JP4642659B2 - 可変ミラー - Google Patents
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Description
可変ミラーを鏡枠に取り付ける場合、取り付け面に対する反射面の位置精度が重要である。しかしながら、可変ミラーを構成する部材には種々の変動要因があり、反射面の位置精度を確保することは容易ではなかった。
また、可変ミラーを用いて像振れ補正を行う場合、可変ミラーが変位しても光路長が一定に維持されることが重要であるが、光路長を一定に維持することは容易ではなかった。
このように、可変ミラーを鏡枠等の被取り付け部材に取り付ける場合、従来は高精度の取り付けを行うことが困難であった。また、可変ミラーが変位したときに、従来は光路長を一定に維持することが困難であった。
本発明は、高精度の取り付けを行うことが可能な可変ミラーを提供することを目的としている。また、本発明は、光路長を一定に維持することが可能な可変ミラーを提供することを目的としている。
前記可変ミラーにおいて、前記取り付け領域は、前記第2の基板が前記第1の基板とオーバーラップしない領域に設けられていることが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、前記第2の基板の面積は、前記第1の基板の面積よりも大きいことが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、前記第1の基板は切欠部を有し、前記切欠部に対応した領域に前記取り付け領域が設けられていることが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、前記切欠部は、エッチングによって形成されたものであることが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、前記第1の基板と第2の基板との間に設けられ、前記第1の基板を支持する支持部材をさらに備えることが好ましい。
本発明の第2の視点に係る可変ミラーは、光を反射する反射部を有する第1の基板と、前記第1の基板と対向する第2の基板とを備え、前記第1の基板と前記第2の基板との間で相互作用が働くように構成された可変ミラーであって、前記第2の基板には、前記第2の基板の前記第1の基板に対向する面側に突起部が設けられている。
前記可変ミラーにおいて、前記相互作用は、前記第1の基板と前記第2の基板との間に働く引力であることが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、前記相互作用は、前記第1の基板と前記第2の基板との間に働く斥力であることが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、前記突起部は、前記第2の基板の本体と一体的に形成されていることが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、前記突起部は、前記第2の基板に固着されていることが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、前記突起部は、前記第1の基板の略重心で前記第1の基板に当接していることが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、前記突起部は、前記第1の基板の略中心で前記第1の基板に当接していることが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、前記突起部の先端は球形状であることが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、前記第1の基板は、前記突起部が当接する位置に凹状部を有することが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、前記凹状部は、前記第1の基板の略重心に形成されていることが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、前記凹状部は、前記第1の基板の略中心に形成されていることが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、前記第2の基板は、前記相互作用を生じさせるための電極を有し、前記電極は前記突起部から離間していることが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、前記第1の基板は、前記相互作用を生じさせるための電極を有し、前記電極の電位は前記突起部の電位と同じであることが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、前記第1の基板は、前記相互作用を生じさせるための電極を有し、前記電極は前記突起部と電気的に絶縁されていることが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、一端が前記第1の基板に接続され、