JP4620558B2 - シリコーンゴムの成形方法 - Google Patents
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本発明のもう一つの目的は、必要に応じて多層のパターンを作製可能であるシリコーンゴムの成形方法を提供することである。
(1)内部に金型凹部を有する金型を用意する。金型凹部は、少なくとも一つのパターン層と、一つのパターン層の上方に位置する基底層から形成される。
(3)室温硬化型シリコーンゴムを加熱して初期の硫化成形を進行させる。
(4)室温硬化型シリコーンゴムの表面に表面処理剤を塗布する。
(6)室温硬化型シリコーンゴムと高温硬化型シリコーンゴムを熱圧縮する。
(7)金型を開くと、シリコーンゴムの製品が完成する。
(a)金型10を用意する。
図1に示すように、金型10は下部金型12と上部金型14を有し、下部金型12は多層の金型凹部16を有し、金型凹部16は上から下までの順により第一パターン層18と第二パターン層20と基底層22とを有する。
図2に示すように、このステップは、マイクロ注入(micro injection)と自動化制御により金型10の第一パターン層18にRTVシリコーンゴム24を所定の量で流す。RTVシリコーンゴム24は、異なる色を呈することが可能であり、かつ設計により金型10の第一パターン層18の所定の区域に注入される。
下部金型12をオーブン(図中未表示)に移して加熱し、加熱の温度を120℃から180℃の間で、時間を15秒から25秒の間に設定することで、RTVシリコーンゴム24を硫化させて成形する。
加熱作業が完了した後、下部金型12を冷却装置(図中未表示)に移して、冷却装置の温度が5℃から20℃の間の冷却液(普通の水)を循環流動させることで、RTVシリコーンゴム24を室温になるまで冷却させる。
マイクロ注入の過程では、部分のRTVシリコーンゴム24(図中未表示)は第一パターン層18に滴下せず、下部金型12に滴下することがある。したがって、この部分のRTVシリコーンゴム24(図中未表示)を布で拭き取る必要がある。
硫化成形した後のRTVシリコーンゴム24の表面は、光沢のある平滑な状態を呈するため、もう一つのシリコーンゴムと結合しにくい。RTVシリコーンゴム24の表面を活性化し、RTVシリコーンゴム24ともう一つのシリコーンゴムとを結合させるために、RTVシリコーンゴム24の表面に表面処理剤26を塗布する必要がある。
金型10の金型凹部16またはシリコーンゴムの中に空気が残留することを防止するために、まず腔室34から空気を取り除き、その過程において圧縮ヘッド36により金型10に圧力を加え、何回か繰り返して圧力を加えた後、腔室34に空気を送入し、加熱時間を30秒から450秒の間に設定し、180℃から250℃の間になるまで加熱する。続いて、2回または2回から8回前述のステップを繰り返すことで、金型凹部16またはシリコーンゴム中の空気を完全に除去し、これらのシリコーンゴムを一体化させる。
図7に示すように、シリコーンゴム製品38はHTVシリコーンゴム32から形成される基底40と、RTVシリコーンゴム24から形成され、基底40に位置付けられるパターン42とを有する。すべてのRTVシリコーンゴム24は、熱圧縮のステップ(ステップ(i))に至る前に固体に変わってしまうため、熱圧縮工程を行う時、ブリード現象は発生しない。したがって、本発明の実施例による方法は、極めて小さいパターンを作製可能である。本発明者が実際に操作したところ、最小0.2mmの英文字が成形可能である。かつ本発明の実施例による方法により作製されるシリコーンゴム製品38の不良率は極めて低い。
Claims (11)
- 内部に金型凹部を有する金型を用意し、金型凹部は少なくとも一つのパターン層と、一つのパターン層の上方に位置する基底層から形成されるステップ1と、
液状の室温硬化型シリコーンゴム(room temperature vulcanization(RTV) silicon rubber)を金型のパターン層に流すステップ2と、
室温硬化型シリコーンゴムを加熱して初期の硫化成形を進行させるステップ3と、
室温硬化型シリコーンゴムの表面に表面処理剤(primer)を塗布するステップ4と、
