JP4630009B2 - Display display or screen sheet - Google Patents
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Description
本発明は、背面投射型テレビや液晶ディスプレイ等にコントラスト等を向上させるために使用される光学的パターンを有するシートに関する。 The present invention relates to a sheet having an optical pattern used for improving contrast and the like in a rear projection television or a liquid crystal display.
背面投射型テレビや液晶ディスプレイ等には、映像光が入射する背面側（映像光源側ともいう。）に視野角の適性化のための凸レンズ要素を有するスクリーンが用いられている。こうしたスクリーンにおいては、観察者が十分に映像を認識することができるように、コントラストを向上させる各種の手段が提案されている。 A rear projection television, a liquid crystal display, or the like uses a screen having a convex lens element for optimizing the viewing angle on the back side (also referred to as the video light source side) on which video light is incident. In such a screen, various means for improving the contrast have been proposed so that the observer can sufficiently recognize the image.
一般的な手段としては、凸レンズ要素に入射した光が通過しない非透過部に、観察側からの外光を吸収する光吸収要素が形成されたスクリーンが知られている。
あるいは、スクリーンに映像光を反射させて表示する場合においては映像光を反射する光反射要素が形成されたスクリーンを使用されることもある。
As a general means, a screen is known in which a light-absorbing element that absorbs external light from the observation side is formed in a non-transmissive portion where light incident on a convex lens element does not pass.
Alternatively, when the image light is reflected on the screen for display, a screen on which a light reflecting element for reflecting the image light is formed may be used.
このような光吸収要素あるいは光反射要素が形成されたシートの作製方法としては基材フィルムに、光吸収材料や光反射材料をスクリーン印刷等で塗工する方法、あるいはスパッタリングや蒸着等により光学パターンを形成する方法が一般的である。
また、放射線硬化性の粘着剤に予め所定のパターンを露光し所定部位の粘着性を消失させ、粘着性の残った部分にのみ光吸収材料や光反射材料を転写させるという方法も提案されている。
As a method for producing a sheet on which such a light-absorbing element or light-reflecting element is formed, a method of applying a light-absorbing material or a light-reflecting material to the base film by screen printing, or an optical pattern by sputtering or vapor deposition. The method of forming is common.
In addition, a method has been proposed in which a predetermined pattern is exposed to a radiation curable adhesive in advance, the adhesiveness of a predetermined part is lost, and a light absorbing material or a light reflecting material is transferred only to the remaining adhesive part. .
しかしながら、このような方法でパターンを作製する場合、微細パターンの作製が難しく歩留りが悪い、製造コストの増大を招くという問題があった。
本発明は背面投射型テレビや液晶ディスプレイ等に使用されるシートであって、光吸収材料もしくは光反射材料の微細なパターンを有するシートを提供することを目的とする。
However, when a pattern is manufactured by such a method, there are problems that it is difficult to manufacture a fine pattern, the yield is low, and the manufacturing cost is increased.
An object of the present invention is to provide a sheet used for a rear projection television, a liquid crystal display or the like, and having a fine pattern of a light absorbing material or a light reflecting material.
