JP4643610B2 - 生産システム及び生産方法 - Google Patents
生産システム及び生産方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4643610B2 JP4643610B2 JP2007134605A JP2007134605A JP4643610B2 JP 4643610 B2 JP4643610 B2 JP 4643610B2 JP 2007134605 A JP2007134605 A JP 2007134605A JP 2007134605 A JP2007134605 A JP 2007134605A JP 4643610 B2 JP4643610 B2 JP 4643610B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lot
- computer
- power
- lot progress
- production line
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 187
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 139
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 89
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 38
- 238000004088 simulation Methods 0.000 claims description 37
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 35
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 34
- 238000010276 construction Methods 0.000 claims description 24
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 claims description 17
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 15
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 13
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 6
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 6
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 26
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 12
- 238000004151 rapid thermal annealing Methods 0.000 description 10
- 230000008859 change Effects 0.000 description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 7
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 6
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 3
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 3
- 239000013070 direct material Substances 0.000 description 3
- 238000007726 management method Methods 0.000 description 3
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000012384 transportation and delivery Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000002457 bidirectional effect Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000000112 cooling gas Substances 0.000 description 1
- 230000010485 coping Effects 0.000 description 1
- 238000003113 dilution method Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000013439 planning Methods 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007634 remodeling Methods 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 238000010187 selection method Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/30—Computing systems specially adapted for manufacturing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/80—Management or planning
Landscapes
- General Factory Administration (AREA)
- Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)
Description
