JP2007187843A - Manufacturing method of microlens substrate, the microlens substrate, transmission screen and rear-type projector - Google Patents

Manufacturing method of microlens substrate, the microlens substrate, transmission screen and rear-type projector Download PDF

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信雄 清水
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a microlens substrate where bubbles are prevented from getting mixed therein, and irregularities in thickness are suppressed, and to provide a method for manufacturing the microlens substrate. <P>SOLUTION: The method includes a process of sticking a transfer sheet 13 composed of light-shielding material to a pressure sensitive adhesive layer 31 so that a light-shielding material layer 32' is brought into contact with the pressure-sensitive adhesive layer 31 is performed in a reduced pressure state by using a pressure-reducing vacuum device. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、マイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a microlens substrate, a microlens substrate, a transmissive screen, and a rear projector.

近年、リア型プロジェクタは、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクタに用いられる透過型スクリーンには、レンチキュラレンズを備えたレンズ基板(レンチキュラレンズ基板)を備えたものが一般的に用いられている。このようなレンチキュラレンズ基板を備えた透過型スクリーンでは、左右の視野角が大きいが上下の視野角が小さい(視野角に偏りがある)という問題があった。
In recent years, the demand for rear projectors is increasing as a display suitable for home theater monitors, large-screen televisions, and the like.
A transmission screen used for a rear projector generally includes a lens substrate (lenticular lens substrate) including a lenticular lens. The transmission screen provided with such a lenticular lens substrate has a problem that the left and right viewing angles are large but the vertical viewing angles are small (the viewing angles are biased).

このような問題を解決するものとして、レンチキュラレンズに代えてマイクロレンズを備えたレンズ基板(マイクロレンズ基板)を用いた透過型スクリーンがある。
このようなレンズ基板(レンズアレイシート、レンズシート)の製造方法としては、多数の凹部が設けられたガラス基板の凹部が設けられた面に未硬化の樹脂を供給し、該樹脂を硬化させることにより、前記凹部内に充填された樹脂によりマイクロレンズを形成する方法が用いられている(例えば、特許文献1参照)。そして、上記のようなレンズ基板では、マイクロレンズの焦点距離が数十μmと短いため、より薄型のマイクロレンズ基板を得るために、例えばフォトポリマー法(2P法)等により、レンズ形状をフィルム材に転写することが行われている。
As a solution to such a problem, there is a transmissive screen using a lens substrate (microlens substrate) provided with a microlens instead of a lenticular lens.
As a method of manufacturing such a lens substrate (lens array sheet, lens sheet), an uncured resin is supplied to the surface of the glass substrate provided with a large number of recesses, and the resin is cured. Thus, a method of forming a microlens with a resin filled in the recess is used (see, for example, Patent Document 1). In the lens substrate as described above, since the focal length of the microlens is as short as several tens of μm, in order to obtain a thinner microlens substrate, the lens shape is changed to a film material by, for example, the photopolymer method (2P method). It has been transferred to.

しかしながら、上記ガラス基板上に樹脂を供給し延ばす場合に、凹部(マイクロレンズ用凹部)が2次元的に配されているため、樹脂の流動が規制される。これにより、フィルム材と樹脂との間に気泡が残留したり、樹脂が均等に延ばされず部分的に厚くなったりする等の問題が発生する。その結果、マイクロレンズの焦点位置にばらつきを生じたり、マイクロレンズ基板中に気泡が存在したりすることにより、マイクロレンズ基板の光学特性が著しく低下することがあった。   However, when the resin is supplied and extended on the glass substrate, the recesses (microlens recesses) are two-dimensionally arranged, so that the resin flow is restricted. As a result, problems such as bubbles remain between the film material and the resin, and the resin does not extend evenly and become partially thick, etc. As a result, the optical position of the microlens substrate may be significantly deteriorated due to variations in the focal position of the microlens or the presence of bubbles in the microlens substrate.

特開2005−37694号公報(段落番号0018〜0022)JP-A-2005-37694 (paragraph numbers 0018 to 0022)

本発明の目的は、気泡の混入が防止され、不本意な厚さのばらつきが抑制されたマイクロレンズ基板を提供すること、前記マイクロレンズ基板を効率良く製造することができる製造方法を提供すること、また、前記マイクロレンズ基板を備えた透過型スクリーン、リア型プロジェクタを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a microlens substrate in which bubbles are prevented from being mixed and unintentional thickness variation is suppressed, and to provide a manufacturing method capable of efficiently manufacturing the microlens substrate. Another object of the present invention is to provide a transmissive screen and a rear projector provided with the microlens substrate.

このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のマイクロレンズ基板の製造方法は、多数のマイクロレンズを有する基板本体を備えたマイクロレンズ基板を製造する方法であって、
製造すべき前記基板本体の前記マイクロレンズが設けられた面側の反転形状を有する成形型の面上に、流動性を有する組成物を付与する組成物付与工程と、
前記組成物にシート材を密着させる密着工程と、
前記組成物を固化させる固化工程とを有し、
前記組成物と前記シート材との間が減圧された減圧状態で、前記密着工程を行うことを特徴とする。
これにより、気泡の混入が防止され、不本意な厚さのばらつきが抑制されたマイクロレンズ基板を効率良く製造することができるマイクロレンズ基板の製造方法を提供することができる。
Such an object is achieved by the present invention described below.
A method of manufacturing a microlens substrate of the present invention is a method of manufacturing a microlens substrate including a substrate body having a large number of microlenses,
A composition applying step for applying a composition having fluidity on the surface of a mold having an inverted shape on the surface side where the microlenses of the substrate body to be manufactured are provided;
An adhesion step for closely adhering the sheet material to the composition;
A solidification step for solidifying the composition,
The adhesion step is performed in a reduced pressure state where the pressure between the composition and the sheet material is reduced.
Accordingly, it is possible to provide a method for manufacturing a microlens substrate that can efficiently manufacture a microlens substrate in which bubbles are prevented from being mixed and unintentional thickness variation is suppressed.

本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、真空チャンバを用いることにより、前記組成物および前記シート材の全体を含む空間を前記減圧状態とすることが好ましい。
これにより、より好適に減圧状態を作り出すことができ、成形型上に付与された組成物をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物とシート材との間に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。
In the method for manufacturing a microlens substrate of the present invention, it is preferable that a vacuum chamber is used so that a space including the entire composition and the sheet material is brought into the reduced pressure state.
As a result, a reduced pressure state can be created more suitably, the composition applied on the mold can be more evenly spread, and unintentional thickness variations occur in the manufactured microlens substrate. Can be more effectively prevented, and air bubbles can be more effectively prevented from remaining between the composition and the sheet material.

本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、シール材を用いることにより、前記組成物と前記シート材との間の空間のみを選択的に前記減圧状態とすることが好ましい。
これにより、より好適に減圧状態を作り出すことができ、成形型上に付与された組成物をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物とシート材との間に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。また、比較的単純で小型の装置を用いて、密着工程を行うことができる。
In the method for manufacturing a microlens substrate of the present invention, it is preferable that only the space between the composition and the sheet material is selectively brought into the reduced pressure state by using a sealing material.
As a result, a reduced pressure state can be created more suitably, the composition applied on the mold can be more evenly spread, and unintentional thickness variations occur in the manufactured microlens substrate. Can be more effectively prevented, and air bubbles can be more effectively prevented from remaining between the composition and the sheet material. In addition, the contact process can be performed using a relatively simple and small apparatus.

本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、前記組成物付与工程、前記密着工程、および、前記固化工程を経て製造された前記基板本体の前記マイクロレンズが設けられた面側とは反対の面側に、ポジ型の感光性粘着剤を付与して粘着剤層を形成する粘着剤層形成工程と、
前記基板本体を介して前記粘着剤層に光を照射する処理を施し、感光部の粘着性を低下させる光照射工程と、
前記粘着剤層上に、遮光層形成用材料で構成された遮光性材料層を有する遮光性材料転写シートを貼り合わせる貼着工程と、
貼り合わされた前記遮光性材料転写シートを前記粘着剤層から剥離し、前記感光性粘着剤の非感光部に選択的に前記遮光層形成用材料を転写することで、開口部を有する遮光膜を形成する遮光膜形成工程とをさらに有し、
前記粘着剤層と前記遮光性材料転写シートとの間が減圧された減圧状態で、前記貼着工程を行うことが好ましい。
これにより、製造されるマイクロレンズ基板において不本意な厚さのばらつきが発生したり、マイクロレンズ基板中に気泡等が残存したりすることによる不都合の発生をより効果的に防止することができるとともに、製造されるマイクロレンズ基板において、よりコントラストに優れた画像を表示することができる。
In the method for producing a microlens substrate of the present invention, the surface of the substrate body manufactured through the composition application step, the adhesion step, and the solidification step is opposite to the surface side on which the microlens is provided. In addition, a pressure-sensitive adhesive layer forming step of forming a pressure-sensitive adhesive layer by applying a positive photosensitive pressure-sensitive adhesive,
A light irradiation step of applying light to the pressure-sensitive adhesive layer through the substrate body to reduce the adhesiveness of the photosensitive portion;
A sticking step of bonding a light-shielding material transfer sheet having a light-shielding material layer composed of a light-shielding layer forming material on the pressure-sensitive adhesive layer;
The light-shielding material transfer sheet bonded is peeled off from the pressure-sensitive adhesive layer, and the light-shielding layer forming material is selectively transferred to the non-photosensitive portion of the photosensitive pressure-sensitive adhesive, thereby forming a light-shielding film having an opening. A light shielding film forming step to be formed;
The adhering step is preferably performed in a reduced pressure state where the pressure between the pressure-sensitive adhesive layer and the light-shielding material transfer sheet is reduced.
As a result, it is possible to more effectively prevent the occurrence of inconvenience due to the unintentional thickness variation in the microlens substrate to be manufactured or the bubbles remaining in the microlens substrate. In the manufactured microlens substrate, an image with higher contrast can be displayed.

本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、前記粘着剤層形成工程は、前記基板本体上に、感光性粘着剤で構成された粘着剤シートを貼り合わせることにより行うものであり、
前記粘着剤層形成工程を、前記基板本体と前記粘着剤シートとの間が減圧された減圧状態で行うことが好ましい。
これにより、製造されるマイクロレンズ基板において不本意な厚さのばらつきが発生したり、マイクロレンズ基板中に気泡等が残存したりすることによる不都合の発生をより効果的に防止することができるとともに、製造されるマイクロレンズ基板において、よりコントラストに優れた画像を表示することができる。
In the method for producing a microlens substrate of the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer forming step is performed by laminating a pressure-sensitive adhesive sheet composed of a photosensitive pressure-sensitive adhesive on the substrate body,
The pressure-sensitive adhesive layer forming step is preferably performed in a reduced pressure state in which the space between the substrate body and the pressure-sensitive adhesive sheet is reduced.
As a result, it is possible to more effectively prevent the occurrence of inconvenience due to the unintentional thickness variation in the microlens substrate to be manufactured or the bubbles remaining in the microlens substrate. In the manufactured microlens substrate, an image with higher contrast can be displayed.

本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、前記組成物付与工程、前記密着工程、および、前記固化工程を経て製造された前記基板本体の前記マイクロレンズが設けられた面側とは反対の面側に、拡散板を貼り合わせて拡散部を形成する拡散部形成工程をさらに有し、
前記拡散部形成工程を、前記基板本体と前記拡散板との間の空間が減圧された減圧状態で行うことが好ましい。
これにより、製造されるマイクロレンズ基板において不本意な厚さのばらつきが発生したり、マイクロレンズ基板中に気泡等が残存したりすることによる不都合の発生をより効果的に防止することができるとともに、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
In the method for manufacturing a microlens substrate of the present invention, the surface of the substrate body manufactured through the composition application step, the adhesion step, and the solidification step is opposite to the surface side on which the microlenses are provided. In addition, a diffusion part forming step of forming a diffusion part by bonding the diffusion plate,
It is preferable that the diffusion part forming step is performed in a reduced pressure state in which a space between the substrate body and the diffusion plate is reduced.
As a result, it is possible to more effectively prevent the occurrence of inconvenience due to unintentional thickness variation in the manufactured microlens substrate, or bubbles remaining in the microlens substrate. The viewing angle characteristics can be made particularly excellent.

本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、前記減圧状態における圧力が、1×10−2〜1×10Paであることが好ましい。
これにより、製造されるマイクロレンズ基板において不本意な厚さのばらつきが発生したり、マイクロレンズ基板中に気泡等が残存したりすることによる不都合の発生をより効果的に防止することができるとともに、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
In the method for manufacturing a microlens substrate of the present invention, the pressure in the reduced pressure state is preferably 1 × 10 −2 to 1 × 10 5 Pa.
As a result, it is possible to more effectively prevent the occurrence of inconvenience due to unintentional thickness variation in the manufactured microlens substrate, or bubbles remaining in the microlens substrate. The viewing angle characteristics can be made particularly excellent.

本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、前記シート材の厚さは、20〜200μmであることが好ましい。
これにより、マイクロレンズ基板中に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができるとともに、密着工程において、シート材にしわが発生するのをより効果的に防止することができ、製造されるマイクロレンズ基板において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができる。
In the method for manufacturing a microlens substrate of the present invention, the thickness of the sheet material is preferably 20 to 200 μm.
As a result, it is possible to more effectively prevent bubbles and the like from remaining in the microlens substrate, and it is possible to more effectively prevent wrinkles from occurring in the sheet material in the adhesion process, which is manufactured. It is possible to more effectively prevent unintentional thickness variations in the microlens substrate.

本発明のマイクロレンズ基板の製造方法では、前記シート材は、ポリエチレンテレフタレートで構成されたものであることが好ましい。
ポリエチレンテレフタレートは、好適な光学特性を有するとともに、適度な可撓性を有しており、密着工程を効率良く行うことができる。また、組成物として用いられる各種材料との親和性にも優れており、製造されるマイクロレンズ基板の信頼性を特に優れたものとすることができる。
In the method for producing a microlens substrate of the present invention, the sheet material is preferably made of polyethylene terephthalate.
Polyethylene terephthalate has suitable optical properties and moderate flexibility, so that the adhesion process can be performed efficiently. Moreover, it is excellent also in affinity with various materials used as the composition, and the reliability of the manufactured microlens substrate can be made particularly excellent.

本発明のマイクロレンズ基板は、本発明の方法により製造されたことを特徴とする。
これにより、気泡の混入が防止され、不本意な厚さのばらつきが抑制されたマイクロレンズ基板を提供することができる。
本発明の透過型スクリーンは、本発明のマイクロレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、画像を表示した際における色ムラ等の不都合の発生が十分に防止された透過型スクリーンを提供することができる。
The microlens substrate of the present invention is manufactured by the method of the present invention.
Thereby, it is possible to provide a microlens substrate in which bubbles are prevented from being mixed and unintentional thickness variation is suppressed.
The transmission screen of the present invention is characterized by including the microlens substrate of the present invention.
Accordingly, it is possible to provide a transmission screen in which inconveniences such as color unevenness when displaying an image are sufficiently prevented.

本発明の透過型スクリーンでは、光の出射側にフレネルレンズが設けられたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された前記マイクロレンズ基板とを備えたことが好ましい。
これにより、画像を表示した際における色ムラ等の不都合の発生が十分に防止された透過型スクリーンを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、画像を表示した際における色ムラ等の不都合の発生が十分に防止されたリア型プロジェクタを提供することができる。
In the transmissive screen of the present invention, a Fresnel lens portion provided with a Fresnel lens on the light exit side;
It is preferable that the microlens substrate is provided on the light emission side of the Fresnel lens portion.
Accordingly, it is possible to provide a transmission screen in which inconveniences such as color unevenness when displaying an image are sufficiently prevented.
A rear projector according to the present invention includes the transmission screen according to the present invention.
Accordingly, it is possible to provide a rear projector in which occurrence of inconvenience such as color unevenness when an image is displayed is sufficiently prevented.

以下、本発明のマイクロレンズ基板の製造方法、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、添付図面に示す好適な実施形態に基づいて詳細に説明する。
なお、本発明において、「基板」とは、実質的に可撓性を有さない、比較的肉厚の大きいものから、シート状のものや、フィルム状のもの等の含む概念のことを指す。
Hereinafter, a method for manufacturing a microlens substrate, a microlens substrate, a transmissive screen, and a rear projector according to the present invention will be described in detail based on preferred embodiments shown in the accompanying drawings.
In the present invention, the “substrate” refers to a concept that is substantially inflexible and includes a relatively large thickness, a sheet-like material, a film-like material, and the like. .

本発明のマイクロレンズ基板の用途は、特に限定されないが、以下の説明では、マイクロレンズ基板を、主に、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材として用いるものとして説明する。
まず、本発明のマイクロレンズ基板および透過型スクリーンの構成について説明する。
図1は、本発明のマイクロレンズ基板の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図、図2は、図1に示すマイクロレンズ基板の平面図、図3は、図1に示すマイクロレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図1、図3中の左側を「(光の)入射側」、右側を「(光の)出射側」と言う。また、本発明においては、特に断りのない限り、「(光の)入射側」、「(光の)出射側」とは、それぞれ、画像光(映像光)を得るための光の「入射側」、「出射側」のことを指し、外光等の「入射側」、「出射側」のことを指すものではない。
The use of the microlens substrate of the present invention is not particularly limited, but in the following description, the microlens substrate will be described as being mainly used as a member constituting a transmissive screen and a rear projector.
First, the configuration of the microlens substrate and the transmission screen of the present invention will be described.
1 is a schematic longitudinal sectional view showing a preferred embodiment of the microlens substrate of the present invention, FIG. 2 is a plan view of the microlens substrate shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a microlens substrate shown in FIG. It is a typical longitudinal section showing a suitable embodiment of a transmission type screen of the present invention provided with. In the following description, the left side in FIGS. 1 and 3 is referred to as “(light) incident side”, and the right side is referred to as “(light) emission side”. In the present invention, unless otherwise specified, the “(light) incident side” and the “(light) output side” are the “incident side” of light for obtaining image light (video light), respectively. ”And“ outgoing side ”, not“ incident side ”or“ outgoing side ”of external light or the like.

マイクロレンズ基板1は、後述する透過型スクリーン10を構成する部材であり、図1に示すように、所定のパターンで配列された複数個のマイクロレンズ21を備えた基板本体2と、ブラックマトリックス(遮光膜)3と、入射した光を乱反射させることにより拡散させる機能を有する拡散部4とを備えている。
基板本体2は、通常、主として光透過性を有する材料で構成される。
基板本体2の構成材料としては、例えば、各種樹脂材料、各種ガラス材料等を用いることができるが、基板本体2の生産性や、後述するブラックマトリックス3との密着性等の観点から、樹脂材料が好ましい。
The microlens substrate 1 is a member constituting a transmissive screen 10 described later. As shown in FIG. 1, the microlens substrate 1 includes a substrate body 2 having a plurality of microlenses 21 arranged in a predetermined pattern, a black matrix ( A light-shielding film) 3 and a diffusion portion 4 having a function of diffusing incident light by irregular reflection.
The substrate body 2 is usually composed mainly of a material having optical transparency.
As the constituent material of the substrate body 2, for example, various resin materials, various glass materials, and the like can be used. Is preferred.

基板本体2を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド(例:ナイロン6、ナイロン46、ナイロン66、ナイロン610、ナイロン612、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン6−12、ナイロン6−66)、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート(PC)、ポリ−(4−メチルペンテン−1)、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹脂)、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール(PVA)、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリシクロヘキサンテレフタレート(PCT)等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルイミド、ポリアセタール(POM)、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル(液晶ポリマー)、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて(例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として)用いることができる。   Examples of the resin material constituting the substrate body 2 include polyolefins such as polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), cyclic polyolefin, modified polyolefin, polyvinyl chloride, and polychlorinated. Vinylidene, polystyrene, polyamide (eg, nylon 6, nylon 46, nylon 66, nylon 610, nylon 612, nylon 11, nylon 12, nylon 6-12, nylon 6-66), polyimide, polyamideimide, polycarbonate (PC), Poly- (4-methylpentene-1), ionomer, acrylic resin, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), butadiene-styrene copolymer Polyoxymethylene, polyvinyl alcohol (PVA), ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH), polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polyester such as polycyclohexane terephthalate (PCT), polyether, polyether ketone (PEK), polyether ether ketone (PEEK), polyether imide, polyacetal (POM), polyphenylene oxide, modified polyphenylene oxide, polysulfone, polyether sulfone, polyphenylene sulfide, polyarylate, aromatic polyester (liquid crystal polymer), poly Tetrafluoroethylene, polyvinylidene fluoride, other fluororesins, styrene, polyolefin, polyvinyl chloride, polyurea Various polyesters, polyesters, polyamides, polybutadienes, transpolyisoprenes, fluororubbers, chlorinated polyethylenes, and other thermoplastic elastomers, epoxy resins, phenol resins, urea resins, melamine resins, unsaturated polyesters, silicones Resins, urethane-based resins, etc., or copolymers, blends, polymer alloys, etc. mainly composed of these, and combinations of one or more of these (for example, blend resins, polymer alloys, laminates) As body etc.).

基板本体2の構成材料(固化した状態の材料)は、一般に、各種気体(マイクロレンズ基板1が用いられる雰囲気)より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、1.35〜1.9であるのが好ましく、1.40〜1.75であるのがより好ましい。基板本体2の構成材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光(入射光)の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。   The constituent material (solidified material) of the substrate body 2 generally has an absolute refractive index greater than various gases (the atmosphere in which the microlens substrate 1 is used), but the specific value of the absolute refractive index is 1.35 to 1.9, and more preferably 1.40 to 1.75. When the absolute refractive index of the constituent material of the substrate body 2 is a value within the above range, the viewing angle characteristic can be made particularly excellent while making the utilization efficiency of light (incident light) particularly excellent.

特に、基板本体2は、後に詳述するような方法により製造されたものであるため、気泡の混入が防止され、不本意な厚さのばらつきが抑制されたものとなっている。これにより、マイクロレンズ基板1の光学特性は優れたものとなり、画像を表示した際における色ムラ等の不都合の発生を十分に防止することができる。
また、基板本体2の不本意な厚さのばらつきが抑制されているため、基板本体2が備えている各マイクロレンズ21の焦点距離を均一なものとすることができ、後述するような方法により、ブラックマトリックス3の開口部33の大きさのばらつきを防止することができ、画像を表示した際における色ムラ等の発生をより確実に防止することができる。
また、基板本体2は、シート材24を用いて製造されたものであるため、基板本体2の表面(光の出射側の表面)における不本意な凹凸の発生が効果的に防止されている。これにより、マイクロレンズ基板1としての光学特性を設計通りのものにコントロールし易くなる。
In particular, since the substrate body 2 is manufactured by a method that will be described in detail later, mixing of bubbles is prevented, and unintentional thickness variations are suppressed. Thereby, the optical characteristics of the microlens substrate 1 are excellent, and it is possible to sufficiently prevent the occurrence of inconveniences such as color unevenness when an image is displayed.
In addition, since the unintentional variation in thickness of the substrate body 2 is suppressed, the focal length of each microlens 21 provided in the substrate body 2 can be made uniform by a method described later. Further, variation in the size of the opening 33 of the black matrix 3 can be prevented, and color unevenness or the like when an image is displayed can be more reliably prevented.
Moreover, since the board | substrate body 2 is manufactured using the sheet | seat material 24, generation | occurrence | production of the unintentional unevenness | corrugation in the surface (surface of the light emission side) of the board | substrate body 2 is prevented effectively. This makes it easy to control the optical characteristics of the microlens substrate 1 as designed.

マイクロレンズ基板1は、光の入射する面側に凸面を有する凸レンズとしてのマイクロレンズ21を複数個備えている。
本実施形態において、マイクロレンズ21は、マイクロレンズ基板1を平面視した際の縦幅(鉛直方向の幅)が横幅(水平方向の幅)よりも小さい扁平形状(略楕円形、略俵形)を有している。マイクロレンズ21がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。
The microlens substrate 1 includes a plurality of microlenses 21 as convex lenses having a convex surface on the light incident surface side.
In the present embodiment, the microlens 21 has a flat shape (substantially elliptical, substantially bowl-shaped) in which the vertical width (vertical width) when the microlens substrate 1 is viewed in plan is smaller than the horizontal width (horizontal width). have. When the microlens 21 has such a shape, it is possible to make the viewing angle characteristics particularly excellent while effectively preventing the occurrence of inconvenience such as moire. In particular, both the horizontal and vertical viewing angle characteristics can be improved.

平面視したときのマイクロレンズ21の短軸方向(縦方向)の長さをL[μm]、長軸方向(横方向)の長さをL[μm]としたとき、0.10≦L/L≦0.99の関係を満足するのが好ましく、0.50≦L/L≦0.95の関係を満足するのがより好ましく、0.60≦L/L≦0.80の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。 When the length in the minor axis direction (longitudinal direction) of the microlens 21 in plan view is L 1 [μm] and the length in the major axis direction (lateral direction) is L 2 [μm], 0.10 ≦ The relationship of L 1 / L 2 ≦ 0.99 is preferably satisfied, the relationship of 0.50 ≦ L 1 / L 2 ≦ 0.95 is more preferably satisfied, and 0.60 ≦ L 1 / L 2 More preferably, the relationship of ≦ 0.80 is satisfied. By satisfying the relationship as described above, the effects as described above become more remarkable.

平面視したときのマイクロレンズ21の短軸方向の長さ(マイクロレンズ21の縦幅)は、10〜500μmであるのが好ましく、30〜300μmであるのがより好ましく、50〜100μmであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ21の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板1(透過型スクリーン10)の生産性をさらに高めることができる。   The length of the microlens 21 in the short axis direction (vertical width of the microlens 21) when viewed in plan is preferably 10 to 500 μm, more preferably 30 to 300 μm, and 50 to 100 μm. Is more preferable. When the length of the microlens 21 in the short axis direction is a value within the above range, it is possible to obtain sufficient resolution in the image projected on the screen while effectively preventing the occurrence of inconvenience such as moire. The productivity of the microlens substrate 1 (transmission type screen 10) can be further increased.

また、平面視したときのマイクロレンズ21の長軸方向の長さ(マイクロレンズ21の横幅)は、15〜750μmであるのが好ましく、45〜450μmであるのがより好ましく、70〜150μmであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ21の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を得ることができるとともに、マイクロレンズ基板1(透過型スクリーン10)の生産性をさらに高めることができる。   Further, the length of the microlens 21 in the major axis direction (horizontal width of the microlens 21) in plan view is preferably 15 to 750 μm, more preferably 45 to 450 μm, and 70 to 150 μm. Is more preferable. When the length of the microlens 21 in the short axis direction is a value within the above range, it is possible to obtain sufficient resolution in the image projected on the screen while effectively preventing the occurrence of inconvenience such as moire. The productivity of the microlens substrate 1 (transmission type screen 10) can be further increased.

