JP4619309B2 - Substrate film for dicing - Google Patents
Substrate film for dicing Download PDFInfo
- Publication number
- JP4619309B2 JP4619309B2 JP2006066231A JP2006066231A JP4619309B2 JP 4619309 B2 JP4619309 B2 JP 4619309B2 JP 2006066231 A JP2006066231 A JP 2006066231A JP 2006066231 A JP2006066231 A JP 2006066231A JP 4619309 B2 JP4619309 B2 JP 4619309B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dicing
- resin
- film
- weight
- styrene
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 59
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 112
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 82
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 82
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 68
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 44
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 claims description 29
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 24
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 claims description 19
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 15
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims description 14
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 claims description 14
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 27
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 22
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 18
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 16
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 15
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 12
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 12
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 11
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 11
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 10
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- -1 diene compound Chemical class 0.000 description 9
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 9
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 7
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 6
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 6
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 5
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RCJMVGJKROQDCB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpenta-1,3-diene Chemical compound CC=CC(C)=C RCJMVGJKROQDCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical group C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- AHAREKHAZNPPMI-AATRIKPKSA-N (3e)-hexa-1,3-diene Chemical compound CC\C=C\C=C AHAREKHAZNPPMI-AATRIKPKSA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMYIIHDQURVDRB-UHFFFAOYSA-N 1-phenylethenylbenzene Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=C)C1=CC=CC=C1 ZMYIIHDQURVDRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZBSIABKXVPBFY-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)CO GZBSIABKXVPBFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHDSHGBRKMRPHC-UHFFFAOYSA-N 2-(4-ethenylphenyl)-n,n-dimethylethanamine Chemical compound CN(C)CCC1=CC=C(C=C)C=C1 OHDSHGBRKMRPHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXWRUNXMOLCZEE-UHFFFAOYSA-N 2-(4-ethenylphenyl)ethanamine Chemical compound NCCC1=CC=C(C=C)C=C1 FXWRUNXMOLCZEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VCUFZILGIRCDQQ-KRWDZBQOSA-N N-[[(5S)-2-oxo-3-(2-oxo-3H-1,3-benzoxazol-6-yl)-1,3-oxazolidin-5-yl]methyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical group O=C1O[C@H](CN1C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1)CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F VCUFZILGIRCDQQ-KRWDZBQOSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(CO)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C INXWLSDYDXPENO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical class CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJLZSKYNYLYCNY-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;isocyanic acid Chemical group N=C=O.CCOC(N)=O RJLZSKYNYLYCNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000009905 homogeneous catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000010550 living polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N octadecyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 SSDSCDGVMJFTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002601 oligoester Polymers 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 239000011116 polymethylpentene Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 229920001935 styrene-ethylene-butadiene-styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- ZWYDDDAMNQQZHD-UHFFFAOYSA-L titanium(ii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ti+2] ZWYDDDAMNQQZHD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Dicing (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Wrappers (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
本発明は、半導体ウエハ等をチップ状にダイシングする際に、半導体ウエハ等を固定するためのダイシングフイルムに関する。 The present invention relates to a dicing film for fixing a semiconductor wafer or the like when dicing the semiconductor wafer or the like into chips.
半導体ウエハは、予め大面積で作られた後、チップ状にダイシング(切断分離)されてマウント工程に移される。そのダイシングに際して、半導体ウエハを固定するために用いられるのがダイシングフイルムである。 The semiconductor wafer is made in advance with a large area, then diced into chips (cut and separated), and transferred to the mounting process. In the dicing, a dicing film is used for fixing the semiconductor wafer.
ダイシングフイルムは、基本的には半導体ウエハを固定する粘着層とダイシングカッターの切り込みを受ける樹脂層(ダイシング用基体フイルム)とから構成されている。このダイシング用基体フイルムとしては、一般にポリオレフィン系フイルム又はポリ塩化ビニル系フイルムが使用されているが、ポリ塩化ビニル系フイルムは、特に環境問題等で衰退にあるのが実情である。 The dicing film is basically composed of an adhesive layer for fixing the semiconductor wafer and a resin layer (a substrate film for dicing) that receives the cutting of the dicing cutter. As the substrate film for dicing, a polyolefin film or a polyvinyl chloride film is generally used. However, the polyvinyl chloride film is in decline due to environmental problems.
また、ダイシングフイルムの粘着剤層に貼着された半導体ウエハは、チップ状にダイシングされた後、ピックアップ工程を容易に行うためにダイシングフイルムを縦横方向に均一に拡張(エキスパンド)して、チップ間隔を均一に広げる工程が必要となる。そのため、ダイシングフイルムには、ダイシング後の均一かつ円滑な拡張性が要求される。しかも、最近の更なるウエハの小片化(例えば、10×10mmが1×1mmにまで小片化)に伴って、裂けたり切断したりすることなく、均一により広く円滑に拡張できるダイシング用基体フイルムが望まれている。 In addition, after the semiconductor wafer attached to the adhesive layer of the dicing film is diced into chips, the dicing film is uniformly expanded (expanded) in the vertical and horizontal directions in order to facilitate the pick-up process. A process of spreading the film uniformly is required. Therefore, the dicing film is required to have uniform and smooth expandability after dicing. Moreover, with the recent further downsizing of wafers (for example, 10 × 10 mm is reduced to 1 × 1 mm), there is a substrate film for dicing that can be expanded uniformly and smoothly without tearing or cutting. It is desired.
また、切断された半導体ウエハチップはダイシングフイルムに固定されており、この状態で、該半導体ウエハチップにチッピング等の不良部分がないか目視検査が行われる。この目視検査を容易にするため、ダイシング用基体フイルムには高い透明性が要求される。 The cut semiconductor wafer chip is fixed to a dicing film, and in this state, the semiconductor wafer chip is visually inspected for defective parts such as chipping. In order to facilitate this visual inspection, the substrate film for dicing is required to have high transparency.
また、ダイシング後には、ダイシングフイルムは、半導体ウエハチップをピックアップし易いように拡張され該チップに一定の隙間がつくられ、ピッカ−によって該チップがピックアップされて工程が終了する。使用済みのダイシングフイルムは、所定温度の加熱(温風)により収縮させてフイルム回収容器(ラック)内へ回収・収納される。この際、ダイシングフイルムは、フイルムの回収性を考慮して、少なくともラックに容易に収納できるサイズにまで加熱収縮し得るフイルムであることが必要とされる。 After dicing, the dicing film is expanded so that the semiconductor wafer chip can be easily picked up, a certain gap is formed in the chip, and the chip is picked up by the picker, and the process is completed. The used dicing film is contracted by heating at a predetermined temperature (warm air) and collected and stored in a film recovery container (rack). At this time, the dicing film is required to be a film that can be heated and shrunk to at least a size that can be easily stored in a rack in consideration of the recoverability of the film.
しかし、公知のダイシングフイルムでは、加熱による収縮率が小さいために、ラック内に回収することが容易ではなかった。しかも、ウエハがより小サイズにカット化される場合には、該フイルムの拡張は大きくなるため、フイルムの回収はより一層困難になり、現実にはこの加熱による回収は不可能であった。そのため、より低温で、より大きく収縮復元する特性を有するダイシングフイルムが切望されている。 However, since the known dicing film has a small shrinkage ratio due to heating, it is not easy to collect it in the rack. In addition, when the wafer is cut to a smaller size, the expansion of the film becomes large, so that the recovery of the film becomes even more difficult, and in reality, recovery by this heating is impossible. Therefore, a dicing film having a characteristic of restoring shrinkage at a lower temperature is desired.
ところで、ダイシングフイルムは、通常ロール状に巻いて製造、保管、運搬等される。そのため、フイルム同士のブロッキングが生じると品質の低下等が生じてしまう。つまり、ダイシングフイルムとして優れた品質を有していても、かかるブロッキングによる問題が解消されないと高品質のダイシングフイルムを提供することは困難である。 By the way, a dicing film is usually rolled, manufactured, stored and transported. For this reason, when the blocking between films occurs, the quality deteriorates. That is, even if it has excellent quality as a dicing film, it is difficult to provide a high-quality dicing film unless the problem due to blocking is solved.