ある装置においてロットを処理する際には幾つかの選択肢が発生することがある。例えば、複数のロットを同時に処理できるバッチ装置において、1ロットが待ちロットとしてある場合に、そのロットを直ぐに処理すべきか、或いは他のロットが来るまで待つべきかの選択を行う必要がある。また、ある装置で優先度の低いロットが待ちロットとしてあり、且つ優先度の高いロットがある時間の後に来ると予想される場合に、その優先度の低いロットを先に処理すべきか、或いは待って優先度の高いロットを先に処理すべきかの選択を行う必要がある。また、それ以外に連続工程(例えば、前処理→酸化(又はCVD)→後処理,24時間以内)が導入されている場合に、どのようなタイミングで処理を開始すべきかが問題となる。
図1は、本発明の第1実施形態に係る半導体生産システムの例を示すブロック図である。
本実施形態は第1実施形態の変形例に係わる。
本実施形態は第1実施形態の変形例に係わる。
Claims (16)
- 第1コンピュータを備えており製品を実際に製造する実生産ラインと、
前記第1コンピュータとネットワーク経由でデータ転送を行う第2コンピュータと
を具備し、
前記実生産ラインは、
前記第1コンピュータに記憶されているロットの進捗状況を表すロット進捗状況情報と、装置の状況を表す装置状況情報とを、前記ネットワーク経由で、前記第2コンピュータへ転送し、
前記第2コンピュータから、前記ネットワーク経由で、前記第2コンピュータによる計算の結果に基づく作業指示データを受信し、
前記第2コンピュータは、
工程と装置と処理時間の関係を表す製品のレシピ情報を格納し、
前記実生産ラインから、前記ネットワーク経由で、前記ロット進捗状況情報及び前記装置状況情報を受信する手段と、
前記ロット進捗状況情報、前記装置状況情報、前記製品のレシピ情報に基づいて、ある時間の範囲内でのロット進捗予測シミュレーションを行い、前記ロット進捗予測シミュレーションによるロット進捗が選択肢を持つ場合に、ロット進捗の抽出条件を表す判定条件情報に基づいて、前記抽出条件を満たすロット進捗を選択し、全体の電力設定値を超えない電力条件を表す電力条件情報と、各工程において時間に応じて変化する装置の電力を表す装置の電力プロファイルとに基づいて、前記ロット進捗予測シミュレーションによるロット進捗が前記電力条件を満たさない場合に、装置による工程開始時間をずらして前記電力条件を満たすロット進捗を算出し、シミュレーション結果を導出する手段と、
前記シミュレーション結果を前記作業指示データとして前記実生産ラインに転送する手段と
を具備する
ことを特徴とする生産システム。 - 第1コンピュータを備えており製品を実際に製造する実生産ラインと、
前記第1コンピュータとネットワーク経由でデータ転送を行う第2コンピュータと
を具備し、
前記実生産ラインは、
前記第1コンピュータに記憶されているロットの進捗状況を表すロット進捗状況情報と、装置の状況を表す装置状況情報とを、前記ネットワーク経由で、前記第2コンピュータへ転送し、
前記第2コンピュータから、前記ネットワーク経由で、前記第2コンピュータによる計算の結果に基づく作業指示データを受信し、
前記第2コンピュータは、
工程と装置と処理時間の関係を表す製品のレシピ情報を格納し、
前記実生産ラインから、前記ネットワーク経由で、前記ロット進捗状況情報及び前記装置状況情報を受信する手段と、
前記ロット進捗状況情報、前記装置状況情報、前記製品のレシピ情報に基づいて、ある時間の範囲内でのロット進捗予測シミュレーションを行い、前記ロット進捗予測シミュレーションによるロット進捗が選択肢を持つ場合に、ロット進捗の抽出条件を表す判定条件情報に基づいて、前記抽出条件を満たすロット進捗を選択し、全体の用力設定値を超えない用力条件を表す用力条件情報と、各工程において時間に応じて変化する装置の用力を表す装置の用力プロファイルとに基づいて、前記ロット進捗予測シミュレーションによるロット進捗が前記用力条件を満たさない場合に、装置による工程開始時間をずらして前記用力条件を満たすロット進捗を算出し、シミュレーション結果を導出する手段と、
前記シミュレーション結果を前記作業指示データとして前記実生産ラインに転送する手段と
を具備する
ことを特徴とする生産システム。 - 前記用力は、超純水、冷却水、半導体材料ガス、半導体製造用ガス、半導体製造用液体、半導体製造用固体であることを特徴とする請求項2に記載の生産システム。
- 前記第2コンピュータは、
さらに、全体の電力設定値を超えない電力条件を表す電力条件情報と、各工程において時間に応じて変化する装置の電力を表す装置の電力プロファイルとに基づいて、前記ロット進捗予測シミュレーションによるロット進捗が前記電力条件を満たさない場合に、装置による工程開始時間をずらして前記電力条件を満たすロット進捗を算出する
ことを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の生産システム。 - 前記第2コンピュータは、
前記実生産ラインから欠陥発生状況または製品テスト結果を含む情報をリアルタイムで受信し、受信された前記情報に基づいて、ある工程を通過したロットのデータが異常値を示す場合に、当該工程を通過したロットのうち異常値を出す可能性のあるロットを抽出する
ことを特徴とする請求項1乃至請求項4に記載の生産システム。 - 前記抽出条件は、他のロット進捗よりも、工期が短いこと、ある期間の生産量が多いことのうちのいずれかを表すことを特徴とする請求項1乃至請求項5に記載の生産システム。
- 前記抽出条件は、受注された製品に対して付けられた優先順位に基づき、優先順位の高い製品ほど製造工期が短くなることを表すことを特徴とする請求項1乃至請求項5に記載の生産システム。
- 前記実生産ラインは、前記半導体の生産ラインであることを特徴とする請求項1乃至請求項7に記載の生産システム。
- 第1コンピュータを備えており製品を実際に製造する実生産ラインと、前記第1コンピュータとネットワーク経由でデータ転送を行う第2コンピュータとを具備する生産システムを用いる生産方法において、
前記実生産ラインが、前記第1コンピュータに記憶されているロットの進捗状況を表すロット進捗状況情報と、装置の状況を表す装置状況情報とを、前記ネットワーク経由で、前記第2コンピュータへ転送し、
前記第2コンピュータが、前記実生産ラインから、前記ネットワーク経由で、前記ロット進捗状況情報及び前記装置状況情報を受信し、
