JP4654662B2 - Packaging using gas barrier film laminate having heat treatment resistance - Google Patents

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本発明は、加熱殺菌処理等の加熱処理を行っても当初のガスバリア性が劣化しにくいようにしたガスバリア性フィルム積層体を用いた包装体、さらに詳しくは、レトルト食品用包装材料や医療用包装材料等として好適に用いられ、ボイル殺菌やレトルト殺菌等の加熱殺菌処理や加熱調理等における加熱処理においても当初のガスバリア性が劣化しにくいようにした、加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体を用いた包装体に関するものである。
The present invention relates to a package using a gas barrier film laminate in which the initial gas barrier properties are not easily deteriorated even when heat treatment such as heat sterilization is performed, and more specifically, packaging material for retort food and medical packaging suitably used as materials, the initial gas barrier properties even in the heat treatment in the heat sterilization treatment or cooking such as boiling sterilization or retort sterilization is to withstands the gas barrier film laminate having a heat treatment resistance It relates to the package used .

近年、食品や医薬品等の包装に用いられる包装材料は、内容物の変質を抑制してそれらの機能や性質を保持するため、酸素、水蒸気、その他内容物を変質させる気体による影響を防止する機能を有する必要があり、これらの透過を阻止するガスバリア性を備えていることが求められている。そのため従来から、食品や医薬品等の包装に用いられる包装材料としては、温度や湿度等による影響が少ないアルミニウム箔等の金属箔をガスバリア層として用いたものが一般的に用いられてきた。   In recent years, packaging materials used for packaging foods, pharmaceuticals, etc. have the function of preventing the influence of oxygen, water vapor, and other gases that alter the contents, in order to suppress the alteration of the contents and retain their functions and properties. It is required to have a gas barrier property that prevents these permeations. Therefore, conventionally, as a packaging material used for packaging foods and pharmaceuticals, a material using a metal foil such as an aluminum foil that is less affected by temperature, humidity, etc. as a gas barrier layer has been generally used.

ところが、アルミニウム箔等の金属箔を用いた包装材料は、温度や湿度の影響を受けにくく、高度なガスバリア性を有しているが、それを介して内容物を確認することができず、使用後の廃棄の際には不燃物として処理しなければならず、さらには検査の際に金属探知器が使用できないなど、様々な欠点を有しており問題があった。   However, packaging materials using metal foil such as aluminum foil are not easily affected by temperature and humidity, and have high gas barrier properties. When it was later disposed of, it had to be treated as an incombustible material, and further, there were various drawbacks such as the inability to use a metal detector for inspection.

そこで、これらの欠点を克服するため、例えば特許文献1、2等に記載されているように、高分子フィルム上に真空蒸着法やスパッタリング法等の薄膜形成手段により酸化珪素、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成してなる蒸着フィルムが開発されている。これらの蒸着フィルムは、透明性及び酸素、水蒸気等に対するガスバリア性を有していることが知られ、金属箔等では得ることのできない透明性とガスバリア性とを共に有する包装材料として種々の包装分野で使用されている。   Therefore, in order to overcome these drawbacks, for example, as described in Patent Documents 1 and 2, etc., inorganic materials such as silicon oxide and aluminum oxide are formed on the polymer film by thin film forming means such as vacuum deposition and sputtering. A vapor deposition film formed by forming a vapor deposition thin film of an oxide has been developed. These vapor-deposited films are known to have transparency and gas barrier properties against oxygen, water vapor, etc., and are used in various packaging fields as packaging materials having both transparency and gas barrier properties that cannot be obtained with metal foil or the like. Used in.

一方、上記のような蒸着フィルムにさらに後加工適正を付与するための方法として、無機酸化物蒸着薄膜の上に、第2層として、水酸基を有する水溶性高分子と1種類以上の金属アルコキシド或いは金属アルコキシド加水分解物または、塩化錫の少なくとも一方を含む水溶液、或いは水/アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤を塗布し、加熱乾燥してなるガスバリア性被膜層を積層することにより、後加工後のガスバリア性の劣化を低減するようにした技術も提案されている(例えば、特許文献3参照。)。   On the other hand, as a method for imparting post-processing suitability to the deposited film as described above, a water-soluble polymer having a hydroxyl group and one or more kinds of metal alkoxides as the second layer on the inorganic oxide deposited thin film or After post-processing by applying a coating agent mainly composed of a metal alkoxide hydrolyzate or an aqueous solution containing at least one of tin chloride, or a water / alcohol mixed solution, followed by heat drying. A technique for reducing the deterioration of the gas barrier property has also been proposed (see, for example, Patent Document 3).

この提案に係るガスバリア性フィルムは、優れたガスバリア性と透明性と後加工適性を共に有するため、包装分野で広く利用されているが、そのガスバリア性被膜層は、金属アルコキシド加水分解物と水溶性高分子を主体としているため、硬い被膜を形成している。このような硬い被膜層を一部に積層してなるガスバリア性フィルムを医療品やレトルト食品用の包装材料として用いた場合、それに対してボイル殺菌やレトルト殺菌、さらには加熱調理等に係る加熱処理が施されると、その際の熱の影響により包装材料が膨張するが、ガスバリアフィルム上の硬い被膜層はその他の構成層の膨張に伴う変形に追随し難いため、クラックや剥離等が発生し、当初のガスバリア性が低下する原因になっている。
米国特許第3442686号明細書 特公昭63−28017号公報 特開平7−164591号公報
The gas barrier film according to this proposal has excellent gas barrier properties, transparency and suitability for post-processing, and is therefore widely used in the packaging field. The gas barrier coating layer is composed of a metal alkoxide hydrolyzate and a water-soluble film. Since it is mainly composed of a polymer, it forms a hard film. When a gas barrier film formed by partially laminating such a hard coating layer is used as a packaging material for medical products and retort foods, heat treatment related to boil sterilization, retort sterilization, and cooking, etc. When applied, the packaging material expands due to the effect of heat at that time, but the hard coating layer on the gas barrier film is difficult to follow the deformation associated with the expansion of the other constituent layers, so cracks and peeling occur. This is a cause of deterioration in the initial gas barrier properties.
U.S. Pat. No. 3,442,686 Japanese Patent Publication No.63-28017 Japanese Patent Laid-Open No. 7-164591

本発明は以上のような状況に鑑みなされたものであり、ボイル殺菌、レトルト殺菌、加熱調理等による加熱処理がなされても当初のガスバリア性が劣化しにくくなるようにした、加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体の提供を目的とする。   The present invention has been made in view of the situation as described above, and has heat treatment resistance that makes it difficult for the initial gas barrier property to deteriorate even when heat treatment such as boil sterilization, retort sterilization, and heat cooking is performed. The object is to provide a gas barrier film laminate.

上記の目的を達成するためになされ、請求項1記載の発明は、プラスチックフィルム基材層の少なくとも一方の面に、印加電力を120W、処理時間を0.1sec、処理ガスをアルゴン、処理ユニット圧力を2.0Paにそれぞれ設定したリアクティブイオンエッチング(RIE)を利用したプラズマ処理により形成されたプラズマ前処理層と無機酸化物蒸着層並びに水溶性高分子と1種以上の金属アルコキシドまたはその加水分解物を含む水溶液或いは水/アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤を塗布し加熱乾燥してなるガスバリア性複合被膜層とが順次設けられていると共に、ガスバリア性複合被膜層上には二液硬化型ポリウレタン系接着剤からなり厚さが1.5〜4.5μmの範囲にある接着剤層を介して機能性プラスチックフィルム層が積層・一体化されていることを特徴とする加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体を用いた包装体である。
In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 is characterized in that an applied power is 120 W, a processing time is 0.1 sec, a processing gas is argon, a processing unit pressure is applied to at least one surface of the plastic film substrate layer. Plasma pretreatment layer formed by plasma treatment using reactive ion etching (RIE) with each set to 2.0 Pa, an inorganic oxide vapor deposition layer, a water-soluble polymer and one or more metal alkoxides or their hydrolysis A gas barrier composite coating layer formed by applying a coating agent mainly composed of an aqueous solution containing water or a water / alcohol mixed solution and heating and drying is sequentially provided. On the gas barrier composite coating layer, a two-component curing type is provided. Functional plastic via an adhesive layer made of polyurethane adhesive and having a thickness in the range of 1.5 to 4.5 μm Click film layer is a packaging body using the gas barrier film laminate having a heat treatment resistance, characterized in that it is laminated and integrated.

