JP4664102B2 - Exposure apparatus and exposure method - Google Patents

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Description

本発明は、フォトレジスト塗布基板上にレーザ光により露光を行う露光装置及び露光方法に関する。特に、マスクを設けることなく露光を行う、いわゆるマスクレスの露光装置及び露光方法に関する。   The present invention relates to an exposure apparatus and an exposure method for performing exposure with a laser beam on a photoresist coated substrate. In particular, the present invention relates to a so-called maskless exposure apparatus and exposure method for performing exposure without providing a mask.

液晶パネル製造工程及び半導体製造工程の一つに露光工程がある。例えば液晶パネル製造の露光工程では、フォトレジストが塗布されたガラス基板に、パターン露光、マーキング露光及び周辺露光などを行う。パターン露光では、パターン露光装置により回路パターンを露光する。マーキング露光では、識別露光装置により履歴管理や品質管理等のための基板識別コードやパネル識別コード等を露光する。周辺露光では、周辺露光装置により基板周辺部の不要レジスト部分を露光する。これらの各露光が終了した後、現像装置により現像処理する現像工程へガラス基板を搬出する。従来、マーキング露光を行う方法及び装置の発明として、本出願人は例えば特許第３５４７４１８号公報に記載された発明を提唱した。   One of the liquid crystal panel manufacturing process and the semiconductor manufacturing process is an exposure process. For example, in an exposure process for manufacturing a liquid crystal panel, pattern exposure, marking exposure, peripheral exposure, and the like are performed on a glass substrate coated with a photoresist. In pattern exposure, a circuit pattern is exposed by a pattern exposure apparatus. In marking exposure, an identification exposure apparatus exposes a substrate identification code, a panel identification code, and the like for history management and quality management. In the peripheral exposure, an unnecessary resist portion at the peripheral portion of the substrate is exposed by a peripheral exposure apparatus. After each of these exposures is completed, the glass substrate is carried out to a development process in which development processing is performed by a development device. Conventionally, the present applicant has proposed the invention described in Japanese Patent No. 3547418 as an invention of a method and apparatus for performing marking exposure.

特許第３５４７４１８号公報Japanese Patent No. 3547418

上述した従来の発明では、図１１（Ａ）に示すように、Ｘ方向に走行するステージ３１上のガラス基板上にマーキング露光を行う際に、光源３２から発するレーザ光３３をビームスプリッター等の分岐手段３４により複数に分岐し、分岐されたレーザ光３３を照射装置３５を用いて露光していた。それゆえ、マーキング像３６を形成する箇所を増やすためにレーザ光３３の照射数を増やす場合には、分岐数を増やすことになり、レーザ光３３一本あたりの強度が弱くなる。このため、光源３２の出力を大きなものにしたり、光源３２の数を増やしたりする必要があり、装置コストが高くなるという問題があった。   In the above-described conventional invention, as shown in FIG. 11A, when marking exposure is performed on the glass substrate on the stage 31 running in the X direction, the laser beam 33 emitted from the light source 32 is branched by a beam splitter or the like. The laser beam 33 branched into a plurality of means 34 and exposed using the irradiation device 35. Therefore, when the number of irradiations of the laser beam 33 is increased in order to increase the number of places where the marking image 36 is formed, the number of branches is increased, and the intensity per one laser beam 33 is weakened. For this reason, it is necessary to increase the output of the light source 32 or to increase the number of the light sources 32, and there is a problem that the cost of the apparatus increases.

光源３２の出力や数を増やさずに、より一層多いマーキング箇所への露光を実現する方法として、例えば図１１（Ｂ）のような方法が考えられる。すなわち、光源３２と各照射装置３５とを光ファイバケーブル４１で接続し、各照射装置３５に供給するレーザ光を切替器４２を用いて順次時系列的に切り替える方法である。   For example, a method as shown in FIG. 11B is conceivable as a method for realizing exposure to a larger number of marking portions without increasing the output and number of the light sources 32. In other words, the light source 32 and each irradiation device 35 are connected by an optical fiber cable 41, and the laser light supplied to each irradiation device 35 is sequentially switched in time series using the switch 42.

ところで、この方法を用いた場合には、各照射装置３５からレーザ光が出力されるタイミングにずれが生じるため、ステージ３１を走行させたままであると、ガラス基板上に形成されるマーキング像３６は、Ｙ方向に一列に並ぶことなく、斜めに並んでしまう。そこで、各照射装置３５からレーザ光が照射される毎にステージ３１を停止させることで、このような不都合を無くすことができるが、タクト時間が長くなるという他の問題が生じる。   By the way, when this method is used, the timing at which the laser light is output from each irradiation device 35 is shifted. Therefore, if the stage 31 is kept running, the marking image 36 formed on the glass substrate is , They are lined up diagonally without being lined up in the Y direction. Therefore, by stopping the stage 31 each time the laser beam is irradiated from each irradiation device 35, such inconvenience can be eliminated, but another problem that the tact time becomes longer occurs.

また、上述の従来の発明では、レーザ光をＹ方向に走査させてドット単位でマーキング像の露光を行っていたため、露光位置にばらつきが生じ、きれいなマーキング像が形成できないことがあった。本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであり、良品質の露光像を短いタクト時間且つ低コストな装置構成で実現することのできる露光装置及び露光方法を提供することを課題とする。   Further, in the above-described conventional invention, since the marking image is exposed in units of dots by scanning the laser beam in the Y direction, the exposure position varies, and a clear marking image may not be formed. The present invention has been made in view of such problems, and it is an object of the present invention to provide an exposure apparatus and an exposure method capable of realizing a high-quality exposure image with a short tact time and a low-cost apparatus configuration. To do.

上述の課題を解決するために、請求項１の露光装置は、図７に示すように、マーキング露光用のレーザ光を生成するマーキング露光用光源装置５と、被露光基板Ｋを載置するためのステージ３と、前記ステージ３に対して等速度で相対移動可能に設けられると共に前記ステージ３の上部に平面視が前記相対移動の方向Ｘについて段違いに斜め列となるように配置されそれぞれディジタルマイクロミラーデバイス７２により形成されるマーキング表示７２Ｍを前記レーザ光により前記被露光基板Ｋ上に照射するように構成された複数のマーキング用露光ユニット７と、互いに隣り合うマーキング用露光ユニット７Ａ，７Ｂにおける一方のマーキング用露光ユニット７Ａの露光終了位置Ｐ１から他方のマーキング用露光ユニット７Ｂの露光開始位置Ｐ２までの距離Ｄ１を前記ステージ３と前記複数のマーキング用露光ユニット７とが相対移動する毎に、前記被露光基板Ｋ上を最初に通過するマーキング用露光ユニット７Ａから前記被露光基板Ｋ上を最後に通過するマーキング用露光ユニット７Ｃへ向かう順序で、各マーキング用露光ユニット７Ａから７Ｃが前記被露光基板Ｋ上に照射するレーザ光を切り替える切替手段６５，７５とを備え、前記複数のマーキング用露光ユニット７を前記ステージ３に対して相対移動させながら、前記切替手段６５，７５によるレーザー光の切り替え、および、各マーキング用露光ユニット７Ａから７Ｃによるレーザ光の照射を行うことを特徴とする。 In order to solve the above-described problems, an exposure apparatus according to claim 1 is for placing a marking exposure light source device 5 for generating marking exposure laser light and an exposed substrate K as shown in FIG. The stage 3 and the stage 3 are provided so as to be movable relative to each other at a constant speed, and are arranged on the upper part of the stage 3 so as to be obliquely lined in a stepwise manner with respect to the direction X of the relative movement. One of the plurality of marking exposure units 7 configured to irradiate the exposed substrate K with the laser light with the marking display 72M formed by the mirror device 72, and one of the marking exposure units 7A and 7B adjacent to each other. The exposure start position of the other marking exposure unit 7B from the exposure end position P1 of the other marking exposure unit 7A The distance D1 to P2 each time said stage 3 and said plurality of marking the exposure unit 7 is relatively moved, the substrate to be exposed above K from marking the exposure unit 7A passing through the substrate to be exposed on K first Switching means 65 and 75 for switching the laser light emitted from the marking exposure units 7A to 7C onto the substrate to be exposed K in the order of the marking exposure unit 7C that passes through the last . While the exposure unit 7 is moved relative to the stage 3, switching of the laser light by the switching means 65 and 75 and irradiation of the laser light by the marking exposure units 7A to 7C are performed .