本発明は、透明性に優れ、かつ、使用済みのダイシングフイルムのラックへの回収が、より迅速にかつ簡便に行える(以下、ラック回収性と呼ぶ)ダイシング用基体フイルムを提供することを主な目的とする。尚、該ラックは、当業界で用いられる名称であり、他にシッパ−とかケ−スとも呼んでいる。 The main object of the present invention is to provide a substrate film for dicing that is excellent in transparency and that can quickly and easily collect used dicing film in a rack (hereinafter referred to as rack recoverability). Objective. The rack is a name used in the industry, and is also called a sipper or a case.
本発明者は、上記の課題を解決するために鋭意研究を行った結果、(i)ガラス転移温度(Tg)が40〜60℃でありスチレン比率が70〜90重量%のスチレン系エラストマー樹脂100〜20重量%、及び(ii)ガラス転移温度(Tg)が30℃以下でありスチレン比率が7〜80重量%のスチレン系エラストマー樹脂0〜80重量%からなるスチレン系エラストマー樹脂組成物を含むダイシング用基体フイルムが、高い透明性及びラック回収性を有することを見出した。かかる知見に基づき、さらに研究を重ねて本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor has (i) a styrene elastomer resin 100 having a glass transition temperature (Tg) of 40 to 60 ° C. and a styrene ratio of 70 to 90% by weight. Dicing comprising -20% by weight and (ii) a styrene-based elastomer resin composition comprising 0-80% by weight of a styrene-based elastomer resin having a glass transition temperature (Tg) of 30 ° C. or less and a styrene ratio of 7-80% by weight It has been found that the substrate film for use has high transparency and rack recoverability. Based on this knowledge, further studies have been made and the present invention has been completed.
即ち、本発明は下記のダイシング用基体フイルムを提供する。 That is, the present invention provides the following substrate film for dicing.
項1.(i)ガラス転移温度が40〜60℃でありスチレン比率が70〜90重量%のスチレン系エラストマー樹脂(SE樹脂A)100〜20重量%、及び(ii)ガラス転移温度が30℃以下でありスチレン比率が7〜80重量%のスチレン系エラストマー樹脂(SE樹脂B)0〜80重量%からなるスチレン系エラストマー樹脂組成物(SE樹脂組成物)を含むダイシング用基体フイルム。 Item 1. (I) 100-20% by weight of a styrene elastomer resin (SE resin A) having a glass transition temperature of 40-60 ° C. and a styrene ratio of 70-90% by weight, and (ii) a glass transition temperature of 30 ° C. or less. A substrate film for dicing comprising a styrene elastomer resin composition (SE resin composition) comprising 0 to 80 wt% of a styrene elastomer resin (SE resin B) having a styrene ratio of 7 to 80 wt%.
項2.前記スチレン系エラストマー樹脂組成物全体のスチレン比率が40〜90重量%である項1に記載のダイシング用基体フイルム。 Item 2. Item 2. The substrate film for dicing according to Item 1, wherein the styrene ratio of the entire styrene-based elastomer resin composition is 40 to 90% by weight.
項3.前記スチレン系エラストマー樹脂組成物を含む層を少なくとも1層有する多層構成からなる項1又は2に記載のダイシング用基体フイルム。 Item 3. Item 3. The substrate film for dicing according to Item 1 or 2, comprising a multilayer structure having at least one layer containing the styrenic elastomer resin composition.
項4.前記ダイシング用基体フイルム上にさらに粘着剤層を有する項1〜3のいずれかに記載のダイシング用基体フイルム。 Item 4. Item 4. The substrate film for dicing according to any one of Items 1 to 3, further comprising an adhesive layer on the substrate film for dicing.
以下、本発明を詳細に説明する。
I.ダイシング用基体フイルム
本発明のダイシング用基体フイルムは、(i)ガラス転移温度が40〜60℃でありスチレン比率が70〜90重量%のスチレン系エラストマー樹脂(以下、「SE樹脂A」とも呼ぶ)100〜20重量%と、(ii)ガラス転移温度が30℃以下でありスチレン比率が7〜80重量%のスチレン系エラストマー樹脂(以下、「SE樹脂B」とも呼ぶ)0〜80重量%からなるスチレン系エラストマー樹脂組成物(以下、「SE樹脂組成物」とも呼ぶ)を含んでいる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
I. Dicing Substrate Film The dicing substrate film of the present invention is (i) a styrene elastomer resin having a glass transition temperature of 40 to 60 ° C. and a styrene ratio of 70 to 90% by weight (hereinafter also referred to as “SE resin A”). 100 to 20 wt%, and (ii) 0 to 80 wt% of a styrene elastomer resin (hereinafter also referred to as “SE resin B”) having a glass transition temperature of 30 ° C. or less and a styrene ratio of 7 to 80 wt%. A styrene elastomer resin composition (hereinafter also referred to as “SE resin composition”) is included.
本発明のダイシング用基体フイルムに含まれるSE樹脂組成物について説明する。該SE樹脂組成物は、SE樹脂A及びSE樹脂Bからなり、これらはスチレン系単量体とジエン系単量体との共重合体の水素添加物(以下、「水添共重合体」とも呼ぶ)からなる。 The SE resin composition contained in the dicing substrate film of the present invention will be described. The SE resin composition is composed of SE resin A and SE resin B, which are hydrogenated products (hereinafter referred to as “hydrogenated copolymers”) of copolymers of styrene monomers and diene monomers. Call).
スチレン系単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、1,1−ジフェニルエチレン、N,N−ジメチル−p−アミノエチルスチレン、N,N−ジエチル−p−アミノエチルスチレン等があげられ、これらは一種のみならず二種以上を使用してもよい。特にスチレンが好適である。 Examples of the styrene monomer include styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, divinylbenzene, 1,1-diphenylethylene, N, N-dimethyl-p-aminoethylstyrene, N, N-diethyl- Examples thereof include p-aminoethylstyrene, and these may be used alone or in combination of two or more. Styrene is particularly preferred.
また、ジエン系単量体は、1対の共役二重結合を有するジオレフィンであり、例えば1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ブタジエン(イソプレン)、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、2−メチル−1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエンなどであるが、特に一般的なものとしては1,3−ブタジエン、イソプレンが挙げられる。これらは一種のみならず二種以上を使用してもよい。特にブタジエンが好適である。 The diene monomer is a diolefin having a pair of conjugated double bonds, such as 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene (isoprene), 2,3-dimethyl-1. 1,3-butadiene, 1,3-pentadiene, 2-methyl-1,3-pentadiene, 1,3-hexadiene, etc., with 1,3-butadiene and isoprene being particularly common. These may be used alone or in combination of two or more. In particular, butadiene is preferred.
該水添共重合体は、スチレン系単量体とジエン系単量体とのランダム共重合体の水素添加物(以下、「水添ランダム共重合体」とも呼ぶ)、及び、スチレン系単量体とジエン系単量体とのブロック共重合体の水素添加物(以下、「水添ブロック共重合体」とも呼ぶ)のいずれをも含むものである。 The hydrogenated copolymer is a hydrogenated random copolymer of a styrene monomer and a diene monomer (hereinafter also referred to as “hydrogenated random copolymer”), and a styrene monomer. And a hydrogenated product of a block copolymer of a monomer and a diene monomer (hereinafter also referred to as “hydrogenated block copolymer”).
ここで、水添ランダム共重合体の具体例としては、式:−CH(C6H5)CH2−で示されるスチレン系単量体単位と、式:−CH2CH2CH2CH2−で示されるエチレン単位と、式:−CH(C2H5)CH2−で示されるブチレン単位とがランダムに結合している水添ランダム共重合体が挙げられる。 Here, specific examples of the hydrogenated random copolymer include a styrene monomer unit represented by the formula: —CH (C 6 H 5 ) CH 2 — and a formula: —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2. - ethylene unit represented by the formula: -CH (C 2 H 5) CH 2 - hydrogenated butylene units are randomly bonded represented by random copolymers.
水添ランダム共重合体は、例えば、特開2004−59741号公報に記載の方法により、或いはこれに準じて製造することができる。 The hydrogenated random copolymer can be produced, for example, by the method described in JP-A No. 2004-59741 or according thereto.
また、水添ブロック共重合体としては、該共重合体の一端又は両末端にスチレン系単量体由来のブロックセグメントを有しさらにジエン系単量体由来のブロックセグメントを有するもの、或いはこれらをブレンドしたもの等が挙げられる。 The hydrogenated block copolymer has a block segment derived from a styrene monomer at one or both ends of the copolymer, and further has a block segment derived from a diene monomer, or these Blended ones are listed.