さらにまた、請求項記載の発明は、請求項1記載の加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体を用いた包装体において、前記無機酸化物蒸着薄膜層が、酸化アルミ
ニウム、酸化珪素、酸化マグネシウム或いはそれらの混合物のいずれかからなることを特
徴とする。
Further, an invention according to claim 2, wherein, in the package using the gas barrier film laminate having a heat treatment resistance according to claim 1 Symbol placement, the inorganic oxide vapor-deposited thin film layer, aluminum oxide, silicon oxide, It consists of either magnesium or a mixture thereof.

さらにまた、請求項記載の発明は、請求項1または2のいずれかに記載の加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体を用いた包装体において、前記金属アルコキシドが、テトラエトキシシランまたはトリイソプロポキシアルミニウム、或いはそれらの混合物のいずれかであることを特徴とする。
Furthermore, the invention according to claim 3 is the packaging body using the gas barrier film laminate having heat treatment resistance according to any one of claims 1 or 2 , wherein the metal alkoxide is tetraethoxysilane or triisosilane. It is characterized by being either propoxyaluminum or a mixture thereof.

さらにまた、請求項記載の発明は、請求項1〜のいずれかに記載の加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体を用いた包装体において、前記コーティング剤が、水溶性高分子成分としてポリビニルアルコールまたはポリ(ビニルアルコール−o−エチレン)、セルロース、デンプンの少なくとも1種類以上を含むことを特徴とする。
Furthermore, the invention according to claim 4 is a package using the gas barrier film laminate having heat treatment resistance according to any one of claims 1 to 3 , wherein the coating agent is a water-soluble polymer component. It includes at least one of polyvinyl alcohol or poly (vinyl alcohol-o-ethylene), cellulose, and starch.

本発明の加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体は、そこにレトルト殺菌や
ボイル殺菌、加熱調理等における加熱処理によって熱が加わったとしてもガスバリア性の劣化が少なく、ボイル殺菌やレトルト殺菌等の加熱殺菌処理が行われる加熱処理医療用の包装材料や、加熱調理が行われるレトルト食品用の包装材料、さらには電子部材用の包装材料等として好適に用いられる。
The gas barrier film laminate having the heat treatment resistance of the present invention is less deteriorated in gas barrier properties even when heat is applied by heat treatment in retort sterilization, boil sterilization, heat cooking, etc., such as boil sterilization and retort sterilization. It is suitably used as a heat-treated medical packaging material for which heat sterilization is performed, a retort food packaging material for which heat cooking is performed, and a packaging material for electronic members.

以下に、本発明の一実施形態を図面を参照して説明する。   An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

図1並びに図2は、本発明の加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体の断面構成を示す説明図である。図1に示す加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体10は、プラスチックフィルム基材層1の一方の面に、リアクティブイオンエッチング(RIE)を利用したプラズマ処理により形成されたプラズマ前処理層4と、無機酸化物蒸着薄膜層2と、水溶性高分子と1種以上の金属アルコキシドまたはその加水分解物を含む水溶液或いは水/アルコール混合液を主剤とするコーティング剤を塗布し加熱乾燥してなるガスバリア性複合被覆層3とが順次設けられていると共に、ガスバリア性複合被覆層3上には二液硬化型ポリウレタン系接着剤からなり、厚さが1.5〜4.5μmの範囲にある接着剤層6を介して機能性プラスチックフィルム層7が積層・一体化されてなるものである。   1 and 2 are explanatory views showing a cross-sectional configuration of a gas barrier film laminate having heat treatment resistance according to the present invention. A gas barrier film laminate 10 having heat treatment resistance shown in FIG. 1 has a plasma pretreatment layer 4 formed on one surface of a plastic film substrate layer 1 by plasma treatment using reactive ion etching (RIE). And an inorganic oxide vapor-deposited thin film layer 2 and a coating agent mainly composed of an aqueous solution or water / alcohol mixed solution containing a water-soluble polymer and one or more metal alkoxides or hydrolysates thereof, and dried by heating. The gas barrier composite coating layer 3 is sequentially provided, and the gas barrier composite coating layer 3 is made of a two-component curable polyurethane adhesive and has a thickness in the range of 1.5 to 4.5 μm. A functional plastic film layer 7 is laminated and integrated through an agent layer 6.

一方、図2に示す加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体20は、プラスチックフィルム基材層1の一方の面に、アクリルポリオールとイソシアネート化合物及びシランカップリング剤との複合物からなるプライマー層24と、無機酸化物蒸着薄膜層2と、水溶性高分子と1種以上の金属アルコキシドまたはその加水分解物を含む水溶液或いは水/アルコール混合液を主剤とするコーティング剤を塗布し加熱乾燥してなるガスバリア性複合被覆層3とが順次設けられていると共に、ガスバリア性複合被覆層3上には二液硬化型ポリウレタン系接着剤からなり、厚さが1.5〜4.5μmの範囲にある接着剤層6を介して機能性プラスチックフィルム層7が積層・一体化されてなるものである。   On the other hand, the gas barrier film laminate 20 having heat treatment resistance shown in FIG. 2 has a primer layer 24 made of a composite of an acrylic polyol, an isocyanate compound and a silane coupling agent on one surface of the plastic film substrate layer 1. And an inorganic oxide vapor-deposited thin film layer 2 and a coating agent mainly composed of an aqueous solution or water / alcohol mixed solution containing a water-soluble polymer and one or more metal alkoxides or hydrolysates thereof, and dried by heating. The gas barrier composite coating layer 3 is sequentially provided, and the gas barrier composite coating layer 3 is made of a two-component curable polyurethane adhesive and has a thickness in the range of 1.5 to 4.5 μm. A functional plastic film layer 7 is laminated and integrated through an agent layer 6.

これらの加熱処理耐性を有するガスバリア性積層体10、20のそれぞれを構成するプラスチックフィルム基材層1はプラスチック材料からなり、後述する無機酸化物蒸着薄膜層2の透明性を生かすために透明であることが好ましい。このプラスチックフィルム基材層1としては、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)等からなるポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレン等からなるポリオレフィンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアクリルニトリルフィルム、ポリイミドフィルム等が挙げられる。これらのプラスチックフィルムは、延伸されていても、未延伸であってもよいが、機械的強度や寸法安定性に優れるものが好ましい。この中では、二軸方向に任意に延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルムやポリアミドフィルムが好ましく用いられる。   The plastic film base material layer 1 constituting each of the gas barrier laminates 10 and 20 having heat treatment resistance is made of a plastic material and is transparent in order to make use of the transparency of the inorganic oxide deposited thin film layer 2 described later. It is preferable. Examples of the plastic film base layer 1 include polyester films made of polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyolefin films made of polyethylene, polypropylene, etc., polystyrene films, polyamide films, polycarbonate films, polyacrylonitrile. A film, a polyimide film, etc. are mentioned. These plastic films may be stretched or unstretched, but those having excellent mechanical strength and dimensional stability are preferred. Among these, a polyethylene terephthalate film or a polyamide film arbitrarily stretched in the biaxial direction is preferably used.

またこのプラスチックフィルム基材層1は、無機酸化物蒸着薄膜層2が設けられる面と反対側の表面に、周知の種々の添加剤や安定剤、例えば帯電防止剤、紫外線防止剤、可塑剤、滑剤等からなる処理層が設けられていてもよい。   Moreover, this plastic film base material layer 1 has a well-known various additive and stabilizer on the surface on the opposite side to the surface on which the inorganic oxide vapor-deposited thin film layer 2 is provided, for example, an antistatic agent, an ultraviolet ray inhibitor, a plasticizer, A treatment layer made of a lubricant or the like may be provided.

このプラスチックフィルム基材層1は上述したプラスチックフィルム単体であっても、これらの各フィルムが積層された多層構成のものであってもよい。また、厚さについても特に制限されるものではないが、包装材料としての適性を考慮し、さらに、後述する無機酸化物蒸着薄膜層2やガスバリア性複合被膜層3、二液硬化型ポリウレタン系接着剤層6、さらには機能性プラスチックフィルム層7を形成する場合の加工性等を考慮すると、実用的には3〜200μm、好ましくは6〜30μmの程度である。   The plastic film substrate layer 1 may be a single plastic film as described above, or may have a multilayer structure in which these films are laminated. Further, the thickness is not particularly limited, but in consideration of suitability as a packaging material, further, an inorganic oxide vapor-deposited thin film layer 2 and a gas barrier composite coating layer 3 described later, a two-component curable polyurethane adhesive Considering processability when forming the agent layer 6 and further the functional plastic film layer 7, it is practically 3 to 200 μm, preferably 6 to 30 μm.