前記第2コンピュータが、前記ロット進捗状況情報、前記装置状況情報、格納されている工程と装置と処理時間の関係を表す製品のレシピ情報に基づいて、ある時間の範囲内でのロット進捗予測シミュレーションを行い、前記ロット進捗予測シミュレーションによるロット進捗が選択肢を持つ場合に、ロット進捗の抽出条件を表す判定条件情報に基づいて、前記抽出条件を満たすロット進捗を選択し、全体の電力設定値を超えない電力条件を表す電力条件情報と、各工程において時間に応じて変化する装置の電力を表す装置の電力プロファイルとに基づいて、前記ロット進捗予測シミュレーションによるロット進捗が前記電力条件を満たさない場合に、装置による工程開始時間をずらして前記電力条件を満たすロット進捗を算出し、シミュレーション結果を導出し、
前記第2コンピュータが、前記ネットワーク経由で、前記シミュレーション結果を前記作業指示データとして前記実生産ラインに転送し、
前記実生産ラインが、前記第2コンピュータから、前記ネットワーク経由で、前記第2コンピュータによる計算の結果に基づく作業指示データを受信する
ことを特徴とする生産方法。 - 第1コンピュータを備えており製品を実際に製造する実生産ラインと、前記第1コンピュータとネットワーク経由でデータ転送を行う第2コンピュータとを具備する生産システムを用いる生産方法において、
前記実生産ラインが、前記第1コンピュータに記憶されているロットの進捗状況を表すロット進捗状況情報と、装置の状況を表す装置状況情報とを、前記ネットワーク経由で、前記第2コンピュータへ転送し、
前記第2コンピュータが、前記実生産ラインから、前記ネットワーク経由で、前記ロット進捗状況情報及び前記装置状況情報を受信し、
前記第2コンピュータが、前記ロット進捗状況情報、前記装置状況情報、格納されている工程と装置と処理時間の関係を表す製品のレシピ情報に基づいて、ある時間の範囲内でのロット進捗予測シミュレーションを行い、前記ロット進捗予測シミュレーションによるロット進捗が選択肢を持つ場合に、ロット進捗の抽出条件を表す判定条件情報に基づいて、前記抽出条件を満たすロット進捗を選択し、全体の用力設定値を超えない用力条件を表す用力条件情報と、各工程において時間に応じて変化する装置の用力を表す装置の用力プロファイルとに基づいて、前記ロット進捗予測シミュレーションによるロット進捗が前記用力条件を満たさない場合に、装置による工程開始時間をずらして前記用力条件を満たすロット進捗を算出し、シミュレーション結果を導出し、
前記第2コンピュータが、前記ネットワーク経由で、前記シミュレーション結果を前記作業指示データとして前記実生産ラインに転送し、
前記実生産ラインが、前記第2コンピュータから、前記ネットワーク経由で、前記第2コンピュータによる計算の結果に基づく作業指示データを受信する
ことを特徴とする生産方法。 - 前記用力は、超純水、冷却水、半導体材料ガス、半導体製造用ガス、半導体製造用液体、半導体製造用固体であることを特徴とする請求項10に記載の生産方法。
- 前記第2コンピュータは、
さらに、全体の電力設定値を超えない電力条件を表す電力条件情報と、各工程において時間に応じて変化する装置の電力を表す装置の電力プロファイルとに基づいて、前記ロット進捗予測シミュレーションによるロット進捗が前記電力条件を満たさない場合に、装置による工程開始時間をずらして前記電力条件を満たすロット進捗を算出する
ことを特徴とする請求項10又は請求項11に記載の生産方法。 - 前記第2コンピュータは、
前記実生産ラインから欠陥発生状況または製品テスト結果を含む情報をリアルタイムで受信し、受信された前記情報に基づいて、ある工程を通過したロットのデータが異常値を示す場合に、当該工程を通過したロットのうち異常値を出す可能性のあるロットを抽出する
ことを特徴とする請求項9乃至請求項12に記載の生産方法。 - 前記抽出条件は、他のロット進捗よりも、工期が短いこと、ある期間の生産量が多いことのうちのいずれかを表すことを特徴とする請求項9乃至請求項13に記載の生産方法。
- 前記抽出条件は、受注された製品に対して付けられた優先順位に基づき、優先順位の高い製品ほど製造工期が短くなることを表すことを特徴とする請求項9乃至請求項14に記載の生産方法。
- 前記実生産ラインは、前記半導体の生産ラインであることを特徴とする請求項9乃至請求項15に記載の生産方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007134605A JP4643610B2 (ja) | 2000-05-31 | 2007-05-21 | 生産システム及び生産方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000163042 | 2000-05-31 | ||
JP2007134605A JP4643610B2 (ja) | 2000-05-31 | 2007-05-21 | 生産システム及び生産方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001165411A Division JP3984000B2 (ja) | 2000-05-31 | 2001-05-31 | 生産システム及び生産方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007310893A JP2007310893A (ja) | 2007-11-29 |
JP4643610B2 true JP4643610B2 (ja) | 2011-03-02 |
Family
ID=38843631
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007134605A Expired - Fee Related JP4643610B2 (ja) | 2000-05-31 | 2007-05-21 | 生産システム及び生産方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4643610B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4571225B1 (ja) * | 2009-05-27 | 2010-10-27 | ファナック株式会社 | 消費電力推定装置 |
KR102086005B1 (ko) | 2018-10-08 | 2020-04-23 | 최상수 | 공장을 분석하는 컴퓨팅 시스템 및 공장을 관리하기 위해 그 컴퓨팅 시스템을 이용하는 방법 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04111756A (ja) * | 1990-08-30 | 1992-04-13 | Toshiba Corp | スケジューリング装置 |