また、マイクロレンズ21の曲率半径は、7.5〜375μmであるのが好ましく、22.5〜225μmであるのがより好ましく、35〜75μmであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ21の曲率半径が前記範囲内の値であると、視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ21は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。   The radius of curvature of the microlens 21 is preferably 7.5 to 375 μm, more preferably 22.5 to 225 μm, and still more preferably 35 to 75 μm. When the radius of curvature of the microlens 21 is a value within the above range, the viewing angle characteristics can be made particularly excellent. In particular, both the horizontal and vertical viewing angle characteristics can be improved. The microlens 21 may have a different radius of curvature in the minor axis direction and a radius of curvature in the major axis direction. In such a case, the radius of curvature in the major axis direction is a value within the above range. Is preferred.

また、マイクロレンズ21の高さは、7.5〜375μmであるのが好ましく、22.5〜225μmであるのがより好ましく、35〜75μmであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ21の高さが前記範囲内の値であると、光の利用効率および視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
また、これら複数個のマイクロレンズ21は、千鳥状(千鳥格子状)に配列している。このようにマイクロレンズ21が配列することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、マイクロレンズが正方格子状等に配列したものであると、マイクロレンズ21の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる場合がある。また、マイクロレンズをランダムに配した場合、マイクロレンズ21の大きさ等によっては、マイクロレンズが設けられている有効領域におけるマイクロレンズの占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率(光の利用効率)を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
The height of the microlens 21 is preferably 7.5 to 375 μm, more preferably 22.5 to 225 μm, and further preferably 35 to 75 μm. When the height of the microlens 21 is within the above range, the light utilization efficiency and viewing angle characteristics can be made particularly excellent.
The plurality of microlenses 21 are arranged in a staggered pattern (in a staggered pattern). By arranging the microlenses 21 in this way, it is possible to effectively prevent inconveniences such as moire. On the other hand, for example, if the microlenses are arranged in a square lattice shape or the like, it may be difficult to sufficiently prevent the occurrence of inconvenience such as moire depending on the size of the microlenses 21 and the like. . In addition, when the microlenses are randomly arranged, depending on the size of the microlens 21 or the like, it becomes difficult to sufficiently increase the occupation ratio of the microlens in the effective region where the microlenses are provided. It is difficult to sufficiently increase the transmittance (light utilization efficiency), and the obtained image may be dark.

上記のように、本実施形態において、マイクロレンズ21は、マイクロレンズ基板1を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数のマイクロレンズ21で構成される第1の行25と、それに隣接する第2の行26とが、縦方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止するとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。   As described above, in the present embodiment, the microlenses 21 are arranged in a staggered pattern when the microlens substrate 1 is viewed in plan view. However, the first row includes a plurality of microlenses 21. 25 and the adjacent second row 26 are preferably offset by a half pitch in the vertical direction. As a result, it is possible to more effectively prevent the occurrence of moire due to light interference and to make the viewing angle characteristics particularly excellent.

なお、マイクロレンズ21の配列方式は、上記のようなものに限定されず、例えば、正方格子状の配列であっても、光学的にランダムな配列(マイクロレンズ基板1の主面側から平面視したときに、各マイクロレンズ21が互いにランダムな位置関係となるように配されたもの)であってもよい。
また、マイクロレンズ基板1を光の入射面側(図2で示した方向)から平面視したときの、マイクロレンズ21が設けられている有効領域において、マイクロレンズ21の占有率は、90〜100%であるのが好ましい。マイクロレンズ21の占有率が前記範囲内の値であると、光利用効率をさらに向上させることができ、投影させる画像の輝度、コントラストを特に優れたものとすることができる。なお、マイクロレンズ21の占有率は、平面視したときのマイクロレンズ21の中心211と、当該マイクロレンズ21に隣接する、マイクロレンズ21が形成されていない部位の中心部とを結ぶ線分において、マイクロレンズ21が形成されている部位の長さL[μm]と、前記線分の長さL[μm]との比率(L/L×100[%])として求めることができる(図2参照)。
The arrangement method of the microlenses 21 is not limited to the one described above. For example, even if the arrangement is a square lattice, the arrangement is optically random (from the main surface side of the microlens substrate 1 in plan view). In this case, the microlenses 21 may be arranged in a random positional relationship with each other.
Further, when the microlens substrate 1 is viewed in plan from the light incident surface side (direction shown in FIG. 2), the occupation ratio of the microlens 21 is 90 to 100 in the effective region where the microlens 21 is provided. % Is preferred. When the occupation ratio of the microlens 21 is a value within the above range, the light use efficiency can be further improved, and the brightness and contrast of the projected image can be made particularly excellent. The occupation ratio of the microlens 21 is a line segment connecting the center 211 of the microlens 21 when viewed in plan and the central portion of the portion adjacent to the microlens 21 where the microlens 21 is not formed. It can be determined as a ratio (L 3 / L 4 × 100 [%]) between the length L 3 [μm] of the portion where the microlens 21 is formed and the length L 4 [μm] of the line segment. (See FIG. 2).

上記のように、マイクロレンズの形状や配列方式等を厳密に規定することにより、光の干渉によるモアレの発生を効果的に防止しつつ、視野角特性等を特に優れたものとすることができる。特に、マイクロレンズの形状や配列方式等を上記のように厳密に規定することにより、上記のような形状、配列方式のマイクロレンズを有することによる効果と、後に詳述するような方法により形成されたブラックマトリックス3を有することによる効果とが相乗的に作用し合い、特に優れた効果(例えば、特に優れた視野角特性、光利用効率等)が得られる。   As described above, by strictly defining the shape and arrangement method of the microlenses, the viewing angle characteristics and the like can be made particularly excellent while effectively preventing the occurrence of moire due to light interference. . In particular, by strictly defining the shape and arrangement method of the microlens as described above, the microlens is formed by the effect of having the microlens having the shape and arrangement method as described above and the method described in detail later. The effects of having the black matrix 3 act synergistically, and particularly excellent effects (for example, particularly excellent viewing angle characteristics, light utilization efficiency, etc.) can be obtained.

また、各マイクロレンズ21は、入射側に突出した凸レンズとして設けられており、焦点fが、基板本体2の出射側の表面付近、ブラックマトリックス(遮光膜)3の開口部33の近傍に位置するように設計されている。すなわち、マイクロレンズ基板1に対して、ほぼ垂直な方向から入射した平行光La(後述するフレネルレンズ部5からの平行光La)は、マイクロレンズ基板1の各マイクロレンズ21によって集光され、基板本体2の出射側の表面付近、ブラックマトリックス3の開口部33近傍で焦点fを結ぶ。このように、基板本体2の出射側の表面付近、ブラックマトリックス3の開口部33の近傍でマイクロレンズ21が焦点を結ぶことにより、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。その結果、マイクロレンズ基板1を透過した光により形成される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。   Each microlens 21 is provided as a convex lens protruding toward the incident side, and the focal point f is located near the surface on the emission side of the substrate body 2 and near the opening 33 of the black matrix (light-shielding film) 3. Designed to be That is, parallel light La (parallel light La from a Fresnel lens unit 5 described later) incident on the microlens substrate 1 from a substantially vertical direction is condensed by each microlens 21 of the microlens substrate 1 and A focal point f is formed in the vicinity of the surface on the emission side of the main body 2 and in the vicinity of the opening 33 of the black matrix 3. As described above, the microlens 21 is focused near the surface on the emission side of the substrate body 2 and near the opening 33 of the black matrix 3, so that the light utilization efficiency can be made particularly excellent. As a result, the contrast of the image formed by the light transmitted through the microlens substrate 1 can be made particularly excellent.

また、基板本体2の光の出射側の面には、ブラックマトリックス(遮光膜)3が設けられている。
ブラックマトリックス3は、粘着剤層31と遮光層32とを備えている。
このようなブラックマトリックス3は、各マイクロレンズ21を透過した光の光路上に開口部33を有している。これにより、画像形成用の光を十分に透過させつつ、不要な光を遮断することができる。その結果、ブラックマトリックス3に、外光(投影画像を形成する上で好ましくない外光)を吸収させることができ、スクリーンに投影される画像を、コントラストに優れたものとすることができる。
A black matrix (light-shielding film) 3 is provided on the light emission side surface of the substrate body 2.
The black matrix 3 includes an adhesive layer 31 and a light shielding layer 32.
Such a black matrix 3 has an opening 33 on the optical path of the light transmitted through each microlens 21. Thereby, unnecessary light can be blocked while sufficiently transmitting the light for image formation. As a result, the black matrix 3 can absorb external light (external light that is not preferable in forming a projection image), and the image projected on the screen can have excellent contrast.

粘着剤層31の厚さは、4〜30μmが好ましく、5〜25μmがより好ましい。粘着剤層31の厚さが前記範囲内の値であると、視野角特性、および、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
粘着剤層31の構成材料としては、例えば、各種樹脂材料等を用いることができる。
粘着剤層31を構成する樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド(例:ナイロン6、ナイロン46、ナイロン66、ナイロン610、ナイロン612、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン6−12、ナイロン6−66)、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート(PC)、ポリ−(4−メチルペンテン−1)、アイオノマー、アクリル系樹脂(アクリル系粘着剤を含む)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹脂)、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール(PVA)、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリシクロヘキサンテレフタレート(PCT)等のポリエステル系樹脂、ポリエーテル、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルイミド、ポリアセタール(POM)、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル(液晶ポリマー)、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて(例えば、ブレンド樹脂、ポリマーアロイ、積層体等として)用いることができる。
4-30 micrometers is preferable and, as for the thickness of the adhesive layer 31, 5-25 micrometers is more preferable. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 31 is a value within the above range, the viewing angle characteristics and the contrast of the displayed image can be made particularly excellent.
As a constituent material of the pressure-sensitive adhesive layer 31, for example, various resin materials can be used.
Examples of the resin material constituting the pressure-sensitive adhesive layer 31 include polyolefins such as polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), cyclic polyolefin, modified polyolefin, polyvinyl chloride, poly Vinylidene chloride, polystyrene, polyamide (eg, nylon 6, nylon 46, nylon 66, nylon 610, nylon 612, nylon 11, nylon 12, nylon 6-12, nylon 6-66), polyimide, polyamideimide, polycarbonate (PC) , Poly- (4-methylpentene-1), ionomer, acrylic resin (including acrylic adhesive), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), Polyesters such as tadiene-styrene copolymer, polyoxymethylene, polyvinyl alcohol (PVA), ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH), polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polycyclohexane terephthalate (PCT) Resin, polyether, polyetherketone (PEK), polyetheretherketone (PEEK), polyetherimide, polyacetal (POM), polyphenylene oxide, modified polyphenylene oxide, polysulfone, polyethersulfone, polyphenylene sulfide, polyarylate, Aromatic polyester (liquid crystal polymer), polytetrafluoroethylene, polyvinylidene fluoride, other fluororesins, styrene, polyolefin , Polyvinyl chloride, polyurethane, polyester, polyamide, polybutadiene, trans polyisoprene, fluoro rubber, chlorinated polyethylene, and other thermoplastic elastomers, epoxy resins, phenol resins, urea resins, melamines Resins, unsaturated polyesters, silicone resins, urethane resins, and the like, or copolymers, blends, polymer alloys, etc. mainly composed of these, and combinations of one or more of these (for example, , Blend resins, polymer alloys, laminates, etc.).

粘着剤層31の構成材料(固化した状態の材料)は、一般に、各種気体(マイクロレンズ基板1が用いられる雰囲気)より大きな絶対屈折率を有するものであるが、絶対屈折率の具体的な値は、1.15〜2.1であるのが好ましく、1.30〜1.85であるのがより好ましい。粘着剤層31の構成材料の絶対屈折率が前記範囲内の値であると、光(入射光)の利用効率を特に優れたものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。   The constituent material (solidified material) of the pressure-sensitive adhesive layer 31 generally has an absolute refractive index larger than various gases (the atmosphere in which the microlens substrate 1 is used), but a specific value of the absolute refractive index. Is preferably 1.15 to 2.1, more preferably 1.30 to 1.85. When the absolute refractive index of the constituent material of the pressure-sensitive adhesive layer 31 is a value within the above range, the viewing angle characteristics can be made particularly excellent while making the utilization efficiency of light (incident light) particularly excellent. .

また、基板本体2の構成材料の屈折率(絶対屈折率)をn、粘着剤層31の構成材料の屈折率(絶対屈折率)をnとしたとき、−0.20≦n−n≦0.20の関係を満足するのが好ましく、−0.10≦n−n≦0.10の関係を満足するのがより好ましい。このような関係を満足することにより、万が一、画像形成用の光が粘着剤層31に入射した場合であっても、粘着剤層31に入射した光を、出射側に好適に出射することができ、高コントラストで好適な画像を形成することができる。また、視野角特性を特に優れたものとすることができる。 Further, when the refractive index (absolute refractive index) of the constituent material of the substrate body 2 is n 1 and the refractive index (absolute refractive index) of the constituent material of the pressure-sensitive adhesive layer 31 is n 2 , −0.20 ≦ n 1 − It is preferable to satisfy the relationship of n 2 ≦ 0.20, and it is more preferable to satisfy the relationship of −0.10 ≦ n 1 −n 2 ≦ 0.10. By satisfying such a relationship, even if light for image formation is incident on the pressure-sensitive adhesive layer 31, the light incident on the pressure-sensitive adhesive layer 31 can be suitably emitted to the emission side. It is possible to form a suitable image with high contrast. Further, the viewing angle characteristics can be made particularly excellent.

また、遮光層32の厚さは、0.3〜8μmであるのが好ましく、0.8〜7μmであるのがより好ましく、1.4〜6μmであるのがさらに好ましい。遮光層32の厚さが前記範囲内の値であると、画像形成用の光が遮光層32で遮られてしまう(いわゆる「ケラレ」が発生する)という問題が発生するのをより効果的に防止しつつ、ブラックマトリックス3全体としての遮光性を特に優れたものとすることができる。その結果、視野角特性、および、表示される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。   Moreover, it is preferable that the thickness of the light shielding layer 32 is 0.3-8 micrometers, It is more preferable that it is 0.8-7 micrometers, It is further more preferable that it is 1.4-6 micrometers. When the thickness of the light shielding layer 32 is a value within the above range, it is more effective to cause a problem that light for image formation is blocked by the light shielding layer 32 (so-called “vignetting” occurs). While preventing, the light-shielding property as the whole black matrix 3 can be made especially excellent. As a result, the viewing angle characteristics and the contrast of the displayed image can be made particularly excellent.

遮光層32は、遮光性を有する材料で構成されている。
遮光層32を構成する材料は、特に限定されないが、各種顔料、各種染料等の着色剤(例えば、インク等)を用いることができる。
また、遮光層32は、樹脂材料等を構成成分として含むものであってもよい。これにより、粘着剤層31との密着性を特に優れたものとすることができる。
The light shielding layer 32 is made of a material having a light shielding property.
Although the material which comprises the light shielding layer 32 is not specifically limited, Coloring agents (for example, ink etc.), such as various pigments and various dyes, can be used.
The light shielding layer 32 may include a resin material or the like as a constituent component. Thereby, the adhesiveness with the adhesive layer 31 can be made especially excellent.

開口部33は、後に詳述するように(後に詳述するような方法により)、ブラックマトリックス3の開口部33以外の部位で外光の反射を効果的に防止しつつ、画像形成用の光がブラックマトリックス3により吸収、反射されるのを十分に防止するような大きさで設けられている。
ブラックマトリックス3の開口部33は、いかなる形状のものであってもよいが、平面視したときの形状が略円形であるのが好ましい。開口部33が略円形である場合、開口部33の大きさは、特に限定されないが、その直径が、5〜100μmであるのが好ましく、15〜90μmであるのがより好ましく、20〜70μmであるのがさらに好ましい。これにより、スクリーンに投影される画像を、よりコントラストに優れたものとすることができる。
As will be described later in detail (by a method described in detail later), the opening 33 effectively prevents reflection of external light at a portion other than the opening 33 of the black matrix 3 and provides light for image formation. Is sufficiently sized to be prevented from being absorbed and reflected by the black matrix 3.
The opening 33 of the black matrix 3 may have any shape, but it is preferable that the shape when viewed in plan is substantially circular. When the opening 33 is substantially circular, the size of the opening 33 is not particularly limited, but the diameter is preferably 5 to 100 μm, more preferably 15 to 90 μm, and 20 to 70 μm. More preferably. Thereby, the image projected on a screen can be made more excellent in contrast.

また、平面視したときの開口部33のブラックマトリックス3に対する面積比(開口率)は、5〜50%であるのが好ましく、10〜35%であるのがより好ましく、15〜25%であるのがさらに好ましい。開口率が前記範囲内の値であると、外光(例えば、光の入射側とは反対側から不本意に入射した外光等)が、出射側に反射するのを十分に低く抑えることができ、光の利用効率を特に優れたものとしつつ、映り込みを防止して、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができるとともに、マイクロレンズ基板1の視野角特性を特に優れたものとすることができる。これに対し、開口率が前記下限値未満であると、光の利用効率、視野角特性を十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。また、開口率が前記上限値を越えると、外光反射を十分に低く抑えることが困難となり、映り込みを防止して、得られる画像のコントラストを十分に優れたものとするのが困難となる可能性がある。   Further, the area ratio (opening ratio) of the opening 33 to the black matrix 3 in plan view is preferably 5 to 50%, more preferably 10 to 35%, and 15 to 25%. Is more preferable. If the aperture ratio is a value within the above range, external light (for example, external light incidentally incident from the side opposite to the light incident side) is sufficiently suppressed from reflecting to the output side. In addition to making the light utilization efficiency particularly excellent, it is possible to prevent the reflection and make the contrast of the obtained image particularly excellent, and the viewing angle characteristics of the microlens substrate 1 are particularly excellent. Can be. On the other hand, if the aperture ratio is less than the lower limit, it may be difficult to make the light utilization efficiency and viewing angle characteristics sufficiently excellent. Also, if the aperture ratio exceeds the upper limit, it becomes difficult to keep external light reflection sufficiently low, and it becomes difficult to prevent reflection and make the contrast of the obtained image sufficiently excellent. there is a possibility.

また、マイクロレンズ基板1の光の出射側の面には、拡散部4が設けられている。拡散部4は、入射した光(入射光)を乱反射させることにより拡散させる機能を有するものである。このような拡散部4を有することにより、視野角特性を優れたものとすることができる。また、拡散部4は、ブラックマトリックス3より光の出射側に形成された領域を有するものである。このような構成であることにより、拡散部4に入射した光を、出射側(光の入射側とは反対側の方向)に効率よく向かわせることができ、透過型スクリーン10の視野角特性を特に優れたものにすることができる(スクリーンに投影される画像を好適に視認することができる視野角を特に大きいものとすることができる)。本実施形態では、拡散部4は、光透過性に優れた実質的に透明な材料(例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂等)中に、拡散材が分散した構成になっている。拡散材としては、例えば、微粒子状(ビーズ状)のシリカ、ガラス、樹脂等を用いることができる。拡散材の平均粒径は、特に限定されないが、1〜50μmであるのが好ましく、2〜10μmであるのがより好ましい。   Further, a diffusing portion 4 is provided on the light emitting side surface of the microlens substrate 1. The diffusion unit 4 has a function of diffusing incident light (incident light) by irregular reflection. By having such a diffusing portion 4, the viewing angle characteristics can be made excellent. The diffusing portion 4 has a region formed on the light emission side from the black matrix 3. With such a configuration, the light incident on the diffusing unit 4 can be efficiently directed to the emission side (the direction opposite to the light incident side), and the viewing angle characteristics of the transmissive screen 10 can be improved. It can be made particularly excellent (the viewing angle at which an image projected on the screen can be suitably viewed can be made particularly large). In the present embodiment, the diffusing section 4 has a configuration in which a diffusing material is dispersed in a substantially transparent material (for example, an acrylic resin, a polycarbonate resin, or the like) excellent in light transmittance. As the diffusing material, for example, particulate (bead-shaped) silica, glass, resin, or the like can be used. The average particle size of the diffusing material is not particularly limited, but is preferably 1 to 50 μm, and more preferably 2 to 10 μm.

また、拡散部4の厚さは、特に限定されないが、0.05〜5mmであるのが好ましく、0.7〜4mmであるのがより好ましく、1.0〜3mmであるのがさらに好ましい。拡散部4の厚さが前記範囲内の値であると、光の利用効率を十分に高いものとしつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。これに対し、拡散部4の厚さが前記下限値未満であると、拡散部4を設けることによる効果が十分に発揮されない可能性がある。また、拡散部4の厚さが前記上限値を超えると、光(光子)と拡散材とが衝突する確率(頻度)が急激に高くなる傾向を示し、消光が起こり易く、また、光拡散部内に入射した光(光子)が、再び入射側に戻る可能性も高くなる。その結果、光の利用効率を十分に高めるのが困難になる可能性がある。   Moreover, although the thickness of the spreading | diffusion part 4 is not specifically limited, It is preferable that it is 0.05-5 mm, It is more preferable that it is 0.7-4 mm, It is further more preferable that it is 1.0-3 mm. When the thickness of the diffusing portion 4 is a value within the above range, the viewing angle characteristics can be made particularly excellent while sufficiently improving the light utilization efficiency. On the other hand, if the thickness of the diffusing portion 4 is less than the lower limit, the effect of providing the diffusing portion 4 may not be sufficiently exhibited. Further, when the thickness of the diffusing portion 4 exceeds the upper limit value, the probability (frequency) that the light (photon) and the diffusing material collide with each other tends to increase rapidly, and quenching easily occurs. There is a high possibility that light (photons) incident on will return to the incident side again. As a result, it may be difficult to sufficiently increase the light use efficiency.

本発明のマイクロレンズ基板は、後に詳述するような方法で製造されたものであるため、気泡の混入等による欠陥が効果的に防止されており、光の利用効率に優れている。マイクロレンズ基板1の光の利用効率(マイクロレンズ基板1の入射面側から入射する光の光量に対する、出射面側から出射する光の光量の割合)は、65%以上であるのが好ましく、75%以上であるのがより好ましく、85%以上であるのがさらに好ましい。   Since the microlens substrate of the present invention is manufactured by a method described in detail later, defects due to mixing of bubbles and the like are effectively prevented, and light utilization efficiency is excellent. The light utilization efficiency of the microlens substrate 1 (ratio of the amount of light emitted from the exit surface to the amount of light incident from the entrance surface of the microlens substrate 1) is preferably 65% or more, and 75 % Or more is more preferable, and it is further more preferable that it is 85% or more.

次に、上述したようなマイクロレンズ基板1を備えた透過型スクリーン10について説明する。
図3に示すように、透過型スクリーン10は、フレネルレンズ部5と、前述したマイクロレンズ基板1とを備えている。フレネルレンズ部5は、光(画像光)の入射側に設置されており、フレネルレンズ部5を透過した光が、マイクロレンズ基板1に入射する構成になっている。
Next, the transmission screen 10 including the microlens substrate 1 as described above will be described.
As shown in FIG. 3, the transmission screen 10 includes a Fresnel lens portion 5 and the microlens substrate 1 described above. The Fresnel lens unit 5 is installed on the light (image light) incident side, and the light transmitted through the Fresnel lens unit 5 is incident on the microlens substrate 1.

フレネルレンズ部5は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ51を有している。このフレネルレンズ部5は、投射レンズ(図示せず)からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板1の主面の垂直方向に平行な平行光Laにするものである。
以上のように構成された透過型スクリーン10では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部5によって屈折し、平行光Laとなる。そして、この平行光Laは、マイクロレンズ基板1のマイクロレンズ21が設けられた面側から入射し、各マイクロレンズ21によって集光し、焦点を結んだ後に拡散する。開口部33を通過した光は、拡散し、観察者に平面画像として観測される。
The Fresnel lens unit 5 has a prism-shaped Fresnel lens 51 formed in a substantially concentric shape on the exit side surface. The Fresnel lens unit 5 refracts image light from a projection lens (not shown) to produce parallel light La parallel to the vertical direction of the main surface of the microlens substrate 1.
In the transmissive screen 10 configured as described above, the image light from the projection lens is refracted by the Fresnel lens unit 5 and becomes parallel light La. The parallel light La is incident from the side of the microlens substrate 1 on which the microlenses 21 are provided, is condensed by each microlens 21, is diffused after being focused. The light that has passed through the opening 33 diffuses and is observed as a planar image by the observer.

次に、前述したマイクロレンズ基板1の製造方法について説明する。
図4は、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材(成形型)を示す模式的な縦断面図、図5は、図4に示す凹部付き部材の製造方法を示す模式的な縦断面図である。図6〜図8は、図1に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例(第1実施形態)を示す模式的な縦断面図、図9〜図11は、図1に示すマイクロレンズ基板の製造方法の他の一例(第2実施形態)を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図5〜図11中の下側を「(光の)入射側」、図5〜図11の上側を「(光の)出射側」と言う。また、凹部付き部材の製造においては、実際には基板上に多数の凹部(マイクロレンズ用凹部)を形成し、マイクロレンズ基板(基板本体)の製造においては、実際には多数の凸部(凸レンズ)を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
Next, a method for manufacturing the microlens substrate 1 described above will be described.
4 is a schematic longitudinal sectional view showing a member with a recess (molding die) used for manufacturing a microlens substrate, and FIG. 5 is a schematic longitudinal sectional view showing a method for manufacturing the member with a recess shown in FIG. is there. 6 to 8 are schematic longitudinal sectional views showing an example (first embodiment) of the manufacturing method of the microlens substrate shown in FIG. 1, and FIGS. It is a typical longitudinal cross-sectional view which shows another example (2nd Embodiment) of the method. In the following description, the lower side in FIGS. 5 to 11 is referred to as “(light) incident side”, and the upper side in FIGS. 5 to 11 is referred to as “(light) emission side”. Further, in the manufacture of the member with concave portions, a large number of concave portions (recesses for microlenses) are actually formed on the substrate, and in the manufacture of the microlens substrate (substrate body), actually a large number of convex portions (convex lenses). However, in order to make the explanation easier to understand, a part thereof is highlighted.

