JP4634490B2 - 回転基材の表面から液体を除去する方法および装置 - Google Patents
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米国特許第5271774号には、水平に配置された基材を取り扱うことができる回転乾燥法が開示されている。実際に、回転運動によっていくつかの小さい液体の島が形成され、基材から除去される。そのような回転乾燥法は、基材表面に、特に親水性領域と疎水性領域とが混在する表面に、乾燥キズ(drying marks)としばしば称される望ましくない残渣を残すことが知られている。
基材の表面の少なくとも一部に液体を供給する工程;
該液体と少なくとも部分的に相溶性を有し、該液体と混合した場合に該液体の表面張力よりも低い表面張力を有する混合物を生じる気体物質を、基材の表面に供給する工程;および
該基材を回転運動に付する工程
を含んで成る、少なくとも1つの基材の少なくとも1つの表面から液体を除去する方法を開示する。そのような気体物質は、該液体と相溶性を有しており、該液体と混合した場合に、該液体の表面張力よりも低い表面張力を有する混合物を生じるような気化した物質(気化物質)を含むものであってもよい。そのような気体物質は、該液体と少なくとも部分的に相溶性を有し、該液体と混合した場合に該液体の表面張力よりも低い表面張力を有する混合物を生じる気体を含むものであってもよい。該気体物質は、気体、例えば、ヘリウム、アルゴンまたは窒素等と、気体物質との混合物を含むものであってもよく、その混合物は、少なくとも部分的に、該液体と少なくとも部分的に相溶性を有し、該液体と混合した場合に該液体の表面張力よりも低い表面張力を有する混合物を生じるものである。特に、該液体および該気体物質を基材の表面に供給することによって、液体と気体物質との間に少なくとも局部的に、明確に規定された境界(即ち、いわゆる液体−蒸気境界)が形成される。
基材を回転運動に付する工程;
基材の表面の少なくとも一部に液体を供給する工程;および
該液体を供給する間に、該液体と相溶性を有しており、該液体と混合した場合に、該液体の表面張力よりも低い表面張力を有する混合物を生じる気体物質を基材の表面に供給する工程
を含んで成る、少なくとも1つの基材の少なくとも1つの表面から液体を除去する方法を開示する。特に、基材の表面の少なくとも一部に、新たな液体が連続的に吹き付けられる。例えば親水性表面の場合は、液体−蒸気境界の液体側の表面全体を、液体の連続皮膜で覆うことができる。回転運動の速度は、ウエハーの少なくとも1つの面に吹き付けられる液体の流れが、遠心力によって外側に運ばれるように選択される。さらに、該気体物質は、該液体と混合した場合に、該液体の表面張力よりも低い表面張力を有する混合物を生じる。結果として生じる該液体の表面張力の低下によって、該液体は基材の縁部方向への移動を促進される。その後の表面は清浄化され乾燥される。この乾燥作用は、少なくとも回転運度とMarangoni効果との組み合わせによって得られると考えられる。Marangoni効果によれば、その物質は、液体メニスカス(liquid meniscus)において、液体の方向に向かってその濃度が低下するように液体と混合される。濃度におけるこの勾配は、液膜の方向に液膜に作用する追加的な力を作用させ、その結果良好な乾燥性能が得られる。
基材を着脱可能なように保持し、回転運動に付することができる基材ホルダー;
基材の表面の少なくとも一部に液体を適用する液体供給システム;
基材の表面に気体物質を適用する気体物質供給システム;
を有して成る、少なくとも1つの基材の少なくとも1つの表面から液体を除去する装置を開示する。該気体物質供給システムおよび該液体供給システムは、該気体物質が該液体よりも該基材ホルダーの回転運動の中心により近い位置に適用されるように配することが好ましい。特に、該液体供給システムは、該基材ホルダーに対して移動可能である。