他端が前記第2の基板に接続された弾性部材をさらに備えることが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、複数の前記弾性部材が、前記第1の基板と前記第2の基板との間に設けられていることが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、前記突起部と前記各弾性部材との間の距離は互いに等しいことが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、前記複数の弾性部材は、前記突起部を中心とした円上に略等間隔で配置されていることが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、前記弾性部材はバネであることが好ましい。
前記可変ミラーにおいて、前記バネによって前記第1の基板と第2に基板とは互いに引っ張られることが好ましい。
図2は、本発明の第1及び第2の実施形態に係り、撮影装置の構成を示したブロック図である。
図3は、本発明の第1及び第2の実施形態に係り、撮影装置における像振れ補正の原理を説明するための図である。
図4は、本発明の第1の実施形態に係る可変ミラーの構成の一例を示した図である。
図5A及び図5Bは、本発明の第1の実施形態に係る可変ミラーの電極配置の一例を示した図である。
図6は、本発明の第1の実施形態に係る可変ミラーの取り付け状態を示した図である。
図7は、本発明の第2の実施形態に係る可変ミラーの構成の一例を示した断面図である。
図8は、本発明の第2の実施形態に係る可変ミラーの構成の一例を示した斜視図である。
図9A〜図9Eは、本発明の第2の実施形態に係る可変ミラーの製造方法の一例を示した断面図である。
図10は、本発明の第2の実施形態に係る可変ミラーの取り付け状態を示した図である。
図11は、本発明の第2の実施形態に係る可変ミラーの構成の他の例を示した斜視図である。
図12は、本発明の第1の実施形態に係る可変ミラーにおける下部基板の構成例を示した斜視図である。
図13は、本発明の第1の実施形態に係る可変ミラーの変更例を示した斜視図である。
図14は、本発明の第1の実施形態に係る可変ミラーの変更例を示した斜視図である。
図15は、本発明の第1の実施形態に係る可変ミラーの変更例を示した斜視図である。
図16A及び図16Bは、本発明の第1の実施形態に係り、バネの配置位置を示した図である。
図17A及び図17Bは、本発明の第1の実施形態に係る可変ミラーの変更例を示した図である。
[第1の実施形態]
図1は本発明の第1の実施形態に係るデジタルカメラ(撮影装置)の外観構成を模式的に示した斜視図であり、図2は第1の実施形態に係るデジタルカメラの構成を示したブロック図である。
デジタルカメラ100の本体101の上部には、撮影開始を指示するシャッタボタン102が設けられている。本体101の内部には、動きの並進成分を検出するための3軸加速度センサ103と、動きの回転成分を検出するための角速度センサ104(センサ104a及び104bからなる)が設けられている。
鏡枠モジュール105には、1群レンズ106、2群レンズ107、3群レンズ108、4群レンズ109、絞り110及び可変ミラー111が設けられている。被写体像は、1群レンズ106及び2群レンズ107を通過して可変ミラー111で反射され、さらに3群レンズ108及び4群レンズ109を通過してCCD(撮像素子)112に結像される。
CCD112では、結像された被写体像を光電変換して電気信号を出力する。なお、1群レンズ106から可変ミラー111に向かう光軸は図1に示したY軸に対応し、可変ミラー111からCCD112に向かう光軸はZ軸に対応する。
コントローラ113は、デジタルカメラ全体の制御を行うものであり、制御プログラムは、メモリ114内のROMに予め記憶されている。また、メモリ114内には、RAMも含まれており、RAMは、コントローラ113が制御プログラムを実行するときの作業用記憶領域として使用される。
ズーム制御部115は、コントローラ113からの指示に基づき2群レンズ107を制御するものであり、ズーム制御部116は、コントローラ113からの指示に基づき3群レンズ108及び4群レンズ109を制御するものである。これらの制御によって画角調節が行われる。フォーカス制御部117は、コントローラ113からの指示に基づいて4群レンズ109を駆動し、焦点調節を行うものである。絞り制御部118は、コントローラ113の指示に基づき絞り110を制御するものである。
ミラー制御部119は、コントローラ113からの指示に基づいてミラー111の反射面の傾斜角を変化させるものである。傾斜角の制御は、3軸加速度センサ103、角速度センサ104からの出力信号に基づいて行われる。また、本デジタルカメラ100は、被写体までの距離を検出する距離検出部120を備えており、傾斜角の制御には距離検出部120からの距離情報もさらに用いられる。このようにしてミラー111の傾斜角を制御することで、撮影時の像振れ補正が行われる。なお、これらの詳細については後述する。