水添ブロック共重合体としては、例えば、該共重合体の一端に、式:−CH(C6H5)CH2−で示されるスチレン系単量体由来のブロックセグメントを有し、その中程に、式:−CH2CH2CH2CH2−で示されるエチレン単位、及び/又は、式:−CH(C2H5)CH2−で示されるブチレン単位を含むブロックセグメントを有し、該共重合体の他端に、式:−CH2CH2CH2CH2−で示されるエチレン単位を含むセグメントを有する水添ブロック共重合体が挙げられる。上記の様な水添ブロック共重合体の具体例としては、SEBCが例示される。 The hydrogenated block copolymer has, for example, a block segment derived from a styrenic monomer represented by the formula: —CH (C 6 H 5 ) CH 2 — at one end of the copolymer, The block segment includes an ethylene unit represented by the formula: —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 — and / or a butylene unit represented by the formula: —CH (C 2 H 5 ) CH 2 —. And a hydrogenated block copolymer having a segment containing an ethylene unit represented by the formula: —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 — at the other end of the copolymer. As a specific example of the hydrogenated block copolymer as described above, SEBC is exemplified.
他の水添ブロック共重合体として、例えば、該共重合体の両末端に、スチレン系単量体由来のブロックセグメントを有し、その中程に、式:−CH2CH2CH2CH2−で示されるエチレン単位、及び/又は、式:−CH(C2H5)CH2−で示されるブチレン単位を含むブロックセグメントを有する水添ブロック共重合体が挙げられる。上記の様な水添ブロック共重合体の具体例としては、SEBSが例示される。 As another hydrogenated block copolymer, for example, it has a block segment derived from a styrenic monomer at both ends of the copolymer, and has a formula: —CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 in the middle thereof. - ethylene units represented by, and / or the formula: -CH (C 2 H 5) CH 2 - hydrogenated block copolymer having a block segment comprising a butylene unit represented by like. As a specific example of the hydrogenated block copolymer as described above, SEBS is exemplified.
かかる水添共重合体のうち、柔軟性、透明性等の点から、水添ランダム共重合体が好適である。 Among such hydrogenated copolymers, a hydrogenated random copolymer is preferable from the viewpoint of flexibility, transparency, and the like.
SE樹脂Aは、かかる水添共重合体であって、スチレン系単量体単位の含有量(スチレン比率)が、通常70〜90重量%、好ましくは70〜80重量%、より好ましくは75〜80重量%であり、また、ジエン系単量体単位の含有量(ジエン比率)が、通常30〜10重量%、好ましくは30〜20重量%、より好ましくは25〜20重量%である。スチレン系単量体単位の含有量は、紫外分光光度計又は核磁気共鳴装置(NMR)を用いて、ジエン系単量体単位の含有量は、核磁気共鳴装置(NMR)を用いて測定することができる。また、SE樹脂Aのガラス転移温度(Tg)は、40〜60℃程度、好ましくは40〜55℃程度である。ガラス転移温度(Tg)は、示差走査熱量測定法(DSC法)により測定する。また、SE樹脂Aの重量平均分子量(Mw)は、市販の標準ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて測定でき、例えば、10万〜50万程度、好ましくは15万〜30万程度である。 SE resin A is such a hydrogenated copolymer, and the content of styrene monomer units (styrene ratio) is usually 70 to 90% by weight, preferably 70 to 80% by weight, more preferably 75 to 75%. The content (diene ratio) of the diene monomer unit is usually 30 to 10% by weight, preferably 30 to 20% by weight, and more preferably 25 to 20% by weight. The content of styrene monomer units is measured using an ultraviolet spectrophotometer or a nuclear magnetic resonance apparatus (NMR), and the content of diene monomer units is measured using a nuclear magnetic resonance apparatus (NMR). be able to. Moreover, the glass transition temperature (Tg) of SE resin A is about 40-60 degreeC, Preferably it is about 40-55 degreeC. The glass transition temperature (Tg) is measured by differential scanning calorimetry (DSC method). Moreover, the weight average molecular weight (Mw) of SE resin A can be measured using commercially available standard gel permeation chromatography (GPC), for example, about 100,000 to 500,000, preferably about 150,000 to 300,000. .
また、SE樹脂Bは、かかる水添共重合体であって、スチレン系単量体単位の含有量(スチレン比率)が、通常7〜80重量%、好ましくは10〜70重量%、より好ましくは20〜70重量%であり、また、ジエン系単量体単位の含有量(ジエン比率)が、通常20〜93重量%、好ましくは30〜90重量%、より好ましくは30〜80重量%である。また、SE樹脂Bのガラス転移温度(Tg)は、30℃以下、好ましくは−40〜20℃程度である。また、SE樹脂Bの重量平均分子量(Mw)は、GPC法により測定して、10万〜50万程度、好ましくは15万〜30万程度である。 SE resin B is such a hydrogenated copolymer, and the content of styrene monomer units (styrene ratio) is usually 7 to 80% by weight, preferably 10 to 70% by weight, more preferably. The content of the diene monomer units (diene ratio) is usually 20 to 93% by weight, preferably 30 to 90% by weight, more preferably 30 to 80% by weight. . The glass transition temperature (Tg) of the SE resin B is 30 ° C. or less, preferably about −40 to 20 ° C. Moreover, the weight average molecular weight (Mw) of SE resin B is about 100,000 to 500,000, preferably about 150,000 to 300,000 as measured by GPC method.
さらに、SE樹脂A及びSE樹脂BからなるSE樹脂組成物は、その組成物全体中のスチレン比率が40〜90重量%、さらに50〜80重量%であることが好ましい。この範囲であると、拡張性と収縮復元性が良好となるためである。 Furthermore, the SE resin composition comprising SE resin A and SE resin B preferably has a styrene ratio of 40 to 90% by weight, more preferably 50 to 80% by weight, in the entire composition. This is because in this range, expandability and shrinkage recovery properties are improved.
本発明で使用するSE樹脂A又はSE樹脂Bは、スチレン系単量体とジエン系単量体からなる共重合物を、公知の方法により水素添加(例えば、ニッケル触媒等)した水素添加物である。これにより、耐熱性、耐薬品性、耐久性等に優れたより安定な樹脂になるからである。SE樹脂A又はSE樹脂Bの水添率は、共重合体中の共役ジエン化合物に基づく二重結合の85%以上、好ましくは90%以上、より好ましくは95%以上である。この水添率は、核磁気共鳴装置(NMR)を用いて測定できる。 The SE resin A or SE resin B used in the present invention is a hydrogenated product obtained by hydrogenating a copolymer composed of a styrene monomer and a diene monomer by a known method (for example, a nickel catalyst). is there. This is because it becomes a more stable resin excellent in heat resistance, chemical resistance, durability and the like. The hydrogenation rate of SE resin A or SE resin B is 85% or more, preferably 90% or more, more preferably 95% or more of the double bond based on the conjugated diene compound in the copolymer. This hydrogenation rate can be measured using a nuclear magnetic resonance apparatus (NMR).
本発明におけるSE樹脂組成物中の、SE樹脂AとSE樹脂Bの含有割合は、上記したように、SE樹脂Aが100〜20重量%、SE樹脂Bが0〜80重量%であり、好ましくはSE樹脂Aが90〜30重量%、SE樹脂Bが10〜70重量%であり、より好ましくはSE樹脂Aが80〜40重量%、SE樹脂Bが20〜60重量%である。かかる範囲であれば、透明性及びラック回収性に優れたフイルムとなる。SE樹脂Aが20重量%未満でSE樹脂Bが80重量%を越えると収縮による復元性が低下するため好ましくない。 In the SE resin composition of the present invention, the content ratio of SE resin A and SE resin B is 100 to 20% by weight of SE resin A and 0 to 80% by weight of SE resin B, as described above. SE resin A is 90 to 30% by weight, SE resin B is 10 to 70% by weight, more preferably SE resin A is 80 to 40% by weight, and SE resin B is 20 to 60% by weight. If it is this range, it will become a film excellent in transparency and rack recoverability. When SE resin A is less than 20% by weight and SE resin B exceeds 80% by weight, the restorability due to shrinkage is undesirably lowered.