まず、マイクロレンズ基板の製造方法の説明に先立ち、マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材(成形型)の構成およびその製造方法について説明する。
凹部付き部材(成形型)6は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、たわみを生じ難く、傷つき難い材料で構成されたものであるのが好ましい。凹部付き部材6の構成材料としては、例えば、各種ガラス材料、各種樹脂材料等が挙げられる。ガラス材料としては、例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられ、また、樹脂材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)等のポリオレフィン、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド(例:ナイロン6、ナイロン46、ナイロン66、ナイロン610、ナイロン612、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン6−12、ナイロン6−66)、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート(PC)、ポリ−(4−メチルペンテン−1)、アイオノマー、アクリル系樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹脂)、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリオキシメチレン、ポリビニルアルコール(PVA)、エチレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート(PBT)、ポリシクロヘキサンテレフタレート(PCT)等のポリエステル、ポリエーテル、ポリエーテルケトン(PEK)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルイミド、ポリアセタール(POM)、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル(液晶ポリマー)、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系、トランスポリイソプレン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等の各種樹脂材料等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。この中でも、凹部付き部材6の構成材料としては、ガラス材料が好ましく、ソーダガラス、結晶性ガラス(例えば、ネオセラム等)、無アルカリガラスがより好ましい。このような材料は、一般に、形状の安定性に優れている。このため、凹部付き部材6が有する凹部61の形状の安定性(信頼性)や、当該凹部61を用いて形成されるマイクロレンズ21の寸法精度等を特に優れたものとすることができ、マイクロレンズ基板としての光学特性を特に信頼性の高いものとすることができる。また、ガラス材料は、一般に、形状の安定性に優れているため、後に詳述するマイクロレンズ基板1の製造方法において、製造された基板本体2の取り扱い性が向上する。また、ソーダガラス、結晶性ガラス、無アルカリガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
First, prior to the description of the manufacturing method of the microlens substrate, the configuration of the member with a recess (molding die) used for manufacturing the microlens substrate and the manufacturing method thereof will be described.
The member with a recess (molding die) 6 may be made of any material, but is preferably made of a material that is difficult to bend and is not easily damaged. As a constituent material of the member 6 with a recessed part, various glass materials, various resin materials, etc. are mentioned, for example. Examples of the glass material include soda glass, crystalline glass, quartz glass, lead glass, potassium glass, borosilicate glass, and alkali-free glass. Examples of the resin material include polyethylene, polypropylene, and ethylene- Polyolefin such as propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), cyclic polyolefin, modified polyolefin, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polystyrene, polyamide (eg, nylon 6, nylon 46, nylon 66, nylon 610) , Nylon 612, nylon 11, nylon 12, nylon 6-12, nylon 6-66), polyimide, polyamideimide, polycarbonate (PC), poly- (4-methylpentene-1), ionomer, acrylic resin, acryloni Ryl-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), butadiene-styrene copolymer, polyoxymethylene, polyvinyl alcohol (PVA), ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH) ), Polyesters such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polycyclohexane terephthalate (PCT), polyether, polyetherketone (PEK), polyetheretherketone (PEEK), polyetherimide, polyacetal (POM) ), Polyphenylene oxide, modified polyphenylene oxide, polysulfone, polyethersulfone, polyphenylene sulfide, polyarylate, aromatic polyester (liquid crystal polymer) Polytetrafluoroethylene, polyvinylidene fluoride, other fluororesins, styrene, polyolefin, polyvinyl chloride, polyurethane, polyester, polyamide, polybutadiene, trans polyisoprene, fluoro rubber, chlorinated polyethylene Various thermoplastic elastomers such as epoxy resins, phenol resins, urea resins, melamine resins, unsaturated polyesters, silicone resins, urethane resins, etc., or copolymers, blends, polymer alloys, etc. mainly comprising these A resin material etc. are mentioned, Among these, it can use combining 1 type (s) or 2 or more types. Among these, as a constituent material of the member 6 with a recessed part, a glass material is preferable and soda glass, crystalline glass (for example, neo-ceram etc.), and an alkali free glass are more preferable. Such a material is generally excellent in shape stability. Therefore, the stability (reliability) of the shape of the recess 61 included in the member 6 with a recess, the dimensional accuracy of the microlens 21 formed using the recess 61, and the like can be made particularly excellent. The optical characteristics of the lens substrate can be made particularly reliable. In addition, since the glass material is generally excellent in shape stability, in the method for manufacturing the microlens substrate 1 described in detail later, the handleability of the manufactured substrate body 2 is improved. Further, soda glass, crystalline glass, and non-alkali glass are easy to process, are relatively inexpensive, and are advantageous from the viewpoint of manufacturing cost.

凹部付き部材(成形型)6は、マイクロレンズ21の配列方式に対応する方式(転写された位置関係)で配列した、複数個の凹部61を備えている。そして、これらの凹部61は、マイクロレンズ21が凸部であるのに対し凹部である以外は、マイクロレンズ21に対応する形状(転写された形状である以外は実質的に同一の形状)、寸法を有している。
より詳しく説明すると、本実施形態において、凹部61は、凹部付き部材6を平面視した際の縦幅(鉛直方向の幅)が横幅(水平方向の幅)よりも小さい扁平形状(略楕円形、略俵形)を有している。凹部61がこのような形状を有することにより、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができるマイクロレンズ基板1の製造に好適に用いることができる。
The member with a recess (molding die) 6 includes a plurality of recesses 61 arranged in a system (transferred positional relationship) corresponding to the array system of the microlenses 21. These recesses 61 have a shape corresponding to the microlens 21 (substantially the same shape except for the transferred shape) and dimensions, except that the microlens 21 is a recess while the microlens 21 is a protrusion. have.
More specifically, in the present embodiment, the concave portion 61 has a flat shape (substantially oval) in which the vertical width (width in the vertical direction) when viewed in plan is smaller than the horizontal width (width in the horizontal direction). (Substantially bowl-shaped). The concave portion 61 having such a shape is preferably used for manufacturing the microlens substrate 1 capable of effectively preventing the occurrence of inconvenience such as moire and having particularly excellent viewing angle characteristics. Can do.

また、平面視したときの凹部61の短軸方向(縦方向)の長さをL[μm]、長軸方向(横方向)の長さをL[μm]としたとき、0.10≦L/L≦0.99の関係を満足するのが好ましく、0.50≦L/L≦0.95の関係を満足するのがより好ましく、0.60≦L/L≦0.80の関係を満足するのがさらに好ましい。上記のような関係を満足することにより、上述したような効果がさらに顕著なものとなる。 Further, when the length in the minor axis direction (vertical direction) of the concave portion 61 in plan view is L 1 [μm] and the length in the major axis direction (lateral direction) is L 2 [μm], 0.10 ≦ L 1 / L 2 ≦ 0.99 is preferably satisfied, more preferably 0.50 ≦ L 1 / L 2 ≦ 0.95 is satisfied, and 0.60 ≦ L 1 / L It is more preferable to satisfy the relationship of 2 ≦ 0.80. By satisfying the relationship as described above, the effects as described above become more remarkable.

また、平面視したときの凹部61の短軸方向の長さは、10〜500μmであるのが好ましく、30〜300μmであるのがより好ましく、50〜100μmであるのがさらに好ましい。凹部61の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板1の視野角特性、およびマイクロレンズ基板1により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部61の短軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板1を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板1(凹部付き部材6)の生産性をさらに高めることができる。   Further, the length in the minor axis direction of the recess 61 when viewed in plan is preferably 10 to 500 μm, more preferably 30 to 300 μm, and further preferably 50 to 100 μm. When the length of the concave portion 61 in the minor axis direction is a value within the above range, the viewing angle characteristics of the manufactured microlens substrate 1 and the contrast and brightness of the image projected by the microlens substrate 1 are particularly excellent. However, sufficient resolution can be obtained in the projected image. Further, when the length of the concave portion 61 in the short axis direction is a value within the above range, it is possible to effectively prevent the occurrence of inconvenience such as moire when the manufactured microlens substrate 1 is used. The productivity of the microlens substrate 1 (member 6 with a recess) can be further increased.

また、平面視したときの凹部61の長軸方向の長さは、15〜750μmであるのが好ましく、45〜450μmであるのがより好ましく、70〜150μmであるのがさらに好ましい。凹部61の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板1の視野角特性、およびマイクロレンズ基板1により投影される画像のコントラスト、輝度を特に優れたものとしつつ、投影される画像において十分な解像度を得ることができる。また、凹部61の長軸方向の長さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板1を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができるとともに、マイクロレンズ基板1(凹部付き部材6)の生産性をさらに高めることができる。   Further, the length in the major axis direction of the concave portion 61 when viewed in plan is preferably 15 to 750 μm, more preferably 45 to 450 μm, and further preferably 70 to 150 μm. When the length of the concave portion 61 in the major axis direction is a value within the above range, the viewing angle characteristics of the manufactured microlens substrate 1 and the contrast and brightness of the image projected by the microlens substrate 1 are particularly excellent. However, sufficient resolution can be obtained in the projected image. Further, when the length of the concave portion 61 in the major axis direction is a value within the above range, it is possible to effectively prevent the occurrence of inconvenience such as moire when the manufactured microlens substrate 1 is used. The productivity of the microlens substrate 1 (member 6 with a recess) can be further increased.

また、凹部61の曲率半径は、7.5〜375μmであるのが好ましく、22.5〜225μmであるのがより好ましく、35〜75μmであるのがさらに好ましい。凹部61の曲率半径が前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板1の視野角特性を特に優れたものとすることができる。特に、水平方向および鉛直方向の視野角特性をともに優れたものとすることができる。なお、凹部61は、短軸方向についての曲率半径と、長軸方向の曲率半径が異なるものであってもよいが、このような場合、長軸方向の曲率半径が上記の範囲内の値であるのが好ましい。   Moreover, it is preferable that the curvature radius of the recessed part 61 is 7.5-375 micrometers, It is more preferable that it is 22.5-225 micrometers, It is further more preferable that it is 35-75 micrometers. When the radius of curvature of the recess 61 is a value within the above range, the viewing angle characteristics of the manufactured microlens substrate 1 can be made particularly excellent. In particular, both the horizontal and vertical viewing angle characteristics can be improved. The concave portion 61 may have a different radius of curvature in the minor axis direction and a radius of curvature in the major axis direction. In such a case, the radius of curvature in the major axis direction is a value within the above range. Preferably there is.

また、凹部61の深さは、7.5〜375μmであるのが好ましく、22.5〜225μmであるのがより好ましく、35〜75μmであるのがさらに好ましい。凹部61の深さが前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板1の視野角特性を、特に優れたものとすることができる。
また、これら複数個の凹部61は、千鳥状(千鳥格子状)に配列している。このように凹部61が配列することにより、製造されるマイクロレンズ基板1を用いた際に、モアレ等の不都合の発生を効果的に防止することができる。これに対し、例えば、凹部が正方格子状等に配列したものであると、凹部(マイクロレンズ)の大きさ等によっては、モアレ等の不都合の発生を十分に防止することが困難となる。また、凹部をランダムに配した場合、凹部(マイクロレンズ)の大きさ等によっては、凹部が設けられている有効領域における凹部の占有率を十分に高めるのが困難となり、マイクロレンズ基板の光の透過率(光の利用効率)を十分に高めるのが困難となり、得られる画像が暗いものとなる可能性がある。
Moreover, it is preferable that the depth of the recessed part 61 is 7.5-375 micrometers, It is more preferable that it is 22.5-225 micrometers, It is further more preferable that it is 35-75 micrometers. When the depth of the recess 61 is a value within the above range, the viewing angle characteristics of the manufactured microlens substrate 1 can be made particularly excellent.
The plurality of recesses 61 are arranged in a staggered pattern (in a staggered pattern). By arranging the recesses 61 in this way, it is possible to effectively prevent inconveniences such as moire when the manufactured microlens substrate 1 is used. On the other hand, for example, if the concave portions are arranged in a square lattice shape or the like, it is difficult to sufficiently prevent the occurrence of inconvenience such as moire depending on the size of the concave portions (microlenses). In addition, when the concave portions are randomly arranged, depending on the size of the concave portion (microlens) or the like, it becomes difficult to sufficiently increase the occupancy ratio of the concave portions in the effective area where the concave portions are provided. It is difficult to sufficiently increase the transmittance (light utilization efficiency), and the obtained image may be dark.

また、上記のように、凹部61は、凹部付き部材6を平面視したときに、千鳥格子状に配列しているが、複数の凹部61で構成される第1の行と、それに隣接する第2の行とが、縦方向に半ピッチ分だけずれているのが好ましい。これにより、製造されるマイクロレンズ基板1を用いた際に、光の干渉によるモアレの発生等をより効果的に防止することができるとともに、かつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。   Further, as described above, the recesses 61 are arranged in a staggered pattern when the member 6 with recesses is viewed in plan view, but are adjacent to the first row composed of the plurality of recesses 61. The second row is preferably shifted by a half pitch in the vertical direction. As a result, when the manufactured microlens substrate 1 is used, it is possible to more effectively prevent the occurrence of moiré due to light interference and to make the viewing angle characteristics particularly excellent. it can.

なお、上記の説明では、凹部61が、凹と凸の関係である以外は、マイクロレンズ21と、実質的に同一の形状(寸法)、配列方式を有しているものとして説明したが、例えば、基板本体2の構成材料が収縮し易いものである場合(基板本体2を構成する組成物が固化等により収縮する場合)、その収縮率等を考慮し、マイクロレンズ21と凹部61とについて、これらの間で、形状(寸法)、占有率等が異なるようにしてもよい。   In the above description, the concave portion 61 is described as having substantially the same shape (dimension) and arrangement method as the microlens 21 except that the concave portion 61 has a concave-convex relationship. In the case where the constituent material of the substrate main body 2 is easily contracted (when the composition constituting the substrate main body 2 contracts due to solidification or the like), the microlens 21 and the recess 61 are considered in consideration of the contraction rate and the like. You may make it a shape (dimension), an occupation rate, etc. differ among these.

次に、凹部付き部材の製造方法について、図5を参照しながら説明する。なお、実際には基板上に多数の凹部(マイクロレンズ形成用凹部)を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
まず、凹部付き部材6を製造するに際し、基板7を用意する。
この基板7は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板7は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
Next, the manufacturing method of a member with a recessed part is demonstrated, referring FIG. In practice, a large number of recesses (microlens formation recesses) are formed on the substrate. Here, in order to make the description easy to understand, a part of them is shown highlighted.
First, when manufacturing the member 6 with a recessed part, the board | substrate 7 is prepared.
The substrate 7 having a uniform thickness and having no deflection or scratches is preferably used. The substrate 7 is preferably one whose surface is cleaned by washing or the like.

<A1>用意した基板7の表面に、多数個の初期孔(開口部)82を有するマスク8を形成するとともに、基板7の裏面(マスク8が形成される面と反対側の面)に裏面保護膜89を形成する(マスキング工程、図5(a)、図5(b)参照)。
特に、本実施形態では、まず、図5(a)に示すように、用意した基板7の裏面に裏面保護膜89を形成するとともに、基板7の表面にマスク形成用膜81を形成し(マスク形成用膜形成工程)、その後、図5(b)に示すように、マスク形成用膜81に初期孔82を形成すること(初期孔形成工程)によりマスク8を得る。マスク形成用膜81および裏面保護膜89は同時に形成することもできる。
<A1> A mask 8 having a large number of initial holes (openings) 82 is formed on the surface of the prepared substrate 7, and the back surface of the substrate 7 (the surface opposite to the surface on which the mask 8 is formed) A protective film 89 is formed (see a masking process, FIGS. 5A and 5B).
In particular, in this embodiment, first, as shown in FIG. 5A, a back surface protective film 89 is formed on the back surface of the prepared substrate 7 and a mask forming film 81 is formed on the surface of the substrate 7 (mask). (Formation film forming step) Then, as shown in FIG. 5B, the mask 8 is obtained by forming the initial hole 82 in the mask formation film 81 (initial hole formation step). The mask forming film 81 and the back surface protective film 89 can be formed simultaneously.

マスク形成用膜81は、レーザ光の照射等により、後述する初期孔82を形成することができるとともに、後述するエッチング工程におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク形成用膜81(マスク8)は、エッチングレートが、基板7と略等しいか、または、基板7に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。   It is preferable that the mask forming film 81 can form an initial hole 82 described later by laser light irradiation or the like and has resistance to etching in an etching process described later. In other words, the mask forming film 81 (mask 8) is preferably configured so that the etching rate is substantially equal to or lower than that of the substrate 7.

かかる観点からは、マスク形成用膜81(マスク8)を構成する材料としては、例えばCr、Au、Ni、Ti、Pt等の金属やこれらから選択される2種以上を含む合金、前記金属の酸化物(金属酸化物)、シリコン、樹脂等が挙げられる。
また、マスク形成用膜81(マスク8)は、例えば、実質的に均一な組成を有するものであってもよいし、異なる複数の層を有する積層体等であってもよい。
From this point of view, the material forming the mask forming film 81 (mask 8) is, for example, a metal such as Cr, Au, Ni, Ti, Pt, an alloy containing two or more selected from these, Examples thereof include oxides (metal oxides), silicon, and resins.
Further, the mask forming film 81 (mask 8) may have, for example, a substantially uniform composition, or a laminated body having a plurality of different layers.

上記のように、マスク形成用膜81(マスク8)の構成は、特に限定されるものではないが、主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体であるのが好ましい。このような構成のマスク形成用膜81は、後述するようなレーザ光の照射等により、所望の形状の開口部を容易かつ確実に形成することができるものであり、また、このような構成のマスク形成用膜81を用いて得られるマスク8は、様々な組成のエッチング液に対して優れた安定性を有している(後述するエッチング工程において基板7をより確実に保護することができる)。また、基板7がガラスで構成されたものであり、かつマスク形成用膜81(マスク8)が上記のような構成のものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモニウムを含む液体を好適に用いることができる。一水素二フッ化アンモニウムは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。また、上記のような構成のマスク形成用膜81(マスク8)は、マスクの内部応力を効率良く緩和することができ、基板7との密着性(特に、エッチング工程における密着性)に特に優れている。このようなことから、上記のような構成のマスク形成用膜81(マスク8)を用いることにより、所望の形状の凹部61を容易かつ確実に形成することができる。   As described above, the configuration of the mask forming film 81 (mask 8) is not particularly limited. However, the mask forming film 81 (mask 8) is a laminate including a layer mainly composed of chromium and a layer mainly composed of chromium oxide. Preferably there is. The mask forming film 81 having such a configuration can easily and surely form an opening having a desired shape by irradiation with laser light as described later. The mask 8 obtained by using the mask forming film 81 has excellent stability against etching liquids having various compositions (the substrate 7 can be more reliably protected in an etching process described later). . Further, if the substrate 7 is made of glass and the mask forming film 81 (mask 8) has the above-described structure, for example, in an etching process described later, two hydrogen atoms are used as an etchant. A liquid containing ammonium fluoride can be suitably used. Since ammonium monohydrogen difluoride is not a poisonous deleterious substance, it is possible to prevent the human body and the environment during work more reliably. Further, the mask forming film 81 (mask 8) having the above-described configuration can relieve the internal stress of the mask efficiently, and is particularly excellent in adhesion with the substrate 7 (particularly, adhesion in the etching process). ing. For this reason, by using the mask forming film 81 (mask 8) having the above-described configuration, the concave portion 61 having a desired shape can be easily and reliably formed.

マスク形成用膜81の形成方法は特に限定されないが、マスク形成用膜81(マスク8)をクロム(Cr)、金(Au)等の金属材料(合金を含む)や金属酸化物(例えば酸化クロム)、またはこれらの複合材料(例えば、金属材料で構成された金属層と、金属酸化物で構成された金属酸化物層とを有する積層体等)で構成されたものとする場合、マスク形成用膜81は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク形成用膜81(マスク8)をシリコンで構成されたものとする場合、マスク形成用膜81は、例えば、スパッタリング法やCVD法等により、好適に形成することができる。   A method for forming the mask forming film 81 is not particularly limited, but the mask forming film 81 (mask 8) is made of a metal material (including an alloy) such as chromium (Cr) or gold (Au) or a metal oxide (for example, chromium oxide). ), Or a composite material thereof (for example, a laminated body having a metal layer made of a metal material and a metal oxide layer made of a metal oxide, etc.) The film 81 can be suitably formed by, for example, a vapor deposition method or a sputtering method. When the mask forming film 81 (mask 8) is made of silicon, the mask forming film 81 can be suitably formed by, for example, a sputtering method or a CVD method.

マスク形成用膜81(マスク8)の厚さは、マスク形成用膜81(マスク8)を構成する材料によっても異なるが、0.01〜2.0μm程度が好ましく、0.01〜0.3μm程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、マスク形成用膜81の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程(開口部形成工程)において形成される初期孔82の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基板7のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、マスク形成用膜81の構成材料等によっては、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔82を形成するのが困難になるほか、マスク形成用膜81(マスク8)の内部応力によりマスク形成用膜81(マスク8)が剥がれ易くなる場合がある。   The thickness of the mask forming film 81 (mask 8) varies depending on the material constituting the mask forming film 81 (mask 8), but is preferably about 0.01 to 2.0 μm, preferably 0.01 to 0.3 μm. The degree is more preferable. If the thickness is less than the lower limit, the shape of the initial hole 82 formed in the initial hole forming step (opening forming step) described later may be distorted depending on the constituent material of the mask forming film 81 and the like. There is. In addition, when wet etching is performed in an etching process described later, the masked portion of the substrate 7 may not be sufficiently protected. On the other hand, if the upper limit is exceeded, depending on the constituent material of the mask forming film 81 and the like, it becomes difficult to form the initial hole 82 that penetrates in the initial hole forming step described later, and the mask forming film 81 (mask The mask forming film 81 (mask 8) may be easily peeled off by the internal stress of 8).

裏面保護膜89は、次工程以降で基板7の裏面を保護するためのものである。この裏面保護膜89により、基板7の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護膜89は、例えば、マスク形成用膜81(マスク8)と同様の構成を有している。このため、裏面保護膜89は、マスク形成用膜81の形成と同時に、マスク形成用膜81と同様に設けることができる。   The back surface protective film 89 is for protecting the back surface of the substrate 7 in the subsequent steps. By this back surface protective film 89, erosion, deterioration, etc. of the back surface of the substrate 7 are preferably prevented. This back surface protective film 89 has the same configuration as the mask forming film 81 (mask 8), for example. Therefore, the back surface protective film 89 can be provided in the same manner as the mask forming film 81 simultaneously with the formation of the mask forming film 81.

次に、図5(b)に示すように、マスク形成用膜81に、複数個の初期孔(開口部)82を形成し、マスク8を得る(初期孔形成工程)。本工程で形成される初期孔82は、後述するエッチングの際のマスク開口として機能するものである。
初期孔82の形成方法は、特に限定されないが、レーザ光の照射による方法であるのが好ましい。これにより、所望のパターンに配列した所望の形状の初期孔82を容易かつ精確に形成することができる。その結果、凹部61の形状、配列方式等をより確実に制御することができる。また、初期孔82をレーザの照射により形成することにより、凹部付き部材を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。また、レーザ光の照射でマスク形成用膜81に初期孔82を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってレジスト膜に開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価に開口部(初期孔82)を形成することができる。
Next, as shown in FIG. 5B, a plurality of initial holes (openings) 82 are formed in the mask forming film 81 to obtain a mask 8 (initial hole forming step). The initial hole 82 formed in this step functions as a mask opening in the later-described etching.
A method for forming the initial hole 82 is not particularly limited, but a method using laser light irradiation is preferable. Thereby, the initial holes 82 having a desired shape arranged in a desired pattern can be easily and accurately formed. As a result, the shape, arrangement method, and the like of the recesses 61 can be controlled more reliably. In addition, by forming the initial hole 82 by laser irradiation, a member with a recess can be manufactured with high productivity. In particular, the concave portion can be easily formed even on a large-area substrate. In addition, by forming the initial hole 82 in the mask forming film 81 by laser light irradiation, the opening ( An initial hole 82) can be formed.

また、レーザ光の照射により初期孔82を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、YAGレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、YVOレーザ、Ne−Heレーザ、Arレーザ、COレーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのSHG、THG、FHG等の波長を使っても良い。 In addition, when the initial hole 82 is formed by laser light irradiation, the type of laser light to be used is not particularly limited, but a ruby laser, a semiconductor laser, a YAG laser, a femtosecond laser, a glass laser, a YVO 4 laser, a Ne- Examples include He laser, Ar laser, CO 2 laser, and excimer laser. Moreover, you may use wavelengths, such as SHG of each laser, THG, and FHG.

本工程で形成する初期孔82は、その形状、大きさは特に限定されないが、略円形で、その直径が、0.5〜30μmであるのが好ましく、1.0〜10μmであるのがより好ましく、1.5〜5μmであるのがさらに好ましい。初期孔82の直径が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部61を確実に形成することができる。ただし、初期孔82が、略楕円形のように扁平形状のものである場合、短軸方向の長さを、直径の値として代用することができる。すなわち、本工程で形成する初期孔82が扁平形状のものである場合、初期孔82の幅(短軸方向の長さ)は、特に限定されないが、0.8〜30μmであるのが好ましく、1.0〜10μmであるのがより好ましく、1.5〜5μmであるのがさらに好ましい。初期孔82の幅が前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部61を確実に形成することができる。   The shape and size of the initial hole 82 formed in this step is not particularly limited, but it is substantially circular and its diameter is preferably 0.5 to 30 μm, more preferably 1.0 to 10 μm. Preferably, it is 1.5-5 micrometers. When the diameter of the initial hole 82 is a value within the above range, the concave portion 61 having the above-described shape can be reliably formed in the etching process described later. However, when the initial hole 82 has a flat shape such as a substantially elliptical shape, the length in the minor axis direction can be substituted for the value of the diameter. That is, when the initial hole 82 formed in this step has a flat shape, the width of the initial hole 82 (length in the minor axis direction) is not particularly limited, but is preferably 0.8 to 30 μm, More preferably, it is 1.0-10 micrometers, and it is still more preferable that it is 1.5-5 micrometers. When the width of the initial hole 82 is a value within the above range, the concave portion 61 having the above-described shape can be reliably formed in the etching process described later.