制御回路121は、コントローラ113からの指示に基づいてCCD112及び撮像処理部122を制御するものである。撮像処理部122は、CDS(Correlated Double Sampling)回路、AGC(Automatic Gain Control)回路、ADC(Analog to Digital Converter)等を含んで構成されている。撮像処理部122では、CCD112から出力されたアナログ信号に対して所定の処理を行い、処理後のアナログ信号をデジタル信号に変換する。
信号処理部123は、撮像処理部122から出力された画像データや、圧縮/伸張処理部124から出力された画像データに対して、ホワイトバランスやγ補正等の処理を施すものである。また、AE(Automatic Exposure)検波回路やAF(Automatic Focus)検波回路も信号処理部123に含まれる。
圧縮/伸張処理部124は、画像データの圧縮処理及び伸張処理を行うものであり、信号処理部123から出力された画像データに対する圧縮処理、カードインターフェース(I/F)125から出力された画像データに対する伸張処理を行う。画像データの圧縮処理及び伸張処理には、例えばJPEG(Joint Photographic Experts Group)方式が用いられる。カードI/F125は、本デジタルカメラ100とメモリカード126との間でデータの送受を行うためのものであり、画像データの書き込みや読み出しの処理を行う。メモリカード126は、データ記録用の半導体記録媒体であり、本デジタカメラ100に対して着脱可能である。
DAC(Digital to Analog Converter)127は、信号処理部123から出力されたデジタル信号(画像データ)をアナログ信号に変換するものである。液晶表示モニタ128は、DAC127から出力されたアナログ信号に基づいて画像表示を行うものである。この液晶表示モニタ128はカメラ本体101の背面側に設けられており、この液晶表示モニタ128を見ながら撮影を行うことが可能である。
インターフェース部(I/F部)129は、コントローラ113とパーソナルコンピュータ(PC)130との間でデータの送受を行うためのものであり、例えばUSB(Universal Serial Bus)用のインターフェース回路が用いられる。パーソナルコンピュータ130は、本デジタルカメラの製造段階において、CCD112のフォーカス感度補正用のデータをメモリ114に書き込んだり、ミラー制御部119に予め各種データを与えたりするために使用されるものである。したがって、パーソナルコンピュータ130は、本デジタルカメラ100を構成するものではない。
次に、本デジタルカメラにおける像振れ補正の原理について、図3を参照して説明する。
図3において、露光中の所定時間内に、デジタルカメラが基準点S(例えば使用者の肩の位置)を中心として、カメラ位置Aからカメラ位置Bまで揺動したとする。この場合、角速度センサ104の出力信号を積分することによって、揺動角θを求めることができる。ただし、揺動中心(基準点S)がカメラから離れているため、角度θは実際に補正すべき角度よりも小さい。そのため角度θに角度φを加算した角度(θ+φ)を求める必要がある。
角度φは、以下のようにして求めることができる。θが十分小さい場合には、3軸加速度センサ103のX軸方向(図1参照)に関する出力信号を2回積分することにより、カメラの中心位置のX軸方向の移動量bに近似した移動量b’を求めることができる。また、カメラから被写体までの距離aは、距離検出部120によって求めることができる。移動量b’及び距離aが求まれば、arctan(b’/a)から角度φを求めることができる。このようにして実際に必要な補正角度(θ+φ)を求めることで、ミラー111の補正傾斜角を求めることができ、適正な像振れ補正を行うことが可能となる。
なお、被写体までの距離aは、撮影開始に先立って行われるオートフォーカス動作によって求めることができる。また、例えばサンプリングレート2kHzで検出を行う場合、サンプリング間隔は0.5m秒である。0.5m秒間での回転量θは十分小さい。したがって、十分な精度で上述した補正処理を行うことができる。
図4は本実施形態における可変ミラー111の構成の一例を示した図、図5A及び図5Bは可変ミラー111の電極配置の一例を示した図である。図4、図5A及び図5Bに示した可変ミラー111は、半導体製造技術を適用したいわゆるMEMS(Micro Electro−Mechanical System)技術を用いて作製される。
図4に示すように、可変ミラー111は、上部基板201と、上部基板201に対向して配置された下部基板221と、両端がそれぞれ上部基板201と下部基板221に接続されたバネ(弾性部材)251〜254とを備えている。下部基板221は、上部基板201の略重心に当接して上部基板201を支持するピボット(突起部)261を有している。本例では、上部基板201の重心は、上部基板201の中心位置にほぼ対応している。