本発明において、水素添加前の共重合体は、例えば、スチレン系単量体とジエン系単量体を、n−ヘキサン等の炭化水素溶媒中で、有機アルカリ金属化合物(n−ブチルリチウム)等の開始剤を用いてアニオンリビング重合して製造できる。 In the present invention, the copolymer before hydrogenation is, for example, a styrene monomer and a diene monomer in a hydrocarbon solvent such as n-hexane, an organic alkali metal compound (n-butyllithium), etc. Can be produced by anionic living polymerization using the initiator.
スチレン系単量体とジエン系単量体との共重合体は、公知の方法を採用して調整することができ、例えば、調整剤としてN,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン等の第3級アミン化合物、又はエーテル化合物を添加することができる。共重合する方法は、バッチ重合であっても連続重合であってもよい。重合温度は、一般に0℃乃至180℃、好ましくは30℃乃至150℃である。重合に要する時間は条件によって異なるが、通常は48時間以内であり、特に好適には0.1乃至10時間である。又、重合系の雰囲気は窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気にすることが好ましい。重合圧力は、上記重合温度範囲でモノマー及び溶媒を液相に維持するに充分な圧力の範囲で行えばよく、特に限定されるものではない。なお、ランダム共重合体とブロック共重合体は、原料の添加のタイミングを制御するなどして、公知の方法により容易に製造できる。例えば、ブロック共重合体の場合は、スチレン系単量体及びジエン系単量体のそれぞれのセグメントを段階的に重合すればよく、また、ランダム共重合体の場合は、スチレン系単量体及びジエン系単量体を一度に共重合させればよい。 A copolymer of a styrene monomer and a diene monomer can be adjusted by employing a known method, for example, N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine as a regulator. A tertiary amine compound or an ether compound can be added. The copolymerization method may be batch polymerization or continuous polymerization. The polymerization temperature is generally 0 ° C. to 180 ° C., preferably 30 ° C. to 150 ° C. Although the time required for the polymerization varies depending on the conditions, it is usually within 48 hours, particularly preferably 0.1 to 10 hours. The polymerization atmosphere is preferably an inert gas atmosphere such as nitrogen gas. The polymerization pressure is not particularly limited as long as the polymerization pressure is in a range sufficient to maintain the monomer and solvent in a liquid phase within the above polymerization temperature range. The random copolymer and the block copolymer can be easily produced by a known method, for example, by controlling the timing of addition of raw materials. For example, in the case of a block copolymer, each segment of a styrene monomer and a diene monomer may be polymerized stepwise, and in the case of a random copolymer, a styrene monomer and A diene monomer may be copolymerized at once.
上記で得られた共重合体を水素添加することにより、本発明の水添共重合体等が得られる。水添触媒としては、特に制限されず、従来から公知である、例えば、(1)Ni、Pt、Pd、Ru等の金属をカーボン、シリカ、アルミナ、ケイソウ土等に担持させた担持型不均一系水添触媒、(2)Ni、Co、Fe、Cr等の有機酸塩又はアセチルアセトン塩などの遷移金属塩と有機アルミニュウム等の還元剤とを用いる、いわゆるチーグラー型水添触媒、(3)Ti、Ru、Rh、Zr等の有機金属化合物等のいわゆる有機金属錯体等の均一系水添触媒が用いられる。 By hydrogenating the copolymer obtained above, the hydrogenated copolymer of the present invention is obtained. The hydrogenation catalyst is not particularly limited and is conventionally known. For example, (1) supported heterogeneity in which a metal such as Ni, Pt, Pd, Ru is supported on carbon, silica, alumina, diatomaceous earth, or the like. (2) so-called Ziegler-type hydrogenation catalysts using (2) organic acid salts such as Ni, Co, Fe, Cr, transition metal salts such as acetylacetone salts and reducing agents such as organic aluminum, and (3) Ti Homogeneous hydrogenation catalysts such as so-called organometallic complexes such as organometallic compounds such as Ru, Rh and Zr are used.
水添反応は一般的に30〜150℃程度の温度範囲で実施される。水添反応に使用される水素の圧力は0.1から15MPaが推奨される。また、水添反応時間は通常3分〜10時間程度である。水添反応は、バッチプロセス、連続プロセス、或いはそれらの組み合わせのいずれでも用いることができる。かくして、本発明の水添共重合体(SE樹脂)が製造される。本発明の水添共重合体等には、各種フェノール系安定剤、リン系安定剤、イオウ系安定剤、アミン系安定剤等の安定剤を添加することができる。 The hydrogenation reaction is generally carried out in a temperature range of about 30 to 150 ° C. The pressure of hydrogen used for the hydrogenation reaction is recommended to be 0.1 to 15 MPa. The hydrogenation reaction time is usually about 3 minutes to 10 hours. The hydrogenation reaction can be any of a batch process, a continuous process, or a combination thereof. Thus, the hydrogenated copolymer (SE resin) of the present invention is produced. Stabilizers such as various phenol stabilizers, phosphorus stabilizers, sulfur stabilizers and amine stabilizers can be added to the hydrogenated copolymer of the present invention.
なお、「SE樹脂A」と「SE樹脂B」の作り分けは、重合させる際のスチレン系単量体の含有量、ジエン系単量体の含有量等を上記範囲に調節することにより、また製造条件を適宜選択することにより可能である。 The “SE resin A” and the “SE resin B” can be separately prepared by adjusting the content of the styrene monomer, the content of the diene monomer, and the like in the above range, This is possible by appropriately selecting the manufacturing conditions.
本発明のダイシング用基体フイルムは、上記のように所定割合のSE樹脂A及びSE樹脂BからなるSE樹脂組成物を有しているため、高い透明性を有し、かつ、熱収縮性に優れるためラック回収性に優れている。 Since the substrate film for dicing of the present invention has the SE resin composition composed of SE resin A and SE resin B at a predetermined ratio as described above, it has high transparency and excellent heat shrinkability. Therefore, the rack recoverability is excellent.
本発明のダイシング用基体フイルムの透明性(ヘイズ値;JIS−Z−8741)は、0.5〜15%程度、好ましくは0.8〜10%程度である。これにより、ダイシング後の該半導体ウエハチップの目視検査が容易に行われる。 The transparency (haze value; JIS-Z-8741) of the substrate film for dicing of the present invention is about 0.5 to 15%, preferably about 0.8 to 10%. This facilitates visual inspection of the semiconductor wafer chip after dicing.
また、本発明のダイシング用基体フイルムは、優れた温風復元性(即ち加熱収縮性)を有している。具体的には、フイルム拡張(エキスパンド)後の荷重を抜いて60℃の温風を10秒間吹き付けた時の復元率が95%以上、好ましくは98%以上、より好ましくは100%以上となる。そのため、加熱(温風)による収縮が速やかに行われ、しかもラックに容易に収納できるサイズにまで収縮する。つまり拡張前のフイルムのサイズに復元できるのである。しかも、50〜80℃程度の比較的低い加熱条件で、しかも5〜20秒程度の短時間で復元できるため、迅速かつ低コストでの処理が可能である。復元率の測定は、実施例の項を参照すればよい。 In addition, the substrate film for dicing of the present invention has excellent warm air restoring properties (that is, heat shrinkability). Specifically, the restoration rate is 95% or higher, preferably 98% or higher, more preferably 100% or higher when the load after film expansion (expanding) is removed and hot air of 60 ° C. is blown for 10 seconds. Therefore, contraction by heating (warm air) is performed quickly, and further contracts to a size that can be easily stored in a rack. In other words, it can be restored to the size of the film before expansion. In addition, since it can be restored in a relatively short heating time of about 5 to 20 seconds under relatively low heating conditions of about 50 to 80 ° C., it is possible to perform processing quickly and at low cost. The measurement of the restoration rate may be referred to the example section.
従来のポリオレフィン等からなるダイシング用基体フイルムでは、温風復元性は復元率75%以下であり、満足できるものではなかったことを考慮すると、本発明のダイシング用基体フイルムの温風復元性は顕著である。 In the conventional substrate film for dicing made of polyolefin or the like, the warm air restoration property is 75% or less, and considering that it is not satisfactory, the warm air restoration property of the dicing substrate film of the present invention is remarkable. It is.
しかも、該フイルムの拡張が大きい場合(例えば1.05〜2.00倍程度)であっても、上記した高い温風復元性(復元率が95%以上)が発揮されるため、ウエハがより小サイズにカット化される場合のフイルムのラック回収性に優れている。 In addition, even when the film is greatly expanded (for example, about 1.05 to 2.00 times), the above-described high hot air recovery property (recovery rate is 95% or more) is exhibited. Excellent rack recoverability of film when cut into small size.