また、本工程で形成する初期孔82が扁平形状のものである場合、初期孔82の長さ(長軸方向の長さ)は、0.5〜30μmであるのが好ましく、1.0〜15μmであるのがより好ましく、1.5〜10μmであるのがさらに好ましい。初期孔82の長さが前記範囲内の値であると、後述するエッチング工程において、前述したような形状の凹部61をより確実に形成することができる。   Moreover, when the initial hole 82 formed in this process is a flat thing, it is preferable that the length (length of a major axis direction) of the initial hole 82 is 0.5-30 micrometers, 1.0- More preferably, it is 15 micrometers, and it is still more preferable that it is 1.5-10 micrometers. When the length of the initial hole 82 is a value within the above range, the concave portion 61 having the shape as described above can be more reliably formed in the etching process described later.

<A2>次に、図5(c)に示すように、初期孔82が設けられたマスク8を用いて基板7にエッチングを施し、基板7上に多数の凹部61を形成する(エッチング工程)。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
<A2> Next, as shown in FIG. 5C, the substrate 7 is etched using the mask 8 provided with the initial holes 82 to form a large number of recesses 61 on the substrate 7 (etching step). .
The etching method is not particularly limited, and examples thereof include wet etching and dry etching. In the following description, a case where wet etching is used will be described as an example.

初期孔82が設けられたマスク8で被覆された基板7に対して、エッチング(ウェットエッチング)を施すことにより、図5(c)に示すように、基板7は、マスク8が存在しない部分(マスク8の初期孔82に対応する部位)より食刻され、基板7上に多数の凹部61が形成される。上述したように、マスク8に設けられた初期孔82が千鳥状(千鳥格子状)の配置であるため、形成される凹部61は、基板7の表面に千鳥状(千鳥格子状)に配置されたものとなる。   Etching (wet etching) is performed on the substrate 7 covered with the mask 8 provided with the initial holes 82, so that the substrate 7 has a portion where the mask 8 does not exist (see FIG. 5C). A large number of recesses 61 are formed on the substrate 7 by etching from a portion corresponding to the initial hole 82 of the mask 8. As described above, since the initial holes 82 provided in the mask 8 are arranged in a staggered pattern (in a staggered pattern), the formed recesses 61 are formed in a staggered pattern (in a staggered pattern) on the surface of the substrate 7. It will be arranged.

また、ウェットエッチング法を用いると、凹部61を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、一水素二フッ化アンモニウムを含むエッチング液を用いると、基板7をより選択的に食刻することができ、凹部61を好適に形成することができる。
マスク8(マスク形成用膜81)が主としてクロム、酸化クロムで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、一水素二フッ化アンモニウムを含む液体が特に好適である。一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、一水素二フッ化アンモニウムを用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素および/または硫酸が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピートをより速くすることができる。
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材6を提供することができる。
Further, when the wet etching method is used, the concave portion 61 can be suitably formed. If, for example, an etching solution containing ammonium monohydrogen difluoride is used as the etching solution, the substrate 7 can be etched more selectively, and the recess 61 can be suitably formed.
When the mask 8 (mask forming film 81) is mainly composed of chromium or chromium oxide, the hydrofluoric acid-based etchant is particularly preferably a liquid containing ammonium monohydrogen difluoride. Since the ammonium hydrogen difluoride solution is not a poisonous and deleterious substance, it can prevent the influence on the human body and the environment during work. When ammonium monohydrogen difluoride is used as the etching solution, the etching solution may contain, for example, hydrogen peroxide and / or sulfuric acid. Thereby, an etching speed can be made faster.
Further, according to wet etching, it is possible to perform processing with a simpler apparatus than dry etching, and it is possible to perform processing on many substrates at once. Thereby, productivity improves and the member 6 with a recessed part can be provided cheaply.

<A3>次に、図5(d)に示すように、マスク8を除去する(マスク除去工程)。また、この際、マスク8の除去とともに、裏面保護膜89も除去することにより、凹部付き部材6が得られる。
マスク8が、前述したような主としてクロムで構成される層と、主として酸化クロムで構成される層とを有する積層体である場合、マスク8の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより好適に行うことができる。
<A3> Next, as shown in FIG. 5D, the mask 8 is removed (mask removal step). At this time, by removing the back surface protective film 89 along with the removal of the mask 8, the member 6 with a recess is obtained.
When the mask 8 is a laminated body having a layer mainly composed of chromium and a layer mainly composed of chromium oxide as described above, the removal of the mask 8 is, for example, ceric ammonium nitrate and perchlorine. It can carry out suitably by etching using a mixture containing an acid.

また、例えば、凹部付き部材6の凹部61が設けられている面側に、離型処理を施してもよい。これにより、後に詳述するマイクロレンズ基板1の製造方法において、基板本体2が有するマイクロレンズ21にカケ等の欠陥が生じるのを十分に防止しつつ、凹部付き部材6を容易に取り外すことができ、結果として、最終的なマイクロレンズ基板1において、マイクロレンズ21の欠陥を防止することができる。離型処理としては、アルキルポリシロキサン等のシリコーン系樹脂、ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系樹脂等の離型性を有する物質で構成される被膜の形成、ヘキサメチルジシラザン([(CHSi]NH)等のシリル化剤による表面処理、フッ素系ガスによる表面処理等が挙げられる。 For example, you may perform a mold release process to the surface side in which the recessed part 61 of the member 6 with a recessed part is provided. Thereby, in the manufacturing method of the microlens substrate 1 described in detail later, the member 6 with the recesses can be easily removed while sufficiently preventing defects such as chipping from occurring on the microlens 21 of the substrate body 2. As a result, defects in the microlens 21 can be prevented in the final microlens substrate 1. Examples of the mold release treatment include formation of a film composed of a material having releasability such as silicone resin such as alkylpolysiloxane, fluorine resin such as polytetrafluoroethylene, and hexamethyldisilazane ([(CH 3 ) Surface treatment with a silylating agent such as 3 Si] 2 NH), surface treatment with a fluorine-based gas, and the like.

以上により、図5(d)および図4に示すように、基板7上に多数の凹部61が千鳥状に設けられた凹部付き部材6が得られる。
基板7上に千鳥状に配された複数個の凹部61を形成する方法は、特に限定されるものではないが、上述したような方法(レーザ光の照射によりマスク形成用膜81に初期孔82を形成してマスク8を得、その後、そのマスク8を用いてエッチングを行うことにより、基板7上に凹部61を形成する方法)により形成した場合、以下のような効果が得られる。
By the above, as shown in FIG.5 (d) and FIG. 4, the member 6 with a recessed part in which many recessed parts 61 were provided on the board | substrate 7 in zigzag form is obtained.
The method for forming the plurality of recesses 61 arranged in a staggered pattern on the substrate 7 is not particularly limited, but the method as described above (the initial holes 82 in the mask forming film 81 by laser irradiation). To obtain a mask 8, and then etching using the mask 8 to form the recess 61 on the substrate 7), the following effects are obtained.

すなわち、レーザ光の照射によりマスク形成用膜81に初期孔82を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によって開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価に、所定パターンで開口部(初期孔82)を有するマスクを得ることができる。これにより生産性が向上し、安価に凹部付き部材6を提供することができる。
また、上述したような方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。大型の基板(凹部付き部材、マイクロレンズ基板)を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼り合わせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質で大型の基板(凹部付き部材、マイクロレンズ基板)を簡便な方法で安価に製造することができる。
また、初期孔82の形成をレーザの照射により行う場合、形成される初期孔82の形状、大きさ、配列等を、容易かつ確実に管理することができる。
That is, by forming the initial holes 82 in the mask forming film 81 by laser light irradiation, the openings (with a predetermined pattern) can be easily and inexpensively compared with the case where the openings are formed by a conventional photolithography method. A mask having initial holes 82) can be obtained. Thereby, productivity improves and the member 6 with a recessed part can be provided cheaply.
Further, according to the method as described above, it is possible to easily perform processing on a large substrate. When manufacturing a large substrate (a member with a recess, a microlens substrate), it is not necessary to bond a plurality of substrates as in the conventional case, and the seam of the bonding can be eliminated. Thereby, a high-quality large-sized substrate (a member with a recess, a microlens substrate) can be manufactured at a low cost by a simple method.
In addition, when the initial holes 82 are formed by laser irradiation, the shape, size, arrangement, and the like of the formed initial holes 82 can be easily and reliably managed.

次に、上述した凹部付き部材6を用いて、マイクロレンズ基板1を製造する方法について説明する。
[マイクロレンズ基板の製造方法の第1実施形態]
<B1>まず、凹部付き部材6の凹部61が設けられた側の面に、流動性を有する状態の組成物23(例えば、軟化状態の樹脂材料、未重合(未硬化)の樹脂材料)を付与する(組成物付与工程。図6(a)参照)。
Next, a method of manufacturing the microlens substrate 1 using the above-described member 6 with a recess will be described.
[First Embodiment of Microlens Substrate Manufacturing Method]
<B1> First, the composition 23 having fluidity (for example, a softened resin material, an unpolymerized (uncured) resin material) is applied to the surface of the member 6 with concave portions on which the concave portion 61 is provided. Apply (composition applying step, see FIG. 6A).

<B2>次に、凹部付き部材6上に付与された組成物23上に、シート材(基材フィルム)24を載せ、このシート材24と組成物23とを密着させる(密着工程。図6(b)、図6(c)参照)。
密着工程は、例えばシート材24上に平板(押圧部材)を配し、この平板を用いて行ってもよいし、加圧ローラーを用いて行ってもよい。
<B2> Next, a sheet material (base film) 24 is placed on the composition 23 provided on the member 6 with concave portions, and the sheet material 24 and the composition 23 are brought into close contact with each other (contact process; FIG. 6). (B), see FIG. 6 (c)).
The contact process may be performed using, for example, a flat plate (pressing member) on the sheet material 24 and using this flat plate, or using a pressure roller.

ここで、密着工程は、組成物23とシート材24との間が減圧された減圧状態で行う。
特に、本実施形態では、密着工程を、図6(b)、図6(c)に示すような減圧真空装置11を用いて、真空チャンバ111内で行う。この減圧真空装置11は、真空チャンバ111と、真空チャンバ111に接続された真空ポンプ112とを備えている。真空ポンプ112により排気することで、凹部付き部材6、組成物23、およびシート材24を収納する真空チャンバ111内は、減圧状態とされる。
Here, the adhesion process is performed in a reduced pressure state in which the space between the composition 23 and the sheet material 24 is reduced.
In particular, in the present embodiment, the contact process is performed in the vacuum chamber 111 using a reduced-pressure vacuum apparatus 11 as shown in FIGS. 6B and 6C. The reduced-pressure vacuum device 11 includes a vacuum chamber 111 and a vacuum pump 112 connected to the vacuum chamber 111. By evacuating with the vacuum pump 112, the inside of the vacuum chamber 111 which accommodates the member 6 with a recessed part, the composition 23, and the sheet | seat material 24 is made into a pressure reduction state.

このように、組成物23とシート材24との密着を、減圧状態下で行うことで、組成物23とシート材24との間に存在する気泡を確実に除去することができるとともに、組成物23中に存在する気泡も確実に除去することができる。また、組成物23とシート材24との間にゴミ等の異物の混入を防止することができる。その結果、基板本体2を厚みムラなく得ることができる。これにより透過率をばらつきなく全面にわたって均一なものとすることができる。また、後述するように(後述するような方法により)ブラックマトリックス3をセルフアライメントにより形成する際に、開口部33の大きさをばらつきなく均一に形成することができる。その結果、表示される画像における色ムラ、輝度ムラ等の発生をより効果的に防止することができる。   As described above, the adhesion between the composition 23 and the sheet material 24 is performed under a reduced pressure condition, whereby air bubbles existing between the composition 23 and the sheet material 24 can be reliably removed, and the composition The air bubbles present in 23 can also be reliably removed. In addition, foreign matters such as dust can be prevented from being mixed between the composition 23 and the sheet material 24. As a result, the substrate body 2 can be obtained without uneven thickness. Thereby, the transmittance can be uniform over the entire surface without variation. Further, as will be described later (when using a method as described later), when the black matrix 3 is formed by self-alignment, the size of the opening 33 can be uniformly formed without variation. As a result, it is possible to more effectively prevent the occurrence of color unevenness, brightness unevenness and the like in the displayed image.

本実施形態のように、組成物23とシート材24との密着を、真空チャンバ内で行うことで、より好適に減圧状態を作り出すことができ、凹部付き部材6上に付与された組成物23をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板1において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物23とシート材24との間等に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。また、例えば平板(押圧部材)や加圧ローラー等を用いて押圧する場合に、それらの操作を容易に行うことができる。また、押圧の際に、組成物23とシート材24との間に存在する気泡を逃がすために、大きな圧力を加えたり、加圧ローラーの移動方向を考慮したりする必要がなくなり、気泡の除去をより容易に行うことができる。   As in this embodiment, the composition 23 and the sheet material 24 are brought into close contact with each other in the vacuum chamber, so that a reduced pressure state can be more suitably created, and the composition 23 applied onto the member 6 with a recess. In the manufactured microlens substrate 1 can be more effectively prevented from causing undesired thickness variations, and between the composition 23 and the sheet material 24. It is possible to more effectively prevent bubbles and the like from remaining on the surface. For example, when pressing using a flat plate (pressing member), a pressure roller, etc., those operations can be performed easily. Moreover, in order to release bubbles existing between the composition 23 and the sheet material 24 during the pressing, it is not necessary to apply a large pressure or to consider the moving direction of the pressure roller. Can be performed more easily.

減圧状態における圧力は、特に限定されないが、例えば、1×10−2〜1×10Paであるのが好ましく、1×10〜1×10Paであることがより好ましい。減圧状態における圧力(雰囲気圧)が前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板1において不本意な厚さのばらつきが発生したり、組成物23中や組成物23とシート材24との間等に気泡が残存したりすることによる不都合の発生をより効果的に防止することができる。これにより、透過率をばらつきなく全面にわたってより均一なものとすることができる。また、ブラックマトリックス3の開口部33の大きさをばらつきなくより均一に形成することができ、色ムラ等がなくよりコントラストに優れた画像を得ることができる。また、視野角特性を特に優れたものとすることができる。 The pressure in the reduced pressure is not particularly limited, for example, 1 × and even preferably at 10 -2 ~1 × 10 5 Pa, more preferably 1 × 10 1 ~1 × 10 3 Pa. If the pressure (atmospheric pressure) in the reduced pressure is a value within the above range, the microlens substrate 1 to be manufactured may have an undesired thickness variation, or in the composition 23 or in the composition 23 and the sheet material 24. It is possible to more effectively prevent the occurrence of inconvenience due to bubbles remaining in between. Thereby, the transmittance can be made more uniform over the entire surface without variation. Further, the sizes of the openings 33 of the black matrix 3 can be formed more uniformly without variation, and an image with excellent color contrast and the like can be obtained. Further, the viewing angle characteristics can be made particularly excellent.

シート材24は、組成物23(固化後の組成物23)と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、シート材24の構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物23の絶対屈折率との差の絶対値が、0.20以下であるのが好ましく、0.10以下であるのがより好ましく、0.02以下であるのがさらに好ましい。
シート材24は、いかなる材料で構成されたものであってもよいが、ポリエチレンテレフタレートで構成されたものであるのが好ましい。ポリエチレンテレフタレートは、好適な光学特性を有するとともに、適度な可撓性を有しており、密着工程を効率良く行うことができる。また、組成物23として用いられる各種材料との親和性にも優れており、製造されるマイクロレンズ基板1の信頼性を特に優れたものとすることができる。
The sheet material 24 is preferably made of a material having a refractive index comparable to that of the composition 23 (the composition 23 after solidification), and more specifically, the absolute refractive index of the constituent material of the sheet material 24. The absolute value of the difference between the solid refractive index and the absolute refractive index of the composition 23 after solidification is preferably 0.20 or less, more preferably 0.10 or less, and even more preferably 0.02 or less. .
The sheet material 24 may be made of any material, but is preferably made of polyethylene terephthalate. Polyethylene terephthalate has suitable optical properties and moderate flexibility, so that the adhesion process can be performed efficiently. Moreover, it is excellent also in the affinity with the various materials used as the composition 23, and the reliability of the manufactured microlens substrate 1 can be made particularly excellent.

また、シート材24は、比較的厚いものを用いてもよいし、実質的に可撓性を有さないものを用いてもよい。
シート材24の厚さは、特に限定されないが、20〜200μmであるのが好ましく、35〜75μmであるのがより好ましい。シート材24の厚さが前記範囲内の値であると、マイクロレンズ基板1中に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができるとともに、本工程において、シート材24にしわが発生するのをより効果的に防止することができ、製造されるマイクロレンズ基板1において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができる。
Further, the sheet material 24 may be a relatively thick material, or may be a material that does not substantially have flexibility.
Although the thickness of the sheet | seat material 24 is not specifically limited, It is preferable that it is 20-200 micrometers, and it is more preferable that it is 35-75 micrometers. If the thickness of the sheet material 24 is within the above range, it is possible to more effectively prevent bubbles and the like from remaining in the microlens substrate 1, and wrinkles occur in the sheet material 24 in this step. Therefore, it is possible to more effectively prevent unintentional thickness variations in the manufactured microlens substrate 1.

また、例えば、シート材24の組成物23と対向する側の面には、図示しない溝が設けられていてもよい。シート材24が溝を有することにより、加圧時(組成物23にシート材24からの圧力がかかる際)に、組成物23を均等に延ばすことができるとともに、溝がガス流路として機能し、組成物23中または組成物23とシート材24との間に存在する気泡をより確実に逃がすことができる。その結果、基板本体2の厚みムラをより効果的に防止することができる。これにより、マイクロレンズ基板1の各部位での透過率のばらつきをより確実に防止することができるとともに、色ムラ等がなくよりコントラストに優れた画像を表示することができる。また、後述するように(後述するような方法により)ブラックマトリックス3をセルフアライメントにより形成する際に、開口部33の大きさをばらつきなくより均一に形成することができる。その結果、表示される画像における色ムラ、輝度ムラ等の発生をより効果的に防止することができる。   Further, for example, a groove (not shown) may be provided on the surface of the sheet material 24 on the side facing the composition 23. Since the sheet material 24 has a groove, the composition 23 can be evenly extended during pressurization (when the pressure from the sheet material 24 is applied to the composition 23), and the groove functions as a gas flow path. In addition, bubbles existing in the composition 23 or between the composition 23 and the sheet material 24 can be released more reliably. As a result, the thickness unevenness of the substrate body 2 can be more effectively prevented. As a result, it is possible to more reliably prevent variation in transmittance at each part of the microlens substrate 1, and to display an image with excellent contrast without color unevenness. Further, as described later, when the black matrix 3 is formed by self-alignment (by a method described later), the size of the openings 33 can be formed more uniformly without variation. As a result, it is possible to more effectively prevent the occurrence of color unevenness, brightness unevenness and the like in the displayed image.

シート材24に設けられる溝は、1本でもよいし、複数本であってもよいが、複数本であるのが好ましい。これにより、凹部付き部材6上に付与された組成物23をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板1(基板本体2)において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物23とシート材24との間に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。その結果、特に優れた光学特性を有するマイクロレンズ基板1を得ることができる。   There may be one groove or a plurality of grooves provided in the sheet material 24, but a plurality of grooves are preferable. Thereby, the composition 23 provided on the member 6 with a recessed part can be extended more uniformly, and the variation in unintentional thickness generate | occur | produces more in the microlens board | substrate 1 (board | substrate main body 2) manufactured. While being able to prevent effectively, it can prevent more effectively that a bubble etc. remain between the composition 23 and the sheet | seat material 24. FIG. As a result, the microlens substrate 1 having particularly excellent optical characteristics can be obtained.

シート材24が複数本の溝を有するものである場合、シート材24は、互いに略平行に設けられた溝を有するものであるのが好ましい。これにより、凹部付き部材6上に付与された組成物23をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板1(基板本体2)において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物23とシート材24との間に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。その結果、特に優れた光学特性を有するマイクロレンズ基板1を得ることができる。   When the sheet material 24 has a plurality of grooves, the sheet material 24 preferably has grooves provided substantially in parallel with each other. Thereby, the composition 23 provided on the member 6 with a recessed part can be extended more uniformly, and the variation in unintentional thickness generate | occur | produces more in the microlens board | substrate 1 (board | substrate main body 2) manufactured. While being able to prevent effectively, it can prevent more effectively that a bubble etc. remain between the composition 23 and the sheet | seat material 24. FIG. As a result, the microlens substrate 1 having particularly excellent optical characteristics can be obtained.

また、隣接する溝同士のピッチPは、10〜200μmであるのが好ましく、50〜150μmであるのがより好ましい。溝のピッチが前記範囲内の値であると、凹部付き部材6上に付与された組成物23をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板1(基板本体2)において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物23とシート材24との間に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。その結果、特に優れた光学特性を有するマイクロレンズ基板1を得ることができる。   The pitch P between adjacent grooves is preferably 10 to 200 μm, and more preferably 50 to 150 μm. When the pitch of the grooves is a value within the above range, the composition 23 applied on the recessed member 6 can be more evenly extended, and the microlens substrate 1 (substrate body 2) to be manufactured is unintentional. It is possible to more effectively prevent the thickness variation from occurring and to more effectively prevent bubbles and the like from remaining between the composition 23 and the sheet material 24. As a result, the microlens substrate 1 having particularly excellent optical characteristics can be obtained.

溝の形成方向としては、特に限定されないが、凹部付き部材6上において、組成物23の流れやすい方向に形成することが好ましい。これにより、加圧時に組成物23をより均等に延ばすことができるとともに、気泡をより確実に逃がすことができる。例えば、凹部付き部材6が上記のような形状の凹部を有するものである場合、溝の長手方向は、凹部61の短軸方向に一致するものであるのが好ましい。これにより、凹部付き部材6上に付与された組成物23をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板1(基板本体2)において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物23とシート材24との間に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。その結果、特に優れた光学特性を有するマイクロレンズ基板1を得ることができる。   The direction in which the grooves are formed is not particularly limited, but is preferably formed in the direction in which the composition 23 easily flows on the member 6 with recesses. Thereby, while being able to extend the composition 23 more uniformly at the time of pressurization, a bubble can be escaped more reliably. For example, when the member 6 with a recess has a recess having the shape as described above, the longitudinal direction of the groove preferably coincides with the minor axis direction of the recess 61. Thereby, the composition 23 provided on the member 6 with a recessed part can be extended more uniformly, and the variation in unintentional thickness generate | occur | produces more in the microlens board | substrate 1 (board | substrate main body 2) manufactured. While being able to prevent effectively, it can prevent more effectively that a bubble etc. remain between the composition 23 and the sheet | seat material 24. FIG. As a result, the microlens substrate 1 having particularly excellent optical characteristics can be obtained.

溝の断面形状としては、特に限定されるものではなく、例えば、半円形状、矩形状、台形状、三角形状等、種々の形状が挙げられるが、半円形状であるのが好ましい。これにより、凹部付き部材6上に付与された組成物23をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板1(基板本体2)において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物23とシート材24との間に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。その結果、特に優れた光学特性を有するマイクロレンズ基板1を得ることができる。   The cross-sectional shape of the groove is not particularly limited, and examples thereof include various shapes such as a semicircular shape, a rectangular shape, a trapezoidal shape, and a triangular shape, and a semicircular shape is preferable. Thereby, the composition 23 provided on the member 6 with a recessed part can be extended more uniformly, and the variation in unintentional thickness generate | occur | produces more in the microlens board | substrate 1 (board | substrate main body 2) manufactured. While being able to prevent effectively, it can prevent more effectively that a bubble etc. remain between the composition 23 and the sheet | seat material 24. FIG. As a result, the microlens substrate 1 having particularly excellent optical characteristics can be obtained.

溝の深さDは、特に限定されないが、20〜200μmであるのが好ましく、50〜100μmであるのがより好ましい。溝の深さが前記範囲内の値であると、凹部付き部材6上に付与された組成物23をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板1(基板本体2)において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物23とシート材24との間に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。その結果、特に優れた光学特性を有するマイクロレンズ基板1を得ることができる。   Although the depth D of a groove | channel is not specifically limited, It is preferable that it is 20-200 micrometers, and it is more preferable that it is 50-100 micrometers. When the depth of the groove is a value within the above range, the composition 23 applied on the concave member 6 can be more uniformly extended, and the microlens substrate 1 (substrate body 2) to be manufactured is unwilling. As a result, it is possible to more effectively prevent the occurrence of variations in thickness, and more effectively prevent bubbles and the like from remaining between the composition 23 and the sheet material 24. As a result, the microlens substrate 1 having particularly excellent optical characteristics can be obtained.

溝の幅(溝の開口部における幅)Wは、特に限定されないが、20〜200μmであるのが好ましく、50〜100μmであるのがより好ましい。溝の幅が前記範囲内の値であると、凹部付き部材6上に付与された組成物23をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板1(基板本体2)において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物23とシート材24との間に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。その結果、特に優れた光学特性を有するマイクロレンズ基板1を得ることができる。   The width W of the groove (width at the opening of the groove) W is not particularly limited, but is preferably 20 to 200 μm, and more preferably 50 to 100 μm. When the width of the groove is a value within the above range, the composition 23 applied on the member 6 with a recess can be more evenly extended, and the microlens substrate 1 (substrate body 2) to be manufactured is unintentional. It is possible to more effectively prevent the thickness variation from occurring and to more effectively prevent bubbles and the like from remaining between the composition 23 and the sheet material 24. As a result, the microlens substrate 1 having particularly excellent optical characteristics can be obtained.

シート材24の溝が設けられた面における溝が占める投影面積の割合は、10〜200%であるのが好ましく、50〜150%であるのがより好ましい。溝が占める投影面積の割合が前記範囲内の値であると、凹部付き部材6上に付与された組成物23をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板1(基板本体2)において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物23とシート材24との間に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。その結果、特に優れた光学特性を有するマイクロレンズ基板1を得ることができる。   The ratio of the projected area occupied by the grooves on the surface of the sheet material 24 where the grooves are provided is preferably 10 to 200%, and more preferably 50 to 150%. When the ratio of the projected area occupied by the groove is a value within the above range, the composition 23 applied on the member 6 with a recess can be more evenly extended, and the manufactured microlens substrate 1 (substrate body 2). In this case, it is possible to more effectively prevent unintentional thickness variation in the film and to more effectively prevent bubbles and the like from remaining between the composition 23 and the sheet material 24. it can. As a result, the microlens substrate 1 having particularly excellent optical characteristics can be obtained.