上記問題点を克服するために種々検討を重ねた結果、基材フィルム上に放射線硬化性粘着
剤層を有してなる粘着テープの粘着剤層に光吸収材料もしくは光反射材料を貼着させた状
態で放射線照射によって粘着剤層を硬化させることによって、当該粘着テープ上に光吸収
材料もしくは光反射材料からなる微細なパターンを形成できることを見出した。
すなわち本発明は、
（１）基材フィルム上に放射線硬化性粘着剤層を有してなる粘着テープの粘着剤層の所定
部分を露光して硬化させる工程と、前記粘着剤層の表面に、他の基材フィルム上に転写層
を有してなる転写シートの転写層面を貼着する工程と、前記転写シートを貼着した状態で
、粘着テープの基材フィルム側から露光する工程と、転写シートを剥離して、転写層を粘
着テープ上の前記粘着テープの基材フィルム側から露光する工程により硬化された部分に
転写する工程とを有することを特徴とする表示ディスプレイ用もしくはスクリーン用シー
トの作製方法
（２）基材フィルム上に放射線硬化性粘着剤層を有してなる粘着テープの粘着剤層の表面
に、他の基材フィルム上に転写層を有してなる転写シートの転写層面を貼着する工程と、
前記転写シートを貼着した状態で、粘着テープの基材フィルムの上に所定のパターンを有
するフォトマスクを載せ、粘着テープの基材フィルム側から露光する工程と、転写シート
を剥離して、転写層を粘着テープ上の前記粘着テープの基材フィルム側から露光する工程
により硬化された部分に転写する工程とを有することを特徴とする表示ディスプレイ用も
しくはスクリーン用シートの作製方法、
（３）前記粘着テープの粘着剤層が複数層から構成され、最表層がそれ以外の層と波長の
異なる放射線によって硬化することを特徴とする（１）または（２）の表示ディスプレイ
用もしくはスクリーン用シートの作製方法にかかる発明である。
（１）、（２）のような構成とすることによって転写層と粘着層とのより強固な接着を得
ることができる。さらに（３）のような構成とすることで、転写層が転写された粘着剤層
表面が硬化し粘着性が消失した後も他の粘着剤層は粘着性を保持することも可能である。
或いは、基材フィルム側の粘着剤層を硬化させ、基材フィルムの剥離を容易にすることも
可能となる。
なお、ここで、放射線とは粘着剤を硬化させる作用を有するものであれば特に限定される
ものでなく、例えば紫外線のような光、あるいはレーザ光、または電子線のような電離性
放射線を総称して言うものである。
As a result of various studies to overcome the above problems, a light absorbing material or a light reflecting material was adhered to the pressure-sensitive adhesive layer of a pressure-sensitive adhesive tape having a radiation curable pressure-sensitive adhesive layer on the base film. It was found that a fine pattern made of a light absorbing material or a light reflecting material can be formed on the pressure-sensitive adhesive tape by curing the pressure-sensitive adhesive layer by irradiation with radiation.
That is, the present invention
(1) Predetermining the pressure-sensitive adhesive layer of a pressure-sensitive adhesive tape having a radiation-curable pressure-sensitive adhesive layer on a substrate film
A step of exposing and curing a portion, a step of attaching a transfer layer surface of a transfer sheet having a transfer layer on another substrate film to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, and affixing the transfer sheet In the state
, A step of exposing from the base film side of the adhesive tape and a portion cured by peeling the transfer sheet and exposing the transfer layer from the base film side of the adhesive tape on the adhesive tape. (2) Surface of the pressure-sensitive adhesive layer of a pressure-sensitive adhesive tape having a radiation-curable pressure-sensitive adhesive layer on a substrate film
In addition, the step of sticking the transfer layer surface of the transfer sheet having a transfer layer on another substrate film,
With the transfer sheet attached, a predetermined pattern is provided on the base film of the adhesive tape.
And a transfer sheet on which a photomask is placed and exposed from the base film side of the adhesive tape
And exposing the transfer layer from the base film side of the adhesive tape on the adhesive tape
And a process for transferring to a portion cured by the
Or a method for producing a screen sheet ,
(3) The pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape is composed of a plurality of layers, and the outermost layer is cured by radiation having a wavelength different from that of the other layers. It is invention concerning the manufacturing method of the sheet for use.
(1) By setting it as a structure like (2) , stronger adhesion | attachment of a transfer layer and an adhesion layer can be obtained . In the structure, such as (3) in of al other pressure-sensitive adhesive layer even after the pressure-sensitive adhesive layer surface of the transfer layer is transferred is lost is cured tack can also hold tack is there.
Or it becomes possible to harden the adhesive layer by the side of a base film, and to make peeling of a base film easy.
Here, the radiation is not particularly limited as long as it has a function of curing the pressure-sensitive adhesive. For example, light such as ultraviolet rays, laser light, or ionizing radiation such as electron beams is a general term. That's what it says.