本発明の図面に関連して、本発明を以下更に詳細に説明する。いくつかの実施態様を開示する。当業者は、本発明を実施する種々の他の同等な実施態様または他の方法を考え得るであろうが,本発明の精神及び範囲は特許請求の範囲によって規定されるものであることは明らかである。
基材の表面の少なくとも一部に液体を供給する工程;
該液体と少なくとも部分的に相溶性を有し、該液体と混合した場合に該液体の表面張力よりも低い表面張力を有する混合物を生じる気体物質を、基材の表面に供給する工程;および
該基材を回転運動に付する工程
を含んで成る、少なくとも1つの基材の少なくとも1つの表面から液体を除去する方法を開示する。そのような気体物質は、該液体と相溶性を有しており、該液体と混合した場合に、該液体の表面張力よりも低い表面張力を有する混合物を生じるような気化した物質を含むものであってもよい。気化物質は、元素若しくは化合物若しくは元素の混合物の微細に分散された液体粒子のミスト、又は蒸気として定義される。蒸気は、元素または化合物または元素の混合物が所定の温度および圧力条件において、液相または固相である場合に、元素または化合物または元素の混合物が気相として存在することとして定義される。従って、蒸気は、ある環境中において、元素の固相または液相と共存することができる。蒸気は、元素または化合物または元素の混合物の特定の気相としての存在である。そのような気体物質は、該液体と少なくとも部分的に相溶性を有し、該液体と混合した場合に該液体の表面張力よりも低い表面張力を有する混合物を生じる気体を含むものであってもよい。該気体物質は、気体、例えば、ヘリウム、アルゴンまたは窒素等と、気体物質との混合物を含むものであってもよく、その混合物は、少なくとも部分的に、該液体と少なくとも部分的に相溶性を有し、該液体と混合した場合に該液体の表面張力よりも低い表面張力を有する混合物を生じるものである。特に、該液体および該気体物質を基材の表面に供給することによって、液体と気体物質との間に少なくとも局部的に、明確に規定された境界(即ち、いわゆる液体−蒸気境界)が形成される。境界は、後の回転の間に再湿潤化されない表面の少なくとも一部において該境界が連続的であるような、即ちその部分が回転の間の境界の横方向への動きによって決められるようなものである必要がある。本発明の方法によれば、そのような回転運動は基材上に液体−蒸気境界を導くような速度において行われる。その形態は、液体が液体−蒸気境界の液体側に保持されるような形態である。
基材を着脱可能なように保持し、回転運動に付することができる基材ホルダー;
基材の表面の少なくとも一部に液体を適用する液体供給システム;
基材の表面に気体物質を適用する気体物質供給システム;
を有して成る、少なくとも1つの基材の少なくとも1つの表面から液体を除去する装置を開示する。該気体物質供給システムおよび該液体供給システムは、該気体物質が該液体よりも該基材ホルダーの回転運動の中心により近い位置に適用されるように配することが好ましい。特に、該液体供給システムは、該基材ホルダーに対して移動可能である。
△r=(2πv)/ω
例えば、1回転当たりの移行距離△rが1mmであり、および移行速度vが1mm/秒であると仮定するならば、回転速度は1回転/秒である。
3 可動アーム、 4 気体物質を供給する手段、
5 液体を供給する手段、 6 ノズル、
11 基材ホルダー、 12 回転手段、
13 液体の速度ベクトル、 14 回転面の速度ベクトル、
15 中心シャフト、 16 中空シャフト、
17 固定手段、 18 アーム、
19 バー、 30 液体衝突点、
31 回転中心、 32 角度、
33 角度、 51 ノズル。
Claims (20)
- 少なくとも1つの基材の少なくとも1つの表面から液体を除去する装置であって、
回転運動に付することができ、基材を着脱可能なように保持する基材ホルダー;
基材の表面の少なくとも一部に液体を適用する少なくとも1つの液体供給システム;