シート材24が溝を有するものである場合、シート材24は、溝が、形成されるマイクロレンズ21の集光部以外の部位に存在するものとなるように、載置されるものであるのが好ましい。これにより、製造されるマイクロレンズ基板1において、組成物23の固化物と、シート材24との界面での画像形成用の光の不本意な屈折等が発生するのを確実に防止することができ、マイクロレンズ基板1の光学特性をより確実にコントロールすることができる。また、凹部付き部材6が、万が一、所定の形状を有していない不良凹部を有する場合であっても、後述するような方法において、当該不良凹部に対応する部位にブラックマトリックス3の開口部33が形成されるのを防止することができる。その結果、表示される画像において、不本意な輝点が生じるのを効果的に防止することができ、表示される画像の画質の信頼性を特に優れたものとすることができる。   When the sheet material 24 has a groove, the sheet material 24 is placed so that the groove is present in a portion other than the light collecting portion of the microlens 21 to be formed. Is preferred. Thereby, in the microlens substrate 1 to be manufactured, it is possible to reliably prevent the occurrence of unintentional refraction of the light for image formation at the interface between the solidified product 23 and the sheet material 24. In addition, the optical characteristics of the microlens substrate 1 can be controlled more reliably. In addition, even if the member 6 with a recess has a defective recess that does not have a predetermined shape, the opening 33 of the black matrix 3 is formed at a site corresponding to the defective recess in a method described later. Can be prevented. As a result, unintentional bright spots can be effectively prevented from occurring in the displayed image, and the reliability of the image quality of the displayed image can be made particularly excellent.

また、密着工程は、例えば、凹部付き部材6と、シート材24との間に、スペーサーを配した状態で、行ってもよい。これにより、形成される基板本体2の厚さをより確実に制御することができる。また、スペーサーを用いる場合、組成物23を固化する際に、凹部付き部材6とシート材24との間にスペーサーが配されていればよく、スペーサーを供給するタイミングは特に限定されない。例えば、凹部付き部材6の凹部61が設けられた側の面に、付与する組成物23として予めスペーサーが分散されたものを用いてもよいし、凹部付き部材6上にスペーサーを配した状態で組成物23を付与してもよいし、組成物23の供給後にスペーサーを付与してもよい。   Moreover, you may perform an adhesion | attachment process in the state which has arranged the spacer between the member 6 with a recessed part, and the sheet | seat material 24, for example. Thereby, the thickness of the board | substrate body 2 formed can be controlled more reliably. Moreover, when using a spacer, when solidifying the composition 23, the spacer should just be distribute | arranged between the member 6 with a recessed part, and the sheet | seat material 24, and the timing which supplies a spacer is not specifically limited. For example, the surface of the member 6 with recesses on the side where the recesses 61 are provided may be one in which spacers are dispersed in advance as the composition 23 to be applied, or the spacers are arranged on the member 6 with recesses. The composition 23 may be applied, or a spacer may be applied after the composition 23 is supplied.

スペーサーを用いる場合、当該スペーサーは、固化後の組成物23と同程度の屈折率を有する材料で構成されているのが好ましく、より具体的には、スペーサーの構成材料の絶対屈折率と固化後の組成物23の絶対屈折率との差の絶対値が、0.20以下であるのが好ましく、0.10以下であるのがより好ましく、0.02以下であるのがさらに好ましく、固化後の組成物23とスペーサーとが同一の材料で構成されたものであるのが最も好ましい。
スペーサーの形状は、特に限定されないが、略球状、略円柱状であるのが好ましい。スペーサーがこのような形状のものである場合、その直径は、10〜300μmであるのが好ましく、30〜200μmであるのがより好ましく、30〜170μmであるのがさらに好ましい。
In the case of using a spacer, the spacer is preferably made of a material having a refractive index comparable to that of the solidified composition 23, and more specifically, the absolute refractive index of the constituent material of the spacer and the solidified material. The absolute value of the difference from the absolute refractive index of the composition 23 is preferably 0.20 or less, more preferably 0.10 or less, still more preferably 0.02 or less, and after solidification The composition 23 and the spacer are most preferably composed of the same material.
The shape of the spacer is not particularly limited, but is preferably substantially spherical or substantially cylindrical. When the spacer has such a shape, the diameter thereof is preferably 10 to 300 μm, more preferably 30 to 200 μm, and further preferably 30 to 170 μm.

<B3>次に、組成物23を固化(ただし、硬化(重合)を含む)させ、マイクロレンズ21を備えた基板本体2を得る(固化工程。図6(d)参照)。
組成物23の固化を硬化(重合)により行う場合、その方法としては、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
特に、シート材24が上述したような溝を有するものである場合、組成物23の固化物とシート材24との接触面積は、大きいものとなる。このため、製造される基板本体2において、組成物23の固化物とシート材24との密着性は優れたものとなり、基板本体2の耐久性、信頼性は特に優れたものとなる。
また、必要に応じて組成物23および/またはシート材24の中には、光源からの入射光を拡散させるために、あらかじめ拡散材として例えばポリスチレンビーズ、ガラスビーズ、有機架橋ポリマーなどを混ぜても良い。ここで拡散材は組成物23および/またはシート材24全体に混入しても良いし、一部にのみ混入しても良い。
<B3> Next, the composition 23 is solidified (including curing (polymerization)) to obtain the substrate body 2 including the microlenses 21 (solidification step, see FIG. 6D).
In the case where the composition 23 is solidified by curing (polymerization), examples of the method include methods such as irradiation with light such as ultraviolet rays, irradiation with electron beams, and heating.
In particular, when the sheet material 24 has a groove as described above, the contact area between the solidified product 23 and the sheet material 24 is large. For this reason, in the manufactured board | substrate main body 2, the adhesiveness of the solidified material of the composition 23 and the sheet | seat material 24 will become excellent, and durability and reliability of the board | substrate main body 2 will be especially excellent.
In addition, in the composition 23 and / or the sheet material 24, for example, polystyrene beads, glass beads, organic cross-linked polymers, etc. may be mixed in advance as a diffusing material in order to diffuse incident light from the light source. good. Here, the diffusing material may be mixed in the entire composition 23 and / or the sheet material 24, or may be mixed only in part.

<B4>次に、形成された基板本体2から、凹部付き部材6を取り外す(凹部付き部材除去工程。図7(e)参照)。
本工程で除去された凹部付き部材6は、マイクロレンズ基板1の製造に繰り返し使用することができる。これにより、製造されるマイクロレンズ基板1の品質の安定性を高めることができるとともに、製造コスト面でも有利となる。
<B4> Next, the recessed member 6 is removed from the formed substrate body 2 (recessed member removing step, see FIG. 7E).
The recessed member 6 removed in this step can be used repeatedly for the production of the microlens substrate 1. Thereby, the stability of the quality of the microlens substrate 1 to be manufactured can be improved, and the manufacturing cost is advantageous.

<B5>次に、上記のようにして作製された基板本体2の出射側表面に、ブラックマトリックス(遮光膜)3を形成する。
本実施形態では、ブラックマトリックスの形成を、基板本体にポジ型感光性粘着剤を付与し、粘着剤層を形成する第1の工程(粘着剤層形成工程)と、基板本体2を介して粘着剤層に光を照射する処理を施し、感光部の粘着性を低下させる第2の工程(光照射工程)と、粘着剤層上に、遮光層形成用材料で構成された遮光性材料層を有する遮光性材料転写シートを貼り合わせる第3の工程(貼着工程)と、貼り合わされた遮光性材料転写シートを粘着剤層から剥離し、感光性粘着剤の非感光部に選択的に遮光層形成用材料を転写することで、開口部を有する遮光膜を形成する第4の工程(遮光膜形成工程)とを経て行う。
<B5> Next, a black matrix (light-shielding film) 3 is formed on the exit-side surface of the substrate body 2 manufactured as described above.
In the present embodiment, the black matrix is formed by applying a positive photosensitive adhesive to the substrate body and forming an adhesive layer (adhesive layer forming step) and the substrate body 2 through the adhesive. A second step (light irradiation step) for applying light to the adhesive layer to reduce the adhesiveness of the photosensitive portion; and a light-shielding material layer composed of a light-shielding layer forming material on the adhesive layer. A third step (sticking step) for laminating the light-shielding material transfer sheet having the light-shielding material transfer sheet and the pasted light-shielding material transfer sheet are peeled off from the pressure-sensitive adhesive layer, and the light-shielding layer is selectively applied to the non-photosensitive portion of the photosensitive pressure-sensitive adhesive By transferring the forming material, the fourth step of forming a light shielding film having an opening (light shielding film forming step) is performed.

<B5−1>まず、図7(f)、図7(g)に示すように、基板本体2の出射側表面に、感光部分は粘着性が低下し、非感光部分は粘着性を維持する特性を示すポジ型の感光性粘着剤を付与して粘着剤層31を形成する(粘着剤層形成工程)。
粘着剤層31の形成方法は、特に限定されないが、本実施形態では、ポジ型の感光性粘着剤で構成されたシート状の粘着剤シート31’を用いて形成する。
<B5-1> First, as shown in FIGS. 7 (f) and 7 (g), the light-sensitive part of the substrate body 2 has a reduced adhesiveness and the non-photosensitive part maintains the adhesiveness on the surface on the emission side. A positive-type photosensitive pressure-sensitive adhesive having characteristics is applied to form the pressure-sensitive adhesive layer 31 (pressure-sensitive adhesive layer forming step).
Although the formation method of the adhesive layer 31 is not specifically limited, In this embodiment, it forms using the sheet-like adhesive sheet 31 'comprised with the positive photosensitive adhesive.

感光性粘着剤は、例えば、粘着性樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤等で構成されるものを用いることができる。
粘着性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂等が挙げられるが、耐久性、接着性の観点から優れるアクリル系粘着剤が好適である。
As the photosensitive adhesive, for example, an adhesive resin, a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, or the like can be used.
Examples of the adhesive resin include acrylic resins, rubber resins, silicone resins, urethane resins, and polyester resins, and acrylic adhesives that are excellent in terms of durability and adhesiveness are suitable. .

アクリル系粘着性樹脂は、例えば、アクリル酸アルキルエステルと他の単量体と官能性単量体とを共重合して得られるアクリル系共重合樹脂を主成分とする。
アクリル酸アルキルエステルとしては、そのアルキル基の炭素数が4〜15のものが好適に用いられ、例えば、アクリル酸−n−ブチル、アクリル酸−2−エチルヘキシル、アクリル酸イソオクチル、アクリル酸イソノニル等が挙げられ、これらから選択される1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
The acrylic adhesive resin contains, for example, an acrylic copolymer resin obtained by copolymerizing an acrylic acid alkyl ester, another monomer, and a functional monomer as a main component.
As the alkyl acrylate ester, those having 4 to 15 carbon atoms in the alkyl group are preferably used. For example, acrylic acid-n-butyl, acrylate-2-ethylhexyl, isooctyl acrylate, isononyl acrylate, etc. 1 type selected from these, or 2 or more types can be used in combination.

他の単量体としては、例えば、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビニル等が挙げられ、これらから選択される1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
また、官能性単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、アクリル酸ヒドロキシルエチル、メタクリル酸ヒドロキシルエチル、アクリル酸プロピレングリコール、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸−tert−ブチルアミノエチル等が挙げられ、これらから選択される1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
Examples of the other monomer include methyl acrylate, methyl methacrylate, styrene, acrylonitrile, vinyl acetate, and the like, and one or more selected from these can be used in combination.
Examples of the functional monomer include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, hydroxylethyl acrylate, hydroxylethyl methacrylate, propylene glycol acrylate, acrylamide, methacrylamide, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, methacrylic acid. Examples include dimethylaminoethyl acid, tert-butylaminoethyl methacrylate, and the like, and one or more selected from these can be used in combination.

また、側鎖に光反応性基、例えば、不飽和二重結合を有するアクリル系共重合樹脂を用いてもよい。
アクリル系共重合樹脂におけるアクリル酸アルキルエステルと他の単量体と官能性単量体の構成比(重量%)は、特に限定されないが、70〜99:0〜20:0.01〜20であるのが好ましく、80〜95:0〜10:0.1〜15であるのがより好ましい。また、アクリル系共重合樹脂の重量平均分子量は、特に限定されないが、20万〜120万であるのが好ましく、40万〜100万であるのがより好ましい。
Moreover, you may use the acrylic copolymer resin which has a photoreactive group, for example, an unsaturated double bond, in a side chain.
The composition ratio (% by weight) of the acrylic acid alkyl ester, the other monomer, and the functional monomer in the acrylic copolymer resin is not particularly limited, but is 70 to 99: 0 to 20: 0.01 to 20. It is preferable that it is 80-95: 0-10: 0.1-15. The weight average molecular weight of the acrylic copolymer resin is not particularly limited, but is preferably 200,000 to 1,200,000, and more preferably 400,000 to 1,000,000.

また、アクリル系粘着剤は、上記のアクリル系共重合樹脂の他に、例えば、室温架橋型または加熱架橋型架橋剤等の架橋剤、粘着付与剤等を含むものであってもよい。
室温架橋型架橋剤としては、例えば、多価イソシアネートのポリイソシアネート化合物及びこれらポリイソシアネート化合物の3量体、上記ポリイソシアネート化合物とポリオール化合物とを反応させて得られる末端イソシアネートウレタンプレポリマー、これらのポリイソシアネート化合物、これらポリイソシアネート化合物の3量体が挙げられる。多価イソシアネートの具体例としては、2,4−トリレンジイソシアネート、2,5−トリレンジイソシアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4−キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−4,4′−ジイソシアネート、3−メチルジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−4,4′−ジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−2,4′−ジイソシアネート、リジンイソシアネート等が挙げられる。また、架橋剤としては、例えば、アルミニウムやチタン等の金属キレート化合物や多官能エポキシ化合物を用いてもよい。
In addition to the acrylic copolymer resin, the acrylic pressure-sensitive adhesive may contain, for example, a crosslinking agent such as a room temperature crosslinking type or a heat crosslinking type crosslinking agent, a tackifier, and the like.
Examples of the room temperature crosslinking type crosslinking agent include polyisocyanate compounds of polyisocyanates and trimers of these polyisocyanate compounds, terminal isocyanate urethane prepolymers obtained by reacting the above polyisocyanate compounds and polyol compounds, and these polyisocyanate compounds. Examples include isocyanate compounds and trimers of these polyisocyanate compounds. Specific examples of the polyvalent isocyanate include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,5-tolylene diisocyanate, 1,3-xylylene diisocyanate, 1,4-xylylene diisocyanate, diphenylmethane-4,4′-diisocyanate, Examples include 3-methyldiphenylmethane diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane-4,4′-diisocyanate, dicyclohexylmethane-2,4′-diisocyanate, and lysine isocyanate. Moreover, as a crosslinking agent, you may use metal chelate compounds, such as aluminum and titanium, and a polyfunctional epoxy compound, for example.

室温架橋型架橋剤は、アクリル系共重合樹脂100重量部に対して、0.005〜20重量部の割合で添加されるのが好ましく、0.01〜10重量部の割合で添加されるのがより好ましい。
加熱架橋型架橋剤としては、例えば、ホルムアルデヒドと、メラミン、ベンゾグアミン、尿素等を反応させて得られるメチロール基含有化合物、およびそれらのメチロール基の一部または全部を脂肪族アルコールでエーテル化したもの等が挙げられる。
加熱架橋型架橋剤は、アクリル系共重合樹脂100重量部に対して、0.01〜25重量部の割合で添加されるのが好ましく、特に0.1〜20重量部の割合で添加されるのがより好ましい。
The room temperature crosslinking type crosslinking agent is preferably added at a rate of 0.005 to 20 parts by weight, and preferably at a rate of 0.01 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic copolymer resin. Is more preferable.
Examples of the heat-crosslinking type crosslinking agent include methylol group-containing compounds obtained by reacting formaldehyde with melamine, benzoguanamine, urea, etc., and those obtained by etherifying a part or all of those methylol groups with an aliphatic alcohol. Is mentioned.
The heat-crosslinking type crosslinking agent is preferably added at a ratio of 0.01 to 25 parts by weight, particularly 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the acrylic copolymer resin. Is more preferable.

粘着付与剤としては、例えば、ロジン系樹脂、テルペン系樹脂、キシレン系樹脂等が挙げられる。
光重合性化合物は、重合形式により、例えば、光ラジカル重合性化合物、光カチオン重合性化合物、光アニオン重合性化合物、光二量化を経由して重合を開始する化合物等が挙げられるが、材料の選択範囲、重合反応性等から光ラジカル重合性化合物が好ましい。
Examples of the tackifier include rosin resins, terpene resins, xylene resins and the like.
Photopolymerizable compounds include, for example, photoradical polymerizable compounds, photocationic polymerizable compounds, photoanionic polymerizable compounds, compounds that initiate polymerization via photodimerization, etc. A radical photopolymerizable compound is preferred in view of the range, polymerization reactivity and the like.

光ラジカル重合性化合物としては、例えば、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ化合物が挙げられ、例えば、不飽和カルボン酸、およびその塩、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド結合物等が挙げられる。より具体な例として、以下に、脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーを挙げる。アクリル酸エステルとしては、例えば、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー、2−フェノキシエチルアクリレート、2−フェノキシエチルアクリレート、フェノールエトキシレートモノアクリレート、2−(p−クロロフェノキシ)エチルアクリレート、p−クロロフェニルアクリレート、フェニルアクリレート、2−フェニルエチルアクリレート、ビスフェノールAの(2−アクリルオキシエチル)エーテル、エトキシ化されたビスフェノールAジアクリレート、2−(1−ナフチルオキシ)エチルアクリレート、o−ビフェニルアクリレート、o−ビフェニルアクリレート、9,9−ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アクリロキシトリエトキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アクリロキシジプロポキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アクリロキシエトキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アクリロキシエトキシ-3-エチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アクリロキシエトキシ−3,5−ジメチル)フルオレン等が挙げられる。   Examples of the photo-radical polymerizable compound include compounds having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated double bond. Examples thereof include unsaturated carboxylic acids and salts thereof, unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyvalent compounds. Examples thereof include esters with a polyhydric alcohol compound, and amide bonds between an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound. As more specific examples, the following are monomers of esters of aliphatic polyhydric alcohol compounds and unsaturated carboxylic acids. Examples of acrylic acid esters include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, and trimethylolpropane triacrylate. , Trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol Tetraacrylate, dipentaerythritol diacryl Dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer, 2-phenoxyethyl acrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, phenol ethoxylate monoacrylate, 2- (p-chlorophenoxy) ethyl acrylate, p-chlorophenyl acrylate, phenyl acrylate, 2-phenylethyl acrylate, bisphenol A (2-acrylic Oxyethyl) ether, ethoxylated bisph Nord A diacrylate, 2- (1-naphthyloxy) ethyl acrylate, o-biphenyl acrylate, o-biphenyl acrylate, 9,9-bis (4-acryloxydiethoxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- Acryloxytriethoxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-acryloxydipropoxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-acryloxyethoxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4 -Acryloxyethoxy-3-ethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-acryloxyethoxy-3,5-dimethyl) fluorene and the like.

また、硫黄含有アクリル化合物を使用することもでき、例えば、4,4’−ビス(β−アクリロイルオキシエチルチオ)ジフェニルスルホン、4,4’−ビス(β−アクリロイルオキシエチルチオ)ジフェニルケトン、4,4’−ビス(β−アクリロイルオキシエチルチオ)−3,3’,5,5’−テトラブロモジフェニルケトン、2,4−ビス(β−アクリロイルオキシエチルチオ)ジフェニルケトン等を用いることができる。   Sulfur-containing acrylic compounds can also be used, such as 4,4′-bis (β-acryloyloxyethylthio) diphenyl sulfone, 4,4′-bis (β-acryloyloxyethylthio) diphenyl ketone, 4 , 4′-bis (β-acryloyloxyethylthio) -3,3 ′, 5,5′-tetrabromodiphenyl ketone, 2,4-bis (β-acryloyloxyethylthio) diphenyl ketone, and the like can be used. .

また、メタクリル酸エステルとしては、例えば、上記アクリル酸エステル化合物名のうち、「アクリレート」が「メタクリレート」に、「アクリロキシ」が「メタクリロキシ」に、「アクリロイル」が「メタクリロイル」になる化合物が具体例として挙げられる。
これらの光重合性化合物は1種もしくは2種以上の混合物として使用することもできる。
Examples of the methacrylic acid ester include, for example, compounds in which “acrylate” is “methacrylate”, “acryloxy” is “methacryloxy”, and “acryloyl” is “methacryloyl” among the acrylate compound names above. As mentioned.
These photopolymerizable compounds can also be used as one kind or a mixture of two or more kinds.

光重合性化合物は、アクリル系共重合樹脂100重量部に対して0.1〜200重量部の割合で添加されるのが好ましく、10〜150重量部の割合で添加されるのがより好ましい。
光重合開始剤としては、上記光重合性化合物の重合方式により適宜選択される。光ラジカル重合性化合物に対して使用できる光重合開始剤としては、例えば、イミダゾール誘導体、ビスイミダゾール誘導体、N−アリールグリシン誘導体、有機アジド化合物、チタノセン類、アルミナート錯体、有機過酸化物、N−アルコキシピリジニウム塩、チオキサントン誘導体等が挙げられ、更に具体的には、1,3−ジ(t−ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラキス(t−ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3−フェニル−5−イソオキサゾロン、2−メルカプトベンズイミダゾール、ビス(2,4,5−トリフェニル)イミダゾール、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(商品名イルガキュア651、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(商品名イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1(商品名イルガキュア369、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、ビス(η5−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)−フェニル)チタニウム(商品名イルガキュア784、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)等が例示される。また、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、トリアジン化合物等も使用することができ、更に具体的には、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、ビス(p−tert−ブチルフェニル)ヨードニウム、ビス(p−クロロフェニル)ヨードニウム等のヨードニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のヨードニウム塩、トリフェニルスルホニウム、4−tert−ブチルトリフェニルスルホニウム、トリス(4−メチルフェニル)スルホニウム等のスルホニウムのクロリド、ブロミド、ホウフッ化塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアンチモネート塩等のスルホニウム塩、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−1,3,5−トリアジン等の2,4,6−置換−1,3,5−トリアジン化合物等が挙げられる。
The photopolymerizable compound is preferably added at a rate of 0.1 to 200 parts by weight, more preferably 10 to 150 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the acrylic copolymer resin.
As a photoinitiator, it selects suitably by the polymerization system of the said photopolymerizable compound. Examples of the photopolymerization initiator that can be used for the photoradical polymerizable compound include imidazole derivatives, bisimidazole derivatives, N-arylglycine derivatives, organic azide compounds, titanocenes, aluminate complexes, organic peroxides, N- Examples thereof include alkoxypyridinium salts and thioxanthone derivatives. More specifically, 1,3-di (t-butyldioxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ′, 4,4′-tetrakis (t-butyldioxycarbonyl) ) Benzophenone, 3-phenyl-5-isoxazolone, 2-mercaptobenzimidazole, bis (2,4,5-triphenyl) imidazole, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one (trade name) Irgacure 651, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., 1-Hide Roxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (trade name Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 (trade name Irgacure) 369, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), bis (η5-2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl ) Titanium (trade name Irgacure 784, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) and the like. In addition, aromatic iodonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic diazonium salts, aromatic phosphonium salts, triazine compounds, and the like can also be used, and more specifically, diphenyliodonium, ditolyliodonium, bis (p-tert). -Iodonium chloride such as -butylphenyl) iodonium and bis (p-chlorophenyl) iodonium, iodonium salts such as bromide, borofluoride, hexafluorophosphate salt, hexafluoroantimonate salt, triphenylsulfonium, 4-tert-butyltri Sulfonium salts such as phenylsulfonium, tris (4-methylphenyl) sulfonium, sulfonium chloride, bromide, borofluoride, hexafluorophosphate salt, hexafluoroantimonate salt, 2, 4, 6-tris (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) And 2,4,6-substituted-1,3,5-triazine compounds such as 1,3,5-triazine.

これらの光重合開始剤は、アクリル系共重合樹脂100重量部に対して、0.5〜20重量部の割合で配合されるのが好ましく、1〜15重量部の割合で配合されるのがより好ましい。
感光性粘着剤を感光させるために使用する露光光源波長への感度を向上させることを目的として、さらに増感色素を使用することもできる。増感色素としては、例えば、チオピリリウム塩系色素、メロシアニン系色素、シアニン系色素、キノリン系色素、クマリン系色素、ケトクマリン系色素、キサントン系色素、チオキサントン系色素、ローダミン系色素、シクロペンタノン系色素、シクロヘキサノン系色素等が挙げられる。
These photopolymerization initiators are preferably blended in a proportion of 0.5 to 20 parts by weight, and in a proportion of 1 to 15 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the acrylic copolymer resin. More preferred.
A sensitizing dye can also be used for the purpose of improving the sensitivity to the wavelength of the exposure light source used to sensitize the photosensitive adhesive. Examples of sensitizing dyes include thiopyrylium salt dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, quinoline dyes, coumarin dyes, ketocoumarin dyes, xanthone dyes, thioxanthone dyes, rhodamine dyes, and cyclopentanone dyes. And cyclohexanone dyes.

これらの増感色素は、アクリル系共重合樹脂100重量部に対して、0.01〜15重量部の割合で配合されるのが好ましく、0.1〜5重量部の割合で配合されるのがより好ましい。
その他、例えば、粘着性の制御や後述するコーティング適性改良を目的として、各種可塑剤、界面活性剤等を用いてもよい。
These sensitizing dyes are preferably blended in a proportion of 0.01 to 15 parts by weight, and in a proportion of 0.1 to 5 parts by weight, with respect to 100 parts by weight of the acrylic copolymer resin. Is more preferable.
In addition, for example, various plasticizers, surfactants, and the like may be used for the purpose of controlling adhesiveness and improving coating suitability described later.

感光性粘着剤としては、JIS Z0237に規定される180°剥離強度測定より得られる感光部の粘着性が、非感光部の粘着性に対して50%以上低下するものを使用することが特に好ましい。このような感光性粘着剤を使用することで、所望の部位に開口部を有する遮光層を容易かつ確実に形成することができる。
感光性粘着剤としては、例えば、上述したようなアクリル系共重合樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤、また、必要に応じて添加される室温架橋型または加熱架橋型架橋剤、粘着付与剤、増感色素、その他添加剤を、メチルエチルケトン、トルエン、酢酸エチル、エタノール、イソプロパノール等の溶剤で希釈したもの(溶剤型粘着剤)を用いることができる。感光性粘着剤中における固形分の含有率は、15〜50重量%であるのが好ましく、20〜35重量%であるのがより好ましい。また、例えば、感光性粘着剤が液状の場合は、溶剤に溶解せず、そのまま用いることができる。
As the photosensitive adhesive, it is particularly preferable to use a photosensitive adhesive whose adhesiveness obtained by 180 ° peel strength measurement specified in JIS Z0237 is reduced by 50% or more with respect to the adhesiveness of the non-photosensitive part. . By using such a photosensitive adhesive, a light shielding layer having an opening at a desired site can be easily and reliably formed.
Examples of the photosensitive adhesive include acrylic copolymer resins, photopolymerizable compounds, photopolymerization initiators as described above, room temperature crosslinking type or heat crosslinking type crosslinking agent added as necessary, and tackifying An agent, a sensitizing dye, and other additives diluted with a solvent such as methyl ethyl ketone, toluene, ethyl acetate, ethanol, isopropanol (solvent adhesive) can be used. The solid content in the photosensitive adhesive is preferably 15 to 50% by weight, more preferably 20 to 35% by weight. For example, when the photosensitive adhesive is liquid, it can be used as it is without being dissolved in a solvent.