本発明の表示ディスプレイ用もしくはスクリーン用シートの作製方法によれば、転写シートを貼合した状態で粘着剤層を硬化させるため、転写シートを剥離する際に光吸収材料もしくは光反射材料の微細パターンの欠落が生ずることが少なく、歩留まりよく表示ディスプレイ用もしくはスクリーン用シートを作製できるという効果を奏する。
According to the method for producing a display sheet or a screen sheet of the present invention, the adhesive layer is cured in a state where the transfer sheet is bonded. Therefore, when the transfer sheet is peeled off, the fine pattern of the light absorbing material or the light reflecting material is removed. Is less likely to occur, and the display display or screen sheet can be produced with high yield.
以下、本発明の実施の形態について説明する。図１は、本発明の実施の形態を説明するための工程図である。
基材フィルム上に放射線硬化性粘着剤層を有してなる粘着テープの粘着剤層の表面に、
所定のパターンを有するフォトマスクを載せ、フォトマスク側から露光する。これによって粘着剤層の所定の部分は露光されて硬化し、粘着性を消失する。未露光の部分は粘着性を保持している。フォトマスクを取り除いた後、基材フィルム上に転写層を有してなる転写シートの転写層面が粘着テープの粘着剤層と貼合されるようにラミネートする。このとき、密着性を向上させるため、１０分以上の放置が望ましい。このように転写シートが貼合された粘着テープに、基材フィルム側から放射線を照射する。この際、粘着剤層の未露光部分は転写シートの転写層が接着された状態で硬化するため、より強固に転写層と、接着する。その後、転写シートを剥離することによって、粘着剤が未露光であった部分に転写層が転写され、光学材料のパターンが形成されたシートが作製される。
また、粘着テープと転写シートの貼合の際の圧力等により、粘着剤の既に露光されていた部分にも、転写層が付着する場合がある。それらを溶剤等で洗浄し取り除いてもよい。
Embodiments of the present invention will be described below. FIG. 1 is a process diagram for explaining an embodiment of the present invention.
On the surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape having a radiation-curable pressure-sensitive adhesive layer on the base film,
A photomask having a predetermined pattern is placed and exposed from the photomask side. As a result, a predetermined portion of the pressure-sensitive adhesive layer is exposed and cured, and the adhesiveness is lost. The unexposed part retains adhesiveness. After removing the photomask, lamination is performed so that the transfer layer surface of the transfer sheet having the transfer layer on the base film is bonded to the adhesive layer of the adhesive tape. At this time, it is desirable to leave for 10 minutes or more in order to improve adhesion. Radiation is irradiated from the base film side to the adhesive tape to which the transfer sheet is bonded in this way. At this time, the unexposed portion of the pressure-sensitive adhesive layer is cured in a state where the transfer layer of the transfer sheet is adhered, so that the adhesive layer is more firmly bonded to the transfer layer. Thereafter, the transfer sheet is peeled off, whereby the transfer layer is transferred to a portion where the pressure-sensitive adhesive has not been exposed, and a sheet on which an optical material pattern is formed is produced.
Moreover, the transfer layer may adhere to the already exposed part of the pressure-sensitive adhesive due to the pressure at the time of bonding the pressure-sensitive adhesive tape and the transfer sheet. They may be removed by washing with a solvent or the like.
本発明に使用される粘着テープは少なくとも基材フィルムと粘着剤層から構成される粘着テープであって、粘着剤層が放射線照射によって硬化するものであれば特に制限されるものではなく、また基材フィルムは放射線透過性を有していればよい。一般には基材フィルムに接着性が向上するようコロナ処理等の表面処理を施し、粘着剤を塗工して作製される。しかし、基材フィルムに表面処理が施されずともよく、或いは粘着剤層が剥離可能な処置を施されていても良い。
基材フィルムとしては，例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリブテン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体、アイオノマーなどのα−オレフィンの単独重合体または共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル等のエンジニアリングプラスチック、またはポリウレタン、スチレン−エチレン−ブテンもしくはペンテン系共重合体等の熱可塑性エラストマーが挙げられる。またはこれらの群から選ばれる２種以上が混合されたものもしくは複層化されたものでもよい。基材フィルムの厚みは通常５０〜２００μｍであるが、必要に応じて厚さを変えることができる。
The pressure-sensitive adhesive tape used in the present invention is a pressure-sensitive adhesive tape composed of at least a base film and a pressure-sensitive adhesive layer, and is not particularly limited as long as the pressure-sensitive adhesive layer is cured by radiation irradiation. The material film should just have radiolucency. In general, the substrate film is prepared by applying a surface treatment such as a corona treatment so as to improve the adhesion, and applying a pressure-sensitive adhesive. However, the substrate film may not be subjected to surface treatment, or may be subjected to a treatment capable of peeling the pressure-sensitive adhesive layer.