基材の表面に気体物質を適用する少なくとも1つの気体物質供給システム;並びに
基材ホルダーに対して移動可能なアームであって、液体供給システムの液体を適用するノズル及び気体物質供給システムの気体物質を適用するノズルが固定されている1つのアーム
を有して成り、
気体物質供給システムおよび液体供給システムは、気体物質が液体よりも基材ホルダーの回転運動の中心により近い位置に適用されるように位置しており、
液体供給システムのノズルと気体物質供給システムのノズルとの間隔を一定に保持することによって、液体供給システムと気体物質供給システムとの間における基材表面のいずれかの部分に、明確に規定された液体−蒸気境界を連続的に生じさせおよび維持する装置。 - 液体が基材の表面へ跳ね返ることを防止するように構成されているチャンバーであって、基材ホルダーがその内部に配置されているチャンバーをさらに有して成る請求項1記載の装置。
- 少なくとも1つの基材の第1の表面及び第2の表面から液体を除去する装置であって、
回転運動に付することができ、基材を着脱可能なように保持する基材ホルダー;
第1の液体供給システムが液体供給用のノズルから基材の第1の表面の少なくとも一部に液体を適用し、第2の液体供給システムが液体供給用のノズルから基材の第2の表面の少なくとも一部に液体を適用する、第1及び第2の液体供給システム;並びに
第1の気体物質供給システムが気体物質供給用のノズルから基材の第1の表面に気体物質を適用し、第2の気体物質供給システムが気体物質供給用のノズルから基材の第2の表面に気体物質を適用する、第1及び第2の気体物質供給システム
を有して成り、
第1の気体物質供給用のノズル及び第1の液体供給用のノズルは1つのアームに取り付けられて、気体物質を液体よりも基材ホルダーの回転運動の中心により近い位置に適用するように配されており、第2の気体物質供給用のノズル及び第2の液体供給用のノズルは1つのアームに取り付けられて、気体物質を液体よりも基材ホルダーの回転運動の中心により近い位置に適用するように配されており、各アームは基材ホルダーに対して移動可能となっていること、
第1の液体供給用のノズルと第1の気体物質供給用のノズルとの間隔を一定に保持することによって、第1の液体供給用のノズルと第1の気体物質供給用のノズルとの間における基材の第1の表面のいずれかの部分に、明確に規定された液体−蒸気境界を連続的に生じさせおよび維持し、
第2の液体供給用のノズルと第2の気体物質供給用のノズルとの間隔を一定に保持することによって、第2の液体供給用のノズルと第2の気体物質供給用のノズルとの間における基材の第2の表面のいずれかの部分に、明確に規定された液体−蒸気境界を連続的に生じさせおよび維持する装置。 - 少なくとも1つの基材の少なくとも1つの表面から液体を除去する装置であって、
回転運動に付することができ、基材を着脱可能なように保持する基材ホルダー;
基材の表面に液体を適用する少なくとも1つのノズル;および
基材の表面に気体物質を適用する少なくとも1つのノズル
を有してなり、
少なくとも1つの液体供給用のノズル及び少なくとも1つの気体物質供給用のノズルは1つのアームに取り付けられて、アームは基材ホルダーに対して移動可能となっていること、
両ノズルは気体物質を液体よりも基材ホルダーの回転運動の中心により近い位置に適用するように配されていること、
液体供給用のノズルと気体物質供給用のノズルとの間における基材の表面のいずれかの部分に、明確に規定された液体−蒸気境界を連続的に生じさせおよび維持すること、ならびに
前記アームを基材の中央から縁部へ移動させて該液体−蒸気境界を外側方向へ案内し、それによって基材の表面から液体を除去する装置。 - 少なくとも1つの基材の少なくとも1つの表面から液体を除去する方法であって、
基材を回転運動に付する工程;
基材の表面の少なくとも一部に、液体供給システムのノズルを通して液体を供給する工程;および