基板本体2上への感光性粘着剤の付与方法は、特に限定されず、例えば、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法を用いることができるが、支持基材上に感光性粘着剤で構成された粘着剤層を有するシート(粘着剤シート31’)を用いて、前記粘着剤層を基板本体2上に転写することもできる。   The method for applying the photosensitive adhesive onto the substrate body 2 is not particularly limited. For example, various application methods such as doctor blade, spin coating, brush coating, spray coating, electrostatic coating, electrodeposition coating, roll coater, etc. The pressure-sensitive adhesive layer may be transferred onto the substrate body 2 using a sheet (pressure-sensitive adhesive sheet 31 ′) having a pressure-sensitive adhesive layer composed of a photosensitive pressure-sensitive adhesive on a supporting substrate. it can.

本実施形態では、基板本体2上に粘着剤シート31’を貼り合わせる工程を、上述した減圧真空装置11を用いて、減圧状態で行う。これにより、基板本体2と粘着剤シート31’との貼り合わせ時に、基板本体2と粘着剤シート31’との間に気泡が混入するのを確実に防止することができる。また、基板本体2と粘着剤シートとの間にゴミ等の異物が混入するのを確実に防止することができる。その結果、マイクロレンズ基板1を用いて表示される画像の信頼性を特に優れたものとすることができる。   In the present embodiment, the step of bonding the adhesive sheet 31 ′ onto the substrate body 2 is performed in a reduced pressure state using the above-described reduced pressure vacuum device 11. Thereby, it is possible to reliably prevent bubbles from being mixed between the substrate body 2 and the adhesive sheet 31 ′ when the substrate body 2 and the adhesive sheet 31 ′ are bonded together. In addition, it is possible to reliably prevent foreign matters such as dust from being mixed between the substrate body 2 and the adhesive sheet. As a result, the reliability of an image displayed using the microlens substrate 1 can be made particularly excellent.

減圧状態における圧力は、特に限定されないが、例えば、1×10−2〜1×10Paであるのが好ましく、1×10〜1×10Paであることがより好ましい。減圧状態における圧力(雰囲気圧)が前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板1において不本意な厚さのばらつきが発生したり、マイクロレンズ基板1中に気泡が残存したりすることによる不都合の発生をより効果的に防止することができる。これにより、透過率をばらつきなく全面にわたってより均一なものとすることができる。また、ブラックマトリックス3の開口部33の大きさをばらつきなくより均一に形成することができ、色ムラ等がなくよりコントラストに優れた画像を得ることができる。また、視野角特性を特に優れたものとすることができる。 The pressure in the reduced pressure is not particularly limited, for example, 1 × and even preferably at 10 -2 ~1 × 10 5 Pa, more preferably 1 × 10 1 ~1 × 10 3 Pa. If the pressure (atmospheric pressure) in the reduced pressure state is a value within the above range, the thickness of the microlens substrate 1 to be manufactured may be unintentionally varied, or bubbles may remain in the microlens substrate 1. The occurrence of inconvenience due to this can be prevented more effectively. Thereby, the transmittance can be made more uniform over the entire surface without variation. Further, the sizes of the openings 33 of the black matrix 3 can be formed more uniformly without variation, and an image with excellent color contrast and the like can be obtained. Further, the viewing angle characteristics can be made particularly excellent.

<B5−2>次に、マイクロレンズ21が設けられた面側から基板本体2に光(露光用光)Lbを照射する(光照射工程)。
照射された光(露光用光)Lbはマイクロレンズ21に入射することにより屈折し、集光する。そして、集光されることにより、光度(光束)の大きくなった光が照射された部位の粘着剤層31を構成する感光性粘着剤が感光され、それ以外の部分の感光性粘着剤は感光されないか、または感光量が少なくなり、光度(光束)の大きくなった光が照射された部位の感光性粘着剤のみが感光して感光部319を形成する(図7(h)参照)。この感光性粘着剤はポジ型であるので、これにより、感光部319の粘着性が低下し、それ以外の部分(非感光部)では粘着性を維持する。
基板本体2に照射する光は、特に限定されないが、平行光であるのが好ましい。これにより、形成すべき開口部33の大きさをより確実に制御することができ、その結果、より確実に、マイクロレンズ基板1の視野角特性を特に優れたものとすることができるとともに、表示される画像のコントラストをより高いものとすることができる。
<B5-2> Next, the substrate body 2 is irradiated with light (exposure light) Lb from the surface side where the microlenses 21 are provided (light irradiation step).
The irradiated light (exposure light) Lb is refracted and collected by entering the microlens 21. Then, by collecting the light, the photosensitive adhesive constituting the adhesive layer 31 in the portion irradiated with light having a large luminous intensity (light flux) is exposed, and the other portions of the photosensitive adhesive are photosensitive. Otherwise, only the photosensitive adhesive of the portion irradiated with light having a reduced light amount and increased light intensity (light flux) is exposed to form a photosensitive portion 319 (see FIG. 7H). Since this photosensitive adhesive is a positive type, this reduces the adhesiveness of the photosensitive portion 319 and maintains the adhesiveness in other portions (non-photosensitive portion).
The light applied to the substrate body 2 is not particularly limited, but is preferably parallel light. As a result, the size of the opening 33 to be formed can be controlled more reliably, and as a result, the viewing angle characteristics of the microlens substrate 1 can be made particularly excellent, and the display The contrast of the displayed image can be made higher.

<B5−3>次に、図7(i)、図8(j)に示すように、遮光層形成用材料で構成された遮光性材料層32’を有する遮光性材料転写シート13を貼り合わせる(貼着工程)。
遮光性材料転写シート13は、転写シート基材131上に遮光層形成用材料で構成された遮光性材料層32’が設けられたものである。転写シート基材131の構成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリブチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト、ポリエチレンテレフタレート‐イソフタレート共重合体、テレフタル酸‐シクロヘキサンジメタノール‐エチレングリコール共重合体等のポリエステル系樹脂、セルロース系フィルム、ポリアミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ビニル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカ−ボネ−ト等を用いることができる。これらの材料は、機械的強度に優れ、耐熱性、耐薬品性、耐溶剤性、屈曲性等に優れている。
<B5-3> Next, as shown in FIGS. 7 (i) and 8 (j), the light-shielding material transfer sheet 13 having the light-shielding material layer 32 ′ made of the light-shielding layer forming material is bonded. (Attaching process).
The light-shielding material transfer sheet 13 is obtained by providing a light-shielding material layer 32 ′ made of a light-shielding layer forming material on a transfer sheet substrate 131. Examples of the constituent material of the transfer sheet base 131 include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate-isophthalate copolymer, terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol. Polyester resins such as copolymers, cellulose films, polyamide resins, polyolefin resins, acrylic resins, vinyl resins, styrene resins, polycarbonate, and the like can be used. These materials are excellent in mechanical strength and excellent in heat resistance, chemical resistance, solvent resistance, flexibility and the like.

遮光層形成用材料は、通常、着色剤を含むものであり、必要に応じて、樹脂材料を含んでいてもよい。樹脂材料として、熱可塑性樹脂を用いて場合、転写性が特に優れたものとなる。遮光層形成用材料を構成する熱可塑性樹脂としては、例えば、塩化ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、セルロース系樹脂等が挙げられる。   The light shielding layer forming material usually contains a colorant, and may contain a resin material as necessary. When a thermoplastic resin is used as the resin material, transferability is particularly excellent. Examples of the thermoplastic resin constituting the light shielding layer forming material include vinyl chloride resin, acrylic resin, polyester resin, urethane resin, amide resin, and cellulose resin.

着色剤としては、例えば、各種顔料、各種染料等を用いることができるが、カーボンブラックが好ましい。
本工程では、遮光性材料層32’と粘着剤層31とが接触するように、遮光性材料転写シート13を粘着剤層31に貼り合わせる。
本実施形態では、粘着剤層31上に遮光性材料転写シート13を貼り合わせる工程を、上述した減圧真空装置11を用いて、減圧状態で行う。これにより、粘着剤層31と遮光性材料転写シート13との貼り合わせ時に、粘着剤層31と遮光性材料転写シート13との間に気泡が混入するのを確実に防止することができる。また、粘着剤層31と遮光性材料転写シート13との間にゴミ等の異物が混入するのを確実に防止することができる。その結果、マイクロレンズ基板1を用いて表示される画像の信頼性を特に優れたものとすることができる。
As the colorant, for example, various pigments and various dyes can be used, and carbon black is preferable.
In this step, the light-shielding material transfer sheet 13 is bonded to the pressure-sensitive adhesive layer 31 so that the light-shielding material layer 32 ′ and the pressure-sensitive adhesive layer 31 are in contact with each other.
In this embodiment, the process of bonding the light-shielding material transfer sheet 13 on the pressure-sensitive adhesive layer 31 is performed in a reduced pressure state using the above-described reduced-pressure vacuum apparatus 11. Thereby, it is possible to reliably prevent bubbles from being mixed between the pressure-sensitive adhesive layer 31 and the light-shielding material transfer sheet 13 when the pressure-sensitive adhesive layer 31 and the light-shielding material transfer sheet 13 are bonded together. In addition, foreign matters such as dust can be reliably prevented from being mixed between the pressure-sensitive adhesive layer 31 and the light-shielding material transfer sheet 13. As a result, the reliability of an image displayed using the microlens substrate 1 can be made particularly excellent.

減圧状態における圧力は、特に限定されないが、例えば、1×10−2〜1×10Paであるのが好ましく、1×10〜1×10Paであることがより好ましい。減圧状態における圧力(雰囲気圧)が前記範囲内の値であると、気泡の混入をより確実に防止しつつ、より均一な圧力で粘着剤層31の各部位を加圧することができ、製造されるマイクロレンズ基板1において不本意な厚さのばらつきが発生したり、マイクロレンズ基板1中に気泡が残存したりすることによる不都合の発生をより効果的に防止することができる。これにより、透過率をばらつきなく全面にわたってより均一なものとすることができる。 The pressure in the reduced pressure is not particularly limited, for example, 1 × and even preferably at 10 -2 ~1 × 10 5 Pa, more preferably 1 × 10 1 ~1 × 10 3 Pa. When the pressure in the reduced pressure state (atmospheric pressure) is a value within the above range, each part of the pressure-sensitive adhesive layer 31 can be pressurized with a more uniform pressure while more reliably preventing bubbles from being mixed. It is possible to more effectively prevent the occurrence of inconvenience due to the unintentional thickness variation in the microlens substrate 1 and the remaining bubbles in the microlens substrate 1. Thereby, the transmittance can be made more uniform over the entire surface without variation.

<B5−4>その後、図8(k)に示すように、粘着剤層31から、遮光性材料転写シート13を剥離しする。これにより、転写シート基材131とともに感光部319上の粘着剤層31が、粘着剤層31上から除去され、粘着剤層31のうち粘着性を維持している部分(非感光部)のみに遮光層形成用材料が転写され、開口部33を有する遮光層32が形成される(遮光膜形成転写工程)。   <B5-4> Thereafter, as shown in FIG. 8 (k), the light-shielding material transfer sheet 13 is peeled from the pressure-sensitive adhesive layer 31. As a result, the pressure-sensitive adhesive layer 31 on the photosensitive portion 319 together with the transfer sheet base material 131 is removed from the pressure-sensitive adhesive layer 31, and only the portion of the pressure-sensitive adhesive layer 31 that maintains the adhesiveness (non-photosensitive portion). The light shielding layer forming material is transferred to form the light shielding layer 32 having the openings 33 (light shielding film forming and transferring step).

<B6>次に、図8(l)、図8(m)に示すように、基板本体2のブラックマトリックス3が設けられた面側に、拡散部4を形成する(拡散部形成工程)。これにより、マイクロレンズ基板1が得られる。
拡散部4は、例えば、拡散材を含み、流動性を有する拡散部形成用材料を付与した後に、当該材料を固化させること等により形成することもできるが、予め、板状に成形された拡散板4’を接合することにより形成することができる。
<B6> Next, as shown in FIGS. 8 (l) and 8 (m), the diffusion portion 4 is formed on the surface of the substrate body 2 on which the black matrix 3 is provided (diffusion portion forming step). Thereby, the microlens substrate 1 is obtained.
The diffusing portion 4 can be formed by, for example, including a diffusing material and applying a diffusing portion forming material having fluidity, and then solidifying the material. However, the diffusing portion is formed into a plate shape in advance. It can be formed by joining the plates 4 '.

特に、本実施形態では、基板本体2上に拡散板4’を貼り合わせる工程を、上述した減圧真空装置11を用いて、減圧状態で行う。
減圧状態における圧力は、特に限定されないが、例えば、1×10−2〜1×10Paであるのが好ましく、1×10〜1×10Paであることがより好ましい。減圧状態における圧力(雰囲気圧)が前記範囲内の値であると、気泡の混入をより確実に防止しつつ、より均一な圧力で遮光層32の各部位を加圧することができ、製造されるマイクロレンズ基板1において不本意な厚さのばらつきが発生したり、マイクロレンズ基板1中に気泡が残存したりすることによる不都合の発生をより効果的に防止することができる。これにより、透過率をばらつきなく全面にわたってより均一なものとすることができる。
In particular, in the present embodiment, the step of bonding the diffusion plate 4 ′ on the substrate body 2 is performed in a reduced pressure state using the above-described reduced pressure vacuum apparatus 11.
The pressure in the reduced pressure is not particularly limited, for example, 1 × and even preferably at 10 -2 ~1 × 10 5 Pa, more preferably 1 × 10 1 ~1 × 10 3 Pa. When the pressure in the reduced pressure state (atmospheric pressure) is a value within the above range, each part of the light shielding layer 32 can be pressurized with a more uniform pressure while more reliably preventing bubbles from being mixed. It is possible to more effectively prevent the occurrence of inconvenience due to the unintentional thickness variation in the microlens substrate 1 or the remaining of bubbles in the microlens substrate 1. Thereby, the transmittance can be made more uniform over the entire surface without variation.

[マイクロレンズ基板の製造方法の第2実施形態]
次に、マイクロレンズ基板1の製造方法の他の一例(第2実施形態)について説明する。この方法では、前述した方法と同様に、凹部付き部材6を用いてマイクロレンズ基板1(基板本体2)を製造する。
図9〜図11は、図1に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例(第2実施形態)を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図9〜図11中の下側を「(光の)入射側」、上側を「(光の)出射側」と言う。
以下、第2実施形態のマイクロレンズ基板の製造方法について、前述した第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項の説明については、その説明を省略する。
[Second Embodiment of Microlens Substrate Manufacturing Method]
Next, another example (second embodiment) of the method for manufacturing the microlens substrate 1 will be described. In this method, similarly to the method described above, the microlens substrate 1 (substrate body 2) is manufactured using the member 6 with a recess.
9 to 11 are schematic longitudinal sectional views showing an example (second embodiment) of the manufacturing method of the microlens substrate shown in FIG. In the following description, the lower side in FIGS. 9 to 11 is referred to as “(light) incident side”, and the upper side is referred to as “(light) emission side”.
Hereinafter, the manufacturing method of the microlens substrate of the second embodiment will be described focusing on the differences from the first embodiment described above, and the description of the same matters will be omitted.

<B1’>前述した第1実施形態の<B1>と同様(組成物付与工程。図9(a)参照)。ただし、本実施形態では、凹部付き部材6の周縁部付近に、後に詳述するシール部材12を配した状態で付与する。
<B2’>次に、凹部付き部材6上に付与された組成物23上に、シート材(基材フィルム)24を載せ、このシート材24と組成物23とを密着させる(密着工程。図9(b)、図9(c)参照)。
<B1 ′> Same as <B1> in the first embodiment described above (composition applying step, see FIG. 9A). However, in this embodiment, it provides in the state which arranged the sealing member 12 explained in full detail in the vicinity of the peripheral part of the member 6 with a recessed part.
<B2 ′> Next, a sheet material (base film) 24 is placed on the composition 23 applied on the member 6 with recesses, and the sheet material 24 and the composition 23 are brought into close contact with each other (contact process). 9 (b) and FIG. 9 (c)).

上述した実施形態(第1の実施形態)では、減圧真空装置11(真空チャンバ111)を用いて、凹部付き部材6、組成物23、およびシート材24を収納する空間全体(真空チャンバ111内)を減圧状態として、組成物23とシート材24との貼り合わせを行ったが、本実施形態では、図9(b)、図9(c)に示すように、シール部材12を用いて、組成物23とシート材24との貼り合わせを行う。すなわち、組成物23とシート材24との間の空間のみを選択的に減圧状態として、組成物23とシート材24との貼り合わせを行う。これにより、より好適に減圧状態を作り出すことができ、凹部付き部材6上に付与された組成物23をより均等に延ばすことができ、製造されるマイクロレンズ基板1において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができるとともに、組成物23とシート材24との間等に気泡等が残存するのをより効果的に防止することができる。また、比較的単純で小型の装置を用いて、密着工程を行うことができる。   In the above-described embodiment (first embodiment), the entire space (within the vacuum chamber 111) for housing the recessed member 6, the composition 23, and the sheet material 24 using the reduced-pressure vacuum device 11 (vacuum chamber 111). In the present embodiment, as shown in FIGS. 9B and 9C, the composition 23 and the sheet material 24 were bonded using the seal member 12. The material 23 and the sheet material 24 are bonded together. That is, only the space between the composition 23 and the sheet material 24 is selectively reduced in pressure, and the composition 23 and the sheet material 24 are bonded together. Thereby, a pressure-reduced state can be created more suitably, the composition 23 applied onto the recessed member 6 can be more evenly spread, and the thickness variation unintentionally in the manufactured microlens substrate 1. Can be more effectively prevented, and air bubbles can be more effectively prevented from remaining between the composition 23 and the sheet material 24. In addition, the contact process can be performed using a relatively simple and small apparatus.

上述したように、本実施形態では、密着工程に先立ち、凹部付き部材6の凹部61が形成された側の面に、シール部材12を配している。このシール部材12は、例えば、所定の大きさ(例えば、スクリーンの大きさ)を有する四角形状の枠型に形成されており、一部に孔(排気口)121が設けられている。この孔には、真空ポンプ14が接続されている。   As described above, in the present embodiment, prior to the contact process, the seal member 12 is disposed on the surface of the member 6 with recesses on the side where the recesses 61 are formed. The seal member 12 is formed in, for example, a rectangular frame shape having a predetermined size (for example, the size of a screen), and a hole (exhaust port) 121 is provided in part. A vacuum pump 14 is connected to this hole.

本工程では、まず、凹部付き部材6の凹部61が形成された側の面上であって、シール部材12で囲まれた部分に組成物23を付与し、シール部材12上にシート材24を掛け渡すように載置する。
そして、真空ポンプ14によって排気すると、シール部材12、組成物23およびシート材24で囲まれた空間29が減圧状態となる。すると、大気圧によりシート材24が押圧されて中央部付近が組成物23に密着する(図9(b)参照)。排気を続けると、組成物23とシート材24との密着部位は、シート材24の中央部付近から周縁部へと広がっていき、シート材24の全体が、組成物23に密着する(図9(c)参照)。
In this step, first, the composition 23 is applied to the surface of the member 6 with recesses on the side where the recesses 61 are formed and surrounded by the seal member 12, and the sheet material 24 is placed on the seal member 12. Place it so that it hangs over.
When exhausted by the vacuum pump 14, the space 29 surrounded by the seal member 12, the composition 23, and the sheet material 24 is in a reduced pressure state. Then, the sheet | seat material 24 is pressed by atmospheric pressure, and the center part vicinity adhere | attaches the composition 23 (refer FIG.9 (b)). When the evacuation is continued, the contact portion between the composition 23 and the sheet material 24 spreads from the vicinity of the central portion of the sheet material 24 to the peripheral portion, and the entire sheet material 24 is in close contact with the composition 23 (FIG. 9). (See (c)).

減圧状態を上記のように作り出した場合であっても、第1実施形態で説明したのと同様な効果が得られる。さらに、本実施形態では、組成物23とシート材24との間の空間を選択的に減圧状態とするため、比較的単純で小型の装置を用いて、より効率よく減圧状態とすることができる。これにより、組成物23とシート材24との貼り合わせ時に、組成物23中または組成物23とシート材24との間に存在する気泡をさらに確実に除去することができる、また、組成物23とシート材24との間にゴミ等の異物の混入をさらに確実に防止することができる。   Even when the reduced pressure state is created as described above, the same effect as described in the first embodiment can be obtained. Furthermore, in this embodiment, since the space between the composition 23 and the sheet material 24 is selectively reduced in pressure, the reduced pressure can be more efficiently achieved using a relatively simple and small device. . Thereby, at the time of bonding of the composition 23 and the sheet material 24, bubbles present in the composition 23 or between the composition 23 and the sheet material 24 can be further reliably removed. It is possible to more reliably prevent foreign matters such as dust from entering between the sheet material 24 and the sheet material 24.

また、本方法によれば、凹部付き部材6上へ組成物23を付与する際、シール部材12が配されていることで、組成物23の供給量を容易に管理することができる。これにより、得られる基板本体2の厚みを容易に管理することができる。
また、本方法によれば、大気圧によって組成物23およびシート材24を押圧するため、押圧部材を用いて機械的にシート材を押圧する場合に比べて、全体をより均一に加圧することができる。これにより、基板本体2において不本意な厚さのばらつきが発生するのをより効果的に防止することができる。
Moreover, according to this method, when providing the composition 23 on the member 6 with a recessed part, the supply amount of the composition 23 can be easily managed because the sealing member 12 is arranged. Thereby, the thickness of the obtained substrate body 2 can be easily managed.
Moreover, according to this method, since the composition 23 and the sheet material 24 are pressed by atmospheric pressure, the whole can be more uniformly pressurized as compared with the case where the sheet material is mechanically pressed using a pressing member. it can. Thereby, it is possible to more effectively prevent the unintentional thickness variation from occurring in the substrate body 2.

減圧状態における圧力は、特に限定されないが、例えば、1×10−2〜1×10Paであるのが好ましく、1×10〜1×10Paであることがより好ましい。減圧状態における圧力が前記範囲内の値であると、製造されるマイクロレンズ基板1において不本意な厚さのばらつきが発生したり、組成物23中や組成物23とシート材24との間等に気泡が残存したりすることによる不都合の発生をより効果的に防止することができる。これにより、透過率をばらつきなく全面にわたってより均一なものとすることができる。また、ブラックマトリックス3の開口部33の大きさをばらつきなくより均一に形成することができ、色ムラ等がなくよりコントラストに優れた画像を得ることができる。また、視野角特性を特に優れたものとすることができる。 The pressure in the reduced pressure is not particularly limited, for example, 1 × and even preferably at 10 -2 ~1 × 10 5 Pa, more preferably 1 × 10 1 ~1 × 10 3 Pa. When the pressure in the reduced pressure state is a value within the above range, the thickness of the microlens substrate 1 to be manufactured may be unintentionally varied, or in the composition 23, between the composition 23 and the sheet material 24, or the like. It is possible to more effectively prevent the occurrence of inconvenience due to the remaining bubbles. Thereby, the transmittance can be made more uniform over the entire surface without variation. Further, the sizes of the openings 33 of the black matrix 3 can be formed more uniformly without variation, and an image with excellent color contrast and the like can be obtained. Further, the viewing angle characteristics can be made particularly excellent.

<B3’>前述した第1実施形態の<B3>と同様(固化工程。図9(d)参照)。
<B4’>前述した第1実施形態の<B4>と同様(凹部付き部材除去工程。図10(e)参照)。
ただし、本実施形態では、例えば、凹部付き部材6に密着した基板本体2のうち、シール部材12が配されている端部を切断することにより、所定の大きさのシート形状の基板本体2を得ることができる。
<B3 ′> Same as <B3> in the first embodiment described above (solidification step, see FIG. 9D).
<B4 ′> Similar to <B4> in the first embodiment described above (recessed member removing step, see FIG. 10E).
However, in the present embodiment, for example, by cutting the end portion on which the seal member 12 is arranged in the substrate body 2 that is in close contact with the member 6 with the recess, the sheet-shaped substrate body 2 having a predetermined size is obtained. Obtainable.

<B5’>前述した第1実施形態の<B5>(<B5−1>〜<B5−4>)と同様(図10(f)、図10(g)、図10(h)、図11(i)参照)。
ただし、基板本体2と粘着剤シート31’との貼り合わせる工程において、減圧状態は、上述したようなシール部材12を用いて、作り出してもよい。これにより、基板本体2と粘着剤シート31’との貼り合わせ時に、基板本体2と粘着剤シート31’との間に気泡が混入するのを確実に防止することができる。また、基板本体2と粘着剤シート31’との間にゴミ等の異物が混入するのを確実に防止することができる。その結果、マイクロレンズ基板1を用いて表示される画像の信頼性を特に優れたものとすることができる。
<B5 ′> Similar to <B5>(<B5-1> to <B5-4>) of the first embodiment described above (FIG. 10 (f), FIG. 10 (g), FIG. 10 (h), FIG. (See (i)).
However, in the step of bonding the substrate body 2 and the adhesive sheet 31 ′, the reduced pressure state may be created using the sealing member 12 as described above. Thereby, at the time of bonding of the board | substrate body 2 and adhesive sheet | seat 31 ', it can prevent reliably that a bubble mixes between the board | substrate body 2 and adhesive sheet | seat 31'. Moreover, it is possible to reliably prevent foreign matters such as dust from being mixed between the substrate body 2 and the adhesive sheet 31 ′. As a result, the reliability of an image displayed using the microlens substrate 1 can be made particularly excellent.