請求項２の露光方法は、マーキング露光用光源装置５によりマーキング露光用のレーザ光を生成し、ステージ３上に被露光基板Ｋを載置し、複数のマーキング用露光ユニット７を前記ステージ３に対して等速度で相対移動可能に設けると共に前記ステージ３の上部に平面視が前記相対移動の方向Ｘについて段違いに斜め列となるように配置し、それぞれのマーキング用露光ユニット７におけるディジタルマイクロミラーデバイス７２により形成されるマーキング表示７２Ｍを、互いに隣り合うマーキング用露光ユニット７における一方のマーキング用露光ユニット７Ａの露光終了位置Ｐ１から他方のマーキング用露光ユニット７Ｂの露光開始位置Ｐ２までの距離Ｄ１を前記ステージ３と前記複数のマーキング用露光ユニット７とが相対移動する毎に、前記被露光基板Ｋ上を最初に通過するマーキング用露光ユニット７Ａから前記被露光基板Ｋ上を最後に通過するマーキング用露光ユニット７Ｃへ向かう順序で、各マーキング用露光ユニット７が前記被露光基板Ｋ上に照射するレーザ光を切り替えることにより、前記被露光基板Ｋ上に導き、前記複数のマーキング用露光ユニット７を前記ステージ３に対して相対移動させながら、レーザー光の切り替え、および、各マーキング用露光ユニット７Ａから７Ｃによるレーザ光の照射を行う。
In the exposure method of claim 2, the marking exposure light source device 5 generates a laser beam for marking exposure, places the substrate to be exposed K on the stage 3, and places a plurality of marking exposure units 7 on the stage 3. A digital micromirror device in each of the marking exposure units 7 is provided so as to be relatively movable at a constant speed and arranged on the upper portion of the stage 3 so that the plan view is obliquely arranged in a stepwise manner with respect to the relative movement direction X. The marking display 72M formed by 72 is the distance D1 from the exposure end position P1 of one marking exposure unit 7A to the exposure start position P2 of the other marking exposure unit 7B in the adjacent marking exposure units 7. to a stage 3 and the plurality of marking the exposure unit 7 is moved relative For each, the order toward the marking exposure unit 7C passing from marking the exposure unit 7A to first pass over the exposed substrate K last on the substrate to be exposed K, each marking exposure unit 7 is the object By switching the laser beam irradiated onto the exposure substrate K, the laser beam is guided onto the substrate to be exposed K, and the plurality of marking exposure units 7 are moved relative to the stage 3 while switching the laser beam, and Laser light irradiation is performed by each of the marking exposure units 7A to 7C .

［発明の効果］
請求項１，２の発明によると、互いに隣り合うマーキング用露光ユニット７Ａ，７Ｂにおける一方のマーキング用露光ユニット７Ａの露光終了位置Ｐ１から他方のマーキング用露光ユニット７Ｂの露光開始位置Ｐ２までの距離Ｄ１をステージ３が走行し終えたときに、他方のマーキング用露光ユニット７Ｂからレーザ光を照射する。互いに隣り合うマーキング用露光ユニット７Ａ，７Ｂは、露光終了位置Ｐ１から露光開始位置Ｐ２までが距離Ｄ１を有するような配置とされているため、一方のマーキング用露光ユニット７Ａによって形成されるマーキング像ＭＺＡと、他方のマーキング用露光ユニット７Ｂによって形成されるマーキング像ＭＺＢとは、Ｙ方向に１列となるように形成される。各マーキング用露光ユニット７から照射されるレーザ光は時系列的に切り替えられる。従って、レーザ光の照射数を増やした場合でも、マーキング露光用光源装置５の出力を大きなものにしたり、マーキング露光用光源装置５の数を増やしたりする必要がなく装置の低コスト化を図ることができる。また、ディジタルマイクロミラーデバイス７２を用いて面単位のマーキング表示７２Ｍを露光しているので、従来のようにドット単位で露光する場合と異なり、露光位置にばらつきが生じることがなく、きれいなマーキング像を形成することができる。そして上記相対移動を停止することなく露光を行うことができる。このように、良品質の露光像を短いタクト時間且つ低コストな装置構成で実現することができる。 [The invention's effect]
According to the first and second aspects of the present invention, the distance D1 from the exposure end position P1 of one marking exposure unit 7A to the exposure start position P2 of the other marking exposure unit 7B in the adjacent marking exposure units 7A and 7B. When the stage 3 finishes traveling, the other marking exposure unit 7B emits laser light. The marking exposure units 7A and 7B adjacent to each other are arranged so that the distance D1 is from the exposure end position P1 to the exposure start position P2, so that the marking image MZA formed by one marking exposure unit 7A. The marking image MZB formed by the other marking exposure unit 7B is formed in one row in the Y direction. The laser light emitted from each marking exposure unit 7 is switched in time series. Therefore, even if you increase the irradiation number of the laser beam, to reduce the cost of the the output of the marking exposure light source device 5 in large or apparatus it is not necessary or increase the number of marking an exposure light source device 5 Can do. In addition, since the marking unit 72M is exposed using the digital micromirror device 72, unlike the conventional case where exposure is performed in units of dots, there is no variation in exposure position, and a clean marking image can be obtained. Can be formed. The exposure can be performed without stopping the relative movement. In this way, a high-quality exposure image can be realized with a short tact time and a low-cost apparatus configuration.