また、本発明のダイシング用基体フイルムは、優れた耐ブロッキング性をも有している。 The substrate film for dicing according to the present invention also has excellent blocking resistance.
本発明のダイシング用基体フイルムの層厚は、少なくともダイサーの切り込み深さよりも厚くし、且つ容易にロ−ル状に巻くことができる程度であれば良く、例えば、80〜300μm程度、好ましくは80〜250μm程度であればよい。 The layer thickness of the substrate film for dicing according to the present invention should be at least thicker than the cut depth of the dicer and can be easily wound in a roll shape, for example, about 80 to 300 μm, preferably 80. It may be about ˜250 μm.
以上のように、SE樹脂組成物を含む単層のダイシング用基体フイルムについて述べてきたが、同種又は異種の複数のSE樹脂組成物を積層して多層のダイシング用基体フイルムとすることも可能である。あるいは、本発明のフイルムの作用効果に悪影響を与えない範囲で、SE樹脂組成物層(単層又は多層)に他の樹脂を積層した多層のダイシング用基体フイルムとしても良い。他の樹脂としては、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリメチルペンテン系樹脂、環状オレフィン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂が例示され、特にポリエチレン系樹脂が好適である。なお、フイルムの多層化はいずれも公知の方法を用いて行うことができる。 As described above, the single-layer dicing substrate film containing the SE resin composition has been described, but it is also possible to laminate a plurality of same or different SE resin compositions into a multi-layer dicing substrate film. is there. Alternatively, a multi-layer substrate film for dicing in which another resin is laminated on the SE resin composition layer (single layer or multilayer) may be used as long as the effect of the film of the present invention is not adversely affected. Examples of other resins include polyolefin resins such as polyethylene resins, polypropylene resins, polymethylpentene resins, and cyclic olefin resins, and polyethylene resins are particularly preferable. In addition, all of multilayering of a film can be performed using a well-known method.
多層構造のダイシング用基体フイルムの具体例としては、例えば次のような多層構造の形態が例示される。
SE樹脂組成物層/SE樹脂組成物層、
SE樹脂組成物層/SE樹脂組成物層/SE樹脂組成物層、
SE樹脂組成物層(SE樹脂Aのみの場合を含む)/ポリオレフィン系樹脂層、
SE樹脂A層/SE樹脂B層/SE樹脂A層、又は
SE樹脂A層/SE樹脂B層/ポリオレフィン系樹脂層。
As a specific example of the substrate film for dicing having a multilayer structure, the following multilayer structure is exemplified.
SE resin composition layer / SE resin composition layer,
SE resin composition layer / SE resin composition layer / SE resin composition layer,
SE resin composition layer (including SE resin A only) / polyolefin resin layer,
SE resin A layer / SE resin B layer / SE resin A layer, or SE resin A layer / SE resin B layer / polyolefin-based resin layer.
なお、上記の多層構造中に2以上のSE樹脂組成物層、SE樹脂A層等を含む場合は、それらの組成はそれぞれ同一又は異なる種類のものであってもよい。 In addition, when two or more SE resin composition layers, SE resin A layers, and the like are included in the multilayer structure, the compositions thereof may be the same or different types.
多層ダイシング用基体フイルムの全厚さは、少なくともダイサーの切り込み深さよりも厚くし、且つ容易にロ−ル状に巻くことができる程度であれば良く、例えば、80〜300μm程度、好ましくは80〜250μm程度であればよい。そのうちSE樹脂組成物層、SE樹脂A層及びSE樹脂B層の合計の厚さは、フイルム全厚さの75〜100%、好ましくは85〜100%であることが、温風復元性の点で好ましい。 The total thickness of the substrate film for multi-layer dicing may be at least thicker than the cutting depth of the dicer and can be easily wound in a roll shape, for example, about 80 to 300 μm, preferably 80 to What is necessary is just about 250 micrometers. Among them, the total thickness of the SE resin composition layer, the SE resin A layer, and the SE resin B layer is 75 to 100%, preferably 85 to 100% of the total film thickness. Is preferable.
なお、ポリオレフィン系樹脂を最外層に含む多層ダイシング用基体フイルムでは、耐ブロッキング性が飛躍的に向上するため、フイルム製造後の品質が保持されるというメリットがある。 The multilayer dicing substrate film containing the polyolefin resin as the outermost layer has a merit that the quality after film production is maintained because the blocking resistance is remarkably improved.
本発明のダイシング用基体フイルムの製造方法は、次の通りである。上記した所定量のSE樹脂A及びSE樹脂Bをドライブレンド又は溶融混練して均一に混合分散する。次に、得られた混合物をスクリュー式押出機に供給し、200〜225℃で単層Tダイからフイルム状に押出し、これを50〜70℃の冷却ロ−ルに通しながら冷却して実質的に無延伸で引き取る。 The manufacturing method of the substrate film for dicing according to the present invention is as follows. The above-mentioned predetermined amounts of SE resin A and SE resin B are uniformly blended and dispersed by dry blending or melt-kneading. Next, the obtained mixture is supplied to a screw type extruder, extruded from a single-layer T die at 200 to 225 ° C., and cooled while passing through a cooling roll at 50 to 70 ° C. Take it unstretched.
多層ダイシング用基体フイルムの場合は、多層共押出成形法を採用する。具体的には、上記した所定量のSE樹脂A及びSE樹脂Bをドライブレンド又は溶融混練して均一に混合分散する。また、他の樹脂をドライブレンド又は溶融混練して均一に混合分散する。次に、得られた各混合物をスクリュー式押出機に供給し、200〜225℃で多層Tダイからフイルム状に押出し、これを50〜70℃の冷却ロ−ルに通しながら冷却して実質的に無延伸で引き取る。 In the case of a substrate film for multilayer dicing, a multilayer coextrusion molding method is adopted. Specifically, the above-mentioned predetermined amounts of SE resin A and SE resin B are uniformly blended and dispersed by dry blending or melt kneading. Further, other resins are dry blended or melt kneaded to uniformly mix and disperse. Next, each obtained mixture is supplied to a screw type extruder, extruded from a multilayer T die at 200 to 225 ° C., and cooled while passing through a cooling roll at 50 to 70 ° C. Take it unstretched.
ここで、実質的に無延伸とするのは、ダイシング後に行うフイルムの拡張を有効に行うためである。この実質的に無延伸とは、無延伸、或いは、ダイシングフイルムの拡張に悪影響を与えない程度の僅少の延伸を含むものである。通常、フイルム引き取りの際に、たるみの生じない程度の引っ張りであればよい。
II.ダイシングフイルム
上記により得られるダイシング用基体フイルムは、そのフイルム上に公知の粘着剤をコートして粘着剤層が形成され、さらに該粘着剤層上に離型層が形成されて、本発明のダイシングフイルムが製造される。このフイルムは、通常テープ状にカットされたロール巻き状態で取得される。
Here, the reason why the film is substantially unstretched is to effectively extend the film after dicing. This substantially non-stretching includes non-stretching or slight stretching that does not adversely affect the expansion of the dicing film. In general, the film may be pulled to such an extent that no sagging occurs during film take-up.
II. Dicing film The substrate film for dicing obtained as described above is coated with a known pressure-sensitive adhesive on the film to form a pressure-sensitive adhesive layer, and a release layer is further formed on the pressure-sensitive adhesive layer. A film is produced. This film is usually obtained in a rolled state cut into a tape shape.
粘着剤層で用いられる粘着剤成分としては、公知のものが用いられ、例えば、特開平5−211234号公報等に記載された粘着剤成分を用いることができる。なお、離型層も公知のものが用いられる。 As the pressure-sensitive adhesive component used in the pressure-sensitive adhesive layer, known ones are used. For example, the pressure-sensitive adhesive component described in JP-A No. 5-21234 can be used. A known release layer is also used.