図12に示すように、本例では、ピボット261を下部基板221の本体とは別に製造し、下部基板の本体に接着している。ピボット261の先端部は、略球形状に形成されている。また、上部基板の略重心(中心位置)には凹状部250が形成されている。すなわち、ピボット261の先端が当接する位置に凹状部250が形成されている。凹状部250の底部の曲率は、ピボット261の先端部の曲率よりも僅かに大きくなっている。
上部基板201は、図5Aに示すように、上部電極202及び外部リード電極203を備えている。上部電極202は、凹状部250から離間して配置されており、凹状部250と電気的に絶縁されている。上部基板201の上部電極202が形成されている面とは反対面には、反射部204が設けられており、被写体からの光を反射してCCDへ導くようになっている。上部電極202は、薄膜205に挟まれ、反射部204の反射面に平行に設けられている。また、上部電極202は、図5Aに示すように、ほぼ矩形状に形成されている。外部リード電極203は、上部電極202と外部との電気的接続に用いられるものであり、その表面は露出している。
下部基板221では、半導体基板230上に、4つの下部電極222〜225及び4つの外部リード電極226〜229が設けられている。下部電極222〜225は、上部電極202に対向する位置に設けられており、ピボット261に対して略対称となるように配置されている。また、下部電極222〜225は、薄膜231に挟まれ、ピボット261から離間して配置されており、電気的にも絶縁されている。外部リード電極226〜229は、下部電極222〜225と外部との電気的接続に用いられるものであり、その表面は露出している。
上部基板201と下部基板221との間には4つのバネ251〜254が配置され、これらのバネ251〜254を介して上部基板201と下部基板221とが連結されている。4つのバネ251〜254は、略同一円周上に略等間隔(90度周期)で配置され、その中心位置、すなわち4つの下部電極222〜225の中心位置(図5BのX軸とY軸との交差点)に対応した位置にピボット261が配置されている。図16Aは上部基板201に対するバネの配置位置P1〜P4を示した図であり、図16Bは下部基板221に対するバネの配置位置P1〜P4を示した図である。バネ251〜254によって上部基板201と下部基板221とは互いに引っ張られ、バネの引張力によってピボット261が上部基板201の重心を押圧している。
以上のような構成の可変ミラー111において、上部電極202と下部電極222〜225との間に与える各電位差を変化させることにより、静電気力によって下部基板221に対する上部基板201の傾きを変化させることができる。これにより、反射部204の傾斜角(反射角)が変化し(すなわち反射部204の姿勢が変化する)、その傾斜角を制御することで像振れ補正を行うことができる。
なお、図4、図5A及び図5Bに示した例では、上部電極を一つの電極で構成し、下部電極を複数に分割したが、これとは逆に、下部電極を一つの電極で構成し、上部電極を複数に分割するようにしてもよい。
また、図13及び図14に示すような変更例を用いることも可能である。本変更例では、図13に示すように、上部電極202と凹状部250とを電気的に導通させている。また、図14に示すように、導電性のピボット261にリード電極234を接続している。このような構成を用いることで、リード電極234からピボット261及び凹状部250を介して上部電極202に電圧を供給することができる。すなわち、上部電極202の電位がピボット261の電位と等しくなり、上部電極202への給電線を省略することが可能である。その結果、給電線のバネ性に起因する制御性の悪化を防止することができるとともに、コストの削減をはかることが可能となる。
また、図15に示すような変更例を用いることも可能である。上述した例では、ピボット261を下部基板221の本体とは別に製造し、下部基板に接着するようにしたが、本変更例では、半導体製造プロセス等を用いて、ピボット261を下部基板221の本体と一体的に形成している。この場合、AFM(Atomic Force Microscope)にて使用するカンチレバーと同等のプロセスを適用することで、ピボット261の先端部の曲率を数十nm程度にすることが可能である。
また、上述した例では、上部電極202と下部電極222〜225との間に働く静電気力(引力)によって、下部基板221に対する上部基板201の傾きを変化させるようにしたが、電磁気力によって傾きを変化させるようにしてもよい。図17A及び図17Bはそれぞれ、電磁気力を用いた場合の上部基板201及び下部基板221の構成例を示した図である。
図17Aに示すように、上部基板201に磁石271〜274を設け、下部基板221には、図17Bに示すように、磁石271〜274に対応した位置にコイル281〜284を設けている。コイル281の両端には外部リード電極285a及び285bが、コイル282の両端には外部リード電極286a及び286bが、コイル283の両端には外部リード電極287a及び287bが、コイル284の両端には外部リード電極288a及び288bが、接続されている。各コイルに流れる電流を制御することで、上部基板201と下部基板221との間に働く電磁気力(引力、斥力)を変化させることができ、下部基板221に対する上部基板201の傾きを変化させることができる。