［発明を実施するための最良の形態］
以下、図１から図１０を参照して本発明の実施形態について説明する。図１は本発明に係る露光装置１の外観を示す斜視図、図２はレーザ光切替器６の内部構造を示す平面図、図３はマーキング用露光ユニット７の内部構造を示す斜視図、図４はディジタルマイクロミラーデバイス７２の外観を示す斜視図、図５はマーキング用露光ユニット７における第１，第２露光ユニットガルバノミラー７４、７４Ｙの動作を説明するための図、図６はディジタルマイクロミラーデバイス７２の動作を説明するための図、図７はマーキング用露光ユニット７の配置を示す平面概略図である。 [Best Mode for Carrying Out the Invention]
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 10. Figure 1 is a perspective view showing an appearance of an exposure apparatus 1 according to the present invention, FIG. 2 is a plan view showing the internal structure of the laser beam switcher 6, FIG. 3 is a perspective view showing the internal structure of the marking EXPOSURE unit 7, Figure 4 is a perspective view showing an appearance of a digital micromirror device 72, FIG. 5 is the first in the marking eXPOSURE unit 7, diagram for explaining the operation of the second exposure unit galvanomirror 74,74Y, 6 digital diagram for explaining the operation of the micromirror device 72, FIG. 7 is a schematic plan view showing the arrangement of marking eXPOSURE unit 7.

図１に示すように、本発明に係る露光装置１は、基台２、ステージ３、露光ユニット取付台４、マーキング露光用光源装置５、レーザ光切替器６、マーキング用露光ユニット７、周辺露光用光源装置８、周辺露光用露光ユニット９及び制御装置１０を備える。露光装置１の上流側及び下流側には、ガラス基板Ｋを搬入及び搬出する手段としての移載ロボットやコンベアが配設される。露光装置１は、上流側から搬入されステージ３上に載置されたガラス基板Ｋにマーキング露光を行うと共に周辺露光を行い下流側に搬出する。なお、上流側とは図１における手前側であり、下流側とは同図における奥側である。 As shown in FIG. 1, the exposure apparatus 1 according to the present invention, base 2, stage 3, the exposure unit mount 4, marking the exposure light source device 5, laser beam switcher 6, marking EXPOSURE unit 7, around It comprises an exposure light source 8, a peripheral exposure eXPOSURE unit 9 and the control device 10. On the upstream side and downstream side of the exposure apparatus 1, a transfer robot and a conveyor are disposed as means for loading and unloading the glass substrate K. The exposure apparatus 1 carries out marking exposure on the glass substrate K carried in from the upstream side and placed on the stage 3, performs peripheral exposure, and carries it out downstream. The upstream side is the front side in FIG. 1, and the downstream side is the back side in FIG.

基台２は、本露光装置１の各構成部を支える台座として機能し、その表面中央上にリニアモータ２１がＸ方向に沿って設けられる。   The base 2 functions as a pedestal that supports each component of the exposure apparatus 1, and a linear motor 21 is provided along the X direction on the center of the surface thereof.

ステージ３は、最も上流側の基板受取り位置と、最も下流側の基板送出し位置との間において、リニアモータ２１の駆動により基台２上を等速度ＶでＸ方向に走行可能である。また、図示しない回転駆動機構により、垂直軸周りの回転動作も可能である。ステージ３の表面には、ガラス基板Ｋを吸着保持するための多数の吸着孔が穿設されると共に、ガラス基板Ｋの搬入及び搬出時に該ガラス基板Ｋを昇降させるためのリフトピンが出没可能に設けられる。なお、搬入されるガラス基板Ｋの表面にはフォトレジストが塗布されている。   The stage 3 can travel on the base 2 in the X direction at a constant speed V by driving the linear motor 21 between the most upstream substrate receiving position and the most downstream substrate delivery position. In addition, rotation operation about a vertical axis is also possible by a rotation drive mechanism (not shown). A large number of suction holes for sucking and holding the glass substrate K are formed on the surface of the stage 3 and lift pins for raising and lowering the glass substrate K when the glass substrate K is carried in and out are provided so as to be able to appear and disappear. It is done. Note that a photoresist is applied to the surface of the glass substrate K to be carried in.

露光ユニット取付台４は、ステージ３を跨ぐようにして設けられ、その上面にはマーキング露光用光源装置５、周辺露光用光源装置８及びレーザ光切替器６が取り付けられる。その上流側の端面には固定部材７１を介してマーキング用露光ユニット７が合計３台取り付けられる。また、下流側の端面には周辺露光用露光ユニット９が合計３台取り付けられる。 The exposure unit mounting base 4 is provided so as to straddle the stage 3, and the marking exposure light source device 5, the peripheral exposure light source device 8, and the laser light switch 6 are attached to the upper surface of the exposure unit mounting base 4. Its marking EXPOSURE unit 7 through a fixing member 71 is mounted three total upstream end face of the. Further, exposure light unit 9 for wafer edge exposure is mounted three total on the end face on the downstream side.

マーキング露光用光源装置５は、通電によりレーザ光を生成するレーザダイオードを備え、光ファイバケーブル５１によりレーザ光切替器６に接続される。周辺露光用光源装置８は、マーキング露光用光源装置５と同様に、通電によりレーザ光を生成するレーザダイオードを備え、光ファイバケーブル８１により各周辺露光用露光ユニット９に接続される。 The marking exposure light source device 5 includes a laser diode that generates laser light when energized, and is connected to the laser light switch 6 by an optical fiber cable 51. Peripheral exposure light source device 8, as well as marking the exposure light source device 5, includes a laser diode for generating a laser beam by energization is connected to the peripheral exposure EXPOSURE unit 9 by the optical fiber cable 81.

レーザ光切替器６は、図２に示すように、レンズ系６１Ａから６１Ｄ、切替器用ガルバノミラー６４及び切替器用ガルバノミラー駆動モータ６５を備える。レンズ系６１Ｄは、マーキング露光用光源装置５からのレーザ光を切替器用ガルバノミラー６４に導くような配置とされる。切替器用ガルバノミラー６４は、切替器用ガルバノミラー駆動モータ６５により図中時計回り方向及び反時計回り方向に回動可能に軸支され、４つの角度位置θ０〜θ３に切り替えて配置可能とされる。角度位置θ０は基準となる待機位置である。レンズ系６１Ａから６１Ｃは、各角度位置θ１からθ３に配置された切替器用ガルバノミラー６４により偏向されるレーザ光をそれぞれ受光できるような配置とされる。 As shown in FIG. 2, the laser beam switch 6 includes lens systems 61 </ b> A to 61 </ b> D, a switch galvano mirror 64, and a switch galvano mirror drive motor 65. The lens system 61D is arranged so as to guide the laser light from the marking exposure light source device 5 to the galvanometer mirror 64 for switching . The switch galvanometer mirror 64 is pivotally supported by the switch galvanometer mirror drive motor 65 so as to be pivotable in the clockwise and counterclockwise directions in the drawing, and can be arranged by switching to four angular positions θ 0 to θ 3. The The angular position θ 0 is a reference standby position. 61C from the lens system 61A is arranged as a laser beam deflected by the switching dexterity galvanometer mirror 64 disposed on the theta 3 from each angular position θ1 can be received, respectively.