この粘着剤層を構成する粘着剤としては、アクリル系粘着剤が好ましく、具体的には、(メタ)アクリル酸エステルを主たる構成単量体単位とする単独重合体および共重合体から選ばれたアクリル系重合体、その他の官能性単量体との共重合体、およびこれら重合体の混合物が用いられる。例えば、(メタ)アクリル酸エステルとしては、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸2−ヒドロキシエチルなどが好ましく使用できる。アクリル系重合体の分子量は、1.0×105〜10.0×105であり、好ましくは、4.0×105〜8.0×105である。 The pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer is preferably an acrylic pressure-sensitive adhesive. Specifically, the pressure-sensitive adhesive layer was selected from a homopolymer and a copolymer having (meth) acrylic acid ester as a main constituent monomer unit. Acrylic polymers, copolymers with other functional monomers, and mixtures of these polymers are used. For example, (meth) acrylic acid ester includes ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, Glycidyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate and the like can be preferably used. The molecular weight of the acrylic polymer is 1.0 × 10 5 to 10.0 × 10 5 , and preferably 4.0 × 10 5 to 8.0 × 10 5 .
また、上記のような粘着剤層中に放射線重合性化合物を含ませることによって、ウエハを切断分離した後、該粘着剤層に放射線を照射することによって、粘着力を低下させることができる。このような放射線重合性化合物としては、たとえば、光照射によって三次元網状化しうる分子内に光重合性炭素−炭素二重結合を少なくとも2個以上有する低分子量化合物が広く用いられる(例えば、特開昭60−196,956号公報、特開昭60−223,139号公報等)。 In addition, by including a radiation polymerizable compound in the pressure-sensitive adhesive layer as described above, the adhesive strength can be reduced by irradiating the pressure-sensitive adhesive layer with radiation after the wafer is cut and separated. As such a radiation polymerizable compound, for example, a low molecular weight compound having at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds in a molecule that can be three-dimensionally reticulated by light irradiation is widely used (for example, JP JP-A-60-196,956, JP-A-60-223,139, etc.).
具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートあるいは1,4−ブチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、市販のオリゴエステルアクリレートなどが用いられる。 Specifically, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate or 1,4-butylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, commercially available oligoester acrylate, and the like are used.
さらに、放射線重合性化合物として、上記のようなアクリレート系化合物のほかに、ウレタンアクリレート系オリゴマーを用いることもできる。ウレタンアクリレート系オリゴマーは、ポリエステル型またはポリエーテル型などのポリオール化合物と、多価イソシアネート化合物とを反応させて得られる末端イソシアネートウレタンプレポリマーに、ヒドロキシル基を有するアクリレートあるいはメタクリレートを反応させて得られる。このウレタンアクリレート系オリゴマーは、炭素−炭素二重結合を少なくとも1個以上有する放射線重合性化合物である。 Furthermore, in addition to the acrylate compounds as described above, urethane acrylate oligomers can also be used as the radiation polymerizable compound. The urethane acrylate oligomer is obtained by reacting an acrylate or methacrylate having a hydroxyl group with a terminal isocyanate urethane prepolymer obtained by reacting a polyol compound such as polyester type or polyether type with a polyvalent isocyanate compound. This urethane acrylate oligomer is a radiation polymerizable compound having at least one carbon-carbon double bond.
さらに、粘着剤層中には、上記のような粘着剤と放射線重合性化合物とに加えて、必要に応じ、放射線照射により着色する化合物(ロイコ染料等)、光散乱性無機化合物粉末、砥粒(粒径0.5〜100μm程度)、イソシアネート系硬化剤、UV開始剤等を含有させることもできる。 Further, in the pressure-sensitive adhesive layer, in addition to the pressure-sensitive adhesive and the radiation-polymerizable compound as described above, a compound (such as a leuco dye) that is colored by radiation irradiation, a light-scattering inorganic compound powder, and abrasive grains, as necessary. (A particle size of about 0.5 to 100 μm), an isocyanate curing agent, a UV initiator, and the like can also be contained.
上記のようにアクリル系粘着剤を含む粘着剤層を設ける場合は、研削屑の低減及びダイシング用基体フイルムと粘着剤層との接着性の点から、ダイシング用基体フイルムとの接着する層にアクリル系樹脂を含有させるのが好ましい。アクリル系樹脂としては、良好なダイシングフイルムの温風復元性(復元率が95%以上)を得るためには、軟質のアクリル系樹脂が好ましい。軟質アクリル系樹脂は、ガラス転移温度(Tg)が40〜70℃程度、デュロメータ-A硬度が40〜95℃であるものが好ましく、具体例として、(株)クラレ製の軟質アクリル樹脂「パラペットSA」等が例示される。 When the pressure-sensitive adhesive layer containing an acrylic pressure-sensitive adhesive is provided as described above, acrylic is applied to the layer to be bonded to the dicing substrate film from the viewpoint of reduction of grinding dust and adhesion between the substrate film for dicing and the pressure-sensitive adhesive layer. It is preferable to contain a resin. As the acrylic resin, a soft acrylic resin is preferable in order to obtain a good hot air restoring property (restoration rate of 95% or more) of the dicing film. The soft acrylic resin preferably has a glass transition temperature (Tg) of about 40 to 70 ° C. and a durometer-A hardness of 40 to 95 ° C. As a specific example, a soft acrylic resin “Parapet SA” manufactured by Kuraray Co., Ltd. And the like are exemplified.
ダイシング用基体フイルムに含まれるアクリル系樹脂の含有量は、ダイシング用基体フイルムが単層の場合は、例えば、該単層中のSE樹脂組成物100重量部に対し5〜50重量部程度、好ましくは5〜30重量部程度のアクリル系樹脂が含まれていることが好ましい。アクリル系樹脂の含有量が多すぎると、ダイシング用基体フイルムの透明性が低下する傾向があるため、上記の範囲とすることが好ましい。 When the substrate film for dicing is a single layer, the content of the acrylic resin contained in the substrate film for dicing is, for example, about 5 to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the SE resin composition in the single layer. It is preferable that about 5 to 30 parts by weight of an acrylic resin is included. If the content of the acrylic resin is too large, the transparency of the substrate film for dicing tends to be lowered, so the above range is preferable.
また、ダイシング用基体フイルムが多層の場合は、粘着剤層と接する層中に、アクリル系樹脂を含有させればよい。該基体フイルムの透明性を考慮して、該粘着剤層と接する層中に含まれるSE樹脂組成物100重量部に対し5〜65重量部程度、好ましくは5〜50重量部程度のアクリル系樹脂が含まれていることが好ましい。 When the substrate film for dicing is a multilayer, an acrylic resin may be contained in the layer in contact with the pressure-sensitive adhesive layer. Considering the transparency of the base film, the acrylic resin is about 5 to 65 parts by weight, preferably about 5 to 50 parts by weight, based on 100 parts by weight of the SE resin composition contained in the layer in contact with the pressure-sensitive adhesive layer. Is preferably included.
本発明のダイシング用基体フイルムは、透明性に優れ、かつ、熱による復元性が高いためラック回収性に優れている。 The substrate film for dicing of the present invention is excellent in rack recoverability due to excellent transparency and high resilience by heat.
以下に、本発明を、実施例及び比較例を用いてより詳細に説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail using Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
製造例1(SE樹脂B)
内容積が10Lの攪拌装置及びジャケット付き槽型反応器を2基使用して連続重合を行った。1基目の反応器の底部から、ブタジエン濃度が24重量%のシクロヘキサン溶液を4.51L/hrの供給速度で、スチレン濃度が24重量%のシクロヘキサン溶液を5.97L/hrの供給速度で,またn−ブチルリチウムをモノマ−100gに対して0.077gになるような濃度に調整したシクロヘキサン溶液を2.0L/hrの供給速度で、更にN,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミンのシクロヘキサン溶液をn−ブチルリチウム1モルに対して0.44モルになるような供給速度でそれぞれ供給し、90℃で連続重合した。反応温度はジャケット温度で調整し、反応器の底部付近の温度は約88℃、反応器の上部付近の温度は約90℃であった。重合反応器における平均滞留時間は、約45分であり、ブタジエンの転化率はほぼ100%,スチレンの転化率は99%であった。
Production Example 1 (SE resin B)
Continuous polymerization was carried out using a stirring device having an internal volume of 10 L and two jacketed tank reactors. From the bottom of the first reactor, a cyclohexane solution having a butadiene concentration of 24% by weight at a feeding rate of 4.51 L / hr and a cyclohexane solution having a styrene concentration of 24% by weight at a feeding rate of 5.97 L / hr, A cyclohexane solution prepared by adjusting the concentration of n-butyllithium to 0.077 g with respect to 100 g of monomer at a supply rate of 2.0 L / hr and further N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine The cyclohexane solution was fed at a feed rate of 0.44 mole per mole of n-butyllithium, and continuously polymerized at 90 ° C. The reaction temperature was adjusted by the jacket temperature, the temperature near the bottom of the reactor was about 88 ° C., and the temperature near the top of the reactor was about 90 ° C. The average residence time in the polymerization reactor was about 45 minutes, the conversion of butadiene was almost 100%, and the conversion of styrene was 99%.