本発明においては、このような構成になるプラスチックフィルム基材層1の少なくとも一方の面に、リアクティブイオンエッチング(RIE)を利用したプラズマ処理により形成されたプラズマ前処理層4(図1参照)、またはアクリルポリオールとイソシアネート化合物及びシランカップリング剤との複合物からなるプライマー層24(図2参照)が設けられている。   In the present invention, a plasma pretreatment layer 4 (see FIG. 1) formed by plasma treatment using reactive ion etching (RIE) on at least one surface of the plastic film substrate layer 1 having such a configuration. Or the primer layer 24 (refer FIG. 2) which consists of a composite of an acrylic polyol, an isocyanate compound, and a silane coupling agent is provided.

これらのプラズマ前処理層4とプライマー層24は、プラスチックフィルム基材層1と無機酸化物蒸着層3との密着性をより強固にするために設ける層である。   The plasma pretreatment layer 4 and the primer layer 24 are layers provided for further strengthening the adhesion between the plastic film substrate layer 1 and the inorganic oxide vapor deposition layer 3.

RIEを利用したプラズマ処理によってプラスチックフィルム基材層1の表面に形成されたプラズマ前処理層4は、処理時に発生したラジカルやイオンによりその表面に官能基を位置させることができ(化学的効果)、さらにはイオンエッチングにより不純物等を飛ばすと同時に平滑化することが可能となり(物理的効果)、官能基が位置すると共に不純物の無い平滑な表面とすることができる。従って、プラズマ前処理層4やプライマー層24の上には緻密な無機酸化物蒸着薄膜層2を形成することが可能となる。その結果、プラスチックフィルム基材層1と無機酸化物蒸着薄膜層2との密着性を強化することができ、加熱処理が施された時や外部から力が加わった時に、後述する無機酸化物蒸着薄膜層2の剥離やクラック発生が殆どなくなり、ガスバリア性の低下が抑制される。   The plasma pretreatment layer 4 formed on the surface of the plastic film substrate layer 1 by plasma treatment using RIE can place functional groups on the surface by radicals and ions generated during the treatment (chemical effect). In addition, it is possible to perform smoothing simultaneously with the removal of impurities by ion etching (physical effect), and a smooth surface free of impurities can be obtained while the functional group is located. Therefore, it is possible to form a dense inorganic oxide deposited thin film layer 2 on the plasma pretreatment layer 4 and the primer layer 24. As a result, the adhesion between the plastic film substrate layer 1 and the inorganic oxide vapor-deposited thin film layer 2 can be strengthened, and the inorganic oxide vapor deposition described later is applied when heat treatment is applied or when an external force is applied. Peeling of the thin film layer 2 and generation of cracks are almost eliminated, and a decrease in gas barrier properties is suppressed.

一方、プライマー層24も、上記プラズマ前処理層4と同様に、プラスチックフィルム基材層1と無機酸化物蒸着薄膜層2との密着性を強化するために設けられている層であり、アクリルポリオールとイソシアネート化合物及びシランカップリング剤との複合物からなる。   On the other hand, the primer layer 24 is also a layer provided to reinforce the adhesion between the plastic film substrate layer 1 and the inorganic oxide vapor-deposited thin film layer 2 in the same manner as the plasma pretreatment layer 4. And a composite of an isocyanate compound and a silane coupling agent.

アクリルポリオールは、アクリル酸誘導体モノマーを重合させて得られる高分子化合物もしくは、アクリル酸誘導体モノマーおよびその他のモノマーとを共重合させて得られる高分子化合物のうち、末端にヒドロキシル基をもつもので、イソシアネート化合物のイソシアネート基と反応させるためのものである。中でもエチルメタクリレート、ヒドロキシエチルメタクリレートやヒドロキシプロピルメタクリレート、ヒドロキシブチルメタクリレート等のアクリル酸誘導体モノマーを単独で重合させたものや、スチレン等のその他のモノマーを加えて共重合させたアクリルポリオールが好ましく用いられる。またイソシアネート化合物との反応性を考慮するとヒドロキシル価が5〜200(KOHmg/g)の間にあるものが好ましい。   Acrylic polyol is a polymer compound obtained by polymerizing an acrylic acid derivative monomer or a polymer compound obtained by copolymerizing an acrylic acid derivative monomer and other monomers, and has a hydroxyl group at the terminal, It is for making it react with the isocyanate group of an isocyanate compound. Among them, those obtained by polymerizing acrylic acid derivative monomers such as ethyl methacrylate, hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl methacrylate, and hydroxybutyl methacrylate alone, and acrylic polyols obtained by copolymerizing with other monomers such as styrene are preferably used. In consideration of the reactivity with the isocyanate compound, those having a hydroxyl number between 5 and 200 (KOHmg / g) are preferred.

また、イソシアネート化合物は、前記アクリルポリオールと反応し、その時にできるウレタン結合によりプラスチックフィルム基材層1と無機酸化物蒸着薄膜層2との密着性をより高めるために添加されるもので、主として架橋剤もしくは硬化剤として作用する。このような作用をなすイソシアネート化合物としては、芳香族系のトリレンジイソシアネート(TDI)やジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)、脂肪族系のキシレンジイソシアネート(XDI)やヘキサレンジイソシアネート(HMDI)、イソホロンジイソシアネート(IPDI)等のモノマー類や、これらの重合体、誘導体が好ましく用いられる。これらは単独であるいは2種以上を混合して用いることができる。   The isocyanate compound reacts with the acrylic polyol and is added to further enhance the adhesion between the plastic film substrate layer 1 and the inorganic oxide vapor-deposited thin film layer 2 by a urethane bond formed at that time. Acts as an agent or curing agent. Examples of the isocyanate compound having such an action include aromatic tolylene diisocyanate (TDI), diphenylmethane diisocyanate (MDI), aliphatic xylene diisocyanate (XDI), hexadiene isocyanate (HMDI), and isophorone diisocyanate (IPDI). Monomers such as these and polymers and derivatives thereof are preferably used. These can be used alone or in admixture of two or more.

これらのアクリルポリオールとイソシアネート化合物の配合比は特に制限されるのもではないが、イソシアネート化合物が少なすぎると硬化不良になる場合があり、またそれが多すぎるとブロッキング等が発生することがあるので、アクリルポリオールとインソシアネート化合物の配合比としては、イソシアネート化合物由来のイソシアネート基がアクリルポリオール由来の水酸基の50倍以下であることが好ましい。特に好ましいのはイソシアネート基と水酸基が等量で配合される場合である。混合方法は、周知の方法が使用可能で特に限定されるものではない。   The blending ratio of these acrylic polyol and isocyanate compound is not particularly limited, but if the isocyanate compound is too small, curing may be poor, and if it is too much, blocking or the like may occur. As the blending ratio of the acrylic polyol and the insocyanate compound, the isocyanate group derived from the isocyanate compound is preferably 50 times or less of the hydroxyl group derived from the acrylic polyol. Particularly preferred is a case where an isocyanate group and a hydroxyl group are blended in equal amounts. As the mixing method, a known method can be used and is not particularly limited.

また、シランカップリング剤は、アクリルポリオールの水酸基またはイソシアネート化合物のイソシアネート基と反応する官能基を持つものが好ましい。例えばγ−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、γ−イソシアネートプロピルトリメトキシシランのようなイソシアネート基を含むもの、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、N―β―(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ―フェニルアミノプロピルトリメトキシシランのようなアミノ基を含むもの、さらにγ―グリシドオキシプロピルトリメトキシシランやβ―(3,4―エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等のようにエポキシ基を含むもの等で、これらを単独であるいは2種以上を混合して用いることができる。   The silane coupling agent preferably has a functional group that reacts with the hydroxyl group of the acrylic polyol or the isocyanate group of the isocyanate compound. For example, those containing an isocyanate group such as γ-isocyanatopropyltriethoxysilane, γ-isocyanatopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl)- Those containing amino groups such as γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-phenylaminopropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane Such as those containing an epoxy group, etc., and these can be used alone or in admixture of two or more.