また、粘着剤層31上に遮光性材料転写シート13を貼り合わせる工程において、減圧状態は、上述したようなシール部材12を用いて、作り出してもよい。これにより、粘着剤層31と遮光性材料転写シート13との貼り合わせ時に、粘着剤層31と遮光性材料転写シート13との間に気泡が混入するのを確実に防止することができる。また、粘着剤層31と遮光性材料転写シート13との間にゴミ等の異物が混入するのを確実に防止することができる。その結果、マイクロレンズ基板1を用いて表示される画像の信頼性を特に優れたものとすることができる。   Further, in the step of bonding the light-shielding material transfer sheet 13 on the pressure-sensitive adhesive layer 31, the reduced pressure state may be created using the sealing member 12 as described above. Thereby, it is possible to reliably prevent bubbles from being mixed between the pressure-sensitive adhesive layer 31 and the light-shielding material transfer sheet 13 when the pressure-sensitive adhesive layer 31 and the light-shielding material transfer sheet 13 are bonded together. In addition, foreign matters such as dust can be reliably prevented from being mixed between the pressure-sensitive adhesive layer 31 and the light-shielding material transfer sheet 13. As a result, the reliability of an image displayed using the microlens substrate 1 can be made particularly excellent.

<B6’>前述した第1実施形態の<B6>と同様(拡散部形成工程。図11(j)参照)。
ただし、基板本体2(ブラックマトリックス3)上に拡散板4’を貼り合わせる工程において、減圧状態は、上述したようなシール部材12を用いて、作り出してもよい。これにより、基板本体2と拡散板4’との貼り合わせ時に、基板本体2と拡散板4’との間に気泡が混入するのを確実に防止することができる。また、基板本体2と拡散板4’との間にゴミ等の異物が混入するのを確実に防止することができる。その結果、マイクロレンズ基板1を用いて表示される画像の信頼性を特に優れたものとすることができる。
<B6 ′> Same as <B6> in the first embodiment described above (diffusion part forming step; see FIG. 11 (j)).
However, in the step of bonding the diffusion plate 4 ′ on the substrate body 2 (black matrix 3), the reduced pressure state may be created using the sealing member 12 as described above. Thereby, it is possible to reliably prevent bubbles from being mixed between the substrate body 2 and the diffusion plate 4 ′ when the substrate body 2 and the diffusion plate 4 ′ are bonded to each other. In addition, foreign matters such as dust can be reliably prevented from entering between the substrate body 2 and the diffusion plate 4 ′. As a result, the reliability of an image displayed using the microlens substrate 1 can be made particularly excellent.

以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図12は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ400は、投写光学ユニット410と、導光ミラー420と、透過型スクリーン10とが筐体440に配置された構成を有している。
そして、このリア型プロジェクタ400は、上記のような透過型スクリーン10を備えているので、色ムラ、輝度ムラが防止され、コントラストに優れた画像を得ることができる。
A rear projector using the transmission screen will be described below.
FIG. 12 is a diagram schematically showing the configuration of the rear projector of the present invention.
As shown in the figure, the rear projector 400 has a configuration in which a projection optical unit 410, a light guide mirror 420, and a transmissive screen 10 are arranged in a housing 440.
Since the rear projector 400 includes the transmission screen 10 as described above, color unevenness and luminance unevenness are prevented, and an image with excellent contrast can be obtained.

また、特に、前述したマイクロレンズ基板1では、楕円形状のマイクロレンズ21が千鳥状(千鳥格子状)に配されているので、リア型プロジェクタ400では、モアレ等の問題が特に発生し難い。
以上、本発明について、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
In particular, in the microlens substrate 1 described above, since the elliptical microlenses 21 are arranged in a staggered pattern (in a staggered pattern), problems such as moire are not particularly likely to occur in the rear projector 400.
As mentioned above, although this invention was demonstrated based on embodiment of illustration, this invention is not limited to these.

例えば、マイクロレンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。また、任意の構成を追加してもよい。
また、マイクロレンズ基板の製造方法においては、任意の工程を追加してもよい。
また、マイクロレンズ基板の製造方法における各工程の順序は、前述したようなものに限定されず、必要に応じて、その順序を変更してもよい。
For example, each part of the microlens substrate, the transmissive screen, and the rear projector can be replaced with any structure that can exhibit the same function. Moreover, you may add arbitrary structures.
In the method for manufacturing a microlens substrate, an arbitrary step may be added.
Moreover, the order of each process in the manufacturing method of a microlens board | substrate is not limited to what was mentioned above, You may change the order as needed.

また、前述した実施形態では、密着工程に加え、貼着工程、粘着剤層形成工程、および拡散部形成工程を、減圧状態で行うものとして説明したが、本発明においては、少なくとも密着工程を減圧状態で行うものであればよく、貼着工程、粘着剤層形成工程、拡散部形成工程は、減圧状態で行わなくてもよい。
また、前述した実施形態では、凹部付き部材の表面に組成物を付与するものとして説明したが、例えば、平板の表面(または平板上に載置されたシート材)に組成物を付与し、これを凹部付き部材で押圧することにより、マイクロレンズ基板を製造してもよい。
In the above-described embodiment, the sticking step, the pressure-sensitive adhesive layer forming step, and the diffusion portion forming step are described as being performed in a reduced pressure state in addition to the sticking step. However, in the present invention, at least the sticking step is reduced in pressure. The sticking step, the pressure-sensitive adhesive layer forming step, and the diffusion portion forming step may not be performed under reduced pressure.
In the above-described embodiment, the composition has been described as being applied to the surface of the concave member. For example, the composition is applied to the surface of a flat plate (or a sheet material placed on the flat plate). You may manufacture a microlens board | substrate by pressing with a member with a recessed part.

また、前述した実施形態では、ポジ型の感光性粘着剤を基板本体上に付与した後、光を照射する処理を施し、感光部の粘着性を低下させ、感光部以外の部位上に、遮光性材料を付与することにより、開口部を有するブラックマトリックス(遮光膜)を形成するものとして説明したが、遮光膜形成用材料としてポジ型のフォトポリマーを用いて、光を照射する処理を施し、感光部を現像することにより、開口部を有するブラックマトリックス(遮光膜)を形成してもよい。   In the above-described embodiment, a positive photosensitive adhesive is applied to the substrate body, and then a light irradiation process is performed to reduce the adhesiveness of the photosensitive portion, and light shielding is performed on a portion other than the photosensitive portion. It has been described that a black matrix (light-shielding film) having an opening is formed by applying a light-sensitive material, but using a positive photopolymer as a light-shielding film forming material, a process of irradiating light is performed, A black matrix (light-shielding film) having an opening may be formed by developing the photosensitive part.

また、フォトポリマー以外の材料を用いてもよい。例えば、遮光膜形成用材料としては、銀塩感光材料等の反転現像材料を用いてもよい。銀塩感光材料(反転現像材料)を用いた場合、上記のような露光後、一旦、露光部分のみが脱塩されるような処理を施し、その後さらに、全面露光し現像する方法を用いることにより、最初の露光部分を光透過性の非遮光部とし、それ以外の部位を遮光部(遮光領域)とすることができる。また、遮光膜の形成には、感光性材料を用いなくてもよい。例えば、感光性材料以外の遮光膜形成用材料で構成された膜を基板本体上に成膜した後、光(エネルギー線)を照射することにより、マイクロレンズにより集光され、エネルギー密度が高くなった光で、遮光膜形成用材料で構成された膜の一部を弾き飛ばしたり、蒸発させること等により、開口部を有するブラックマトリックス(遮光膜)としてもよい。   A material other than the photopolymer may be used. For example, a reversal developing material such as a silver salt photosensitive material may be used as the light shielding film forming material. When a silver salt photosensitive material (reversal developing material) is used, after exposure as described above, once the exposed portion is processed to be desalted, and then further exposed and developed. The first exposed portion can be a light transmissive non-light-shielding portion, and the other portions can be light-shielding portions (light-shielding regions). In addition, a photosensitive material may not be used for forming the light shielding film. For example, after a film made of a material for forming a light-shielding film other than a photosensitive material is formed on the substrate body, it is condensed by a microlens by irradiating light (energy rays), and the energy density increases. A black matrix (light-shielding film) having an opening may be formed by blowing off a part of the film made of the light-shielding film-forming material or evaporating the light.

また、前述した実施形態では、ブラックマトリックス(遮光膜)を形成する際に、凹部付き部材を取り外した状態で光(露光用光)を照射するものとして説明したが、凹部付き部材が基板本体に取り付けられた状態で、ブラックマトリックスを形成してもよい。すなわち、遮光膜形成用材料に光を照射する際に、凹部付き部材を介して光を照射してもよい。   In the above-described embodiment, the black matrix (light-shielding film) is formed by irradiating light (exposure light) with the recessed member removed, but the recessed member is applied to the substrate body. You may form a black matrix in the attached state. That is, when irradiating light to the light-shielding film forming material, the light may be irradiated through a member with a recess.

また、前述した実施形態では、凹部付き部材を除去するものとして説明したが、凹部付き部材は、必ずしも除去しなくてもよい。すなわち、凹部付き部材は、マイクロレンズ基板の一部を構成するものであってもよい。
また、前述した実施形態では、板状の凹部付き部材(凹部付き基板)を用いて、基板本体を製造するものとして説明したが、基板本体は、例えば、ロール状の凹部付き部材を用いて製造してもよい。
Further, in the above-described embodiment, the member with the concave portion is described as being removed, but the member with the concave portion may not necessarily be removed. That is, the member with a recess may constitute a part of the microlens substrate.
Moreover, in embodiment mentioned above, although demonstrated as what manufactures a board | substrate body using a plate-shaped member with a recessed part (board | substrate with a recessed part), a board | substrate body is manufactured using a roll-shaped member with a recessed part, for example. May be.

また、前述した実施形態では、予め、板状に成形された拡散板を接合することにより、拡散部を形成するものとして説明したが、拡散材を含み、流動性を有する拡散部形成用材料を付与した後に、当該材料を固化させることにより形成してもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板が、層状の拡散部を有するものとして説明したが、拡散部の形状はこれに限定されるものではない。例えば、拡散部は、ブラックマトリックスの開口部に対応する部位に凸状に設けられたものであってもよい。このような場合であっても、前述したような効果が得られる。また、このような拡散部を形成することにより、ブラックマトリックスの開口部以外の部位での外光の反射をより効果的に防止することができるため、得られる画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
In the above-described embodiment, the diffusion part is formed by joining the diffusion plates formed in a plate shape in advance. However, the diffusion part forming material including the diffusion material and having fluidity is used. After the application, the material may be solidified.
In the above-described embodiment, the microlens substrate has been described as having a layered diffusion portion, but the shape of the diffusion portion is not limited to this. For example, the diffusion portion may be provided in a convex shape at a portion corresponding to the opening of the black matrix. Even in such a case, the effects described above can be obtained. In addition, by forming such a diffusion portion, it is possible to more effectively prevent reflection of external light at a portion other than the opening portion of the black matrix, so that the contrast of the obtained image is particularly excellent. can do.

また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板が、基板本体と、ブラックマトリックス(遮光膜)と、拡散部とを有するものとして説明したが、本発明のマイクロレンズ基板は、遮光膜や拡散部を備えていなくてもよい。例えば、本発明のマイクロレンズ基板は、実質的に基板本体のみで構成されるものであってもよい。
また、マイクロレンズ基板を構成する基板本体は、マイクロレンズが設けられた側の表面付近に、染色により形成された着色部を有するものであってもよい。
In the above-described embodiment, the microlens substrate has been described as having a substrate body, a black matrix (light-shielding film), and a diffusion part. However, the microlens substrate of the present invention has a light-shielding film and a diffusion part. It does not have to be provided. For example, the microlens substrate of the present invention may be substantially composed only of the substrate body.
The substrate body constituting the microlens substrate may have a colored portion formed by staining near the surface on the side where the microlens is provided.

また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板を構成する基板本体が凸レンズとしてのマイクロレンズを備えるものであり、成形型として、凸レンズに対応する形状の凹部を備えた凹部付き部材を用いるものとして説明したが、基板本体は凹レンズとしてのマイクロレンズを備えるものであってもよい。このような場合、成形型としては、凹レンズに対応する形状の凸部を備えた凸部付き部材を用いることができる。   In the above-described embodiment, the substrate body constituting the microlens substrate is provided with a microlens as a convex lens, and a member with a concave portion having a concave portion having a shape corresponding to the convex lens is used as a molding die. However, the substrate body may include a microlens as a concave lens. In such a case, as the mold, a member with a convex portion provided with a convex portion having a shape corresponding to the concave lens can be used.

また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板とフレネルレンズとを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズを備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明のマイクロレンズ基板のみで構成されたものであってもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材であるものとして説明したが、本発明のマイクロレンズ基板の用途は、前記のようなものに限定されず、いかなるものであってもよい。例えば、本発明のマイクロレンズ基板は、拡散板、ブラックマトリックススクリーン、投射型表示装置(フロントプロジェクタ)のスクリーン(フロントプロジェクションスクリーン)、投射型表示装置(フロントプロジェクタ)の液晶ライトバルブの構成部材等に適用されるものであってもよい。
In the above-described embodiment, the transmission screen is described as including a microlens substrate and a Fresnel lens. However, the transmission screen of the present invention does not necessarily include a Fresnel lens. For example, the transmission screen of the present invention may be substantially constituted only by the microlens substrate of the present invention.
In the above-described embodiment, the microlens substrate is described as a member constituting a transmissive screen and a rear projector. However, the use of the microlens substrate of the present invention is limited to the above. It may be anything. For example, the microlens substrate of the present invention is used as a diffusion plate, a black matrix screen, a projection display device (front projector) screen (front projection screen), a component of a liquid crystal light valve of a projection display device (front projector), or the like. It may be applied.

[マイクロレンズ基板および透過型スクリーンの作製]
(実施例1)
以下のように、マイクロレンズ形成用の凹部を備えた凹部付き部材を製造した。
まず、基板として、横1.2m×縦0.7m角、厚さ4.8mmのソーダガラス基板を用意した。
[Production of microlens substrate and transmissive screen]
Example 1
The member with a recessed part provided with the recessed part for microlens formation was manufactured as follows.
First, as a substrate, a soda glass substrate having a width of 1.2 m × length of 0.7 m and a thickness of 4.8 mm was prepared.

このソーダガラス基板を、4wt%の一水素二フッ化アンモニウムと、8wt%の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して6μmエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびNガスを用いた乾燥(純水の除去)を行った。
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、クロム/酸化クロムの積層体(クロムの外表面側に酸化クロムが積層された積層体)を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、クロム/酸化クロムの積層体で構成されたマスク形成用膜および裏面保護膜を形成した。クロム層の厚さは0.03μm、酸化クロム層の厚さは0.01μmであった。
This soda glass substrate was immersed in a cleaning solution containing 4 wt% ammonium monohydrogen difluoride and 8 wt% hydrogen peroxide and etched by 6 μm to clean the surface.
Thereafter, cleaning with pure water and drying using N 2 gas (removal of pure water) were performed.
Next, a chromium / chromium oxide laminate (a laminate in which chromium oxide was laminated on the outer surface side of chromium) was formed on the soda glass substrate by sputtering. That is, a mask formation film and a back surface protection film composed of a chromium / chromium oxide laminate were formed on the surface of a soda glass substrate. The thickness of the chromium layer was 0.03 μm, and the thickness of the chromium oxide layer was 0.01 μm.

次に、マスク形成用膜に対してレーザ加工を行い、マスク形成用膜の中央部113cm×65cmの範囲に多数の初期孔を形成し、マスクとした。
なお、レーザ加工は、エキシマレーザを用いて、エネルギー密度1.2J/cm、加工点でのビーム直径2μm、走査速度0.1m/秒という条件で行った。
これにより、マスク形成用膜の上記範囲全面に亘って、略円形の初期孔が、千鳥状に配されたパターンで形成された。初期孔の直径は2μmであった。
Next, laser processing was performed on the mask forming film to form a large number of initial holes in a range of 113 cm × 65 cm in the central portion of the mask forming film, thereby forming a mask.
The laser processing was performed using an excimer laser under the conditions of an energy density of 1.2 J / cm 2 , a beam diameter of 2 μm at the processing point, and a scanning speed of 0.1 m / sec.
As a result, substantially circular initial holes were formed in a staggered pattern over the entire range of the mask forming film. The diameter of the initial hole was 2 μm.

次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の平面視したときの形状が扁平形状(略楕円形状)の凹部(マイクロレンズ形成用凹部)を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の形状を有していた。形成された凹部の短軸方向の長さ(ピッチ)は54μm、長軸方向の長さは72μm、曲率半径は40μm、深さは40μmであった。また、凹部が形成されている有効領域における凹部の占有率は100%であった。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、4wt%の一水素二フッ化アンモニウムと、8wt%の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は2.0時間とした。
Next, wet etching was performed on the soda glass substrate to form concave portions (recesses for forming microlenses) having a flat shape (substantially elliptical shape) when viewed in plan on the soda glass substrate. The formed many recesses had substantially the same shape as each other. The length (pitch) in the minor axis direction of the formed recess was 54 μm, the length in the major axis direction was 72 μm, the radius of curvature was 40 μm, and the depth was 40 μm. Moreover, the occupation rate of the recessed part in the effective area | region in which the recessed part was formed was 100%.
In the wet etching, an aqueous solution containing 4 wt% ammonium monohydrogen difluoride and 8 wt% hydrogen peroxide was used as an etchant, and the immersion time was 2.0 hours.

次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
次に、純水洗浄およびNガスを用いた乾燥(純水の除去)を行った。
その後、基板の凹部が形成されている面側に、ヘキサメチルジシラザンによる気相表面処理(シリル化処理)を行い、離型処理部を形成した。
これにより、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ形成用の多数の凹部が千鳥状に配列された凹部付き部材を得た。
Next, the mask and the back surface protective film were removed by etching using a mixture of ceric ammonium nitrate and perchloric acid.
Next, cleaning with pure water and drying (removing pure water) using N 2 gas were performed.
Thereafter, a gas phase surface treatment (silylation treatment) with hexamethyldisilazane was performed on the surface side of the substrate where the concave portions were formed, thereby forming a release treatment portion.
Thereby, the member with a recessed part in which many recessed parts for microlens formation were arranged on the soda glass substrate in zigzag form was obtained.

次に、凹部付き部材の凹部が形成された側の面に、未重合(未硬化)のアクリル系樹脂(PMMA樹脂(メタクリル樹脂))で構成された組成物を付与した。
次に、凹部付き部材上に付与された組成物の上に、ポリエチレンテレフタレート(PET)で構成されたシート材(厚さ:0.075mm)を載せた。シート材を構成するポリエチレンテレフタレートの屈折率(絶対屈折率n)は、1.656であった。また、シート材としては、組成物と対向する側の面に多数の溝が形成されたものを用いた。シート材が有する溝は、互いに平行であり、断面形状が半円形状、開口幅が30μm、深さが15μm、ピッチが30μmのものであった。また、シート材の溝が設けられた面における溝が占める投影面積の割合は、50%であった。また、シート材は、溝の長手方向が凹部付き部材の凹部の短軸方向と平行となるように載置した。また、シート材は、溝が、形成されるマイクロレンズの集光部以外の部位に存在するものとなるように載置した。
Next, a composition composed of unpolymerized (uncured) acrylic resin (PMMA resin (methacrylic resin)) was applied to the surface of the member with recesses on the side where the recesses were formed.
Next, a sheet material (thickness: 0.075 mm) made of polyethylene terephthalate (PET) was placed on the composition applied on the member with recesses. The refractive index (absolute refractive index n 1 ) of polyethylene terephthalate constituting the sheet material was 1.656. Further, as the sheet material, a sheet material in which a large number of grooves were formed on the surface facing the composition was used. The grooves of the sheet material were parallel to each other, had a semicircular cross-sectional shape, an opening width of 30 μm, a depth of 15 μm, and a pitch of 30 μm. Further, the ratio of the projected area occupied by the groove on the surface provided with the groove of the sheet material was 50%. Further, the sheet material was placed so that the longitudinal direction of the groove was parallel to the short axis direction of the concave portion of the concave member. Further, the sheet material was placed so that the groove was present in a portion other than the light condensing portion of the microlens to be formed.

組成物上にシート材を載せる工程は、真空チャンバ内において、減圧状態で行った。この時の真空チャンバ内の雰囲気圧は、10Paであった。
その後、減圧状態を保持した状態で、組成物に紫外線を照射することにより、組成物を完全に硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体は、凹部付き部材が有する凹部に対応する形状のマイクロレンズを有するものであった。形成されたマイクロレンズは、扁平形状(略楕円形状)をなすものであり、長軸方向の長さが72μm、曲率半径が36μm、高さが36μmであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は100%であった。また、形成された硬化部を構成する材料の屈折率(絶対屈折率n)は、1.56であった。
The step of placing the sheet material on the composition was performed in a vacuum state in a vacuum chamber. At this time, the atmospheric pressure in the vacuum chamber was 10 Pa.
Thereafter, the composition was completely cured by irradiating the composition with ultraviolet rays while maintaining the reduced pressure state, thereby obtaining a substrate body. The obtained substrate main body had a microlens having a shape corresponding to the concave portion of the concave member. The formed microlens had a flat shape (substantially elliptical shape), and had a length in the major axis direction of 72 μm, a radius of curvature of 36 μm, and a height of 36 μm. Further, the occupation ratio of the microlens in the effective region where the microlens is formed was 100%. Further, the refractive index (absolute refractive index n 1 ) of the material constituting the formed cured portion was 1.56.

次に、基板本体から凹部付き部材を取り除いた。
次に、基板本体の出射側(マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面)表面に、ポジ型の感光性粘着剤としてのアクリル系感光性粘着剤を付与し、粘着剤層を形成した。
粘着剤層の形成は、真空チャンバ内において、減圧状態(15Pa)で、ポジ型の感光性粘着剤(アクリル系感光性粘着剤)で構成されたシート状の粘着剤シートを、組成物上に載せることにより行った。
Next, the member with a recess was removed from the substrate body.
Next, an acrylic photosensitive pressure-sensitive adhesive as a positive photosensitive pressure-sensitive adhesive is applied to the surface of the substrate body on the emission side (the surface opposite to the surface on which the microlenses are formed), and the pressure-sensitive adhesive layer is formed. Formed.
In the vacuum chamber, the pressure-sensitive adhesive layer is formed in a reduced pressure state (15 Pa) with a sheet-like pressure-sensitive adhesive sheet composed of a positive photosensitive pressure-sensitive adhesive (acrylic photosensitive pressure-sensitive adhesive) on the composition. It was done by placing.

次に、基板本体のマイクロレンズが形成されている面側から、MA6アライナー(ズース・マイクロテック)を用いて、60mJ/cmの平行光としての紫外線を照射した。
照射した紫外線は、各マイクロレンズで集光され、集光された紫外線が照射された部位の感光性粘着剤を選択的に感光させた。
その結果、粘着剤層において感光部の粘着性が選択的に低下し、非感光部は粘着性を有した状態で保持されていた。なお、粘着剤層の剥離強度を、JIS Z0237に基づき測定したところ、感光部で500gf/インチ、非感光部で30gf/インチであった。
Next, ultraviolet rays as parallel light of 60 mJ / cm 2 were irradiated from the surface side of the substrate body on which the microlenses were formed, using a MA6 aligner (Zuose Microtech).
The irradiated ultraviolet rays were collected by each microlens, and the photosensitive adhesive at the site irradiated with the collected ultraviolet rays was selectively exposed.
As a result, in the pressure-sensitive adhesive layer, the tackiness of the photosensitive portion was selectively lowered, and the non-photosensitive portion was held in a state having tackiness. When the peel strength of the pressure-sensitive adhesive layer was measured based on JIS Z0237, it was 500 gf / inch at the photosensitive part and 30 gf / inch at the non-photosensitive part.

次に、部分的に露光された粘着剤層の表面に、転写シート基材と遮光性材料層とで構成された遮光性材料転写シートを貼り合わせた。なお、粘着剤層上に遮光性材料転写シートを貼り合わせる工程は、真空チャンバ内において、減圧状態(100Pa)で行った。
その後、転写シート基材を粘着剤層から剥離した。これにより、粘着剤層の非感光部のみに遮光性材料層を構成する遮光層形成用材料が付着し(転写され)、各マイクロレンズの集光部に対応する部位に開口部を有する遮光層が形成された。開口部は、略円形であり、直径が25μmであった。また、形成された遮光層の厚さは2μmであった。また、遮光性材料転写シートとしては、転写シート基材上に、カーボンブラックで構成された遮光性材料層が設けられたものを用いた。
Next, a light-shielding material transfer sheet composed of a transfer sheet substrate and a light-shielding material layer was bonded to the surface of the partially exposed pressure-sensitive adhesive layer. The step of attaching the light-shielding material transfer sheet on the pressure-sensitive adhesive layer was performed in a reduced pressure state (100 Pa) in a vacuum chamber.
Thereafter, the transfer sheet substrate was peeled from the pressure-sensitive adhesive layer. Thereby, the light shielding layer forming material constituting the light shielding material layer is attached (transferred) only to the non-photosensitive portion of the pressure-sensitive adhesive layer, and the light shielding layer having an opening at a portion corresponding to the light condensing portion of each microlens. Formed. The opening was substantially circular and had a diameter of 25 μm. The formed light shielding layer had a thickness of 2 μm. As the light-shielding material transfer sheet, a sheet provided with a light-shielding material layer made of carbon black on a transfer sheet base material was used.

次に、基板本体のブラックマトリックスが形成された面側に、拡散部を形成し、マイクロレンズ基板を得た。拡散部の形成は、アクリル系樹脂中に、拡散材(平均粒径8μmのシリカ粒子)が分散した構成の拡散板を、真空チャンバ内において、減圧状態(100Pa)で接合することにより行った。なお、拡散部の厚さは、2.0mmであった。
以上のようにして製造されたマイクロレンズ基板と、押出成形により作製したフレネルレンズ部とを組み立てることにより、図3に示すような透過型スクリーンを得た。
Next, a diffusion part was formed on the side of the substrate body on which the black matrix was formed to obtain a microlens substrate. The diffusion portion was formed by bonding a diffusion plate having a configuration in which a diffusion material (silica particles having an average particle size of 8 μm) was dispersed in an acrylic resin in a vacuum state (100 Pa) in a vacuum chamber. In addition, the thickness of the diffusion part was 2.0 mm.
A transmissive screen as shown in FIG. 3 was obtained by assembling the microlens substrate manufactured as described above and the Fresnel lens portion manufactured by extrusion molding.