1基目から出たポリマー溶液を2基目の底部から供給し、同時に,スチレン濃度が24重量%のシクロヘキサン溶液を2.38L/hrの供給速度で2基目の底部に供給し,90℃で連続重合してランダム共重合体を得た。2基目出口でのスチレンの転化率は98%であった。 The polymer solution from the first unit is supplied from the bottom of the second unit, and at the same time, a cyclohexane solution having a styrene concentration of 24% by weight is supplied to the bottom of the second unit at a supply rate of 2.38 L / hr. The polymer was continuously polymerized to obtain a random copolymer. The conversion rate of styrene at the second outlet was 98%.
連続重合で得られたポリマーをNMRを用いて分析したところ、スチレン含有量は65重量%であった。 When the polymer obtained by continuous polymerization was analyzed using NMR, the styrene content was 65% by weight.
窒素置換した反応容器に乾燥、精製したシクロヘキサン1リットルを仕込み、ビス(η5−シクロペンタジエニル)チタニウムジクロリド100ミリモルを添加し、十分に攪拌しながらトリメチルアルミニウム200ミリモルを含むn−ヘキサン溶液を添加して、室温にて約3日間反応させて、水添反応に用いる水添触媒を調製した。 Charge 1 liter of dried and purified cyclohexane to a nitrogen-substituted reaction vessel, add 100 mmol of bis (η5-cyclopentadienyl) titanium dichloride, and add n-hexane solution containing 200 mmol of trimethylaluminum with thorough stirring. Then, a hydrogenation catalyst used for the hydrogenation reaction was prepared by reacting at room temperature for about 3 days.
次に、連続重合で得られたポリマーに、上記水添触媒をポリマー100重量部当たりTiとして100ppm添加し、水素圧0.7MPa、温度65℃で水添反応を行った。 Next, 100 ppm of the hydrogenation catalyst as Ti per 100 parts by weight of the polymer was added to the polymer obtained by continuous polymerization, and a hydrogenation reaction was performed at a hydrogen pressure of 0.7 MPa and a temperature of 65 ° C.
その後メタノールを添加し、次に安定剤としてオクタデシル−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネートを重合体100質量部に対して0.3質量部添加した。 Methanol was then added, and then 0.3 parts by weight of octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate as a stabilizer was added to 100 parts by weight of the polymer.
得られた水添共重合体は、水添率99%、重量平均分子量19万、分子量分布1.4であった。また,DSCで求めたガラス転移温度(Tg)は,15℃であった。得られた水添重合体(SE樹脂Bに相当)の特性を表1に示す。 The obtained hydrogenated copolymer had a hydrogenation rate of 99%, a weight average molecular weight of 190,000, and a molecular weight distribution of 1.4. The glass transition temperature (Tg) determined by DSC was 15 ° C. Table 1 shows the characteristics of the obtained hydrogenated polymer (corresponding to SE resin B).
製造例2(SE樹脂A)
1基目と2基目に供給するスチレンの供給量を変えること以外は、製造例1と同様に処理して、水添ランダム重合体(SE樹脂Aに相当)を製造した。スチレン含有量は75重量%、水添率99%、重量平均分子量21万、分子量分布1.9であった。また,DSCで求めたガラス転移温度(Tg)は,50℃であった。得られた水添重合体(SE樹脂Aに相当)の特性を表1に示す。
Production Example 2 (SE Resin A)
A hydrogenated random polymer (corresponding to SE resin A) was produced in the same manner as in Production Example 1 except that the amount of styrene fed to the first group and the second group was changed. The styrene content was 75% by weight, the hydrogenation rate was 99%, the weight average molecular weight was 210,000, and the molecular weight distribution was 1.9. The glass transition temperature (Tg) determined by DSC was 50 ° C. The characteristics of the obtained hydrogenated polymer (corresponding to SE resin A) are shown in Table 1.
製造例3(SE樹脂B)
内容積が10Lの攪拌装置及びジャケット付き槽型反応器にスチレン33.5質量部を含むシクロヘキサン溶液(濃度20重量%)を投入した。次いでn−ブチルリチウムとN,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミンを添加し、70℃で1時間重合した後、ブタジエン33質量部を含むシクロヘキサン溶液を加えて70℃で1時間重合し、さらにスチレン33.5質量部を含むシクロヘキサン溶液を加えて70℃で1時間重合した。得られた共重合体は、スチレン含有量は65重量%のSBS構造のブロック共重合体であった。
Production Example 3 (SE Resin B)
A cyclohexane solution (concentration: 20% by weight) containing 33.5 parts by mass of styrene was charged into an agitator and jacketed tank reactor having an internal volume of 10 L. Next, n-butyllithium and N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine are added and polymerized at 70 ° C. for 1 hour, then a cyclohexane solution containing 33 parts by mass of butadiene is added and polymerized at 70 ° C. for 1 hour. Further, a cyclohexane solution containing 33.5 parts by mass of styrene was added and polymerized at 70 ° C. for 1 hour. The obtained copolymer was a block copolymer having an SBS structure having a styrene content of 65% by weight.
次に得られたポリマーに、上記水添触媒をポリマー100重量部当たりTiとして100ppm添加し、水素圧0.7MPa、温度65℃で水添反応を行って、水添ブロック重合体(SE樹脂Bに相当)を製造した。得られた水添重合体の水添率は98%、重量平均分子量は17万であった。また、DSCで求めたガラス転移温度(Tg)は−40℃であった。得られた水添重合体(SE樹脂Bに相当)の特性を表1に示す。 Next, 100 ppm of the above hydrogenation catalyst as Ti per 100 parts by weight of the polymer was added to the obtained polymer, and a hydrogenation reaction was performed at a hydrogen pressure of 0.7 MPa and a temperature of 65 ° C. Equivalent). The obtained hydrogenated polymer had a hydrogenation rate of 98% and a weight average molecular weight of 170,000. Moreover, the glass transition temperature (Tg) calculated | required by DSC was -40 degreeC. Table 1 shows the characteristics of the obtained hydrogenated polymer (corresponding to SE resin B).
実施例1(単層フイルム)
製造例2で得られた水添共重合体を、バレル温度180〜220℃のスクリュー式押出機に供給して、220℃の単層Tダイから押出し、60℃冷却ロ−ルを通しながら冷却固化して、無延伸状態で巻き取り、本発明のダイシング用基体フイルムを製造した。
Example 1 (single layer film)
The hydrogenated copolymer obtained in Production Example 2 is supplied to a screw type extruder having a barrel temperature of 180 to 220 ° C., extruded from a single layer T die at 220 ° C., and cooled while passing through a 60 ° C. cooling roll. It solidified and wound up in an unstretched state to produce a substrate film for dicing according to the present invention.
得られたダイシング用基体フイルムの厚さは、80μmであり、フイルム全体のスチレン比率は75%であった。 The thickness of the obtained substrate film for dicing was 80 μm, and the styrene ratio of the whole film was 75%.
実施例2(単層フイルム)
製造例2で得られた水添共重合体50重量部、及び製造例1で得られた水添共重合体50重量部をドライブレンドし、バレル温度180〜220℃のスクリュー式押出機に供給して、220℃の単層Tダイから押出し、60℃冷却ロ−ルを通しながら冷却固化して、無延伸状態で巻き取り、本発明のダイシング用基体フイルムを製造した。
Example 2 (single layer film)
50 parts by weight of the hydrogenated copolymer obtained in Production Example 2 and 50 parts by weight of the hydrogenated copolymer obtained in Production Example 1 are dry blended and supplied to a screw type extruder having a barrel temperature of 180 to 220 ° C. Then, it was extruded from a single layer T die at 220 ° C., cooled and solidified while passing through a 60 ° C. cooling roll, and wound up in an unstretched state to produce a substrate film for dicing according to the present invention.
得られたダイシング用基体フイルムの厚さは、80μmであり、フイルム全体のスチレン比率は70%であった。 The thickness of the obtained substrate film for dicing was 80 μm, and the styrene ratio of the whole film was 70%.
