JP4643828B2 - 光ファイバを試験するための電磁パルス列の生成 - Google Patents

Description

【０００１】
【技術の分野】
本発明は、電磁パルスを放出するエミッタに、光ファイバ部品を試験するシステムに、そしてそれらの部品を試験する方法に関する。
【０００２】
【発明の背景】
前記エミッタは、
少なくとも１つの電磁パルス、特に光パルスを発生する発生器と、
注入する目的で前記発生器により発生する電磁パルスを伝送することができる少なくとも１つの光ファイバと、を備える型式のエミッタであり、より詳細には、排他的ではないが、光ファイバ部品の特性パラメータ、特にファイバベース部品、ファイバベースリンクまたは光ファイバネットワークの特性パラメータ、特に損失を決定する試験システムに適応されることが可能である。
【０００３】
米国特許第５，２５１，００２号は、そのような試験システムであって、
光パルスを放出することができるかかる光エミッタすなわち光源と、
該光源によって放出され且つ光ファイバ部品によって伝送される光パルスの光学特性を測定することができる光受信機と、
試験すべき前記光ファイバ部品に対しおよび基準光ファイバ部品に対し前記光受信機によって生成された測定値を受取り、これらの測定値に基づいて、試験すべき前記光ファイバ部品の損失を決定する、データ収集、記憶および処理手段と、を備える試験システムを開示している。
【０００４】
既知の方法で、前記光源すなわち前記エミッタは、一定かつ一様の放出立体角及び照明面に関する放出状態を有する。
【０００５】
加えて、前記既知の試験システムにより、試験は、前記光源により放出された時に、使用される光ビームの定義された構成に対してのみ実行することが可能である。従って、この既知の試験システムは、前記光源によって放出される１つの定義されたパルスに関する損失のみを測定する方法を使用する。
【０００６】
しかしながら、実際には、光源によって生成される光ビームの構成は、常に、前記試験すべき光ファイバ部品に実際に使用されるものであるとは限らない。従って、この試験システムの信頼性は、不十分である。
【０００７】
信頼性を向上させるために、放出面の場合はコアの領域の０％〜１００％、そして放出立体角の場合は開口数の０％〜１００％変化する可能性がある上述した照明すなわち放出状態を、適切にサンプリングすることが必要である。通常遭遇する状況では、放出状態は、７０％〜１００％変化する可能性がある。
【０００８】
この目的で、多くて２％のサンプリング増分を提供することが勧められている。従って、これは、十分なサンプリングを得るために、少なくとも１５の異なる光源が使用され、それらの各々が適当な照明状態を有していることを想定している。
【０００９】
従って、この解決法は、特にコストが高く、実施時間が長くかつ処理が大量であるため、ほとんど満足のいくものではない。
【００１０】
本発明の目的は、これら欠点、特に光源の一定かつ一様の放出状態があることに関連する欠点を取除くことである。
【００１１】
【発明の概要】
本発明は、放出の幾何学的特性（放出立体角および発光領域）が可変である電磁パルスを放出することができる、電磁パルスを放出するエミッタに関する。
【００１２】
この目的のために、本発明によれば、電磁パルスを放出する前記エミッタは、
少なくとも１つの電磁パルスを発生させる発生器と、
放出する目的で該発生器によって発生された電磁パルスを伝送することができる少なくとも１つの光ファイバと、を備えており、更に少なくとも１つの光キャビティを含み、該光キャビティは、
前記光ファイバによって伝送される入射電磁パルスの経路に配置されており、