Examples of the base film include homopolymers or copolymers of α-olefins such as polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, polybutene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-acrylic acid ester copolymer, and ionomer. Examples include polymers, engineering plastics such as polyethylene terephthalate, polycarbonate, and polymethyl methacrylate, and thermoplastic elastomers such as polyurethane, styrene-ethylene-butene, and pentene copolymers. Alternatively, a mixture of two or more selected from these groups or a multilayered structure may be used. Although the thickness of a base film is 50-200 micrometers normally, thickness can be changed as needed.
粘着剤層には一般的に、アクリル系粘着剤と放射線重合性化合物とを主成分とするものを使用できる。
アクリル系粘着剤は、（メタ）アクリル系重合体及び硬化剤を必須成分とするものである。（メタ）アクリル系重合体は、例えば（メタ）アクリル酸エステルを重合体構成単位とする重合体、及び（メタ）アクリル酸エステル系重合体の（メタ）アクリル系重合体、或いは官能性単量体との共重合体、及びこれらの重合体の混合物等が挙げられる。これらの重合体の分子量としては重量平均分子量が５０万〜１００万程度の分子量のものが一般的に適用される。
In general, an adhesive layer containing an acrylic adhesive and a radiation polymerizable compound as main components can be used.
The acrylic pressure-sensitive adhesive contains a (meth) acrylic polymer and a curing agent as essential components. The (meth) acrylic polymer is, for example, a polymer having (meth) acrylic acid ester as a polymer constituent unit, and a (meth) acrylic polymer of a (meth) acrylic acid ester polymer, or a functional single monomer. And a copolymer thereof, and a mixture of these polymers. As the molecular weight of these polymers, those having a weight average molecular weight of about 500,000 to 1,000,000 are generally applied.
また、硬化剤は、（メタ）アクリル系重合体が有する官能基と反応させて硬化させるために用いられる。例えば、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）トルエン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）ベンゼン、Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ′−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミンなどの分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、１，３−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネートなどの分子中に２個以上のイソシアネート基を有するイソシアネート系化合物、テトラメチロール−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、トリメチロール−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、トリメチロールプロパン−トリ−β−アジリジニルプロピオネート、トリメチロールプロパン−トリ−β−（２−メチルアジリジン）プロピオネートなどの分子中に２個以上のアジリジニル基を有するアジリジン系化合物等が挙げられる。硬化剤の添加量は、所望の粘着力に応じて調整すればよく、（メタ）アクリル系重合体１００質量部に対して０．１〜５．０質量部が適当である。 Moreover, a hardening | curing agent is used in order to make it react with the functional group which a (meth) acrylic-type polymer has, and to make it harden | cure. For example, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) toluene, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) ) Epoxy compounds having two or more epoxy groups in the molecule such as benzene, N, N, N, N'-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate , 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate and the like, an isocyanate compound having two or more isocyanate groups in the molecule, tetramethylol-tri-β-aziridini Lupropionate, trimethylol-tri-β-aziridinylpropionate, Examples include aziridin compounds having two or more aziridinyl groups in the molecule, such as limethylolpropane-tri-β-aziridinylpropionate and trimethylolpropane-tri-β- (2-methylaziridine) propionate. . What is necessary is just to adjust the addition amount of a hardening | curing agent according to desired adhesive force, and 0.1-5.0 mass parts is suitable with respect to 100 mass parts of (meth) acrylic-type polymers.