これらのシランカップリング剤は、一端に存在する有機官能基がアクリルポリオールとイソシアネート化合物からなる複合物中で相互作用をなし、強固な被膜を形成する。また、アクリルポリオールの水酸基またはイソシアネート化合物のイソシアネート基と反応する官能基を含むシランカップリング剤は、共有結合を形成し、さらに強固な被膜を形成し、他端のアルコキシ基等の加水分解によって生成したシラノール基が無機酸化物中の金属や無機酸化物の表面の活性の高い水酸基等と強い相互作用を示し、無機酸化物蒸着薄膜層2との間で優れた密着性を発現することになる。よって上記シランカップリング剤を金属アルコキシドと共に加水分解反応させたものを用いても構わない。また上記シランカップリング剤のアルコキシ基がクロロ基、アセトキシ基等になっていても何ら問題はなく、これらのアルコキシ基、クロロ基、アセトキシ基等が加水分解し、シラノール基を形成するものであれば用いることもできる。   In these silane coupling agents, an organic functional group present at one end interacts in a composite composed of an acrylic polyol and an isocyanate compound to form a strong film. Also, the silane coupling agent containing a functional group that reacts with the hydroxyl group of acrylic polyol or the isocyanate group of the isocyanate compound forms a covalent bond, forms a stronger film, and is generated by hydrolysis of the alkoxy group at the other end. The silanol group has a strong interaction with the metal in the inorganic oxide and the highly active hydroxyl group on the surface of the inorganic oxide, and exhibits excellent adhesion with the inorganic oxide deposited thin film layer 2. . Therefore, you may use what hydrolyzed the said silane coupling agent with the metal alkoxide. Moreover, there is no problem even if the alkoxy group of the silane coupling agent is a chloro group, an acetoxy group or the like, and these alkoxy groups, chloro groups, acetoxy groups, etc. are hydrolyzed to form silanol groups. Can also be used.

アクリルポリオールとシランカップリング剤の配合比は、重量比で1/1から100/1であることが好ましく、より好ましくは2/1から50/1の範囲である。   The mixing ratio of the acrylic polyol and the silane coupling agent is preferably from 1/1 to 100/1, more preferably from 2/1 to 50/1, by weight.

また、このような構成になるプライマー層24の厚さは、均一に塗膜が形成することができる程度のものであれば特に限定しないが、一般的には乾燥膜厚で0.01〜2μmの範囲であることが好ましい。厚さが0.01μmより薄いと均一な塗膜が得られにくく、密着性が低下する場合がある。また厚さが2μmを越える場合には塗膜にフレキシビリティを保持させることが難しく、外部から力が加わると塗膜に亀裂を生じる恐れがあるため好ましくない。   Further, the thickness of the primer layer 24 having such a structure is not particularly limited as long as it can form a uniform coating film, but generally 0.01 to 2 μm in dry film thickness. It is preferable to be in the range. When the thickness is less than 0.01 μm, it is difficult to obtain a uniform coating film, and the adhesion may be lowered. On the other hand, if the thickness exceeds 2 μm, it is difficult to maintain flexibility in the coating film, and if an external force is applied, the coating film may be cracked, which is not preferable.

プライマー層24の形成方法としては、例えばオフセット印刷法、グラビア印刷法、シルクスクリーン印刷法等の周知の印刷方式や、ロールコート、ナイフエッジコート、グラビアコート等の周知の塗布方式を挙げることができる。乾燥条件については、一般的に使用される条件が採用される。   Examples of the method for forming the primer layer 24 include known printing methods such as offset printing, gravure printing, and silk screen printing, and known coating methods such as roll coating, knife edge coating, and gravure coating. . As drying conditions, generally used conditions are employed.

一方、密着性向上のために設けられている上述のプラズマ前処理層4とプライマー層24のそれぞれの層の上に設けられているのが無機酸化物蒸着薄膜層2である(図1、図2参照)。以下、この無機酸化物蒸着薄膜層2について詳しく説明する。   On the other hand, the inorganic oxide vapor-deposited thin film layer 2 is provided on each of the plasma pretreatment layer 4 and the primer layer 24 provided for improving adhesion (FIGS. 1 and 2). 2). Hereinafter, the inorganic oxide deposited thin film layer 2 will be described in detail.

無機酸化物蒸着薄膜層2は、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化錫、酸化マグネシウム、或いはそれらの混合物等の無機酸化物からなる蒸着薄膜であり、透明性を有しかつ酸素、水蒸気等に対するガスバリア性を有する層である。加熱殺菌処理や加熱調理等の各種加熱処理に対する加熱処理耐性の発現を配慮すると、これらの中では、特に酸化アルミニウムまたは酸化珪素からなる薄膜層が好ましい。但し、本発明における無機酸化物蒸着薄膜層の構成物質は、上述した無機酸化物に限定されるものでは無く、上記条件に適合する材料であれば他の無機酸化物を用いることも可能である。   The inorganic oxide vapor-deposited thin film layer 2 is a vapor-deposited thin film made of an inorganic oxide such as aluminum oxide, silicon oxide, tin oxide, magnesium oxide, or a mixture thereof, and has transparency and gas barrier properties against oxygen, water vapor, etc. It is a layer which has. Considering expression of heat treatment resistance to various heat treatments such as heat sterilization treatment and cooking, among these, a thin film layer made of aluminum oxide or silicon oxide is particularly preferable. However, the constituent material of the inorganic oxide vapor-deposited thin film layer in the present invention is not limited to the above-mentioned inorganic oxide, and other inorganic oxides can be used as long as the material meets the above conditions. .

無機酸化物蒸着薄膜層2の厚さは、用いられる無機酸化物の種類や構成により最適条件が異なるが、一般的には5〜300nmの範囲が望ましく、その値はこの範囲内で適宜選択され得る。ただし厚さが5nm未満であると均一な層が得られ難いことや厚さが十分ではないことがあり、ガスバリア機能を十分に果たすことができない場合がある。また厚さが300nmを越える場合はフレキシビリティを保持させることが難しく、成膜後に折り曲げ、引っ張り等の力が加わると亀裂を生じる恐れがあるので問題がある。より好ましくは、厚さが10〜150nmの範囲にあることである。   The optimum thickness of the inorganic oxide vapor-deposited thin film layer 2 varies depending on the type and configuration of the inorganic oxide used, but generally the range of 5 to 300 nm is desirable, and the value is appropriately selected within this range. obtain. However, if the thickness is less than 5 nm, it may be difficult to obtain a uniform layer or the thickness may not be sufficient, and the gas barrier function may not be sufficiently achieved. Further, when the thickness exceeds 300 nm, it is difficult to maintain flexibility, and there is a problem because cracks may occur when a force such as bending or pulling is applied after film formation. More preferably, the thickness is in the range of 10 to 150 nm.

無機酸化物蒸着薄膜層2をプラズマ前処理層4やプライマー層24の上に形成する方法としては種々在るが、一般的には通常の真空蒸着法を採用することができる。また、その他の薄膜形成方法であるスパッタリング法やイオンプレーティング法、プラズマ気相成長法(CVD)等を用いることも可能である。但し生産性を考慮すれば、現時点では真空蒸着法が最も優れている。また、真空蒸着法の加熱手段としては電子線加熱方式や抵抗加熱方式、誘導加熱方式のいずれかの方式を用いることが好ましいが、蒸着材料の選択性の幅広さを考慮すると電子線加熱方式を用いることがより好ましい。また、プラズマ前処理層4やプライマー層24との密着性や薄膜の緻密性のさらなる向上を図るために、プラズマアシスト法やイオンビームアシスト法を用いてこの層を形成することも可能である。また、透明性を上げるため、酸素等の各種ガスを吹き込んで行う反応蒸着を用いても一向に構わない。   There are various methods for forming the inorganic oxide vapor-deposited thin film layer 2 on the plasma pretreatment layer 4 and the primer layer 24, but generally a normal vacuum vapor deposition method can be employed. In addition, other thin film forming methods such as sputtering, ion plating, and plasma vapor deposition (CVD) can also be used. However, considering productivity, the vacuum deposition method is the best at present. In addition, it is preferable to use any one of an electron beam heating method, a resistance heating method, and an induction heating method as the heating means of the vacuum evaporation method, but considering the wide range of selectivity of the evaporation material, the electron beam heating method is used. More preferably, it is used. Further, in order to further improve the adhesion to the plasma pretreatment layer 4 and the primer layer 24 and the denseness of the thin film, this layer can be formed by using a plasma assist method or an ion beam assist method. In order to increase transparency, it is possible to use reactive vapor deposition performed by blowing various gases such as oxygen.

次に、上述の無機酸化物蒸着層2上に設けるガスバリア性複合被膜層3について説明する。このガスバリア性複合被膜層3はガスバリア性を持った被膜層であり、無機酸化物蒸着薄膜層2との協働により優れたガスバリア性を発現させるために設けられる層であって、水溶性高分子と1種以上の金属アルコキシドまたはその加水分解物を含む水溶液或いは水/アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤を塗布し加熱乾燥して形成される。   Next, the gas barrier composite coating layer 3 provided on the inorganic oxide vapor deposition layer 2 will be described. The gas barrier composite coating layer 3 is a coating layer having a gas barrier property, and is a layer provided for developing an excellent gas barrier property in cooperation with the inorganic oxide vapor-deposited thin film layer 2. And a coating agent mainly comprising an aqueous solution or a water / alcohol mixed solution containing at least one metal alkoxide or a hydrolyzate thereof, and dried by heating.