第１の部分反射ミラーを備える入力と第２の部分反射ミラーを備える出力とを有し、該第１および第２のミラーが、該光キャビティの出力において、１つの入射電磁パルスから、可変の幾何学的特性を有しかつ該入射電磁パルスに関連する放出電磁パルス列を生成するよう配置されている、という点で注目すべきである。
【００１３】
このため、前記光キャビティにより、放出パルス列は、前記第１および第２ミラーから可変数反射され、そのため該キャビティ内を可変距離進行するパルスからなる。しかしながら、上述した幾何学的特性が進行する距離によって既知の方法で変化するため、前記パルス列の種々のパルスは可変の幾何学的特性（放出立体角および発光領域）を有する。
【００１４】
従って、前記光キャビティの適切な特性、そして特に部分反射ミラーの反射／伝達率およびそれらの間の距離とを選択することにより、予め決定された放出特性を有する複数のパルスを形成することができる。
【００１５】
特に、前記エミッタが上述した型式の試験システムに適用されると、試験すべき部品によって伝送される可能性の高い光ビームの種々のあり得る構成を備えた特定のパルス列を形成することが可能である。
【００１６】
これにより、全体試験を実行するために複数の異なる光源を提供する必要が無くなるため、特に米国特許第５，２５１，００２号に述べられている既知の試験システムの上述した欠点を取除くことができる。
【００１７】
更に、有利には、前記第１および第２のミラーの少なくとも一方は、光ファイバの２つの部分に
第１の実施の形態では、対向する面によって直接、
第２の実施の形態では、関連する光結合手段により、連結されている。
【００１８】
この第２の実施の形態では、前記光結合手段または前記光結合手段の各々は、
第１の実施の形態では、光ファイバの前記２つの部分を光学的に連結する２つのレンズを備え、前記光結合手段に関連するミラーが該２つのレンズの間に配置されており、
第２の実施の形態では、１つの半波屈折率分布型レンズ（half-wave graded-index
lens）を具備し、前記ミラーが前記光結合手段の前記光キャビティの内側の面に配置されており、
第３の実施の形態では、光ファイバの前記２つの部分を光学的に連結する２つの４分の１波屈折率分布型レンズ（quarter-wave graded-index lens）を具備し、前記光結合手段に関連するミラーが該２つのレンズの間に配置されているのが好ましい。
【００１９】
更に、本発明によるエミッタは、好適には、前記発生器によって発生したパルスが発生器に戻ることを防止する手段を備えている。この目的のために、該手段は、好ましくは、前記第１のミラーに関連する光結合手段と協動する少なくとも１つのライトトラップを含む。
【００２０】
更に、前記発生器は、波長の異なる少なくとも２つのパルスを発生させることができ、それにより、特に試験システムに適用される場合に、例えば０．８５μｍおよび１．３μｍの波長で動作するビデオ通信リンクなど、幾つかの型式のリンクの複数の動作波長における損失を同時に測定することができるのが好ましい。
【００２１】
また、本発明は、上述した型式の試験システムに関連する。
【００２２】
本発明によれば、前記試験システムは、このシステムの光源が上述したような光パルスエミッタを備えているという点で注目すべきである。
【００２３】
上述した利点に加えて、本発明によるこの試験システムは、米国特許第５，２５１，００２号に述べられているものより長い動作寿命（または耐用年数）を有する。これは、電気光学スイッチを含むこの既知の米国特許のシステムが、比較的少ない数の用途のみを可能とし、加えて、環境条件、すなわち機械的可動部分を有していない本発明によるシステムでは当てはまらない何かに対し、影響を受け易いためである。
【００２４】
また、パルスエミッタの光ファイバは、概して、試験すべき光ファイバ部品の特性と同じ特性（コア直径および開口数）を有している。これにより、各連続パルス毎に低下する発光領域及び放出立体角（２つの幾何学的特性）を時間の経過により同じ方向に変化させることができる。