放射線重合性化合物としては、例えば光照射によって三次元網状化しうる分子内に光重合性炭素−炭素二重結合を少なくとも２個以上有する低分量化合物が広く用いられ、具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、１，４−ブチレングリコールジアクリレート、１，６ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレートや、オリゴエステルアクリレート等が広く適用可能である。
また、上記の様なアクリレート系化合物のほかに、ウレタンアクリレート系オリゴマーを用いる事も出来る。ウレタンアクリレート系オリゴマーは、ポリエステル型またはポリエーテル型などのポリオール化合物と、多価イソシアナート化合物（例えば、２，４−トリレンジイソシアナート、２，６−トリレンジイソシアナート、１，３−キシリレンジイソシアナート、１，４−キシリレンジイソシアナート、ジフェニルメタン４，４−ジイソシアナートなど）を反応させて得られる末端イソシアナートウレタンプレポリマーに、ヒドロキシル基を有するアクリレートあるいはメタクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコールメタクリレートなど）を反応させて得られる。
As the radiation-polymerizable compound, for example, a low molecular weight compound having at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds in a molecule that can be three-dimensionally reticulated by light irradiation is widely used. Specifically, trimethylolpropane is used. Triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, 1,4-butylene glycol diacrylate, 1,6 hexanediol diacrylate, Polyethylene glycol diacrylate and oligoester acrylate are widely applicable.
In addition to the above acrylate compounds, urethane acrylate oligomers can also be used. The urethane acrylate oligomer includes a polyol compound such as a polyester type or a polyether type, and a polyvalent isocyanate compound (for example, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diene). A terminal isocyanate urethane prepolymer obtained by reacting isocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, diphenylmethane 4,4-diisocyanate, etc., with an acrylate or methacrylate having a hydroxyl group (for example, 2-hydroxyethyl) Acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, polyethylene glycol acrylate, polyethylene glycol methacrylate, etc.) Obtained by the reaction.
放射線硬化型粘着剤中のアクリル系粘着剤と放射線重合性化合物との配合比としては、アクリル系粘着剤１００質量部に対して放射線重合性化合物を５０〜２００質量部、好ましくは５０〜１５０質量部の範囲で配合されるのが望ましい。この配合比の範囲である場合、放射線照射後に粘着剤層の粘着力は大きく低下する。
更には、放射線硬化型粘着剤は、上記の様にアクリル系粘着剤に放射線重合性化合物を配合する替わりに、アクリル系粘着剤自体を放射線重合性の官能基を有するアクリル酸エステル共重合体としてもよい。
As a compounding ratio of the acrylic pressure-sensitive adhesive and the radiation-polymerizable compound in the radiation-curable pressure-sensitive adhesive, the radiation-polymerizable compound is 50 to 200 parts by weight, preferably 50 to 150 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic pressure-sensitive adhesive. It is desirable to blend in the range of parts. In the case of this blending ratio range, the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive layer is greatly reduced after radiation irradiation.
Furthermore, the radiation-curable pressure-sensitive adhesive is an acrylic ester copolymer having a radiation-polymerizable functional group instead of blending the radiation-polymerizable compound with the acrylic pressure-sensitive adhesive as described above. Also good.
また、放射線により粘着剤層の重合を開始させるために、光重合開始剤、例えばイソプロピルベンゾインエーテル、イソブチルベンゾインエーテル、ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、クロロチオキサントン、ベンジルメチルケタール、α−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシメチルフェニルプロパン等を添加する事が出来る。これらのうち少なくとも１種類を粘着剤層に添加する事により、効率よく重合反応を進行させる事が出来る。
粘着剤には適宜、粘着力を調整するためのタッキファイヤーなども添加される。粘着剤層の厚さは通常３〜１０μｍである。
粘着剤層は、複数層で構成されている場合も含まれ、各層を異なる波長放射線にて硬化する材料、或は硬化しない材料などを用い構成することもできる。
In order to initiate polymerization of the adhesive layer by radiation, a photopolymerization initiator such as isopropyl benzoin ether, isobutyl benzoin ether, benzophenone, Michler's ketone, chlorothioxanthone, benzyl methyl ketal, α-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy Methylphenylpropane or the like can be added. By adding at least one of these to the pressure-sensitive adhesive layer, the polymerization reaction can proceed efficiently.