該液体を供給する間に、該液体と少なくとも部分的に相溶性を有しており、該液体と混合した場合に、該液体の表面張力よりも低い表面張力を有する混合物を生じる気体物質を気体物質供給システムのノズルを通して基材の表面に供給する工程
を含んで成り、
1つのアームに液体供給システムのノズル及び気体物質供給システムのノズルが固定されており、基材を保持する基材ホルダーに対して移動可能である少なくとも1つのアームを使用すること、ならびに
液体および気体物質を前記基材の表面の一部に供給し、前記基材の表面における液体および気体物質の供給部位どうしの間隔を連続して維持することによって、前記基材の表面のいずれかの部分に少なくとも局部的に、明確に規定された液体−蒸気境界を連続的に生じさせおよび維持する方法。 - 基材の表面上において液体−蒸気境界を誘導するような速度にて回転運動を行う請求項1記載の方法。
- 回転運動が、単一の基材において、基材がそれ自身の中心のまわりで回転するように適用される請求項6記載の方法。
- 回転速度が、2〜40回転/秒の範囲である請求項7記載の方法。
- 気体物質が、液体と相溶性を有しており、該液体と混合した場合に該液体の表面張力よりも低い表面張力を有する混合物を生じる気化物質を含む請求項5記載の方法。
- 気化物質が、イソプロピルアルコール(IPA)、ジアセトン、エチルグリコール、エチルアセテート、メチルピロリドン、およびそれらの混合物から成る群から選択される請求項9記載の方法。
- 気体物質が、気化物質と気体との混合物を含んで成り、該混合物は該液体と少なくとも部分的に相溶性を有し、該液体と混合した場合に該液体の表面張力よりも低い表面張力を有する混合物を生じるものである請求項5記載の方法。
- 気化物質が、イソプロピルアルコール(IPA)、ジアセトン、エチルグリコール及びメチルピロリドン又はそれらの混合物から成る群から選択され、気体は不活性気体である請求項11記載の方法。
- 気体物質が、液体と相溶性を有し、該液体と混合した場合に該液体の表面張力よりも低い表面張力を有する混合物を生じる気体を含んで成る請求項5記載の方法。
- 液体が、エッチング液、清浄化液および濯ぎ液の群の中の1つである請求項5記載の方法。
- 液体が希薄な水溶液である請求項5記載の方法。
- 清浄化液が、NH4OH、H2O2およびH2Oの混合物;又はHCl、H2O2およびH2Oの混合物;又は希HCl;又はO3を含んで成る混合物を含んで成る請求項10記載の方法。
- 濯ぎ液が、H2Oを含むものであるか、又はH2Oと酸とのpH2〜6を有する混合物を含むものである請求項10記載の方法。
- 液体および気体物質を実質的に同時に供給する請求項5記載の方法。
- 少なくとも1つの基材の第1の表面及び第2の表面から液体を除去する方法であって、
基材を回転運動に付する工程;
基材の第1の表面の少なくとも一部及び第2の表面の少なくとも一部に液体供給用のノズルから液体を供給する工程;並びに
該液体を供給する間に、該液体と少なくとも部分的に相溶性を有しており、該液体と混合した場合に該液体の表面張力よりも低い表面張力を有する混合物を生じる気体物質を、気体物質供給用のノズルから基材の第1の表面及び第2の表面に供給する工程
を含んで成り、
1つのアームに前記液体供給用のノズル及び気体物質供給用のノズルが固定されており、基材を保持する基材ホルダーに対して移動可能である少なくとも1つのアームを使用すること、ならびに
液体および気体物質を基材の第1の表面及び第2の表面に供給し、前記基材の第1の表面及び第2の表面における液体および気体物質の供給部位どうしの間隔を連続して維持することによって、前記基材の第1の表面及び第2の表面におけるいずれかの部分に少なくとも局部的に、明確に規定された液体−蒸気境界を連続的に生じさせおよび維持する方法。 - 前記第1の表面が基材の上面であり、前記第2の表面が基材の下面である請求項19記載の方法。
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