以上説明した可変ミラー111を撮影装置の鏡枠(被取り付け部材)に取り付ける場合、下部基板221の上部基板201に対向する面側、すなわち下部基板221の上面側に取り付け領域240を設け、この取り付け領域240を鏡枠に密着させる。図4、図5A及び図5Bに示されるように、下部基板221の面積は上部基板201の面積よりも大きく、下部基板221は上部基板201とオーバーラップしない領域を有している。そのため、この非オーバーラップ領域の一部を取り付け領域として用いることができる。
図6は、上述した可変ミラー111を撮影装置の鏡枠に取り付けたときの状態を模式的に示した図である。図6に示すように、下部基板221の上面が鏡枠150の外側の面に当接するようにして、可変ミラー111を鏡枠150に固定している。
可変ミラー111を鏡枠150に取り付ける場合、可変ミラー111の反射部(反射面)204の鏡枠150に対する位置精度が重要である。可変ミラー111の上部基板201は可動部分であるため、上部基板201を鏡枠150に取り付けた場合には、可変ミラー111を適正に制御することは不可能である。また、下部基板221の下面を取り付けに用いた場合には、下部基板221に用いる半導体基板の厚さのばらつき(公差)等により、可変ミラー111の反射部204の位置精度を高くすることは困難である。
本実施形態では、下部基板221の上面を用いて取り付けを行うため、上述したような問題を回避することができ、反射部204の位置精度を高めることができる。また、下部基板221が上部基板201とオーバーラップしない領域を取り付け領域として用いるため、作業性よく容易に可変ミラー111を鏡枠150に取り付けることができる。
また、本実施形態では、上部基板201の重心位置に当接するピボット261を設けている。したがって、可変ミラー111の反射部204の傾斜角を変化させても、下部基板221と上部基板201の重心までの距離が一定に維持され、中心部での光路長を一定に保つことができる。したがって、光路長の変動を考慮する必要がなく、フォーカス等の制御を簡略化することができる。
[第2の実施形態]
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。なお、図1〜図3に示した撮影装置の基本的な構成や像振れ補正の原理等については、第1の実施形態と同様であるため、それらの説明は省略する。
図7は本実施形態における可変ミラー111の構成の一例を示した断面図、図8は本実施形態における可変ミラー111の構成の一例を示した斜視図である。図7及び図8に示した可変ミラー111は、半導体製造技術を適用したMEMS技術を用いて作製される。
図7及び図8に示すように、可変ミラー111は、上部基板301と、上部基板301に対向して配置された下部基板321と、上部基板301と下部基板321との間に配置され、上部基板301と下部基板321との間隔(距離)を規定するスペーサ部材341とを備えている。
上部基板301は、シリコン基板(半導体基板)302の一方の主面上に二酸化シリコン薄膜(絶縁性薄膜)303及び反射膜電極304が積層され、他方の主面上に二酸化シリコン薄膜305が形成されたものである。シリコン基板302の中央部には空所306が形成されており、この空所306に対応した領域の二酸化シリコン薄膜303及び反射膜電極304が実効的な反射部307として機能する。
下部基板321は、ガラス等の絶縁性基板322上に、導電性薄膜からなる対向電極323が形成されたものである。
以上のような構成の可変ミラー111において、反射膜電極304と対向電極323との間に電位差を与えることにより、静電気力によって反射部307が対向電極323側に凹状に変形する。そして、反射膜電極304と対向電極323との間に与える電位差を変化させることで反射部307の変位量が変化し(すなわち反射部307の形状が変化する)、反射部307の反射角が変化する。したがって、反射部307の変位量を制御することで、像振れ補正を行うことができる。
上述した可変ミラー111を撮影装置の鏡枠に取り付ける場合、下部基板321の上部基板301に対向する面側、すなわち下部基板321の上面側に取り付け領域330を設け、この取り付け領域330を鏡枠に密着させる。図7及び図8に示されるように、下部基板321の面積は上部基板301の面積よりも大きく、下部基板321は上部基板301とオーバーラップしない領域を有している。そのため、この非オーバーラップ領域の一部を取り付け領域として用いることができる。
次に、上述した可変ミラー111の製造方法を、図9A〜図9Eを参照して説明する。
まず、図9Aに示すように、両面を鏡面研磨した面方位<100>のシリコン基板(シリコンウエハ)302を用意する。このシリコン基板302の両面にそれぞれ、厚さ400〜500nm程度の二酸化シリコン薄膜303及び305を形成する。続いて、二酸化シリコン薄膜303上に、厚さ100nm程度の金薄膜304を形成する。