A tackifier or the like for adjusting the adhesive strength is appropriately added to the adhesive. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is usually 3 to 10 μm.
The pressure-sensitive adhesive layer includes a case where it is composed of a plurality of layers, and each layer can be composed of a material that cures with different wavelength radiation or a material that does not cure.
また、本発明に使用される転写シートは、基材フィルムと転写層から構成されるシートである。基材フィルムとしては例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリブテン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体などが使用される。これらの基材フィルムの表面に剥離しやすいよう、例えばシリコン処理、フッ素樹脂処理等の離型処理を施してもよい。 The transfer sheet used in the present invention is a sheet composed of a base film and a transfer layer. Examples of the base film that can be used include polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, polybutene, ethylene-vinyl acetate copolymer, and ethylene-acrylic acid ester copolymer. For example, a release treatment such as a silicon treatment or a fluororesin treatment may be performed so that the surface of these base films is easily peeled off.
転写層は用途に応じて適宜選択される無機成分の粉末と、有機溶剤、有機材料からなる結合剤などと混合したペースト状のものを塗工し乾燥して作製される。もしくは、蒸着などの方法により直接、基材フィルム上に積層して作製してもよい。
無機成分としては例えば、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｇｅ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｓｅ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ｒｂ等の金属およびその酸化物、窒化物の１種もしくは２種以上を組み合わせて使用してもよい。また炭素粉末を使用してもよい。
また、転写層に用いられる有機成分に放射線重合性の化合物を添加してもよい。粘着テープの粘着剤が硬化する際に同時に硬化して接合し、粘着テープへの転写が容易となる。
The transfer layer is prepared by applying and drying a paste in which an inorganic component powder appropriately selected according to the application, an organic solvent, a binder made of an organic material, and the like are mixed. Or you may laminate | stack on a base film directly by methods, such as vapor deposition, and may produce it.
Examples of inorganic components include metals such as Cr, Ti, Fe, Co, Ni, Cu, Ag, Au, Ge, Al, Mg, Sb, Pb, Pd, Cd, Bi, Sn, Se, In, Ge, and Rb. And one or more of oxides and nitrides thereof may be used in combination. Carbon powder may also be used.
Moreover, you may add a radiation polymerizable compound to the organic component used for a transfer layer. When the pressure-sensitive adhesive of the pressure-sensitive adhesive tape is cured, it is simultaneously cured and bonded, and transfer to the pressure-sensitive adhesive tape becomes easy.
図２は、本発明のその他の実施の形態を説明するための工程図である。
基材フィルム上に放射線硬化性粘着剤層を有してなる粘着テープの粘着剤層の表面と、
基材フィルム上に転写層を有してなる転写シートの転写層面とが貼合されるようにラミネートする。所定のパターンを有するフォトマスクを粘着テープの基材側に載せ、フォトマスク側から露光する。これによって粘着剤層の所定の部分は転写シートの転写層が接着された状態で露光されて硬化し、粘着剤層と転写層とが接着する。その後、転写シートを剥離することによって、粘着剤が露光された部分に転写層が転写される。粘着テープの未露光部分に粘着している転写層は有機溶剤等で取り除くことができる。不要な転写層が除去された後、粘着テープ全体を再度、露光し、未露光部分の粘着力を消失させ、光学材料のパターンが転写されたシートを作製する。
FIG. 2 is a process diagram for explaining another embodiment of the present invention.
The surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape having a radiation-curable pressure-sensitive adhesive layer on the base film,
Lamination is performed such that the transfer layer surface of the transfer sheet having the transfer layer is bonded onto the base film. A photomask having a predetermined pattern is placed on the base material side of the adhesive tape and exposed from the photomask side. As a result, a predetermined portion of the pressure-sensitive adhesive layer is exposed and cured in a state where the transfer layer of the transfer sheet is bonded, and the pressure-sensitive adhesive layer and the transfer layer are bonded. Thereafter, the transfer sheet is peeled off, whereby the transfer layer is transferred to the portion where the adhesive is exposed. The transfer layer adhered to the unexposed portion of the adhesive tape can be removed with an organic solvent or the like. After the unnecessary transfer layer is removed, the entire pressure-sensitive adhesive tape is exposed again, the adhesive strength of the unexposed portion is lost, and a sheet on which the pattern of the optical material is transferred is produced.