JPH06203042A (ja) * | 1993-01-05 | 1994-07-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 生産ライン計画作成方法 |
JPH0917837A (ja) * | 1995-06-30 | 1997-01-17 | Sony Corp | 物品の生産管理方法 |
JPH106189A (ja) * | 1996-06-26 | 1998-01-13 | Nec Corp | 製造ショップコントロール方法および装置 |
-
2007
- 2007-05-21 JP JP2007134605A patent/JP4643610B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04111756A (ja) * | 1990-08-30 | 1992-04-13 | Toshiba Corp | スケジューリング装置 |
JPH06203042A (ja) * | 1993-01-05 | 1994-07-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 生産ライン計画作成方法 |
JPH0917837A (ja) * | 1995-06-30 | 1997-01-17 | Sony Corp | 物品の生産管理方法 |
JPH106189A (ja) * | 1996-06-26 | 1998-01-13 | Nec Corp | 製造ショップコントロール方法および装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007310893A (ja) | 2007-11-29 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100515909B1 (ko) | 생산설비 관리시스템, 생산설비 관리방법 및 생산설비 제조방법 | |
JP7510436B2 (ja) | 基板処理システムのためのモデルベースのスケジュール設定 | |
US6408220B1 (en) | Semiconductor processing techniques | |
US6303395B1 (en) | Semiconductor processing techniques | |
US7610111B2 (en) | Method and system for wafer lot order | |
Gershwin | Design and operation of manufacturing systems: the control-point policy | |
EP1058172A2 (en) | Semiconductor processing techniques | |
JP2000077289A (ja) | 製造予測管理システム | |
Tyan et al. | Multiple response optimization in a fully automated FAB: an integrated tool and vehicle dispatching strategy∗ | |
JP4643610B2 (ja) | 生産システム及び生産方法 | |
JP3984000B2 (ja) | 生産システム及び生産方法 | |
Hong et al. | A two-phase decoding genetic algorithm for TFT-LCD array photolithography stage scheduling problem with constrained waiting time | |
Wu et al. | Job scheduling of diffusion furnaces in semiconductor fabrication facilities | |
US7257502B1 (en) | Determining metrology sampling decisions based on fabrication simulation | |
JP2000132204A (ja) | プラント制御装置 | |
CN112365181A (zh) | 一种动态工艺流程的Qtime WIP管控方法 | |
EP1058173A2 (en) | Semiconductor processing techniques | |
Chien et al. | Stochastic Scheduling for Batch Processes With Downstream Queue Time Constraints | |
KR101600068B1 (ko) | 반도체 팹 유틸리티 모듈화 설계시스템 | |
Bureau et al. | Scheduling challenges and approaches in semiconductor manufacturing | |
KR19980077237A (ko) | 반도체 제조용 설비의 로트 플로우 제어방법 | |
JP2007188336A (ja) | 工程制御装置 | |
JP3770055B2 (ja) | 工場診断方法とその装置 | |
JP2008159846A (ja) | 半導体デバイス製造ラインの仕掛り平準化制御方法及びシステム | |
JP2008077370A (ja) | 生産管理システムおよび生産管理方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100521 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100601 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100729 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101102 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101202 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131210 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |