2008-01-11 Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008004029A JP2009167240A (en) 2008-01-11 2008-01-11 Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009167240A true JP2009167240A (en) 2009-07-30

Family

ID=40968812

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008004029A Pending JP2009167240A (en) 2008-01-11 2008-01-11 Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009167240A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013087212A (en) * 2011-10-19 2013-05-13 Dic Corp Epoxy resin, curable resin composition, cured product thereof, and printed circuit board

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61247720A (en) * 1985-04-25 1986-11-05 Sumitomo Chem Co Ltd Polyphenol novolak glycidyl ether its production and use
JPH0827253A (en) * 1994-07-19 1996-01-30 Nitto Denko Corp Photosemiconductor apparatus
JP2001064358A (en) * 1999-08-30 2001-03-13 Dainippon Ink & Chem Inc Epoxy resin composition
WO2004020492A1 (en) * 2002-08-30 2004-03-11 Asahi Organic Chemicals Industry Co., Ltd. Process for producing phenolic novolak
JP2006008798A (en) * 2004-06-24 2006-01-12 Dainippon Ink & Chem Inc Manufacturing process of epoxy resin

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61247720A (en) * 1985-04-25 1986-11-05 Sumitomo Chem Co Ltd Polyphenol novolak glycidyl ether its production and use
JPH0827253A (en) * 1994-07-19 1996-01-30 Nitto Denko Corp Photosemiconductor apparatus
JP2001064358A (en) * 1999-08-30 2001-03-13 Dainippon Ink & Chem Inc Epoxy resin composition
WO2004020492A1 (en) * 2002-08-30 2004-03-11 Asahi Organic Chemicals Industry Co., Ltd. Process for producing phenolic novolak
JP2006008798A (en) * 2004-06-24 2006-01-12 Dainippon Ink & Chem Inc Manufacturing process of epoxy resin

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013087212A (en) * 2011-10-19 2013-05-13 Dic Corp Epoxy resin, curable resin composition, cured product thereof, and printed circuit board

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6366590B2 (en) Epoxy resin mixture, epoxy resin composition, cured product, and semiconductor device
KR101256699B1 (en) Phenolic resin, process for production thereof, epoxy resin, and use thereof
TWI397540B (en) Epoxy resin, epoxy resin composition and cured article thereof
JP5142180B2 (en) Epoxy resin composition and cured product thereof
JPH1036485A (en) Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP5127160B2 (en) Epoxy resin, curable resin composition, and cured product thereof
JP3659533B2 (en) Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
CN108026228B (en) Substituted allyl ether resin, methallyl ether resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP3982661B2 (en) Naphthol resin, epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP4863434B2 (en) Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP2009167240A (en) Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
US6812318B2 (en) Epoxy resins, epoxy resin mixtures, epoxy resin compositions and products of curing of the same
JP5579300B2 (en) Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP3729472B2 (en) Production method of epoxy resin
JP4463453B2 (en) Epoxy resin composition and cured product thereof
JP4311587B2 (en) Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP4036289B2 (en) Liquid epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP2005247902A (en) Epoxy resin and epoxy resin composition
JP4466907B2 (en) Liquid epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP4548647B2 (en) Liquid epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP4104119B2 (en) Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP5669191B2 (en) Crystalline epoxy resin, epoxy resin composition and cured product thereof
JP2003026760A (en) Crystalline epoxy resin, epoxy resin composition and its cured material
JP2003212960A (en) Liquid epoxy resin and epoxy resin composition and its cured item
JP2007045978A (en) Epoxy resin, epoxy resin composition, and cured product thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100806

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120208

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120210

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120404

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120803

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20121122