本発明のシート作製方法は、背面投射型テレビや液晶ディスプレイ等にコントラスト等を向上させるために使用される光学的パターンを有するシートに使用することができる。
The sheet manufacturing method of the present invention can be used for a sheet having an optical pattern used for improving contrast or the like in a rear projection television or a liquid crystal display.
１：粘着テープ
２：粘着テープを構成する基材フィルム
３：粘着剤層
４：フォトマスク
５：転写シート
６：転写シートを構成する基材フィルム
７：転写層
1: Adhesive tape 2: Substrate film constituting the adhesive tape 3: Adhesive layer 4: Photomask 5: Transfer sheet 6: Substrate film constituting the transfer sheet 7: Transfer layer
Claims (3)
露光して硬化させる工程と、前記粘着剤層の表面に、他の基材フィルム上に転写層を有し
てなる転写シートの転写層面を貼着する工程と、前記転写シートを貼着した状態で、粘着
テープの基材フィルム側から露光する工程と、転写シートを剥離して、転写層を粘着テー
プ上の前記粘着テープの基材フィルム側から露光する工程により硬化された部分に転写す
る工程とを有することを特徴とする表示ディスプレイ用もしくはスクリーン用シートの作
製方法。
A predetermined portion of the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape having a radiation curable pressure-sensitive adhesive layer on the base film
A step of exposing and curing, a step of adhering a transfer layer surface of a transfer sheet having a transfer layer on another substrate film, and a state of adhering the transfer sheet to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer The step of exposing from the base film side of the adhesive tape and the step of peeling the transfer sheet and transferring the transfer layer to the portion cured by the step of exposing from the base film side of the adhesive tape on the adhesive tape A method for producing a sheet for display or screen, characterized by comprising:
の基材フィルム上に転写層を有してなる転写シートの転写層面を貼着する工程と、前記転Attaching a transfer layer surface of a transfer sheet having a transfer layer on the substrate film of
写シートを貼着した状態で、粘着テープの基材フィルムの上に所定のパターンを有するフA sheet having a predetermined pattern on the base film of the adhesive tape with the copying sheet attached.
ォトマスクを載せ、粘着テープの基材フィルム側から露光する工程と、転写シートを剥離Place the photomask, expose from the base film side of the adhesive tape, and peel off the transfer sheet
して、転写層を粘着テープ上の前記粘着テープの基材フィルム側から露光する工程によりAnd by exposing the transfer layer from the base film side of the adhesive tape on the adhesive tape.
硬化された部分に転写する工程とを有することを特徴とする表示ディスプレイ用もしくはOr a step of transferring to a cured part
スクリーン用シートの作製方法。A method for producing a screen sheet.
3. The display display or screen sheet according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive layer of the pressure-sensitive adhesive tape comprises a plurality of layers, and the outermost layer is cured by radiation having a wavelength different from that of the other layers. Manufacturing method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004183454A JP4630009B2 (en) | 2004-06-22 | 2004-06-22 | Display display or screen sheet |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2004183454A JP4630009B2 (en) | 2004-06-22 | 2004-06-22 | Display display or screen sheet |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2006010735A JP2006010735A (en) | 2006-01-12 |
| JP4630009B2 true JP4630009B2 (en) | 2011-02-09 |
Family
ID=35778111
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004183454A Expired - Fee Related JP4630009B2 (en) | 2004-06-22 | 2004-06-22 | Display display or screen sheet |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4630009B2 (en) |
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2004
- 2004-06-22 JP JP2004183454A patent/JP4630009B2/en not_active Expired - Fee Related
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2006010735A (en) | 2006-01-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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| R350 | Written notification of registration of transfer |
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