各マーキング用露光ユニット７Ａから７Ｃは、光ファイバケーブル６６Ａ〜６６Ｃによってレーザ光切替器６におけるそれぞれレンズ系６１Ａから６１Ｃと接続される。そしてＸ方向及びＹ方向のそれぞれに沿って等間隔に配置される。その平面視は、図７に示すように、Ｘ方向について段違いに斜め列を呈する。互いに隣り合うマーキング用露光ユニット７Ａ，７Ｂ及び７Ｂ，７Ｃは、露光終了位置Ｐ１から露光開始位置Ｐ２までが距離Ｄ１を有するように配置されている。また、各マーキング用露光ユニット７Ａから７Ｃは、隣合う露光ユニット同士がぶつからない範囲でＹ方向にそれぞれ独立に移動可能に設けられる。これにより、Ｙ方向についての露光位置に融通性をもたせることができる。 7C from each marking EXPOSURE unit 7A are connected from the respective lens systems 61A and 61C in the laser beam switcher 6 by an optical fiber cable 66 a to 66 c. And it is placed at regular intervals along each of the X and Y directions. In the plan view, as shown in FIG. 7, diagonal rows are formed in steps in the X direction. Marking the exposure unit 7A adjacent to each other, 7B and 7B, 7C from the exposure end position P1 to the exposure start position P2 is placed so as to have a distance D1. Further, each of the marking exposure units 7A to 7C is provided so as to be independently movable in the Y direction as long as adjacent exposure units do not collide with each other. Thereby, flexibility can be given to the exposure position in the Y direction.

各マーキング用露光ユニット７は、図３に示すように、反射ミラー７１ａ、７１ｂ、ディジタルマイクロミラーデバイス（以下、単にＤＭＤと記す）７２、集光レンズ７３、第１、第２露光ユニット用ガルバノミラー７４、７４Ｙ、第１、第２露光ユニット用ガルバノミラー駆動モータ７５、７５Ｙ、及びＦθレンズ７６を備え、ＤＭＤ７２により形成されるマーキング表示７２Ｍをレーザ光によりガラス基板Ｋ上に導くように構成される。 As shown in FIG. 3, each marking exposure unit 7 includes reflection mirrors 71a and 71b, a digital micromirror device (hereinafter simply referred to as DMD) 72, a condenser lens 73, and galvanomirrors for the first and second exposure units. 74, 74Y, first and second exposure unit galvano mirror drive motors 75, 75Y, and an Fθ lens 76 , and configured to guide the marking display 72M formed by the DMD 72 onto the glass substrate K by laser light. .

ＤＭＤとは、図４，６に示すように、シリコンガラス基板上に格子状に多数（例えば１０２４×７６８個）配列されたそれぞれ１４μｍ×１４μｍという微小なマイクロミラー７２１を、その反射角度を電気的に制御することによって画像を表示するように構成した素子である。オン状態では該マイクロミラー７２１への入射光が反射する角度とされ、オフ状態では反射しない角度とされる。例えばマーキングすべき文字が「Ｇ」である場合には、反射面が「Ｇ」字形を呈するようにマイクロミラー７２１の角度が変更される。前段落で述べたマーキング表示７２Ｍは、このときに表示面に形成される画像のことである。   4 and 6, as shown in FIGS. 4 and 6, a micromirror 721 having a size of 14 μm × 14 μm arranged in a large number (for example, 1024 × 768) in a lattice shape on a silicon glass substrate, and its reflection angle is electrically It is an element configured to display an image by controlling to. In the on state, the incident light to the micromirror 721 is reflected. In the off state, the angle is not reflected. For example, when the letter to be marked is “G”, the angle of the micromirror 721 is changed so that the reflecting surface has a “G” shape. The marking display 72M described in the previous paragraph is an image formed on the display surface at this time.

第１、第２露光ユニット用ガルバノミラー７４、７４Ｙは、図３に示すように、レーザ光の照射によるマーキング表示７２Ｍのガラス基板Ｋへの像であるマーキング像ＭＺがＸ方向に移動可能となるように駆動可能に設けられる。また、図５に示すように、第２露光ユニット用ガルバノミラー駆動モータ７５Ｙにより第２露光ユニット用ガルバノミラー７４Ｙを、マーキング像ＭＺがＹ方向にも移動可能となるようにＷ２方向に駆動可能に設けることで、マーキング用露光ユニット７一台あたりのＹ方向についての露光範囲を広くすることができる。 As shown in FIG. 3, in the first and second exposure unit galvanometer mirrors 74 and 74Y , the marking image MZ, which is an image on the glass substrate K of the marking display 72M by irradiation with laser light, can move in the X direction. So that it can be driven. Further, as shown in FIG. 5, capable of driving the second exposure unit galvanometer mirror 74Y for the second exposure unit for galvano mirror drive motor 75Y, the W 2 direction as the marking image MZ is also movable in the Y direction by providing, it is possible to widen the exposure range of the Y direction of the exposure light unit 7 per single marking.

制御装置１０は、予め組み込まれたプログラムやオペレータによる入力操作に基づいて、図１に示す露光装置１に記載した各機器の動作制御を行う。 Controller 10 based on the input operation by the preinstalled program or operator, controls the operation of each device and placing serial to the exposure apparatus 1 shown in FIG.

次に、図８から図１０も参照して、以上のように構成された露光装置１の動作について説明する。図８及び図９はマーキング露光の動作を時系列的に説明するための平面概略図、図１０は各露光ユニット７から出力されるレーザ光のオンオフ状態を示すタイムチャートである。なお、マーキング用露光ユニット７Ａから７Ｃの各構成要素については、全て同一であるため、共通の符号で表記するが、説明上他と区別した方がわかりやすい場合は、例えば「７４Ａ」「７４Ｂ」のように末尾に「Ａ」から「Ｃ」のアルファベットを付して記述する。また、他のガルバノミラーや駆動モータについても同様な方法で記載する。 Next, the operation of the exposure apparatus 1 configured as described above will be described with reference to FIGS. 8 and 9 are schematic plan views for explaining the marking exposure operation in time series, and FIG. 10 is a time chart showing the on / off state of the laser light output from each exposure unit 7. The constituent elements of the marking exposure units 7A to 7C are all the same, and are therefore denoted by a common reference. However, if it is easier to distinguish from others for explanation, for example, “74A” “74B” As described above, an alphabet “A” to “C” is added to the end. Also, other galvanometer mirrors and drive motors are described in the same manner.

図８（Ａ）において、基板受取り位置に待機したステージ３は、上流側に配置されたロボットからガラス基板Ｋを受け取り、該ガラス基板Ｋをステージ３の表面上に吸着保持する。このとき、レーザ光切替器６における切替器用ガルバノミラー６４は、待機位置である角度位置θ０にある。その後、ガラス基板Ｋを吸着保持した状態でステージ３はＸ１方向に等速度Ｖで走行すると共に、切替器用ガルバノミラー６４は切替器用ガルバノミラー駆動モータ６５により回動駆動されて角度位置θ０ から角度位置θ１となる。これにより、図２に示すように、レンズ系６１Ｄを通過したマーキング露光用光源装置５からのレーザ光は、切替器用ガルバノミラー６４の表面で反射してレンズ系６１Ａに向かう。そしてレンズ系６１Ａを通過した後、光ファイバケーブル６６Ａを介してマーキング用露光ユニット７Ａに供給される。 In FIG. 8A, the stage 3 waiting at the substrate receiving position receives the glass substrate K from the robot arranged on the upstream side, and sucks and holds the glass substrate K on the surface of the stage 3. At this time, switching dexterity galvanometer mirror 64 in the laser beam switcher 6 is in the angular position theta 0 is the standby position. Thereafter, the angle of the glass substrate K together with the stage 3 travels at a constant speed V in the direction X1 while holding suction, switching dexterity galvanometer mirror 64 from the angular position theta 0 is driven to rotate by the switching dexterity galvano mirror drive motor 65 Position θ 1 is obtained. As a result, as shown in FIG. 2, the laser light from the marking exposure light source device 5 that has passed through the lens system 61D is reflected by the surface of the galvano mirror 64 for switching device and travels toward the lens system 61A. Then, after passing through the lens system 61A, it is supplied to the marking exposure unit 7A via the optical fiber cable 66A.

マーキング用露光ユニット７Ａにおいて、レーザ光切替器６から供給され光ファイバーケーブル６６Ａを通じて送られてきたレーザ光は、図３に示すように、反射ミラー７１ａの反射面で反射した後、ＤＭＤ７２における表示面に照射される。該表示面では、ガラス基板Ｋにマーキングすべき所望の文字や記号に応じた反射形態を持たせるように、複数のマイクロミラー７２１がオンオフ制御されている。表示面で反射したレーザ光は、集光レンズ７３で集光された後、第１、第２露光ユニット用ガルバノミラー７４Ａ、７４ＹＡに向かう。 In the marking exposure unit 7A, the laser beam supplied from the laser beam switching unit 6 and sent through the optical fiber cable 66A is reflected by the reflecting surface of the reflecting mirror 71a as shown in FIG. Irradiated. On the display surface, the plurality of micromirrors 721 are on / off controlled so that the glass substrate K has a reflective form corresponding to a desired character or symbol to be marked. The laser light reflected by the display surface is collected by the condenser lens 73 and then travels to the first and second exposure unit galvanometer mirrors 74A and 74YA .

露光ユニット７Ａの第１、第２露光ユニット用ガルバノミラー７４Ａ、７４ＹＡは、図１０に示すように、レーザ光切替器６における切替器用ガルバノミラー６４が角度位置θ１の位置となった後にオンとなる。オンとなった第１、第２露光ユニット用ガルバノミラー７４Ａ、７４ＹＡは、図５に示すように、第１露光ユニット用ガルバノミラー駆動モータ７５によりｔ２秒間だけＷ１方向に等角速度で回動する。ｔ２秒間という時間は、レーザ光を照射する時間であり、ステージ３がマーキング像ＭＺのＸ方向距離Ｄ２を移動するのに要する時間に等しい。 First, second exposure unit for galvanomirror 74A of the exposure unit 7A, 74ya, as shown in FIG. 10, and turned on after the switching dexterity galvanometer mirror 64 in the laser beam switcher 6 becomes the position of the angular position theta 1 Become. First, second exposure unit for the galvanometer mirror 74A becomes ON, 74ya, as shown in FIG. 5, rotating at a constant angular velocity to the first by W 1 direction t 2 seconds by the galvano mirror drive motor 75 for the exposure unit To do. The time of t 2 seconds is the time for irradiating the laser beam, and is equal to the time required for the stage 3 to move the distance D2 in the X direction of the marking image MZ.

第１、第２露光ユニット用ガルバノミラー７４Ａ、７４ＹＡにより進行方向が変化したレーザ光は、Ｆθレンズ７６で収束された後、図８（Ｂ）に示すように、ガラス基板Ｋの表面に向けて照射される。そしてガラス基板Ｋの表面に塗布されたレジスト膜にＤＭＤ７２で形成したマーキング表示７２Ｍの露光が行われる。第１、第２露光ユニット用ガルバノミラー７４Ａ、７４ＹＡが図３に記載の様にＷ１方向に等角速度で回動することにより、ガラス基板Ｋ上に導かれるマーキング像ＭＺはＸ１方向に等速度で移動する。ここで、第１、第２露光ユニット用ガルバノミラー７４Ａ、７４ＹＡは、マーキング像ＭＺがＸ１方向に移動する速度と、ステージ３の走行速度Ｖとが等しくなるように回動する。これにより、露光ユニット７Ａからガラス基板Ｋに照射されるレーザ光はステージ３と同期する。すなわち該レーザ光とステージ３との相対速度はゼロになる。このため、ステージ３とレーザ光との相対速度のずれから生じ得るマーキング像ＭＺの伸びや滲みを防止することができる。 The laser light whose traveling direction is changed by the first and second exposure unit galvanometer mirrors 74A and 74YA is converged by the Fθ lens 76, and then directed toward the surface of the glass substrate K as shown in FIG. 8B. Irradiated. Then, the marking display 72M formed by the DMD 72 on the resist film applied to the surface of the glass substrate K is exposed. First, constant speed second exposure unit for the galvanometer mirror 74A, by 74YA rotates at a constant angular velocity in the W 1 direction as described in FIG. 3, the marking image MZ guided on the glass substrate K in the X1 direction Move with. Here, the first and second exposure unit galvanometer mirrors 74A and 74YA rotate so that the speed at which the marking image MZ moves in the X1 direction and the traveling speed V of the stage 3 are equal. Thereby, the laser beam irradiated to the glass substrate K from the exposure unit 7A synchronizes with the stage 3. That is, the relative speed between the laser beam and the stage 3 becomes zero. For this reason, it is possible to prevent the marking image MZ from being stretched or blurred due to a shift in relative speed between the stage 3 and the laser beam.

なお、第１、第２露光ユニット用ガルバノミラー７４Ａ、７４ＹＡを駆動する代わりに、図６に示すように、ＤＭＤ７２に形成されるマーキング表示７２Ｍを、ガラス基板Ｋ上に導かれるマーキング像ＭＺがＸ１方向に等速度Ｖで移動するように、いわゆる「流し表示」することによっても同様な効果を得ることができる。「流し表示」とは、各マイクロミラー７２１のオンオフを所定方向に向けて等速度で順次シフトさせることにより、表示面上のマーキング表示７２Ｍを、形を変えずに送り出して表示させることである。「流し表示」することにより、ＤＭＤ７２におけるマイクロミラー７２１が１枚程度破損していても、他のマイクロミラーがこれを補うので露光状態に支障を来さない。 Instead of driving the first and second exposure unit galvanometer mirrors 74A and 74YA , as shown in FIG. 6, the marking display 72M formed on the DMD 72 is converted into a marking image MZ guided onto the glass substrate K by X1. A similar effect can be obtained by so-called “sink display” so as to move at a constant velocity V in the direction. “Sink display” is to display the marking display 72M on the display surface without changing the shape by sequentially shifting the on / off of each micromirror 721 in a predetermined direction at a constant speed. By performing “flowing display”, even if one micromirror 721 in the DMD 72 is damaged, other micromirrors compensate for this, so that the exposure state is not hindered.

図８（Ｃ）に示すように、露光ユニット７Ａによるマーキング露光が終了すると、露光ユニット７Ａの第１、第２露光ユニット用ガルバノミラー７４Ａ、７４ＹＡはオフとなり反転して元の角度位置に戻る。一方、レーザ光切替器６の切替器用ガルバノミラー６４は、マーキング用露光ユニット７Ａの第１、第２露光ユニット用ガルバノミラー７４Ａ、７４ＹＡがオフすると同時に切替器用ガルバノミラー駆動モータ６５により角度位置θ１からＷ０方向に回動を開始して角度位置θ２となる。角度位置θ２となることにより、第１電源装置５から光ファイバケーブル５１を介して供給されたレーザ光は、レンズ系６１Ｄを通過した後、切替器用ガルバノミラー６４の表面で反射してレンズ系６１Ｂに向かう。そしてレンズ系６１Ｂを通過した後、光ファイバケーブル６６Ｂを介して露光ユニット７Ｂに供給される。 As shown in FIG. 8C, when the marking exposure by the exposure unit 7A is completed, the first and second exposure unit galvanometer mirrors 74A and 74YA of the exposure unit 7A are turned off and inverted to return to the original angular positions. On the other hand, the switching dexterity galvanometer mirror 64 of the laser beam switcher 6, first marking the exposure unit 7A, the second exposure unit for the galvanometer mirror 74A, the switching dexterity galvano mirror drive motor 6 5 simultaneously 74YA is off-angle position θ The rotation starts from 1 to the W 0 direction and reaches the angular position θ 2 . When the angular position θ 2 is reached, the laser light supplied from the first power supply device 5 via the optical fiber cable 51 passes through the lens system 61D, and then is reflected by the surface of the galvano mirror 64 for the switching device to be reflected in the lens system. Head to 61B. Then, after passing through the lens system 61B, it is supplied to the exposure unit 7B via the optical fiber cable 66B.

露光ユニット７Ｂの第１、第２露光ユニット用ガルバノミラー７４Ｂ、７４ＹＢは、図１０に示すように、マーキング用露光ユニット７Ａの第１、第２露光ユニット用ガルバノミラー７４Ａ、７４ＹＡがオフとなってからｔ１秒後にオンとなり、第１露光ユニット用ガルバノミラー駆動モータ７５ＢによりＷ１方向に等角速度で回動する。ここでｔ１秒という時間は、図７や図８（Ｄ）に示すように、マーキング用露光ユニット７Ａの露光終了位置Ｐ１からマーキング用露光ユニット７Ｂの露光開始位置Ｐ２までの距離Ｄ１をステージ３が走行するのに要する時間である。つまりｔ１＝Ｄ１／Ｖである。 As shown in FIG. 10, the first and second galvanometer mirrors 74A and 74YA of the marking exposure unit 7A are turned off in the first and second galvanometer mirrors 74B and 74YB of the exposure unit 7B. It turned on one second after t from rotates at a constant angular velocity in the W 1 direction by the first exposure unit for galvano mirror driving motor 75B. Here the time of t 1 seconds, 7 and 8 (D), the stage 3 the distance D1 from the exposure end position P1 of the marking exposure unit 7A to the exposure start position of the marking exposure unit 7B P2 Is the time it takes to travel. That is, t 1 = D1 / V.

図９（Ｅ）に示すように、露光ユニット７Ｂによるマーキング露光が終了すると、露光ユニット７Ｂの第１、第２露光ユニット用ガルバノミラー７４Ｂ、７４ＹＢはオフとなり反転して元の角度位置に戻る。一方、レーザ光切替器６の切替器用ガルバノミラー６４は、マーキング用露光ユニット７Ｂの第１、第２露光ユニット用ガルバノミラー７４Ｂ、７４ＹＢがオフすると同時に切替器用ガルバノミラー駆動モータ６５により角度位置θ２からＷ０方向に回動を開始して角度位置θ３となる。角度位置θ３となることにより、第１電源装置５から光ファイバケーブル５１を介して供給されたレーザ光は、レンズ系６１Ｄを通過した後、切替器用ガルバノミラー６４の表面で反射してレンズ系６１Ｃに向かう。そしてレンズ系６１Ｃを通過した後、光ファイバケーブル６６Ｃを介してマーキング用露光ユニット７Ｃに供給される。マーキング用露光ユニット７Ｃの第１露光ユニット用ガルバノミラー７４Ｃは、図１０に示すように、マーキング用露光ユニット７Ｂの第１、第２露光ユニット用ガルバノミラー７４Ｂ、７４ＹＢがオフとなってからｔ１秒後にオンとなり、第１、第２露光ユニット用ガルバノミラー駆動モータ７５Ｃ、７４ＹＣによりＷ１方向に等角速度で回動する。 As shown in FIG. 9E , when the marking exposure by the exposure unit 7B is completed, the first and second exposure unit galvanometer mirrors 74B and 74YB of the exposure unit 7B are turned off and inverted to return to the original angular positions. On the other hand, the switch galvanometer mirror 64 of the laser beam switch 6 is turned off at the angular position θ 2 by the switch galvanometer mirror driving motor 65 at the same time when the first and second exposure unit galvanometer mirrors 74B and 74YB of the marking exposure unit 7B are turned off. the angular position theta 3 and starts rotating in the W 0 direction from. By being at the angular position θ 3 , the laser light supplied from the first power supply device 5 via the optical fiber cable 51 passes through the lens system 61D, and then is reflected by the surface of the galvano mirror 64 for the switching device to be reflected in the lens system. Head to 61C. Then, after passing through the lens system 61C, it is supplied to the marking exposure unit 7C via the optical fiber cable 66C. As shown in FIG. 10, the first exposure unit galvanometer mirror 74C of the marking exposure unit 7C is t 1 after the first and second exposure unit galvanometer mirrors 74B and 74YB of the marking exposure unit 7B are turned off. seconds turned on after the first, second exposure unit for galvano mirror drive motor 75C, rotates at a constant angular velocity in the W 1 direction by 74YC.

このように、露光装置１では、互いに隣り合う露光ユニット７Ａ，７Ｂにおける一方の露光ユニット７Ａの露光終了位置Ｐ１から他方の露光ユニット７Ｂの露光開始位置Ｐ２までの距離Ｄ１をステージ３が走行し終えたときに、他方の露光ユニット７Ｂからレーザ光を照射する。互いに隣り合う露光ユニット７は、露光終了位置Ｐ１から露光開始位置Ｐ２までが距離Ｄ１を有するような配置とされているため、一方の露光ユニット７Ａによって形成されたマーキング像ＭＺＡと、他方の露光ユニット７Ｂによって形成されたマーキング像ＭＺＢとは、Ｙ方向に一列となる。各露光ユニットから照射されるレーザ光は時系列的に切り替えられるので、レーザ光の照射数を増やした場合でも、光源の出力を大きなものにしたり、光源の数を増やしたりする必要がなく装置の低コスト化を図ることができる。   Thus, in the exposure apparatus 1, the stage 3 finishes traveling the distance D1 from the exposure end position P1 of one exposure unit 7A to the exposure start position P2 of the other exposure unit 7B in the adjacent exposure units 7A and 7B. The other exposure unit 7B emits laser light. Since the adjacent exposure units 7 are arranged such that the distance D1 is from the exposure end position P1 to the exposure start position P2, the marking image MZA formed by one exposure unit 7A and the other exposure unit The marking image MZB formed by 7B is aligned in the Y direction. Since the laser light emitted from each exposure unit is switched in time series, there is no need to increase the output of the light source or increase the number of light sources even when the number of laser light irradiations is increased. Cost reduction can be achieved.

また、ＤＭＤ７２を用いて面単位のマーキング表示７２Ｍを露光しているので、従来のようにドット単位で露光する場合と異なり、露光位置にばらつきが生じることがなく、きれいなマーキング像ＭＺを形成することができる。また、レーザ光とステージ３との相対速度がゼロになるため、ステージ３とレーザ光との相対速度のずれから生じ得るマーキング像ＭＺの伸びや滲みを防止することができ、きれいなマーキング像ＭＺを形成することができる。第１、第２露光ユニット用ガルバノミラー７４、７４Ｙは、マーキング像ＭＺがＹ方向にも移動可能となるように駆動可能に設けられるので、マーキング用露光ユニット７一台あたりのＹ方向についての露光範囲を広くすることができる。 Further, since the marking display 72M in units of planes is exposed using the DMD 72, unlike the case where exposure is performed in units of dots as in the prior art, there is no variation in the exposure position, and a clean marking image MZ is formed. Can do. In addition, since the relative speed between the laser beam and the stage 3 becomes zero, it is possible to prevent the marking image MZ from extending or bleeding due to a shift in the relative speed between the stage 3 and the laser beam. Can be formed. First, second exposure unit for the galvanometer mirror 74, 74Y are marking image MZ since is drivably arranged so as to be made movable in the Y direction, dew light unit 7 per single marking for Y direction The exposure range can be widened.

ステージ３のＸ１方向への走行に伴い、以上の動作を複数回繰り返すことにより、図９（Ｈ）に示すように、Ｙ方向に一列となって並んだマーキング像ＭＺＡ〜ＭＺＣを２次元的に形成することができる。   As the stage 3 travels in the X1 direction, the above operation is repeated a plurality of times, so that the marking images MZA to MZC arranged in a line in the Y direction are two-dimensionally arranged as shown in FIG. 9 (H). Can be formed.

更に露光装置１では、マーキング露光の動作と同時に周辺露光の動作も行う。周辺露光とは、パターン露光やマーキング露光とは別にガラス基板Ｋの周辺部を露光し、不要なレジストを除去する処理である。例えば、ガラス基板Ｋの周辺部全周を一定幅で周状に露光する全周露光や、ウエハ保持用の爪が接触する箇所のみを選択的に露光する部分露光がある。この処理の後に、現像工程を経て異物発生の原因となる不要レジストを除去する。   Further, the exposure apparatus 1 performs a peripheral exposure operation simultaneously with the marking exposure operation. Peripheral exposure is a process in which the peripheral portion of the glass substrate K is exposed separately from pattern exposure and marking exposure to remove unnecessary resist. For example, there are all-round exposure in which the entire circumference of the peripheral portion of the glass substrate K is exposed in a circumferential shape with a constant width, and partial exposure in which only a portion where a wafer holding nail contacts is selectively exposed. After this treatment, an unnecessary resist that causes generation of foreign matters is removed through a development process.

露光装置１において、周辺露光は例えば次のように行う。すなわちマーキング露光の動作中において、ステージ３が上流側から下流側に向けて等速度Ｖで走行を開始すると共に、周辺露光用露光ユニット９Ａ，９Ｃがオンとなり、周辺露光用光源装置８から供給されたレーザ光がガラス基板ＫにおけるＹ方向についての両端部に向けて照射される。ステージ３がＸ１方向に走行することにより、ガラス基板ＫにおけるＸ方向に平行な両周辺部に露光が行われる。このように、マーキング露光と同時に周辺露光を行うので、タクト時間の短縮化を図ることができる。 In the exposure apparatus 1, peripheral exposure is performed as follows, for example. That During operation of the marking exposure, together with the stage 3 starts traveling at a constant speed V from the upstream side toward the downstream side, the peripheral exposure EXPOSURE unit 9A, 9C are turned on, supplied from the peripheral exposure light source device 8 The laser beam thus irradiated is irradiated toward both ends of the glass substrate K in the Y direction. As the stage 3 travels in the X1 direction, exposure is performed on both peripheral portions of the glass substrate K parallel to the X direction. Thus, since the peripheral exposure is performed simultaneously with the marking exposure, the tact time can be shortened.

なお、該ガラス基板Ｋにおける残りの両周辺部にも露光を行いたい場合は、ステージ３を回転駆動機構により下流側で垂直軸周りに９０度回転させた後、走行方向を反転させてＸ２方向に等速度（−Ｖ）で走行させる。これにより、残りの両周辺部にも露光が行われる。   If exposure is to be performed on both remaining peripheral portions of the glass substrate K, the stage 3 is rotated 90 degrees around the vertical axis on the downstream side by a rotational drive mechanism, and then the traveling direction is reversed to the X2 direction. At a constant speed (-V). As a result, the remaining peripheral portions are also exposed.

また、該ガラス基板Ｋの中央線付近も一直線状に露光したい場合は、中央の露光ユニット９Ｂからもレーザ光を照射して上と同様にして露光する。   When it is desired to expose the vicinity of the center line of the glass substrate K in a straight line, the exposure is performed in the same manner as above by irradiating laser light from the center exposure unit 9B.

以上、本発明の実施の形態について説明を行ったが、上に開示した実施の形態は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこれら実施の形態に限定されるものではない。本発明の範囲は、特許請求の範囲の記載によって示され、更に特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更を含むことが意図される。   As mentioned above, although embodiment of this invention was described, embodiment disclosed above is an illustration to the last, Comprising: The scope of the present invention is not limited to these embodiment. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

例えば、請求項における「複数のマーキング用露光ユニット」は、上に開示した実施の形態では、各マーキング用露光ユニットが一つ一つ独立したケーシングであり、その中に種々の光学的機構要素を収納したものとしたが、必ずしもケーシングが一つ一つ独立していなくてもよい。すなわちケーシングが独立していなくても同様の機能を備える構成、例えば、上と同様な種々の光学的機構要素を一つのケーシング内に複数段収納している構成であっても、本発明の範囲内であると解釈する。 For example, "a plurality of marking the exposure unit" in the claims, in the embodiment disclosed above, is to case sheet ring in which each marking EXPOSURE units one by one separate, various optical therein However, the casings do not necessarily have to be independent one by one. That is, even if the casing has a structure having the same function even if it is not independent, for example, a structure in which various optical mechanism elements similar to the above are housed in a plurality of stages in one casing, the scope of the present invention. To be interpreted as

また、上に開示した実施の形態では、マーキング用露光ユニット７及び周辺露光用露光ユニット９をそれぞれ３台の配置として示したが、２台または４台以上の配置としてもよい。また、これらのマーキング用露光ユニット７，９を固定したままでステージ３を走行させる形態を示したが、ステージ３を固定しておきマーキング用露光ユニット７，９を走行させる形態、またはステージ３とマーキング用露光ユニット７，９の両方を走行させる形態としてもよい。
［図面の簡単な説明］ Further, in the embodiment disclosed above, it showed marking EXPOSURE unit 7 and the peripheral exposure EXPOSURE unit 9 as an arrangement of three respectively, may be disposed over two or four. In addition, although the mode in which the stage 3 is run while the exposure units for marking 7 and 9 are fixed is shown, the mode in which the stage 3 is fixed and the exposure units for marking 7 and 9 are run or It is good also as a form which drives both the exposure units 7 and 9 for marking .
[Brief description of drawings]

本発明に係る露光装置の外観を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the external appearance of the exposure apparatus which concerns on this invention. レーザ光切替器の内部構造を示す平面図である。It is a top view which shows the internal structure of a laser beam switching device. マーキング用露光ユニットの内部構造を示す斜視図である。Is a perspective view showing the internal structure of the exposure light unit marking. ディジタルマイクロミラーデバイスの外観を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the external appearance of a digital micromirror device. マーキング用露光ユニットにおける第１、第２露光ユニット用ガルバノミラーの動作を説明するための図である。 First in marking EXPOSURE unit is a diagram for explaining the operation of the galvanometer mirror for the second exposure unit. ディジタルマイクロミラーデバイスの動作を説明するための図である。It is a figure for demonstrating operation | movement of a digital micromirror device. マーキング用露光ユニットの配置を示す平面概略図である。It is a schematic plan view showing an arrangement of exposure light unit marking. マーキング露光の動作を時系列的に説明するための平面概略図である。It is a plane schematic diagram for explaining operation of marking exposure in time series. マーキング露光の動作を時系列的に説明するための平面概略図である。It is a plane schematic diagram for explaining operation of marking exposure in time series. 各露光ユニットから出力されるレーザ光のオンオフ状態を示すタイムチャートである。It is a time chart which shows the on-off state of the laser beam output from each exposure unit. 従来の露光方法を説明するための平面概略図である。It is the plane schematic for demonstrating the conventional exposure method.

符号の説明Explanation of symbols

［符号の説明］
１ 露光装置
３ ステージ
５ マーキング露光用光源装置
７ マーキング用露光ユニット
８．周辺露光用光源装置
９ 周辺露光用露光ユニット
６４ 切替器用ガルバノミラー
６５ 切替器用ガルバノミラー駆動モータ
７２ ディジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）
７２Ｍ マーキング表示
７４ 第１露光ユニット用ガルバノミラー
７４Ｙ 第２露光ユニット用ガルバノミラー
７５ 第１露光ユニット用ガルバノミラー駆動モータ
７５Ｙ 第２露光ユニット用ガルバノミラー駆動モータ
Ｄ１ 距離
Ｋ ガラス基板（被露光基板）
ＭＺ マーキング像
Ｐ１ 露光終了位置
Ｐ２ 露光開始位置
Ｘ 方向（相対移動の方向）
Ｙ 方向（相対移動の方向と直交する方向）
[Explanation of symbols]
1 exposure device 3 Stage 5 marking an exposure light source device 7 for marking EXPOSURE units
8). EXPOSURE unit light source device 9 around exposing peripheral exposure
64 switching dexterity galvanometer mirror 65 switching dexterity galvano mirror driving motor 72 digital micromirror device (DMD)
72M marking display 74 the first exposure unit for galvanometer mirror over 74Y second exposure unit for galvanometer mirror over 75 first galvano mirror for exposure unit drive motor 75Y second exposure unit galvano mirror drive motor D1 distance K glass substrate (substrate to be exposed )
MZ marking image P1 exposure end position P2 exposure start position X direction (direction of relative movement)
Y direction (direction perpendicular to the direction of relative movement)

Claims (2)

マーキング露光用のレーザ光を生成するマーキング露光用光源装置と、
被露光基板を載置するためのステージと、
前記ステージに対して等速度で相対移動可能に設けられると共に前記ステージの上部に平面視が前記相対移動の方向について段違いに斜め列となるように配置されそれぞれディジタルマイクロミラーデバイスにより形成されるマーキング表示を前記レーザ光により前記被露光基板上に照射するように構成された複数のマーキング用露光ユニットと、
互いに隣り合うマーキング用露光ユニットにおける一方のマーキング用露光ユニットの露光終了位置から他方のマーキング用露光ユニットの露光開始位置までの距離を前記ステージと前記複数のマーキング用露光ユニットとが相対移動する毎に、前記被露光基板上を最初に通過するマーキング用露光ユニットから前記被露光基板上を最後に通過するマーキング用露光ユニットへ向かう順序で、各マーキング用露光ユニットが前記被露光基板上に照射するレーザ光を切り替える切替手段と
を備え、
前記複数のマーキング用露光ユニットを前記ステージに対して相対移動させながら、前記切替手段によるレーザー光の切り替え、および、各マーキング用露光ユニットによるレーザ光の照射を行うことを特徴とする露光装置。 A light source device for marking exposure that generates laser light for marking exposure;
A stage for mounting the substrate to be exposed;
Marking display provided by the digital micromirror device, which is provided so as to be relatively movable with respect to the stage at a constant speed, and is arranged in an oblique row in a plan view on the upper part of the stage with respect to the direction of the relative movement. A plurality of marking exposure units configured to irradiate the exposed substrate with the laser beam,
Every time the stage and the plurality of marking exposure units move relative to each other, the distance from the exposure end position of one marking exposure unit to the exposure start position of the other marking exposure unit in the adjacent marking exposure units the order directed from marking the exposure unit to first pass through the exposed upper substrate to marking the exposure unit passing through the object to be exposed on the substrate Finally, lasers each marking exposure unit for irradiating the object to be exposed on the substrate Switching means for switching light , and
An exposure apparatus that performs switching of laser light by the switching means and irradiation of laser light by each marking exposure unit while moving the plurality of marking exposure units relative to the stage . マーキング露光用光源装置によりマーキング露光用のレーザ光を生成し、
ステージ上に被露光基板を載置し、
複数のマーキング用露光ユニットを前記ステージに対して等速度で相対移動可能に設けると共に
前記ステージの上部に平面視が前記相対移動の方向について段違いに斜め列となるように配置し、
それぞれのマーキング用露光ユニットにおけるディジタルマイクロミラーデバイスにより形成されるマーキング表示を、互いに隣り合うマーキング用露光ユニットにおける一方のマーキング用露光ユニットの露光終了位置から他方のマーキング用露光ユニットの露光開始位置までの距離を前記ステージと前記複数のマーキング用露光ユニットとが相対移動する毎に、前記被露光基板上を最初に通過するマーキング用露光ユニットから前記被露光基板上を最後に通過するマーキング用露光ユニットへ向かう順序で、各マーキング用露光ユニットが前記被露光基板上に照射するレーザ光を切り替えることにより、前記被露光基板上に導き、
前記複数のマーキング用露光ユニットを前記ステージに対して相対移動させながら、レーザー光の切り替え、および、各マーキング用露光ユニットによるレーザ光の照射を行うことを特徴とする露光方法。 The marking exposure light source device generates laser light for marking exposure,
Place the substrate to be exposed on the stage,
A plurality of marking exposure units are provided so as to be relatively movable with respect to the stage at a constant speed, and are arranged on the upper part of the stage so that the plan view is inclined in a row with respect to the direction of the relative movement,
The marking display formed by the digital micromirror device in each marking exposure unit is displayed from the exposure end position of one marking exposure unit to the exposure start position of the other marking exposure unit in the adjacent marking exposure units. Each time the stage and the plurality of marking exposure units move relative to each other, the marking exposure unit that first passes over the exposed substrate changes to the marking exposure unit that passes last over the exposed substrate. By switching the laser light irradiated on the substrate to be exposed by each marking exposure unit in the order to go, it is guided onto the substrate to be exposed ,
An exposure method comprising: switching a laser beam and irradiating each marking exposure unit with a laser beam while moving the plurality of marking exposure units relative to the stage .
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