(実施例2〜4)
減圧状態における雰囲気圧を、表1に示すように変更した以外は、前記実施例1と同様にして、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
(実施例5)
シート材として、表面に溝が形成されていないものを用いた以外は、前記実施例1と同様にして、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
(Examples 2 to 4)
A microlens substrate and a transmissive screen were produced in the same manner as in Example 1 except that the atmospheric pressure in the reduced pressure state was changed as shown in Table 1.
(Example 5)
A microlens substrate and a transmissive screen were manufactured in the same manner as in Example 1 except that a sheet material having no grooves formed on the surface thereof was used.

(実施例6)
まず、前記実施例1と同様にして凹部付き部材を製造した。
次に、図8(a)に示すように、凹部付き部材の凹部が形成された側の面に、四角形の枠型に形成されたシール部材を配し、未重合(未硬化)のアクリル系樹脂(PMMA樹脂(メタクリル樹脂))で構成された組成物を付与した。
(Example 6)
First, a member with a recess was manufactured in the same manner as in Example 1.
Next, as shown in FIG. 8A, an unpolymerized (uncured) acrylic material is provided by placing a seal member formed in a rectangular frame shape on the surface of the member with recesses on the side where the recesses are formed. A composition composed of a resin (PMMA resin (methacrylic resin)) was applied.

次に、シール部材の上に、ポリエチレンテレフタレート(PET)で構成されたシート材(厚さ:50mm)を載せた。シート材を構成するポリエチレンテレフタレートの屈折率(絶対屈折率n)は、1.656であった。また、シート材としては、組成物と対向する側の面に多数の溝が形成されたものを用いた。シート材が有する溝は、互いに平行であり、断面形状が半円形状、開口幅が60μm、深さが30μm、ピッチが100μmのものであった。また、シート材の溝が設けられた面における溝が占める投影面積の割合は、60%であった。また、シート材は、溝の長手方向が凹部付き部材の凹部の短軸方向と平行となるように載置した。また、シート材は、溝が、形成されるマイクロレンズの集光部以外の部位に存在するものとなるように載置した。 Next, a sheet material (thickness: 50 mm) made of polyethylene terephthalate (PET) was placed on the seal member. The refractive index (absolute refractive index n 1 ) of polyethylene terephthalate constituting the sheet material was 1.656. Further, as the sheet material, a sheet material in which a large number of grooves were formed on the surface facing the composition was used. The grooves of the sheet material were parallel to each other, had a semicircular cross-sectional shape, an opening width of 60 μm, a depth of 30 μm, and a pitch of 100 μm. The ratio of the projected area occupied by the grooves on the surface provided with the grooves of the sheet material was 60%. Further, the sheet material was placed so that the longitudinal direction of the groove was parallel to the short axis direction of the concave portion of the concave member. Further, the sheet material was placed so that the groove was present in a portion other than the light condensing portion of the microlens to be formed.

シール部材に接続された真空ポンプで排気することにより、シール部材、組成物およびシート材で囲まれた空間を減圧状態(10Pa)とした。その結果、大気圧により押圧されることで、シート材は組成物上に密着した。
その後、減圧状態を保持した状態で、組成物に紫外線を照射することにより、組成物を完全に硬化させ、基板本体を得た。得られた基板本体は、凹部付き部材が有する凹部に対応する形状のマイクロレンズを有するものであった。形成されたマイクロレンズは、扁平形状(略楕円形状)をなすものであり、長軸方向の長さが72μm、曲率半径が36μm、高さが36μmであった。また、マイクロレンズが形成されている有効領域におけるマイクロレンズの占有率は100%であった。また、形成された硬化部を構成する材料の屈折率(絶対屈折率n)は、1.56であった。
By evacuating with a vacuum pump connected to the seal member, the space surrounded by the seal member, the composition and the sheet material was brought into a reduced pressure state (10 Pa). As a result, the sheet material was adhered onto the composition by being pressed by atmospheric pressure.
Thereafter, the composition was completely cured by irradiating the composition with ultraviolet rays while maintaining the reduced pressure state, thereby obtaining a substrate body. The obtained substrate main body had a microlens having a shape corresponding to the concave portion of the concave member. The formed microlens had a flat shape (substantially elliptical shape), and had a length in the major axis direction of 72 μm, a radius of curvature of 36 μm, and a height of 36 μm. Further, the occupation ratio of the microlens in the effective region where the microlens is formed was 100%. Further, the refractive index (absolute refractive index n 1 ) of the material constituting the formed cured portion was 1.56.

次に、基板本体から凹部付き部材を取り除いた。
次に、基板本体の出射側(マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面)表面に、ポジ型の感光性粘着剤としてのアクリル系感光性粘着剤を付与し、粘着剤層を形成した。
次に、基板本体のマイクロレンズが形成されている面側から、MA6アライナー(ズース・マイクロテック)を用いて、60mJ/cmの平行光としての紫外線を照射した。
Next, the member with a recess was removed from the substrate body.
Next, an acrylic photosensitive pressure-sensitive adhesive as a positive photosensitive pressure-sensitive adhesive is applied to the surface of the substrate body on the emission side (the surface opposite to the surface on which the microlenses are formed), and the pressure-sensitive adhesive layer is formed. Formed.
Next, ultraviolet rays as parallel light of 60 mJ / cm 2 were irradiated from the surface side of the substrate body on which the microlenses were formed, using a MA6 aligner (Zuose Microtech).

照射した紫外線は、各マイクロレンズで集光され、集光された紫外線が照射された部位の感光性粘着剤を選択的に感光させた。
その結果、粘着剤層において感光部の粘着性が選択的に低下し、非感光部は粘着性を有した状態で保持されていた。なお、粘着剤層の剥離強度を、JIS Z0237に基づき測定したところ、感光部で500gf/インチ、非感光部で50gf/インチであった。
The irradiated ultraviolet rays were collected by each microlens, and the photosensitive adhesive at the site irradiated with the collected ultraviolet rays was selectively exposed.
As a result, in the pressure-sensitive adhesive layer, the tackiness of the photosensitive portion was selectively lowered, and the non-photosensitive portion was held in a state having tackiness. When the peel strength of the pressure-sensitive adhesive layer was measured based on JIS Z0237, it was 500 gf / inch at the photosensitive part and 50 gf / inch at the non-photosensitive part.

次に、部分的に露光された粘着剤層の表面に、転写シート基材と遮光性材料層とで構成された遮光性材料転写シートを圧着し、ラミネータを用いて80℃の温度にて5kg/cmの圧力でラミネートを行い、その後、転写シート基材を粘着剤層から剥離した。これにより、粘着剤層の非感光部のみに遮光性材料層を構成する遮光層形成用材料が付着し(転写され)、各マイクロレンズの集光部に対応する部位に開口部を有する遮光層が形成された。開口部は、略円形であり、直径が40μmであった。また、形成された遮光層の厚さは3μmであった。また、遮光性材料転写シートとしては、転写シート基材上に、カーボンブラックで構成された遮光性材料層が設けられたものを用いた。 Next, a light-shielding material transfer sheet composed of a transfer sheet substrate and a light-shielding material layer is pressure-bonded to the surface of the partially exposed pressure-sensitive adhesive layer, and 5 kg at a temperature of 80 ° C. using a laminator. Lamination was performed at a pressure of / cm 2 , and then the transfer sheet substrate was peeled from the adhesive layer. Thereby, the light shielding layer forming material constituting the light shielding material layer is attached (transferred) only to the non-photosensitive portion of the pressure-sensitive adhesive layer, and the light shielding layer having an opening at a portion corresponding to the light condensing portion of each microlens. Formed. The opening was substantially circular and had a diameter of 40 μm. The formed light shielding layer had a thickness of 3 μm. As the light-shielding material transfer sheet, a sheet provided with a light-shielding material layer made of carbon black on a transfer sheet base material was used.

次に、基板本体のブラックマトリックスが形成された面側に、拡散部を形成し、マイクロレンズ基板を得た。拡散部の形成は、アクリル系樹脂中に、拡散材(平均粒径8μmのシリカ粒子)が分散した構成の拡散板を、真空チャンバ内において、減圧状態(10Pa)で接合することにより行った。なお、拡散部の厚さは、2.0mmであった。
以上のようにして製造されたマイクロレンズ基板を用いて、前記実施例1と同様にして、押出成形により作製したフレネルレンズ部とを組み立てることにより、図3に示すような透過型スクリーンを得た。
Next, a diffusion part was formed on the side of the substrate body on which the black matrix was formed to obtain a microlens substrate. The diffusion portion was formed by joining a diffusion plate having a configuration in which a diffusion material (silica particles having an average particle size of 8 μm) was dispersed in an acrylic resin in a vacuum state (10 Pa) in a vacuum chamber. In addition, the thickness of the diffusion part was 2.0 mm.
Using the microlens substrate manufactured as described above, a Fresnel lens portion produced by extrusion molding was assembled in the same manner as in Example 1 to obtain a transmission screen as shown in FIG. .

(実施例7〜9)
減圧状態における雰囲気圧を、表1に示すように変更した以外は、前記実施例6と同様にして、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
(実施例10)
シート材として、表面に溝が形成されていないものを用いた以外は、前記実施例6と同様にして、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
(Examples 7 to 9)
A microlens substrate and a transmissive screen were manufactured in the same manner as in Example 6 except that the atmospheric pressure in the reduced pressure state was changed as shown in Table 1.
(Example 10)
A microlens substrate and a transmissive screen were manufactured in the same manner as in Example 6 except that a sheet material having no grooves formed on the surface thereof was used.

(比較例)
すべての工程を大気圧下で行い、密着工程を、平板状の押圧部材を用いた押圧により行った以外は、前記実施例10と同様にして、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンを製造した。
前記各実施例および比較例について、減圧状態における条件(減圧方法、減圧時圧力)を表1にまとめて示す。
(Comparative example)
A microlens substrate and a transmissive screen were manufactured in the same manner as in Example 10 except that all steps were performed under atmospheric pressure and the adhesion step was performed by pressing using a flat pressing member.
Table 1 summarizes the conditions in the reduced pressure state (pressure reduction method, pressure during pressure reduction) for each of the above Examples and Comparative Examples.

Figure 2007187843
Figure 2007187843

[透過率の評価]
前記各実施例および比較例の透過型スクリーンについて、透過率の評価を行った。
透過率の評価は、分光光度計(大塚電子株式会社製、瞬間マルチ測光システム「MCPD−1000(28C)」)を用い、マイクロレンズ基板のマイクロレンズ形成領域に対し、波長400nmの光の透過率を測定した。
[Evaluation of transmittance]
The transmittance was evaluated for the transmissive screens of the examples and comparative examples.
The transmittance is evaluated using a spectrophotometer (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd., instantaneous multi-photometry system “MCPD-1000 (28C)”), and the transmittance of light having a wavelength of 400 nm with respect to the microlens formation region of the microlens substrate. Was measured.

その結果を以下の4段階の基準に従い評価した。
◎:透過率が90%以上。
○:透過率が80%以上90%未満。
△:透過率が70%以上80%未満。
×:透過率が70%未満。
The results were evaluated according to the following four-stage criteria.
A: The transmittance is 90% or more.
○: The transmittance is 80% or more and less than 90%.
Δ: The transmittance is 70% or more and less than 80%.
X: The transmittance is less than 70%.

[リア型プロジェクタの作製]
前記各実施例および比較例の透過型スクリーンを用いて、図12に示すようなリア型プロジェクタを、それぞれ作製した。
[色ムラ、輝度ムラの評価]
前記各実施例および比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた。表示された画像について、色ムラ、輝度ムラの発生状況を以下の4段階の基準に従い評価した。
◎:色ムラ、輝度ムラが全く認められない。
○:色ムラ、輝度ムラがほとんど認められない。
△:色ムラ、輝度ムラがわずかに認められる。
×:色ムラ、輝度ムラが顕著に認められる。
[Production of rear projector]
Using the transmissive screens of the examples and comparative examples, rear projectors as shown in FIG. 12 were produced.
[Evaluation of uneven color and brightness]
Sample images were displayed on the transmissive screens of the rear projectors of the examples and comparative examples. The displayed image was evaluated for the occurrence of uneven color and uneven brightness according to the following four criteria.
A: Color unevenness and luminance unevenness are not recognized at all.
○: Color unevenness and luminance unevenness are hardly observed.
Δ: Color unevenness and luminance unevenness are slightly observed.
X: Color unevenness and luminance unevenness are remarkably recognized.

[コントラストの評価]
前記各実施例および比較例のリア型プロジェクタについて、コントラストの評価を行った。
コントラスト(CNT)として、暗室において413lxの全白光が入射した時の白表示の正面輝度(白輝度)LW[cd/m]と、明室において光源を全消灯した時の黒表示の正面輝度の増加量(黒輝度増加量)LB[cd/m]との比LW/LBを求めた。なお、黒輝度増加量は、暗室の黒表示の輝度に対する増加量をいう。また、明室での測定は、外光照度が約185lxの環境下で行った。暗室での測定は、外光照度が0.1lx以下の環境下で行った。
[Evaluation of contrast]
Contrast evaluation was performed on the rear projectors of each of the examples and comparative examples.
As contrast (CNT), the front luminance (white luminance) LW [cd / m 2 ] of white display when all white light of 413 lx is incident in the dark room, and the front luminance of black display when the light source is completely turned off in the bright room The ratio LW / LB with the increase amount (black luminance increase amount) LB [cd / m 2 ] was obtained. The black luminance increase amount is an increase amount with respect to the black display luminance in the dark room. The measurement in the bright room was performed under an environment where the ambient light illuminance was about 185 lx. The measurement in the dark room was performed in an environment where the external light illuminance was 0.1 lx or less.

[視野角の測定]
前記各実施例および比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた状態で、鉛直方向(上下方向)および水平方向(左右方向)での視野角の測定を行った。
視野角の測定は、変角光度計(ゴニオフォトメータ)で、1度間隔で測定するという条件で行った。
[Measurement of viewing angle]
With the sample images displayed on the transmissive screens of the rear projectors of the examples and comparative examples, the viewing angles in the vertical direction (up and down direction) and the horizontal direction (left and right direction) were measured.
The viewing angle was measured under the condition of measuring with a variable angle photometer (goniophotometer) at intervals of 1 degree.

[回折光の評価]
前記各実施例および比較例のリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた。表示された画像について、回折光(モアレを含む)の発生状況を以下の4段階の基準に従い評価した。
◎:回折光が全く認められない。
○:回折光がほとんど認められない。
△:回折光がわずかに認められる。
×:回折光が顕著に認められる。
これらの結果を表2にまとめて示す。
[Evaluation of diffracted light]
Sample images were displayed on the transmissive screens of the rear projectors of the examples and comparative examples. About the displayed image, the generation condition of diffracted light (including moire) was evaluated according to the following four-stage criteria.
A: No diffracted light is observed.
A: Almost no diffracted light is observed.
Δ: Slight diffraction light is observed.
X: Remarkably diffracted light is recognized.
These results are summarized in Table 2.

Figure 2007187843
Figure 2007187843

表2から明らかなように、本発明では、いずれも、高い透過率を有するとともに、色ムラ、輝度ムラの発生が抑制された画像を表示することができた。また、本発明では、高コントラストで、視野角特性に優れていた。また、本発明では、回折光のない優れた画像を表示することができた。すなわち、本発明では、優れた画像を安定的に表示することができた。これに対し、比較例では、満足な結果が得られなかった。   As is apparent from Table 2, in the present invention, it was possible to display an image having high transmittance and suppressed occurrence of color unevenness and luminance unevenness. In the present invention, the contrast is high and the viewing angle characteristics are excellent. In the present invention, an excellent image without diffracted light could be displayed. That is, in the present invention, an excellent image can be stably displayed. On the other hand, in the comparative example, a satisfactory result was not obtained.

本発明のマイクロレンズ基板の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。It is a typical longitudinal section showing a suitable embodiment of a micro lens substrate of the present invention. 図1に示すマイクロレンズ基板の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the microlens substrate shown in FIG. 1. 図1に示すマイクロレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。It is a typical longitudinal cross-sectional view which shows suitable embodiment of the transmission type screen of this invention provided with the microlens board | substrate shown in FIG. マイクロレンズ基板の製造に用いる凹部付き部材を示す模式的な縦断面図である。It is a typical longitudinal section showing a member with a crevice used for manufacture of a micro lens substrate. 図4に示す凹部付き部材の製造方法を示す模式的な縦断面図である。It is a typical longitudinal cross-sectional view which shows the manufacturing method of the member with a recessed part shown in FIG. 図1に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例(第1実施形態)を示す模式的な縦断面図である。It is a typical longitudinal cross-sectional view which shows an example (1st Embodiment) of the manufacturing method of the micro lens board | substrate shown in FIG. 図1に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例(第1実施形態)を示す模式的な縦断面図である。It is a typical longitudinal cross-sectional view which shows an example (1st Embodiment) of the manufacturing method of the micro lens board | substrate shown in FIG. 図1に示すマイクロレンズ基板の製造方法の一例(第1実施形態)を示す模式的な縦断面図である。It is a typical longitudinal cross-sectional view which shows an example (1st Embodiment) of the manufacturing method of the micro lens board | substrate shown in FIG. 図1に示すマイクロレンズ基板の製造方法の他の一例(第2実施形態)を示す模式的な縦断面図である。It is a typical longitudinal cross-sectional view which shows another example (2nd Embodiment) of the manufacturing method of the micro lens board | substrate shown in FIG. 図1に示すマイクロレンズ基板の製造方法の他の一例(第2実施形態)を示す模式的な縦断面図である。It is a typical longitudinal cross-sectional view which shows another example (2nd Embodiment) of the manufacturing method of the micro lens board | substrate shown in FIG. 図1に示すマイクロレンズ基板の製造方法の他の一例(第2実施形態)を示す模式的な縦断面図である。It is a typical longitudinal cross-sectional view which shows another example (2nd Embodiment) of the manufacturing method of the micro lens board | substrate shown in FIG. 本発明の透過型スクリーンを適用したリア型プロジェクタを模式的に示す図である。It is a figure which shows typically the rear type projector to which the transmission type screen of this invention is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1…マイクロレンズ基板 2…基板本体 21…マイクロレンズ(凸レンズ) 211…中心 23…組成物 24…シート材(基材フィルム) 25…第1の行 26…第2の行 29…空間 3…ブラックマトリックス(遮光膜) 31…粘着剤層 31’…粘着剤シート 319…感光部 32…遮光層 32’…遮光性材料層 33…開口部 4…拡散部 4’…拡散板 5…フレネルレンズ部 51…フレネルレンズ 6…凹部付き部材(マイクロレンズ形成用凹部付き部材) 61…凹部(マイクロレンズ形成用凹部) 7…基板 8…マスク 81…マスク形成用膜 82…初期孔(開口部) 89…裏面保護膜 10…透過型スクリーン 11 減圧真空装置 111…真空チャンバ 112…真空ポンプ 12…シール部材 121…孔(排気口) 13…遮光性材料転写シート 131…転写シート基材 14…真空ポンプ 400…リア型プロジェクタ 410…投写光学ユニット 420…導光ミラー 440…筐体 La…光 Lb…光(露光用光)   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Micro lens board | substrate 2 ... Board | substrate main body 21 ... Micro lens (convex lens) 211 ... Center 23 ... Composition 24 ... Sheet material (base film) 25 ... 1st line 26 ... 2nd line 29 ... Space 3 ... Black Matrix (light-shielding film) 31 ... Adhesive layer 31 '... Adhesive sheet 319 ... Photosensitive part 32 ... Light-shielding layer 32' ... Light-shielding material layer 33 ... Opening part 4 ... Diffusion part 4 '... Diffusion plate 5 ... Fresnel lens part 51 ... Fresnel lens 6 ... Member with recess (member with recess for microlens formation) 61 ... Recess (recess for microlens formation) 7 ... Substrate 8 ... Mask 81 ... Mask formation film 82 ... Initial hole (opening) 89 ... Back Protective film 10 ... Transmission type screen 11 Depressurized vacuum device 111 ... Vacuum chamber 112 ... Vacuum pump 12 ... Seal member 121 ... Hole (exhaust port) 13 ... light-shielding material transfer sheet 131 ... transfer sheet substrate 14 ... vacuum pump 400 ... rear projection 410 ... projection optical unit 420 ... light guide mirror 440 ... housing La ... light Lb ... light (exposure light)

Claims (13)

多数のマイクロレンズを有する基板本体を備えたマイクロレンズ基板を製造する方法であって、
製造すべき前記基板本体の前記マイクロレンズが設けられた面側の反転形状を有する成形型の面上に、流動性を有する組成物を付与する組成物付与工程と、
前記組成物にシート材を密着させる密着工程と、
前記組成物を固化させる固化工程とを有し、
前記組成物と前記シート材との間が減圧された減圧状態で、前記密着工程を行うことを特徴とするマイクロレンズ基板の製造方法。
A method of manufacturing a microlens substrate including a substrate body having a number of microlenses,
A composition applying step for applying a composition having fluidity on the surface of a mold having an inverted shape on the surface side where the microlenses of the substrate body to be manufactured are provided;
An adhesion step for closely adhering the sheet material to the composition;
A solidification step for solidifying the composition,
The method for producing a microlens substrate, wherein the adhesion step is performed in a reduced pressure state in which a space between the composition and the sheet material is reduced.
真空チャンバを用いることにより、前記組成物および前記シート材の全体を含む空間を前記減圧状態とする請求項1に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。   The method for producing a microlens substrate according to claim 1, wherein a space including the composition and the entire sheet material is brought into the reduced pressure state by using a vacuum chamber. シール材を用いることにより、前記組成物と前記シート材との間の空間のみを選択的に前記減圧状態とする請求項1に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。   The method for producing a microlens substrate according to claim 1, wherein only the space between the composition and the sheet material is selectively brought into the reduced pressure state by using a sealing material. 前記組成物付与工程、前記密着工程、および、前記固化工程を経て製造された前記基板本体の前記マイクロレンズが設けられた面側とは反対の面側に、ポジ型の感光性粘着剤を付与して粘着剤層を形成する粘着剤層形成工程と、
前記基板本体を介して前記粘着剤層に光を照射する処理を施し、感光部の粘着性を低下させる光照射工程と、
前記粘着剤層上に、遮光層形成用材料で構成された遮光性材料層を有する遮光性材料転写シートを貼り合わせる貼着工程と、
貼り合わされた前記遮光性材料転写シートを前記粘着剤層から剥離し、前記感光性粘着剤の非感光部に選択的に前記遮光層形成用材料を転写することで、開口部を有する遮光膜を形成する遮光膜形成工程とをさらに有し、
前記粘着剤層と前記遮光性材料転写シートとの間が減圧された減圧状態で、前記貼着工程を行う請求項1ないし3のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
A positive photosensitive adhesive is applied to the surface of the substrate body manufactured through the composition application step, the adhesion step, and the solidification step, opposite to the surface side provided with the microlens. And forming a pressure-sensitive adhesive layer,
A light irradiation step of applying light to the pressure-sensitive adhesive layer through the substrate body to reduce the adhesiveness of the photosensitive portion;
A sticking step of bonding a light-shielding material transfer sheet having a light-shielding material layer composed of a light-shielding layer forming material on the pressure-sensitive adhesive layer;
The light-shielding material transfer sheet bonded is peeled off from the pressure-sensitive adhesive layer, and the light-shielding layer forming material is selectively transferred to the non-photosensitive portion of the photosensitive pressure-sensitive adhesive, thereby forming a light-shielding film having an opening. A light shielding film forming step to be formed;
The method for manufacturing a microlens substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein the attaching step is performed in a reduced pressure state in which a space between the pressure-sensitive adhesive layer and the light-shielding material transfer sheet is reduced.
前記粘着剤層形成工程は、前記基板本体上に、感光性粘着剤で構成された粘着剤シートを貼り合わせることにより行うものであり、
前記粘着剤層形成工程を、前記基板本体と前記粘着剤シートとの間が減圧された減圧状態で行う請求項4に記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
The pressure-sensitive adhesive layer forming step is performed by bonding a pressure-sensitive adhesive sheet composed of a photosensitive pressure-sensitive adhesive on the substrate body,
The method for producing a microlens substrate according to claim 4, wherein the pressure-sensitive adhesive layer forming step is performed in a reduced pressure state in which a space between the substrate main body and the pressure-sensitive adhesive sheet is reduced.
前記組成物付与工程、前記密着工程、および、前記固化工程を経て製造された前記基板本体の前記マイクロレンズが設けられた面側とは反対の面側に、拡散板を貼り合わせて拡散部を形成する拡散部形成工程をさらに有し、
前記拡散部形成工程を、前記基板本体と前記拡散板との間の空間が減圧された減圧状態で行う請求項1ないし5のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。
A diffusion plate is bonded to the surface of the substrate body manufactured through the composition application step, the adhesion step, and the solidification step, opposite to the surface side where the microlenses are provided. A diffusion part forming step to be formed;
The method of manufacturing a microlens substrate according to claim 1, wherein the diffusion portion forming step is performed in a reduced pressure state in which a space between the substrate body and the diffusion plate is reduced.
前記減圧状態における圧力が、1×10−2〜1×10Paである請求項1ないし6のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。 The method for producing a microlens substrate according to claim 1, wherein the pressure in the reduced pressure state is 1 × 10 −2 to 1 × 10 5 Pa. 前記シート材の厚さは、20〜200μmである請求項1ないし7のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。   The method of manufacturing a microlens substrate according to claim 1, wherein the sheet material has a thickness of 20 to 200 μm. 前記シート材は、ポリエチレンテレフタレートで構成されたものである請求項1ないし8のいずれかに記載のマイクロレンズ基板の製造方法。   The method for manufacturing a microlens substrate according to any one of claims 1 to 8, wherein the sheet material is made of polyethylene terephthalate. 請求項1ないし9のいずれかに記載の方法により製造されたことを特徴とするマイクロレンズ基板。   A microlens substrate manufactured by the method according to claim 1. 請求項10に記載のマイクロレンズ基板を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。   A transmissive screen comprising the microlens substrate according to claim 10. 光の出射側にフレネルレンズが設けられたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された前記マイクロレンズ基板とを備えた請求項11に記載の透過型スクリーン。
A Fresnel lens portion provided with a Fresnel lens on the light exit side;
The transmissive screen according to claim 11, further comprising: the microlens substrate disposed on the light emission side of the Fresnel lens unit.
請求項11または12に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
A rear projector comprising the transmissive screen according to claim 11.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2010217698A (en) * 2009-03-18 2010-09-30 Olympus Corp Method of attaching thin film, and pellicle optical element manufactured by the same

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