高温硬化型シリコーンゴム(high temperature vulcanization(HTV) silicon rubber)を金型の基底層に入れるステップ5と、
室温硬化型シリコーンゴムと高温硬化型シリコーンゴムを熱圧縮するステップ6と、
金型を開くと、シリコーンゴムの製品が完成するステップ7と、
を含むシリコーンゴムの成形方法であって、
前記ステップ6はさらに、
腔室に金型を入れるステップaと、
腔室から空気を取り除き、金型に圧力を繰り返して加えるステップbと、
腔室に空気を送入するステップcと、
金型を加熱するステップdと、
を含むことを特徴とするシリコーンゴムの成形方法。 - ステップ3では、加熱の温度は120℃から180℃の間であり、時間は15秒から25秒の間であることを特徴とする請求項1に記載のシリコーンゴムの成形方法。
- ステップ3が完了した後、室温硬化型シリコーンゴムを室温になるまで冷却させるステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のシリコーンゴムの成形方法。
- 冷却ステップは、金型を冷却装置に移すことであり、冷却装置は温度が5℃から20℃の間の冷却水が循環流動していることを特徴とする請求項3に記載のシリコーンゴムの成形方法。
- ステップ3が完了した後、パターン層以外のところに滴下している室温硬化型シリコーンゴムを除去するステップをさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のシリコーンゴムの成形方法。
- ステップdに至る前に、ステップaからステップcまでを繰り返すことを特徴とする請求項1に記載のシリコーンゴムの成形方法。
- 加熱温度は180℃から250℃の間であり、加熱時間は30秒から450秒の間であることを特徴とする請求項1に記載のシリコーンゴムの成形方法。
- 下部金型と上部金型から構成される金型を用意し、下部金型は金型凹部を有し、金型凹部は若干のパターン層とこれらのパターン層の上方に位置する一つの基底層から形成されるステップ1と、
液状の室温硬化型シリコーンゴム(room temperature vulcanization(RTV) silicon rubber)を金型のパターン層に流すステップ2と、
室温硬化型シリコーンゴムを加熱して初期の硫化成形を進行させるステップ3と、
室温硬化型シリコーンゴムの表面に表面処理剤(primer)を塗布するステップ4と、
すべてのパターン層が室温硬化型シリコーンゴムにより充填されるまでステップ2からステップ4を繰り返すステップ5と、
高温硬化型シリコーンゴム(high temperature vulcanization(HTV) silicon rubber)を金型の基底層に入れるステップ6と、
室温硬化型シリコーンゴムと高温硬化型シリコーンゴムを熱圧縮するステップ7と、
金型を開くと、シリコーンゴムの製品が完成するステップ8と、
を含むシリコーンゴムの成形方法であって、
前記ステップ7はさらに、
腔室に金型を入れるステップaと、
腔室から空気を取り除き、金型に圧力を繰り返して加えるステップbと、
腔室に空気を送入するステップcと、
金型を加熱するステップdと、
を含むことを特徴とするシリコーンゴムの成形方法。 - 金型の上部金型は、少なくとも一つのパターン層を有し、ステップ2からステップ5の方法によりパターン層の中に室温硬化型シリコーンゴムを入れることを特徴とする請求項8に記載のシリコーンゴムの成形方法。
- 金型の上部金型は、基底層を有し、その中に高温硬化型シリコーンゴムを入れ、その上に表面処理剤を塗布した後、ステップ7の熱圧縮ステップを進めることを特徴とする請求項8に記載のシリコーンゴムの成形方法。
- 金型の上部金型は、少なくとも一つのパターン層と一つの基底層とを有し、ステップ2からステップ6の方法によりパターン層の中に室温硬化型シリコーンゴムを入れ、基底層の中に高温硬化型シリコーンゴムを入れ、高温硬化型シリコーンゴムの上に表面処理剤を塗布した後、ステップ7の熱圧縮ステップを進めることを特徴とする請求項8に記載のシリコーンゴムの成形方法。
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