JP4622828B2 - ガス化装置 - Google Patents
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Description
I)ガス化ガスに同伴されたタールはガス化炉内の触媒に接触して粗分解されると共に、残った微量のタールは管路内の触媒充填層において触媒に接触して分解されるため、二段階に亘りタールを触媒と接触させることにより、タールの触媒に対する接触時間を十分長く取ることができてタールの分解を高効率且つ確実に行なうことができる。
II)タールの量が少なくて高い分解性能が求められない場合は、管路の触媒を充填する部分をコンパクトにすることができ、又、触媒は管路からガス化炉内に送給して炉内触媒として利用するようにしているため、炉内触媒として利用することなく管路から触媒を排出するための機構が不要となり、その結果、コストダウンや機器トラブルの減少を図ることができる。
III)タールの分解には例えば、約800℃以上の温度が必要であるが、管路内で触媒充填層を形成する触媒はガス化炉内の伝熱を利用しているため、特別な加熱手段が不要で、斯かる加熱手段から熱を取り回す煩雑さを防止することができ、この点からもコストダウンを図ることができる。
IV)請求項3のように、管路のガス化炉側の部分を、先端開口がガス化炉内上部空間に向けて開口した状態でガス化炉内の層内に位置させたり、或は、請求項4のように管路と外管との間に管路内の触媒充填層を加熱するためのガスが流通する空隙を設けた場合には、管路内の触媒充填層の加熱をより一層確実に行なうことができ、その結果、タールの分解をより一層効率良く行なうことができる。
図1は請求項1、請求項2、請求項5、請求項7〜請求項10に関する本発明のガス化装置の第一実施形態例で、ガス化炉内には流動層が形成された例である。図中、1は内部に流動層2が形成されるようにしたガス化炉であり、ガス化炉1には、上面に接続した原料供給ライン3からバイオマス、石炭等の原料Mを投入し得るようになっている。又、ガス化炉1の底面に設けたガス化剤供給ライン4からは、複数のガス化剤供給ノズル5を介して水蒸気、空気、酸素、二酸化炭素等のガス化剤Mgをガス化炉1内に導入し得るようになっており、ガス化炉1内では、ガス化剤Mgにより砂や触媒が流動化されて流動層2が形成されるようになっている。触媒としては、例えば、ドロマイト、石灰等のカルシューム系触媒、又は酸化鉄やニッケル系の触媒が使用される。
上記ガス化装置においては、ガス化剤供給ライン4から供給されたガス化剤Mgはガス化剤供給ノズル5からガス化炉1内に導入される。又、バイオマスや石炭等の原料Mは原料供給ライン3からガス化炉1内に投入される。このため、ガス化炉1内の触媒や砂は流動化して高温の流動層2が形成されると共に、流動層2内において原料Mが熱分解(I)してチャーCが生成されると共に、熱分解で生成したチャーCを水蒸気により水性ガス化(II)し、更に水性ガス化して生成したCOのシフト反応(III)が行なわれてガス化ガスGgが生成される。
(I)熱分解
原料 → 揮発分(CO、H2、炭化水素)+C(チャー)
(II)水性ガス化
C(チャーの一部)+H2O(水蒸気)→CO+H2
(III) シフト反応
CO+H2O(水蒸気)→CO+H2
2 流動層(層)
6 燃焼炉
11 排ガス管
12 分離器(第一分離手段)
13 排ガス管
14 降下管(戻しライン)
15 管路
15a 先端開口
16 管路(ガス化ガス送給ライン)
19 触媒ホッパ(触媒貯留手段)
20 流体圧シリンダ(送給する手段)
21 プッシャ(送給する手段)
22 分離器(第二分離手段)
25 外管
25a 空隙
28 固定層(層)
C チャー
Cy 触媒
Ge 燃焼排ガス(ガス)
Gg ガス化ガス(ガス)
Lcy 触媒充填層
M 原料
Pe 粉粒体
S 流動媒体(媒体)
Claims (11)
- 内部に触媒が混在する層を有し、石炭やバイオマスといった原料を前記層内で熱分解してガス化ガスを生成させると共に、前記原料の熱分解により生成したタールを前記触媒に接触させて分解させるようにしたガス化炉と、内部に触媒充填層が形成されると共に、前記ガス化炉で生成されたガス化ガスとタールが前記触媒充填層を通り送給され、且つ、タールが触媒充填層を形成する触媒に接触して分解され、しかも、先端開口から触媒がガス化炉内に投入され得るようにした管路とを備えたことを特徴とするガス化装置。
- 管路のガス化炉側の部分はガス化炉の上部空間内に位置すると共に、ガス化炉側部側から中心側へ向かって上り勾配に形成されている請求項1記載のガス化装置。
- 管路のガス化炉側の部分は、先端開口がガス化炉内上部空間に向けて開口した状態でガス化炉内の層内に位置すると共に、ガス化炉側部側から中心側へ向かって上り勾配に形成されている請求項1記載のガス化装置。
- 管路はガス化炉内の上部空間に連通するようガス化炉壁面に接続されると共に、ガス化炉から離反した側からガス化炉側に向かって上り勾配に形成され、且つ管路の外周には該管路を包囲するよう外管が配置されて、管路と外管との間に管路内の触媒充填層を加熱するためのガスが流通する空隙が形成された請求項1に記載のガス化装置。
- ガス化炉内の層は流動層である請求項1乃至4の何れかに記載のガス化装置。
- ガス化炉内の層は固定層である請求項1乃至4の何れかに記載のガス化装置。
- 管路内に供給するための触媒が貯留された触媒貯留手段と、該触媒貯留手段から切出された触媒を前記管路からガス化炉側へ送給する手段を設けた請求項1乃至6の何れかに記載のガス化装置。
- 管路から取出されたガス化ガスを送給するためのガス化ガス送給ラインを備えた請求項1乃至7の何れかに記載のガス化装置。
- ガス化炉から少なくともチャーと触媒を有する媒体を送給されてチャーを燃焼させる燃焼炉と、該燃焼炉からの燃焼排ガスから媒体を分離する第一分離手段と、該第一分離手段で分離された媒体をガス化炉へ戻す戻しラインを備えた請求項1乃至8の何れかに記載のガス化装置。
- ガス化ガス送給ラインから送給されたガス化ガスから粉粒体を分離する第二分離手段を設けた請求項8に記載のガス化装置。
- 第一分離手段に接続された排ガス管を、内部に触媒充填層が形成された管路の外周に該管路を包囲するよう配置された外管に接続し、第一分離手段で媒体若しくは粉粒対を除去されて清浄化されたガスを、前記排ガス管を介し、前記管路と外管との間に形成された空隙に送給して、管路内の触媒充填層を加熱し得るようにした請求項9に記載のガス化装置。
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