【００２５】
しかしながら、１つの特定の実施の形態において、電磁パルスエミッタは、前記幾何学的特性の１つが一定であり、他方が変化するように形成される。
【００２６】
この目的のために、本発明によれば、
一定の放出立体角を得るためには、試験すべき光ファイバ部品のコア直径と同じコア直径を有するが、開口数がより多い光ファイバが提供され、一定の発光領域を得るためには、試験すべき光ファイバ部品と同じ開口数を有するが、それより大きいコア直径を有する光ファイバが提供される。
【００２７】
更に、本発明はまた、電磁強度の減衰など、光ファイバ部品の少なくとも１つの特性パラメータの値を決定する試験方法に関し、この方法により、特に、米国特許第５，２５１，００２号に述べられている試験システムによって実現される既知の方法の上述した欠点を取除くことができる。
【００２８】
この既知の方法は、上述したように、１つの型式のパルスに対してのみ測定を行う。このため、複数の異なるパルスに対して情報が必要である場合、前記パルスの各々に対して前記既知の方法を使用することが必要である。更に、そのように取得された結果を適応させるかまたは比較することができるようにするために、これら異なる試験の各々に対し同じ動作状態を作り出す必要がある。これは、時間を浪費し、単調であり、誤りの原因になる。
【００２９】
これら欠点を取除くために、光ファイバ部品の少なくとも１つの特性パラメータの値を決定する本発明による前記方法であって、
ａ）少なくとも１つの電磁パルスが生成され、それが前記光ファイバ部品に注入され、
ｂ）前記光ファイバ部品によって伝送される前記電磁パルスに関連する測定が実行され、
ｃ）前記特性パラメータが少なくとも前記測定値から決定される
方法は、ステップａ）において、電磁パルス列が生成され、その電磁パルスの少なくとも一部が、少なくとも１つの光学的特性、特に発光領域または放出立体角などの放出幾何学的特性に対し、異なる値を有するという点と、ステップｃ）において、前記特性パラメータの値が前記電磁パルス列の前記異なる電磁パルスの各々に対して決定されるという点で、注目すべきである。
【００３０】
このように、本発明により、複数の異なるパルスに対する試験が、本方法の１つの実施態様において実行される。これは、多数の利点、および特に複数の異なるパルスに対して実行されなければならない場合の試験の長さおよびコストの低減と、正確性の向上という利点を有する。複数の異なる試験に対し同一の動作状態を再度作り出す必要がないためである。
【００３１】
好適には、前記パルス列を生成するために、
複数のパルスが１つの入射電磁パルスから形成され、
前記複数のパルスは、少なくとも１つの光ファイバにおいて異なる距離を進行するよう生成され、該複数のパルスは該光ファイバの出口で前記パルス列を形成する。
【００３２】
これは、好ましくは、上述したエミッタを使用することによりおよび本発明に従って実行される。
【００３３】
更に、前記特性パラメータは、有利には、前記光ファイバ部品の損失を表し、ステップｂ）において、該光ファイバ部品に対しおよび基準光ファイバ部品に対し測定が実行される。
【００３４】
添付図面の図は、本発明をいかに実現することができるかを明確に説明する。これら図において、同じ参照符号は、同様の構成要素を示している。
【００３５】
【好適な実施態様の説明】
図１乃至図４にそれぞれ示されている本発明によるエミッタ１Ａ，１Ｂ，１Ｃ，１Ｄは、電磁パルス、この場合は光パルスを放出することが意図されている。
【００３６】
前記エミッタ１Ａ〜１Ｄは、
光パルスを発生させることができる、発光ダイオード、レーザダイオードまたはスーパルミネセンスダイオードなどの発生器２と、
発生器２に連結され、放出する目的で前記発生器２によって発生される光パルスを伝送することができる、光ファイバＦと、を備えた型式のものである。
【００３７】
この発生器２の放出幾何学的特性は、既知の方法で、放出立体角（emission solid angle）および発光領域（emission area）に関して一定かつ一様である。
【００３８】
本発明によれば、前記エミッタ１Ａ〜１Ｄは、また、可変の幾何学的特性を得るために、光キャビティ３Ａ〜３Ｄを含む。
【００３９】
前記光キャビティ３Ａ〜３Ｄの各々は、
光ファイバＦの２つの部分Ｆ１とＦ２との間に配置され、該部分Ｆ１が既知の方法で発生器２に連結されている、部分反射型式の各第１のミラーＭ１Ａ，Ｍ１Ｂ，Ｍ１Ｃ，Ｍ１Ｄと、
前記第１のミラーと同じ型式のものでよく、光ファイバＦの部分Ｆ２とＦ３との間に配置された、各第２のミラーＭ２Ａ，Ｍ２Ｂ，Ｍ２Ｃ，Ｍ２Ｄと、
前記第１および第２のミラーを共に連結するために使用される前記部分Ｆ２と、を備えている。
【００４０】
このように、発生器２によって発生され光キャビティ３Ａ〜３Ｄに入る光パルスは、部分的にミラーＭ２Ａ〜Ｍ２Ｄによって伝送され、部分的にミラーＭ２Ａ〜Ｍ２Ｄによって反射され、その後反射された部分がまた、前記ミラーＭ２Ａ〜Ｍ２Ｄに戻るようにミラーＭ１Ａ〜Ｍ１Ｄによって部分的に反射され、ミラーＭ２Ａ〜Ｍ２Ｄにおいて、それは再び部分的に反射され部分的に伝送され、以下同様である。これにより、光キャビティ３Ａ〜３Ｄの出力において時間的にシフトされたパルス列を生成することができる。
【００４１】
従って、部分Ｆ２における前記パルスの各々は、異なる長さの経路を進行する。
【００４２】
ここで、実験によって確認された理論［エス・ディー・ペルソニック、ベルシステムテック、ジェイ、５０、８４３、（１９７１）／（S.D. Personick, Bell Syst. Tech. J. 50, 843, (1971)］は、光ファイバの光波の伝搬に対する状態が光ファイバの長さ、この場合は部分Ｆ２によって変化するということを論証している。この変化（注入されるパルスの時間的広がりまたは幾何学的性質、すなわち立体角に関連するコア直径および開口数の変化）は、モード平衡長さ（modal equilibrium length）として定義されるファイバ長さまでは長さによって決まる変化であり、これ以上はパルス広がりの変化は、長さの平方根によって決まり、幾何学的性質は一定である。このモード平衡状態は、１つのモードにおいて混合される光がそこからもれる光によって十分に補償される場合に達せられる。
【００４３】
結果として、エミッタ１Ａ〜１Ｄによって放出されるパルス列の種々のパルスは、可変の放出幾何学的特性を有している。
【００４４】
このため、特にファイバ部分Ｆ２の長さと前記第１および第２のミラーの伝送／反射率とに関し、光キャビティ３Ａ〜３Ｄを適切に選択することにより、放出される種々のパルスの幾何学的特性を正確に定義し、そのため本発明により、発生器２によって発生される１つのパルスから可変かつ正確に定義されたパルス列を得ることが可能である。
【００４５】
なお、長さｌの光キャビティによって注入パルスからパルス列を生成することにより、ランクＮの出力パルスに対し、長さｌ（２Ｎ−１）のファイバにおいて等価伝搬（モード分散、波長分散、幾何学的性質の変化）を得ることができる。
【００４６】
例として、本発明によるエミッタ１Ａ〜１Ｄを、以下の範囲の間で１５の異なる放出特性を生成するパルス列を放出するために使用することができる。すなわち、
照明された光ファイバの開口数の７０％〜１００％と、
前記照明された光ファイバのコア直径の７０％〜１００％と、である。
【００４７】
図１に示す実施の形態では、ミラーＭ１Ａ，Ｍ２Ａは、各々光ファイバＦの一部に直接配置された部分反射材料の層を有しており、隣接する部分は共に接合されており、図２乃至図４に示す実施の形態では、ミラーＭ１Ｂ，Ｍ２Ｂ，Ｍ１Ｃ，Ｍ２Ｃ，Ｍ１Ｄ，Ｍ２Ｄは、それぞれ後述する光結合手段Ｃ１Ｂ，Ｃ２Ｂ，Ｃ１Ｃ，Ｃ２Ｃ，Ｃ１Ｄ，Ｃ２Ｄに連結されている。
【００４８】
図２において分かるように、結合手段Ｃ１Ｂ，Ｃ２Ｂは各々、２つのレンズ４，５および６，７、例えば球面または非球面レンズを備えており、それらの間には、対応するミラーＭ１Ｂ，Ｍ２Ｂが配置されている。
【００４９】
更に、既知の方法で、レンズ４は部分Ｆ１に連結されており、レンズ５，７は部分Ｆ２に連結されており、レンズ６は部分Ｆ３に連結されている。
【００５０】
更に、図３に示すように、光結合手段Ｃ１Ｃ，Ｃ２Ｃは、各々、４分の１波屈折率分布型の２つのレンズ（quarter-wave traded-index type lens）８，９および１０，１１を備えており、これらは光ファイバＦの部分Ｆ１〜Ｆ３に連結されており、それらレンズの間には対応するミラーＭ１Ｃ，Ｍ２Ｃが配置されている。
【００５１】
図４に示す光連結手段Ｃ１Ｄ，Ｃ２Ｄに関して、これらは各々、半波屈折率分布型のレンズ（half-wave graded-index type lens）１２，１３を備えており、光キャビティ３Ｄの内側の前記光結合手段Ｃ１Ｄ，Ｃ２Ｄの面１４，１５に、対応するミラーＭ１Ｄ，Ｍ２Ｄが配置されている。
【００５２】
更に、前記手段Ｃ１Ｄは、ミラーＭ１Ｄによって反射される光を除去し、それによって発生器２によって放出されるパルス、またはこのパルスの一部が発生器に戻るのを防止することが意図された、光トラップ１６を含んでいる。当然ながら、かかる光トラップは、種々のあり得る実施の形態で提供されてよい。
【００５３】
更に、本発明によれば、
光ファイバの部分および結合手段の配置および取付けの技術は、いかなる既知の型式のものであってもよく、
ミラーの反射層の堆積は、光キャビティのファイバＦ２の両端かまたは結合手段において行われてよく、
光キャビティの光ファイバＦ２の長さは、広範囲の値の中で選択されてよい。例として、この長さは５０メートルであってよく、
エミッタ１Ａ〜１Ｄは、あらゆる型式のマルチモード光ファイバＦ、そのあらゆるコア直径およびクラッディング直径、およびそれを作成するために使用されるあらゆる材料（シリカ、シリコン、ポリマ）に適用され、
前記エミッタ１Ａ〜１Ｄは、故障の原因となるいかなる機械的可動部分も有していない。
【００５４】
また、特に測定、特に以下のような種々の特性パラメータの測定に対し、上述したエミッタ１Ａ〜１Ｄの多くの適用が可能である。すなわち、
光ファイバ部品またはハーネスのあるいはマルチモードファイバネットワークの減衰、
光ファイバ部品またはハーネスのモード伝達関数、
光ファイバリンクの誤り率、あるいは、
マルチモード光ファイバの帯域幅、である。
【００５５】
この目的のために、本発明はまた、光ファイバ部品のかかる特性パラメータ、特にその中の損失を測定する方法に関する。
【００５６】
より詳細には、それは、
ａ）少なくとも１つの電磁パルス、特に光パルスが生成され、それが前記光ファイバ部品に注入され、
ｂ）前記光ファイバ部品によって伝送される前記電磁パルスに関連する測定が実行され、
ｃ）前記特性パラメータが少なくとも前記測定値から決定される、方法に関する。
【００５７】
本発明によれば、ステップａ）において、電磁パルス列が生成され、その電磁パルスの少なくとも一部が、少なくとも１つの光学的特性、特に放出幾何学的特性に対し、異なる値を有し、ステップｃ）において、前記特性パラメータの値が前記パルス列の前記異なる電磁パルスの各々に対して決定される。
【００５８】
図５は、本発明による試験システム１８を示し、それは、上述した方法が実現されること可能にし、光ファイバ部品１９、例えばファイバ部品、ファイバリンクまたは光ファイバネットワークの損失を決定することが意図されている。
【００５９】
この目的のために、前記システム１８は、本発明により、
本発明による、およびこの場合例として図４の実施の形態１Ｄのものに対応する、上述したような光パルスエミッタと、
前記エミッタ１Ｄによって放出され光ファイバ部品１９または２０によって伝送される光パルスの強度などの特性を測定することができる、例えばＰＩＮフォトダイオードかまたはＡＰＤフォトダイオードなどの既知の型式の光受信機２０と、
電気的リンク２３により光受信機２０に連結され、前記光受信機２０によって測定される測定値を記録するよう意図された、例えばメモリなどの手段２２と、
電気的リンク２５，２６により発生器２と手段２２とにそれぞれ連結され、一方では試験すべき前記部品１９に対し、他方では基準部品２１、例えば短い長さの１つの光ファイバに対し、光受信機２０によって受信され実行される測定値から、前記部品１９の損失を決定する手段２４と、を備えている。
【００６０】
このように実行された試験の結果は、電気的リンク２８を介して前記手段２４に連結された手段２７によって表示されてよい。
【００６１】
測定を実行するために、部品１９，２１は、共に作用し例えば汎用ソケットを形成する既知の手段Ｅ１，Ｅ２によって、光ファイバの部分Ｆ３および部分Ｆ４（光受信機２０に取付けられている）に連結されてもよい。
【００６２】
部分Ｆ３および部品１９は、同じコア直径と同じ開口数とを有している。しかしながら、本発明のコンテキスト内では、一定の幾何学的特性（例えば発光領域）と可変の幾何学的特性（例えば放出立体角）とを同時に得るために、これら特性の１つが部品毎に異なってもよい。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明によるエミッタを示す図である。
【図２】 本発明によるエミッタの１つの実施の形態を概略的かつ非排他的に示す図である。
【図３】 本発明によるエミッタの別の実施の形態を概略的かつ非排他的に示す図である。
【図４】 本発明によるエミッタのさらに別の実施の形態を概略的かつ非排他的に示す図である。
【図５】 光ファイバ部品を試験する本発明による試験システムを概略的に示す図である。

Claims (10)

1. 電磁パルスを放出するエミッタであって、
   少なくとも１つの電磁パルスを発生させる発生器（２）と、
   放出する目的で該発生器（２）によって発生した電磁パルスを伝送することができる少なくとも１つの光ファイバ（Ｆ）と、
   １つの光キャビティ（３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄ）であって、
   前記光ファイバ（Ｆ）によって伝送される入射電磁パルスの経路に配置され、
   第１の部分反射ミラー（Ｍ１Ａ，Ｍ１Ｂ，Ｍ１Ｃ，Ｍ１Ｄ）が設けられた入力端と第２の部分反射ミラー（Ｍ２Ａ，Ｍ２Ｂ，Ｍ２Ｃ、Ｍ２Ｄ）が設けられた出力端とを有する、該光キャビティと、を備え、
   前記第１の部分反射ミラーは、前記光ファイバの第１の部分（Ｆ１）と第２の部分（Ｆ２）との間に配置され、前記第１の部分（Ｆ１）は前記発生器（２）に連結されており、
   前記第２の部分反射ミラーは、前記光ファイバの第２の部分（Ｆ２）と第３の部分（Ｆ３）との間に配置され、前記第２の部分（Ｆ２）は前記第１の部分反射ミラー及び前記第２の部分反射ミラーを共に連結するために使用され、
   前記第２の部分の長さと前記第１の部分反射ミラー及び前記第２の部分反射ミラーの伝送／反射率とは、前記光キャビティ（３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄ）の出力において、１つの入射電磁パルスから、異なる放出立体角及び発光領域を有しかつ該入射電磁パルスに関連する放出電磁パルス列を生成するよう選択されることを特徴とするエミッタ。