より具体的には、水溶性高分子を水系(水或いは水/アルコール混合)溶媒で溶解させたものに金属アルコキシドを直接、或いは予め加水分解させたものを混合してコーティング剤とし、これを無機酸化物蒸着薄膜層2上に塗布した後、加熱乾燥して形成される。以下、コーティング剤に含まれる各成分についてさらに詳細に説明する。   More specifically, a coating agent is prepared by mixing a water-soluble polymer dissolved in an aqueous (water or water / alcohol mixed) solvent with a metal alkoxide directly or previously hydrolyzed to form a coating agent. After coating on the oxide vapor-deposited thin film layer 2, it is formed by heating and drying. Hereinafter, each component contained in the coating agent will be described in more detail.

コーティング剤を構成する水溶性高分子としては、ポリビニルアルコール、ポリ(ビニルアルコール−o−エチレン)、ポリビニルピロリドン、デンプン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等が挙げられる。特にポリビニルアルコール(以下、PVAと略す)は優れたガスバリア性が発現できるようになるので好ましい。ここでいうPVAは、一般にポリ酢酸ビニルをけん化して得られるものである。PVAとしては例えば、酢酸基が数十%残存している、いわゆる部分けん化PVAから酢酸基が数%しか残存していない完全PVA等を用いることができる。   Examples of the water-soluble polymer constituting the coating agent include polyvinyl alcohol, poly (vinyl alcohol-o-ethylene), polyvinyl pyrrolidone, starch, methyl cellulose, carboxymethyl cellulose, sodium alginate and the like. In particular, polyvinyl alcohol (hereinafter abbreviated as PVA) is preferable because excellent gas barrier properties can be expressed. PVA here is generally obtained by saponifying polyvinyl acetate. As PVA, for example, complete PVA in which only a few percent of acetic acid groups remain from so-called partially saponified PVA in which several tens percent of acetic acid groups remain can be used.

また、金属アルコキシドは、一般式、M(OR)n(M:Si、Ti、Al、Zr等の金属、R:CH3、C25 等のアルキル基)で表される化合物であり、具体的にはテトラエトキシシラン〔Si(OC254〕、トリイソプロポキシアルミニウム〔Al(O−2’−C373〕等が挙げられる。中でもテトラエトキシシラン、トリイソプロポキシアルミニウムは、加水分解後に水系の溶媒中において比較的安定であるので好ましい。 The metal alkoxide is a compound represented by the general formula, M (OR) n (M: metal such as Si, Ti, Al, Zr, R: alkyl group such as CH 3 , C 2 H 5, etc.) Specifically, tetraethoxysilane [Si (OC 2 H 5 ) 4 ], triisopropoxy aluminum [Al (O-2′-C 3 H 7 ) 3 ] and the like can be mentioned. Among these, tetraethoxysilane and triisopropoxyaluminum are preferable because they are relatively stable in an aqueous solvent after hydrolysis.

コーティング剤中には、ガスバリア性を損なわない範囲で、さらにイソシアネート化合物、シランカップリング剤、或いは分散剤、安定化剤、粘度調整剤、着色剤等の公知の添加剤を必要に応じて加えることも可能である。   In the coating agent, a known additive such as an isocyanate compound, a silane coupling agent, a dispersant, a stabilizer, a viscosity modifier, a colorant, or the like is added as necessary, as long as the gas barrier property is not impaired. Is also possible.

このようなコーティング剤を用いてガスバリア性複合被膜層3を形成するための方法と
しては、ディッピング法、ロールコーティング法、スクリーン印刷法、スプレー法、グラビア印刷法等の従来公知の方法を用いることが可能である。
As a method for forming the gas barrier composite coating layer 3 using such a coating agent, a conventionally known method such as a dipping method, a roll coating method, a screen printing method, a spray method, or a gravure printing method may be used. Is possible.

ガスバリア性複合被膜層3の厚さは、コーティング剤の種類や加工機の種類、加工条件の違い等によっ最適条件が異なり、特に限定されるものではない。但し、乾燥後の厚さが0.01μm以下の場合は、均一な被膜が得られず、十分なガスバリア性を得られない場合があるので好ましくない。また厚さが50μmを超える場合は被膜にクラックが生じ易くなるため問題となる場合がある。従って、厚さは0.01〜50μm、より好ましくは0.1〜10μmの範囲であればよい。   The thickness of the gas barrier composite coating layer 3 is not particularly limited, and the optimum condition varies depending on the type of coating agent, the type of processing machine, the difference in processing conditions, and the like. However, when the thickness after drying is 0.01 μm or less, a uniform film cannot be obtained and sufficient gas barrier properties may not be obtained. On the other hand, if the thickness exceeds 50 μm, cracks are likely to occur in the coating, which may be a problem. Therefore, the thickness may be in the range of 0.01 to 50 μm, more preferably 0.1 to 10 μm.

本発明の加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体は、上述したガスバリア性複合被膜層3の上に、二液硬化型ポリウレタン系接着剤からなり、厚さが1.5〜4.5μmの範囲にある接着剤層6を介して機能性プラスチックフィルム層7がさらに積層され、一体化されている。   The gas barrier film laminate having heat treatment resistance according to the present invention comprises a two-component curable polyurethane adhesive on the gas barrier composite coating layer 3 described above, and has a thickness of 1.5 to 4.5 μm. The functional plastic film layer 7 is further laminated and integrated through the adhesive layer 6 in the above.

この機能性プラスチックフィルム層7は、本発明の加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体に包装材料等として要求される諸機能を付与するために積層されるプラスチック材料からなる層であって、所謂介在フィルムやシーラント層等である。   The functional plastic film layer 7 is a layer made of a plastic material that is laminated to give various functions required as a packaging material or the like to the gas barrier film laminate having heat treatment resistance according to the present invention. An intervening film or a sealant layer.

介在フィルムは、袋状包装材料とした時の破袋強度や突き刺し強度を高めるために設けられるもので、一般的には機械強度及び熱安定性の面から二軸延伸ナイロンフィルム、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、二軸延伸ポリプロピレンフィルムの内から選ばれる。厚さは、材質や要求品質に応じて決められるが、一般的には10〜30μmの範囲である。   The intervening film is provided to increase the bag breaking strength and piercing strength when used as a bag-like packaging material, and is generally a biaxially stretched nylon film or a biaxially stretched polyethylene in terms of mechanical strength and thermal stability. It is selected from terephthalate films and biaxially oriented polypropylene films. The thickness is determined according to the material and required quality, but is generally in the range of 10 to 30 μm.

さらにシーラント層は袋状包装体等を作製する際に接着層として機能するように設けられるものである。具体的には、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸エステル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体及びそれらの金属架橋物等の樹脂により構成される。厚さは目的に応じて決められるが、一般的には15〜200μmの範囲である。   Further, the sealant layer is provided so as to function as an adhesive layer when a bag-like package or the like is produced. Specifically, polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid ester copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-acrylic acid ester copolymer And a resin such as a metal cross-linked product thereof. The thickness is determined according to the purpose, but is generally in the range of 15 to 200 μm.

接着剤層6はこれらの役目を担う機能性プラスチックフィルム層7をガスバリア性被膜層3上に積層、一体化させると共に、本発明の加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体に対して加熱殺菌や加熱調理等の加熱処理が施されたとしても加熱処理前に有していた当初のガスバリア性が劣化し難いようにするために設けられている層である。   The adhesive layer 6 is formed by laminating and integrating the functional plastic film layer 7 having these functions on the gas barrier coating layer 3, and heat-sterilizing the gas barrier film laminate having the heat treatment resistance of the present invention. Even if heat treatment such as heat cooking is performed, this layer is provided in order to prevent the initial gas barrier property that was possessed before the heat treatment from being easily deteriorated.