次に、図9Bに示すように、二酸化シリコン薄膜305上に、円形の開口を有するフォトレジストパターン311を形成する。続いて、基板の下面側を保護した状態で、フォトレジストパターン311をマスクとして二酸化シリコン薄膜305をエッチングし、フォトレジストパターン311の開口に対応した窓を二酸化シリコン薄膜305に形成する。エッチングには、例えばフッ酸系のエッチング液を用いることができる。
次に、図9Cに示すように、エチレン・ジアミン・ピカテコール水溶液に基板を浸してシリコン基板302をエッチングする。シリコン基板302のエッチングは、二酸化シリコン薄膜305に形成された窓の部分から進行し、二酸化シリコン薄膜303が露出した時点で停止する。これにより、シリコン基板302の中央部に空所306が形成されるとともに、この空所306に対応した領域に二酸化シリコン薄膜303及び反射膜電極304の積層膜からなる反射部307が形成される。このようにして、上部基板301が得られる。
一方、図9Dに示すように、厚さ300μm程度のガラス基板322を用意する。このガラス基板322上に、厚さ100nm程度の金属膜からなる対向電極323を形成することで、下部基板321が得られる。
このようにして上部基板301及び下部基板321を形成した後、図9Eに示すように、上部基板301と下部基板321との間に厚さ100nm程度のポリエチレン製のスペーサ部材341を介在させ、このスペーサ部材341を介して上部基板301と下部基板321とを接着する。
以上のようにして、図7及び図8に示したような可変ミラー111が作製される。
図10は、上述した可変ミラー111を撮影装置の鏡枠に取り付けたときの状態を模式的に示した図である。図10に示すように、下部基板321の上面が鏡枠150の外側の面に当接するようにして、可変ミラー111を鏡枠150に固定している。
すでに述べたように、可変ミラー111を鏡枠150に取り付ける場合、可変ミラー111の反射部(反射面)307の鏡枠150に対する位置精度が重要である。上部基板301を取り付けに用いた場合には、上部基板301に用いる半導体基板の厚さのばらつき(公差)や製造工程中に発生する反り等により、可変ミラー111の反射部307の位置精度を高くすることは困難である。また、下部基板321の下面を取り付けに用いた場合にも、下部基板321の厚さのばらつき等により、可変ミラー111の反射部307の位置精度を高くすることはやはり困難である。
これに対して、下部基板321の上面を取り付けに用いた場合には、下部基板321の上面と上部基板301の下面との間隔は、スペーサ部材341に高寸法精度の部材(例えば高精度のガラスビーズ等)を用いることで、極めて精度よく寸法管理することが可能である。また、下部基板321に用いるガラス基板は、一般に優れた平坦性を有している。したがって、本実施形態のように、下部基板321の上面を用いて取り付けを行うことにより、反射部307の位置精度を高めることができる。また、本実施形態においても、第1の実施形態と同様、下部基板321が上部基板301とオーバーラップしない領域を取り付け領域として用いるため、作業性よく容易に可変ミラー111を鏡枠150に取り付けることができる。
図11は、本実施形態における可変ミラー111の他の構成例を示した斜視図である。図7及び図8に示した例では、取り付け領域330を下部基板321の両端部に設けたが、本例では、取り付け領域330を下部基板321の4隅に設けている。すなわち、上部基板301の4隅に切欠部315を設け、この切欠部315に対応した領域に取り付け領域330を設けている。この切欠部315は、例えば上部基板301と下部基板321とを貼り合わせる前或いは後に、上部基板301の4隅をエッチングによって除去することで、形成可能である。
図11に示したような構成を採用した場合にも、図7及び図8に示した例と同様の作用効果を得ることが可能である。また、切欠部315を設け、この切欠部315に対応した領域に取り付け領域330を設けることで、下部基板321を小型化することが可能である。
また、本発明によれば、反射部が形成された基板に対向する基板の対向面側に突起部を設けたことにより、反射部の傾斜が変化しても、光路長を一定に維持することが可能となる。
Claims (5)
- 光を反射する反射部を有する第1の基板と、前記第1の基板と対向し、前記反射部の形状及び姿勢の少なくとも一方を変化させるための部位を有する第2の基板と、を備えた可変ミラーであって、
前記第2の基板は、前記第2の基板の前記第1の基板に対向する面側に、被取り付け部材に対する取り付け領域を有するとともに、
前記第1の基板は切欠部を有し、前記切欠部に対応した領域に前記取り付け領域が設けられている可変ミラー。 - 前記取り付け領域は、前記第2の基板が前記第1の基板とオーバーラップしない領域に設けられている請求項1に記載の可変ミラー。
- 前記第2の基板の面積は、前記第1の基板の面積よりも大きい請求項1に記載の可変ミラー。
- 前記切欠部は、エッチングによって形成されたものである請求項1に記載の可変ミラー。
- 前記第1の基板と第2の基板との間に設けられ、前記第1の基板を支持する支持部材をさらに備えた請求項1に記載の可変ミラー。
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