2. 前記第１の部分反射ミラーおよび前記第２の部分反射ミラー（Ｍ１Ａ，Ｍ２Ａ）の少なくとも１つは、前記光ファイバ（Ｆ）の前記第１の部分、前記第２の部分及び前記第３の部分の内の２つの部分に、該部分反射ミラーの対向する面により直接連結されることを特徴とする請求項１記載のエミッタ。
3. 前記第１の部分反射ミラーおよび前記第２の部分反射ミラー（Ｍ１Ｂ，Ｍ２Ｂ，Ｍ１Ｃ，Ｍ２Ｃ，Ｍ１Ｄ，Ｍ２Ｄ）の少なくとも１つは、該部分反射ミラーに連結された光結合手段（Ｃ１Ｂ，Ｃ２Ｂ，Ｃ１Ｃ，Ｃ２Ｃ，Ｃ１Ｄ，Ｃ２Ｄ）により前記光ファイバ（Ｆ）の前記第１の部分、前記第２の部分及び前記第３の部分の内の２つの部分に連結されることを特徴とする請求項１記載のエミッタ。
4. 前記光結合手段（Ｃ１Ｂ、Ｃ２Ｂ）は、前記光ファイバ（Ｆ）の前記第１の部分、前記第２の部分及び前記第３の部分の内の２つの部分に光学的に連結されている２つのレンズ（４，５；６，７）を備え、該光結合手段（Ｃ１Ｂ，Ｃ２Ｂ）に関連する前記部分反射ミラー（Ｍ１Ｂ，Ｍ２Ｂ）が該２つのレンズ（４，５；６，７）の間に配置されることを特徴とする請求項３記載のエミッタ。
5. 前記光結合手段は、少なくとも１つの屈折率分布型レンズ（８，９；１０，１１；１２；１３）を備えることを特徴とする請求項３記載のエミッタ。
6. 前記発生器（２）によって発生される電磁パルスが該発生器（２）に戻るのを防止する手段（１６）を備えることを特徴とする請求項１乃至５の内のいずれか１項記載のエミッタ。
7. 前記発生器（２）は、波長が異なる少なくとも２つのパルスを発生させ得ることを特徴とする請求項１乃至６の内のいずれか１項記載のエミッタ。
8. 光ファイバ部品の損失を決定する試験システムであって、
   少なくとも１つの電磁パルスを放出することができる光源（１Ｄ）と、
   前記光源（１Ｄ）によって放出され、前記光ファイバ部品（１９，２１）によって伝送される前記電磁パルスの特性を測定することができる光受信機（２０）と、
   試験すべき前記光ファイバ部品（１９）に対しおよび基準光ファイバ部品（２１）に対し前記光受信機（２０）によって生成された測定値を受取り、これら測定値に基づいて試験すべき前記光ファイバ部品（１９）の損失を決定する、データ収集、記憶および処理手段（２２，２４）と、を備え、前記光源は、請求項１乃至７の内のいずれか１項に記載の前記エミッタ（１Ｄ）を備えることを特徴とする試験システム。
9. 電磁パルスを放出する前記エミッタ（１Ｄ）の前記光ファイバ（Ｆ）は、予め決められた特性、すなわちコア直径および開口数を有し、前記光ファイバ（Ｆ）の前記特性の少なくとも１つは、試験すべき前記光ファイバ部品（１９）の特性と同じであることを特徴とする請求項８記載の試験システム。
10. 請求項１乃至７の内のいずれか１項に記載のエミッタの使用することにより、光ファイバ部品（１９）の少なくとも１つの特性パラメータの値を決定する方法において、
    ａ）少なくとも１つの電磁パルスが前記光ファイバ部品（１９）に放出され、
    ｂ）前記光ファイバ部品（１９）によって伝送される前記少なくとも１つの電磁パルスに関連する測定値が計測され、
    ｃ）少なくとも前記測定値から前記特性パラメータが決定され、
    ステップａ）において、前記エミッタにより電磁パルス列が生成され、その電磁パルスの少なくとも一部が、少なくとも１つの光学的特性に対し異なる値を有し、ステップｃ）において、前記特性パラメータの値が前記パルス列の前記異なる電磁パルスの各々に対して決定されることを特徴とする特性パラメータの値を決定する方法。

Images