一般的に、前記したような構成で、ガスバリア性の発現を担う無機酸化物蒸着薄膜層とガスバリア性複合被膜層とが積層体の一部に挟まれて積層されている積層体においては、積層体に加わった熱による膨張に基づく変形に対して硬くて脆いこれらの層が追随できず、そこにクラックや剥離の発生が危惧される。これに対して、本発明の加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体は、その中程に硬くて脆い性質の無機酸化物蒸着薄膜層とガスバリア性複合被膜層を挟持して有するものの、二液硬化型ポリウレタン系接着剤層からなり、厚さが1.5〜4.5μmの範囲にある接着剤層を介して上記機能性プラスチックフィルム層6が積層、一体化されているので、積層体の変形時に加わる種々の力に対して接着剤層が緩衝層となって働き、結果として無機酸化物蒸着薄膜層やガスバリア性複合被膜層にクラックや剥離が生じにくくなり、加熱処理がなされたとしてもガスバリア性の劣化がおきにくくなる。   In general, in a laminate in which the inorganic oxide vapor-deposited thin film layer and the gas barrier composite coating layer responsible for the development of gas barrier properties are sandwiched and laminated between a part of the laminate in the configuration as described above, These layers, which are hard and brittle, cannot follow the deformation based on the expansion due to the heat applied to the body, and there is a risk of the occurrence of cracks and peeling. On the other hand, the gas barrier film laminate having heat treatment resistance of the present invention has an inorganic oxide vapor-deposited thin film layer and a gas barrier composite coating layer sandwiched between the hard and brittle properties in the middle, Since the functional plastic film layer 6 is laminated and integrated through an adhesive layer having a thickness of 1.5 to 4.5 μm, which is composed of a curable polyurethane adhesive layer, Even if the adhesive layer works as a buffer layer against various forces applied during deformation, as a result, cracking and peeling are unlikely to occur in the inorganic oxide vapor-deposited thin film layer and gas barrier composite coating layer, and heat treatment is performed. Deterioration of gas barrier properties is difficult to occur.

因みに、種々ある接着剤の中から二液硬化型ポリウレタン系接着剤を選択したのは、こ
の接着剤は耐熱性を有しており、これにより形成された接着剤層に対して加熱処理が行われたとしても密着性が低下し難くなるからであり、このような作用、効果はこれ以外の接着剤では達成できない。また、その厚さが1.5μm未満であると、ガスバリア性複合被膜層3上に均一な層を形成することが困難であるだけでなく、上記したような働きが期待できなくなると共に、ガスバリア劣化やデラミネーションを引き起こしてしまう。また、厚さが4.5μmを超えると、加熱処理時の熱による接着剤層の伸縮による変形も大きくなり、これらの変形に無機酸化物蒸着薄膜層2とガスバリア性複合被膜層3が追随できなくなってしまい、クラックや剥離の発生がし易くなってしまう。
Incidentally, the two-component curable polyurethane adhesive was selected from various adhesives because this adhesive has heat resistance, and the adhesive layer formed thereby is subjected to heat treatment. This is because even if it is broken, the adhesiveness is hardly lowered, and such actions and effects cannot be achieved by other adhesives. Further, if the thickness is less than 1.5 μm, not only is it difficult to form a uniform layer on the gas barrier composite coating layer 3, but the above-mentioned function cannot be expected, and the gas barrier is deteriorated. And cause delamination. Moreover, when the thickness exceeds 4.5 μm, deformation due to expansion and contraction of the adhesive layer due to heat during heat treatment increases, and the inorganic oxide vapor-deposited thin film layer 2 and the gas barrier composite coating layer 3 can follow these deformations. It will be lost, and cracks and peeling will easily occur.

このような作用をなす二液硬化型ポリウレタン系接着剤層6は、高分子末端に水酸基を有する主剤と、イソシアネート基を有する硬化剤(ポリイソシアネート)からなり、水酸基とイソシアネート基の反応により、ウレタン結合を形成して硬化してなる層である。   The two-component curable polyurethane adhesive layer 6 having such an action is composed of a main component having a hydroxyl group at the polymer terminal and a curing agent having an isocyanate group (polyisocyanate), and urethane is reacted by the reaction between the hydroxyl group and the isocyanate group. It is a layer formed by forming a bond and curing.

高分子末端に水酸基を有する主剤としては、ポリオールとジカルボン酸からなる末端水酸基のポリエステルポリオール、ポリエステルポリオールとジイソシアネートより得られるポリエステルポリウレタンポリオール、ポリエーテルポリオールとジイソシアネートから得られるポリエーテルポリウレタンポリオール、ポリエステルポリオールとポリエーテルポリオールの混合物とジイソシアネートから得られるポリエステルポリエーテルポリウレタンポリオール等が挙げられ、これらは何れも2官能または3官能のポリオールである。これらの中でも、加熱処理耐性の付与が効果的な主剤としてはポリエステル系のものが好ましい。また、これらは酸無水物変性されていても構わない。   As the main agent having a hydroxyl group at the polymer terminal, a polyester polyol having a terminal hydroxyl group comprising a polyol and a dicarboxylic acid, a polyester polyurethane polyol obtained from a polyester polyol and a diisocyanate, a polyether polyurethane polyol obtained from a polyether polyol and a diisocyanate, and a polyester polyol Examples thereof include a polyester polyether polyurethane polyol obtained from a mixture of polyether polyol and diisocyanate, all of which are bifunctional or trifunctional polyols. Among these, a polyester-based material is preferable as the main agent effective in imparting heat treatment resistance. These may be acid anhydride-modified.

一方、硬化剤としては、トリメメチロールプロパンにジイソシアネートを付加して得られるアダクト体、ジイソシアネートに水を反応させて得られるビュレット体、ジイソシアネートの重合体で得られるイソシアヌレート等の結合形成を有する多官能ポリイソシアネートを、単独もしくは2種類以上混合したものが使用できる。また、ジイソシアネートとしては、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートのような芳香族ジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネート、2,2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネートのような脂肪族ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添化4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート、イソプロピリデンジシクロヘキシル−4,4’−ジイソシアネートのような脂環族ジイソシアネート等が挙げられる。   On the other hand, as a curing agent, an adduct obtained by adding diisocyanate to trimethylolpropane, a burette obtained by reacting water with diisocyanate, a polyfunctional compound having bond formation such as isocyanurate obtained by a polymer of diisocyanate. Polyisocyanates can be used alone or in combination of two or more. Diisocyanates include diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, tetramethylxylylene diisocyanate, aromatic diisocyanate such as tolylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, lysine diisocyanate. And alicyclic diisocyanates such as hydrogenated 4,4′-diphenylmethane diisocyanate, methylcyclohexylene diisocyanate, isopropylidene dicyclohexyl-4,4′-diisocyanate, and the like.

主剤と硬化剤の配合比率は、主剤の水酸基/硬化剤のイソシアネート基の当量比が1/1〜1/3の範囲になるように加えればよい。   What is necessary is just to add the compounding ratio of a main ingredient and a hardening | curing agent so that the equivalent ratio of the hydroxyl group of a main ingredient / isocyanate group of a hardening | curing agent may become the range of 1 / 1-1 / 3.

また、接着剤中にシランカップリング剤、チタネートカップリング剤、リン酸類およびその誘導体化合物、多塩基酸無水物等のような添加剤を加えることも可能である。   It is also possible to add additives such as silane coupling agents, titanate coupling agents, phosphoric acids and derivatives thereof, polybasic acid anhydrides and the like into the adhesive.

以下、本発明の実施例を具体的に述べる。なお、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
<プライマー溶液の調整>
まず、希釈溶媒(酢酸エチル)中に、γ−イソシアネートプロピルトリメチルシランとアクリルポリオールを1対10重量部の割合で混合し、攪拌した。次いでイソシアネート化合物としてキシリレンジイソシアネートとイソホロンジイソシアネートの7対3混合物を前記アクリルポリオールの水酸基に対しこのイソシアネート化合物のイソシアネート基が等量となるように加えた。そして、この混合溶液を添加化合物の総濃度として2重量%となるように酢酸エチルで希釈し、プライマー溶液とした。
<ガスバリア性被膜溶液の調整>
下記に示す組成のA液とB液を6/4の配合比(wt%)で混合し、ガスバリア性被膜溶液とした。
Examples of the present invention will be specifically described below. The present invention is not limited to these examples.
<Preparation of primer solution>
First, γ-isocyanatopropyltrimethylsilane and acrylic polyol were mixed at a ratio of 1 to 10 parts by weight in a diluting solvent (ethyl acetate) and stirred. Next, a 7 to 3 mixture of xylylene diisocyanate and isophorone diisocyanate was added as an isocyanate compound so that the isocyanate groups of this isocyanate compound were equivalent to the hydroxyl groups of the acrylic polyol. Then, this mixed solution was diluted with ethyl acetate so that the total concentration of the added compounds was 2% by weight to obtain a primer solution.
<Preparation of gas barrier coating solution>
Liquid A and liquid B having the composition shown below were mixed at a blending ratio (wt%) of 6/4 to obtain a gas barrier coating solution.

<A液>
テトラエトキシシラン10.4gに塩酸(0.1N)89.6gを加え、30分間撹拌して加水分解させた固形分3wt%(SiO2換算)の加水分解溶液。
<Liquid A>
Hydrolysis solution having a solid content of 3 wt% (in terms of SiO 2 ) obtained by adding 89.6 g of hydrochloric acid (0.1N) to 10.4 g of tetraethoxysilane and stirring for 30 minutes for hydrolysis.

<B液>
ポリビニルアルコールの3wt%水/イソプロピルアルコール溶液(水:イソプロピルアルコール重量比で90:10)。
<Liquid B>
3 wt% water / isopropyl alcohol solution of polyvinyl alcohol (water: isopropyl alcohol weight ratio 90:10).

次に、プラスチックフィルム基材層として、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用い、その片面に、印加電力を120W、処理時間を0.1sec、処理ガスをアルゴン、処理ユニット圧力を2.0Paにそれぞれ設定し、リアクティブイオンエッチング(RIE)を利用したプラズマ処理を施し、プラズマ前処理層を設けた。この時、電極には周波数13.56MHzの高周波電源を用いた。   Next, a 12 μm thick biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film is used as the plastic film base layer, and the applied power is 120 W on one side, the processing time is 0.1 sec, the processing gas is argon, and the processing unit pressure is Was set to 2.0 Pa, and plasma treatment using reactive ion etching (RIE) was performed to provide a plasma pretreatment layer. At this time, a high frequency power source having a frequency of 13.56 MHz was used for the electrodes.

続いて、電子線加熱方式により金属アルミニウムを蒸発させ、そこに酸素ガスを導入し、前記工程で得られたプラズマ前処理層上に厚さが15nmの酸化アルミニウムを真空蒸着により蒸着し、無機酸化物蒸着薄膜層を形成した。次に、上述したガスバリア性被膜溶液をグラビアコート法により無機酸化物蒸着薄膜層上に塗布し、乾燥させ、厚さが0.4μmのガスバリア性複合被膜層を形成し、積層フィルムを得た。この積層フィルムをガスバリア性フィルムAとした。   Subsequently, metal aluminum is evaporated by an electron beam heating method, oxygen gas is introduced therein, aluminum oxide having a thickness of 15 nm is deposited on the plasma pretreatment layer obtained in the above step by vacuum deposition, and inorganic oxidation is performed. A physical vapor deposition thin film layer was formed. Next, the gas barrier coating solution described above was applied onto the inorganic oxide vapor-deposited thin film layer by a gravure coating method and dried to form a gas barrier composite coating layer having a thickness of 0.4 μm to obtain a laminated film. This laminated film was designated as gas barrier film A.

一方、プラスチックフィルム基材層として、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用い、その片面に、上述した組成のプライマー溶液をグラビアコート法により塗布し、乾燥させ、厚さが0.1μmのプライマー層を形成した。そして、このプライマー層の上に、前記ガスバリアフィルムAと同様の方法にて無機酸化物蒸着薄膜層およびガスバリア性複合被膜層を形成し、これをガスバリア性フィルムBとした。   On the other hand, a biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 12 μm is used as a plastic film substrate layer, and a primer solution having the above-described composition is applied to one side thereof by a gravure coating method and dried to have a thickness of 0 A 1 μm primer layer was formed. Then, an inorganic oxide vapor-deposited thin film layer and a gas barrier composite coating layer were formed on the primer layer by the same method as the gas barrier film A, and this was used as a gas barrier film B.

他方、プラスチックフィルム基材層として、厚さ12μmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを用い、その片面に、電子線加熱方式により金属アルミニウムを蒸発させてそこに酸素ガスを導入し、厚さが15nmの酸化アルミニウムを真空蒸着により蒸着し、無機酸化物蒸着薄膜層を形成した。次いで上述したガスバリア性被膜溶液をグラビアコート法により無機酸化物蒸着薄膜層上に塗布し、乾燥させて、厚さが0.4μmのガスバリア性複合被膜層を形成して積層フィルムを得た。この積層フィルムをガスバリア性フィルムCとした。
<二液硬化型ポリウレタン系接着剤の作成>
主剤としてポリエステルポリウレタンポリオールを、硬化剤としてイソホロンジイソシアネート(IPDI)のアダクト体を用い、それぞれの官能基比で1/1となるように混合し、さらにそれが固形分率で30wt%となるように酢酸エチルで希釈し、二液硬化型ポリウレタン系接着剤とした。
On the other hand, a biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 12 μm is used as a plastic film substrate layer, and metal aluminum is evaporated on one side thereof by an electron beam heating method, and oxygen gas is introduced thereinto. Was deposited by vacuum deposition to form an inorganic oxide deposited thin film layer. Subsequently, the gas barrier coating solution described above was applied onto the inorganic oxide vapor-deposited thin film layer by a gravure coating method and dried to form a gas barrier composite coating layer having a thickness of 0.4 μm to obtain a laminated film. This laminated film was designated as gas barrier film C.
<Creation of two-component curable polyurethane adhesive>
Polyester polyurethane polyol is used as the main agent and isophorone diisocyanate (IPDI) adduct is used as the curing agent, and the mixture is mixed so that each functional group ratio is 1/1, so that the solid content is 30 wt%. It was diluted with ethyl acetate to obtain a two-component curable polyurethane adhesive.

上記ガスバリア性フィルムAのガスバリア性複合被膜層の上に、延伸ナイロンフィルム(厚さ15μm)と未延伸ポリプロピレンフィルム(厚さ70μm)を上記組成の二液硬化型ポリウレタン系接着剤からなる厚さが2.5μmの接着剤層を介して順次ドライラミネート法により順次積層させ、実施例1に係る加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体を得た。   On the gas barrier composite coating layer of the gas barrier film A, a stretched nylon film (thickness 15 μm) and an unstretched polypropylene film (thickness 70 μm) are made of a two-component curable polyurethane adhesive having the above composition. The gas barrier film laminate having heat treatment resistance according to Example 1 was obtained by sequentially laminating sequentially through a 2.5 μm adhesive layer by a dry laminating method.

上記ガスバリア性フィルムBのガスバリア性複合被膜層の上に、実施例1と同様の条件にて延伸ナイロンフィルム(厚さ15μm)と未延伸ポリプロピレンフィルム(厚さ70μm)を順次積層させ、参考のための実施例2に係る加熱処理耐性を有するガスバリア性フルム積層体を得た。
On the gas barrier composite coating layer of the gas barrier film B, a stretched nylon film (thickness 15 μm) and an unstretched polypropylene film (thickness 70 μm) are sequentially laminated under the same conditions as in Example 1 for reference. to obtain a gas barrier Furumu laminate having a heat treatment resistance according to the second embodiment.

上記ガスバリア性フィルムAのガスバリア性複合被膜層の上に、各接着剤層の厚さは1.5μmとし、その他は実施例1と同様の条件にて、実施例3に係る加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体を得た。   On the gas barrier composite coating layer of the gas barrier film A, the thickness of each adhesive layer is 1.5 μm, and the others have the heat treatment resistance according to Example 3 under the same conditions as in Example 1. A gas barrier film laminate was obtained.

上記ガスバリア性フィルムAのガスバリア性複合被膜層の上に、各接着剤層の厚さは3.0μmとし、その他は実施例1と同様の条件にて、実施例4に係る加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体を得た。   On the gas barrier composite coating layer of the gas barrier film A, each adhesive layer has a thickness of 3.0 μm, and the other conditions are the same as in Example 1 and have heat treatment resistance according to Example 4. A gas barrier film laminate was obtained.

上記ガスバリア性フィルムBのガスバリア性複合被膜層の上に、各接着剤層の厚さは3.0μmとし、その他は実施例1と同様の条件にて、参考のための実施例5に係る加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体を得た。 On the gas barrier composite coating layer of the gas barrier film B, the thickness of each adhesive layer is 3.0 μm, and the heating according to Example 5 for reference is performed under the same conditions as in Example 1. A gas barrier film laminate having processing resistance was obtained.

上記ガスバリア性フィルムAのガスバリア性複合被膜層の上に、各接着剤層の厚さは0.8μmとし、その他は実施例1と同様の条件にて、比較のための実施例6に係るガスバリア性フィルム積層体を得た。   On the gas barrier composite coating layer of the gas barrier film A, the thickness of each adhesive layer is 0.8 μm, and the other conditions are the same as in Example 1, and the gas barrier according to Example 6 for comparison is used. A conductive film laminate was obtained.

上記ガスバリア性フィルムBのガスバリア性複合被膜層の上に、各接着剤層の厚さは0.8μmとし、その他は実施例1と同様の条件にて、比較のための実施例7に係るガスバリア性フィルム積層体を得た。   On the gas barrier composite coating layer of the gas barrier film B, the thickness of each adhesive layer is 0.8 μm, and the other conditions are the same as in Example 1, and the gas barrier according to Example 7 for comparison is used. A conductive film laminate was obtained.

上記ガスバリア性フィルムAのガスバリア性複合被膜層の上に、各接着剤層の厚さは6.0μmとし、その他は実施例1と同様の条件にて、比較のための実施例8に係るガスバリア性フィルム積層体を得た。   On the gas barrier composite coating layer of the gas barrier film A, the thickness of each adhesive layer is 6.0 μm, and the other conditions are the same as in Example 1, and the gas barrier according to Example 8 for comparison is used. A conductive film laminate was obtained.

上記ガスバリア性フィルムBのガスバリア性複合被膜層の上に、各接着剤層の厚さは6.0μmとし、その他は実施例1と同様の条件にて、比較のための実施例9に係るガスバリア性フィルム積層体を得た。   On the gas barrier composite coating layer of the gas barrier film B, the thickness of each adhesive layer is 6.0 μm, and the other conditions are the same as in Example 1, and the gas barrier according to Example 9 for comparison is used. A conductive film laminate was obtained.

上記ガスバリア性フィルムCのガスバリア性複合被膜層の上に、各接着剤層の厚さは3.0μmとし、その他は実施例1と同様の条件にて、比較のための実施例10に係るガスバリア性フィルム積層体を得た。
<評価方法>
各実施例に係るガスバリア性フィルム積層体を用いて4辺をシール部とするパウチを作製し、内容物として水200gを充填した。その後、121℃−30分間のレトルト殺菌を行った。それと併せて、レトルト処理前後の酸素透過度(単位:cm3/m2/day、測
定条件:30℃−70%RH)を測定し、ガスバリア性の評価を行った。また、レトルト処理後のパウチの状態を目視により観察し、デラミネーション発生の有無を確認した。その結果を表1に示す。
On the gas barrier composite coating layer of the gas barrier film C, the thickness of each adhesive layer is 3.0 μm, and the other conditions are the same as in Example 1, and the gas barrier according to Example 10 for comparison is used. A conductive film laminate was obtained.
<Evaluation method>
Using the gas barrier film laminate according to each example, a pouch having four sides as seal portions was produced, and 200 g of water was filled as the contents. Thereafter, retort sterilization at 121 ° C. for 30 minutes was performed. In addition, the oxygen permeability before and after the retort treatment (unit: cm 3 / m 2 / day, measurement condition: 30 ° C.-70% RH) was measured to evaluate the gas barrier properties. In addition, the state of the pouch after the retort treatment was visually observed to confirm the occurrence of delamination. The results are shown in Table 1.

Figure 0004654662
Figure 0004654662

本発明の加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体の断面構成の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the cross-sectional structure of the gas-barrier film laminated body which has the heat processing tolerance of this invention. 本発明の加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体の断面構成の他の例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the other example of the cross-sectional structure of the gas-barrier film laminated body which has the heat processing tolerance of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・プラスチックフィルム基材層
2・・・無機酸化物蒸着薄膜層
3・・・ガスバリア性複合被膜層
4・・・プラズマ前処理層
24・・プライマー層
6・・・接着剤層
7・・・機能性プラスチックフィルム層
10、20・・・加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Plastic film base material layer 2 ... Inorganic oxide vapor deposition thin film layer 3 ... Gas barrier composite coating layer 4 ... Plasma pretreatment layer 24 ... Primer layer 6 Adhesive layer 7 ..Functional plastic film layers 10, 20 ... gas barrier film laminate having heat treatment resistance

Claims (4)

2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの少なくとも一方の面に、印加電力を120W、処理時間を0.1sec、処理ガスをアルゴン、圧力を2.0Paにそれぞれ設定したリアクティブイオンエッチング(RIE)を利用したプラズマ処理により形成されたプラズマ前処理層と無機酸化物蒸着層並びに水溶性高分子と1種以上の金属アルコキシドまたはその加水分解物を含む水溶液或いは水/アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤を塗布し加熱乾燥してなるガスバリア性複合被膜層とが順次設けられていると共に、ガスバリア性複合被膜層上には二液硬化型ポリウレタン系接着剤からなり厚さが1.5〜4.5μmの範囲にある接着剤層を介して機能性プラスチックフィルム層が積層・一体化されていることを特徴とする加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体を用いた包装体。 On at least one surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film, the applied power 120 W, 0.1 sec and the processing time, process gas using argon, a reactive ion etching using respectively set pressure to 2.0 Pa (RIE) Applying a coating agent mainly composed of an aqueous solution or water / alcohol mixed solution containing a plasma pretreatment layer formed by plasma treatment, an inorganic oxide vapor deposition layer, a water-soluble polymer and one or more metal alkoxides or hydrolysates thereof. And a gas barrier composite coating layer formed by heating and drying are sequentially provided, and the gas barrier composite coating layer is made of a two-component curable polyurethane adhesive and has a thickness of 1.5 to 4.5 μm. The functional plastic film layer is laminated and integrated through the adhesive layer in Package using the gas barrier film laminate having a heat treatment resistance. 前記無機酸化物蒸着薄膜層が、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグネシウム或いはそれらの混合物のいずれかからなることを特徴とする、請求項1記載の加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体を用いた包装体。   The gas barrier film laminate having heat treatment resistance according to claim 1, wherein the inorganic oxide vapor-deposited thin film layer is made of any one of aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, or a mixture thereof. Packaging body. 前記金属アルコキシドが、テトラエトキシシランまたはトリイソプロポキシアルミニウム、或いはそれらの混合物のいずれかであることを特徴とする、請求項1または2のいずれかに記載の加熱処理耐性を有するガスバリアフィルム積層体を用いた包装体。   3. The gas barrier film laminate having heat treatment resistance according to claim 1, wherein the metal alkoxide is either tetraethoxysilane, triisopropoxyaluminum, or a mixture thereof. Package used. 前記コーティング剤が、水溶性高分子成分としてポリビニルアルコールまたはポリ(ビニルアルコール−o−エチレン)、セルロース、デンプンの少なくとも1種類以上を含むことを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の加熱処理耐性を有するガスバリア性フィルム積層体を用いた包装体。   The said coating agent contains at least 1 or more types of polyvinyl alcohol or poly (vinyl alcohol-o-ethylene), a cellulose, and a starch as a water-soluble polymer component, The Claim 1 characterized by the above-mentioned. A package using a gas barrier film laminate having heat resistance to heat.
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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5103808B2 (en) * 2006-06-30 2012-12-19 凸版印刷株式会社 Laminated body
JP4905851B2 (en) * 2006-07-24 2012-03-28 凸版印刷株式会社 Method for producing vapor deposition film
JP5018310B2 (en) * 2007-07-25 2012-09-05 凸版印刷株式会社 Back protection sheet for solar cell module
JP2010006039A (en) 2007-09-05 2010-01-14 Fujifilm Corp Gas barrier film, and method for sealing display element using gas barrier film
JP2009113355A (en) * 2007-11-07 2009-05-28 Toppan Printing Co Ltd Barrier film
JP5365078B2 (en) * 2008-07-07 2013-12-11 凸版印刷株式会社 Gas barrier film
JP5612277B2 (en) * 2009-06-16 2014-10-22 リンテック株式会社 Gas barrier film and electronic device member
JP5957790B2 (en) * 2010-11-12 2016-07-27 凸版印刷株式会社 Method for producing transparent gas barrier laminate
JP6707806B2 (en) * 2014-09-11 2020-06-10 凸版印刷株式会社 Gas barrier laminate

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000263681A (en) * 1999-03-12 2000-09-26 Dainippon Printing Co Ltd Laminated material and packaging container using the same
JP2004160833A (en) * 2002-11-13 2004-06-10 Toppan Printing Co Ltd Gas barrier film laminate with heat treatment resistance
JP2004203023A (en) * 2002-12-10 2004-07-22 Toppan Printing Co Ltd High performance barrier film

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000263681A (en) * 1999-03-12 2000-09-26 Dainippon Printing Co Ltd Laminated material and packaging container using the same
JP2004160833A (en) * 2002-11-13 2004-06-10 Toppan Printing Co Ltd Gas barrier film laminate with heat treatment resistance
JP2004203023A (en) * 2002-12-10 2004-07-22 Toppan Printing Co Ltd High performance barrier film

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