実施例3(単層フイルム)
製造例2で得られた水添共重合体80重量部、及び製造例3で得られた水添共重合体20重量部をドライブレンドし、バレル温度180〜220℃のスクリュー式押出機に供給して、220℃の単層Tダイから押出し、60℃冷却ロ−ルを通しながら冷却固化して、無延伸状態で巻き取り、本発明のダイシング用基体フイルムを製造した。
Example 3 (single layer film)
80 parts by weight of the hydrogenated copolymer obtained in Production Example 2 and 20 parts by weight of the hydrogenated copolymer obtained in Production Example 3 are dry blended and supplied to a screw type extruder having a barrel temperature of 180 to 220 ° C. Then, it was extruded from a single layer T die at 220 ° C., cooled and solidified while passing through a 60 ° C. cooling roll, and wound up in an unstretched state to produce a substrate film for dicing according to the present invention.
得られたダイシング用基体フイルムの厚さは、80μmであり、フイルム全体のスチレン比率は73%であった。 The thickness of the obtained substrate film for dicing was 80 μm, and the styrene ratio of the whole film was 73%.
実施例4(単層フイルム)
製造例2で得られた水添共重合体30重量部、及び製造例1で得られた水添共重合体70重量部とをドライブレンドし、バレル温度180〜220℃のスクリュー式押出機に供給して、220℃の単層Tダイから押出し、60℃冷却ロ−ルを通しながら冷却固化して、無延伸状態で巻き取り、本発明のダイシング用基体フイルムを製造した。
Example 4 (single layer film)
30 parts by weight of the hydrogenated copolymer obtained in Production Example 2 and 70 parts by weight of the hydrogenated copolymer obtained in Production Example 1 were dry-blended, and a screw type extruder having a barrel temperature of 180 to 220 ° C. Then, it was extruded from a single layer T die at 220 ° C., cooled and solidified while passing through a 60 ° C. cooling roll, and wound up in an unstretched state to produce a substrate film for dicing according to the present invention.
得られたダイシング用基体フイルムの厚さは、80μmであり、フイルム全体のスチレン比率は68%であった。 The thickness of the obtained substrate film for dicing was 80 μm, and the styrene ratio of the whole film was 68%.
実施例5(単層フイルム)
製造例2で得られた水添共重合体30重量部、及び製造例1で得られた水添共重合体70重量部に対し軟質アクリル樹脂(株式会社クラレ製、SA−D、Tg=60〜65℃)を30重量部ドライブレンドし、バレル温度180〜220℃のスクリュー式押出機に供給して、220℃の単層Tダイから押出し、60℃冷却ロ−ルを通しながら冷却固化して、無延伸状態で巻き取り、本発明のダイシング用基体フイルムを製造した。
Example 5 (single layer film)
Soft acrylic resin (manufactured by Kuraray Co., Ltd., SA-D, Tg = 60) with respect to 30 parts by weight of the hydrogenated copolymer obtained in Production Example 2 and 70 parts by weight of the hydrogenated copolymer obtained in Production Example 1. ~ 65 ° C) is dry blended, supplied to a screw type extruder having a barrel temperature of 180-220 ° C, extruded from a single layer T-die at 220 ° C, and cooled and solidified through a 60 ° C cooling roll. Then, the film was wound in an unstretched state to produce a substrate film for dicing according to the present invention.
得られたダイシング用基体フイルムの厚さは、80μmであり、フイルム全体のスチレン比率は52%であった。 The thickness of the obtained substrate film for dicing was 80 μm, and the styrene ratio of the whole film was 52%.
さらに、得られたダイシング用基体フイルムは、これにアクリル系粘着剤を含む粘着剤層を設けた場合、該粘着剤層と十分な接着性を有することを確認した。 Further, it was confirmed that the obtained substrate film for dicing had sufficient adhesiveness with the pressure-sensitive adhesive layer when a pressure-sensitive adhesive layer containing an acrylic pressure-sensitive adhesive was provided thereon.
実施例6(多層フイルム)
製造例2で得られた水添共重合体50重量部、及び製造例1で得られた水添共重合体50重量部とをドライブレンドした樹脂を、層(A)用樹脂とした。
Example 6 (Multilayer film)
A resin obtained by dry blending 50 parts by weight of the hydrogenated copolymer obtained in Production Example 2 and 50 parts by weight of the hydrogenated copolymer obtained in Production Example 1 was used as a resin for the layer (A).
製造例2で得られた水添共重合体20重量部、及び製造例1で得られた水添共重合体80重量部とをドライブレンドした樹脂を、層(B)用樹脂とした。 A resin obtained by dry blending 20 parts by weight of the hydrogenated copolymer obtained in Production Example 2 and 80 parts by weight of the hydrogenated copolymer obtained in Production Example 1 was used as a resin for the layer (B).
また、メチルメタアクリレ−ト約9.5重量%結合のポリエチレン系樹脂(アルケマ株式会社製、品種ロトリル9MA02、融点99℃、を層(C)用樹脂とした。 Further, a polyethylene resin having a bond of about 9.5% by weight of methylmethacrylate (produced by Arkema Co., Ltd., variety Rotril 9MA02, melting point 99 ° C. was used as the resin for the layer (C).
上記の3種の樹脂を使って、3層共押出し成形した。つまり、各層用樹脂を3台のスクリュー式押出機に供給して、3層Tダイから(A)/(B)/(C)となるように共押出しを行い、冷却して無延伸で引き取った。尚、この時の各押出機のバレル温度は180〜220℃、3層Tダイ温度は220℃、冷却ロ−ル温度は60℃であった。 Three-layer coextrusion molding was performed using the above three types of resins. That is, the resin for each layer is supplied to three screw-type extruders, co-extruded from a three-layer T die so as to be (A) / (B) / (C), cooled and taken out without stretching. It was. At this time, the barrel temperature of each extruder was 180 to 220 ° C., the three-layer T die temperature was 220 ° C., and the cooling roll temperature was 60 ° C.
得られた3層ダイシング用基体フイルムの全厚は80μmで、層(A)は8μm、層(B)は64μm、層(C)は8μmであり、フイルム全体のスチレン比率は61%であった。 The total thickness of the obtained three-layer dicing substrate film was 80 μm, the layer (A) was 8 μm, the layer (B) was 64 μm, the layer (C) was 8 μm, and the styrene ratio of the entire film was 61%. .
実施例7(多層フイルム)
製造例2で得られた水添共重合体100重量部、及び軟質アクリル系樹脂(株式会社クラレ製、SA−D、Tg60〜65℃)30重量部とをドライブレンドした樹脂を、層(D)用樹脂とした。
Example 7 (Multilayer film)
A resin obtained by dry blending 100 parts by weight of the hydrogenated copolymer obtained in Production Example 2 and 30 parts by weight of a soft acrylic resin (manufactured by Kuraray Co., Ltd., SA-D, Tg 60 to 65 ° C.) is formed into a layer (D ) Resin.
製造例2で得られた水添共重合体30重量部、及び製造例1で得られた水添共重合体70重量部とをドライブレンドした樹脂を、層(E)用樹脂とした。 A resin obtained by dry blending 30 parts by weight of the hydrogenated copolymer obtained in Production Example 2 and 70 parts by weight of the hydrogenated copolymer obtained in Production Example 1 was used as a resin for the layer (E).
製造例2で得られた水添共重合体を層(F)用樹脂とした。 The hydrogenated copolymer obtained in Production Example 2 was used as the layer (F) resin.
上記の3種の樹脂を使って、3層共押出し成形した。つまり、各層用樹脂を3台のスクリュー式押出機に供給して、3層Tダイから(D)/(E)/(F)となるように共押出しを行い、冷却して無延伸で引き取った。尚、この時の各押出機のバレル温度は180〜220℃、3層Tダイ温度は220℃、冷却ロ−ル温度は60℃であった。 Three-layer coextrusion molding was performed using the above three types of resins. That is, the resin for each layer is supplied to three screw-type extruders, co-extruded from a three-layer T die so as to be (D) / (E) / (F), cooled and taken out without stretching. It was. At this time, the barrel temperature of each extruder was 180 to 220 ° C., the three-layer T die temperature was 220 ° C., and the cooling roll temperature was 60 ° C.
得られた3層ダイシング用基体フイルムの全厚は80μmで、層(A)は8μm、層(B)は64μm、層(C)は8μmであり、フイルム全体のスチレン比率は62%であった。 The total thickness of the obtained three-layer dicing substrate film was 80 μm, the layer (A) was 8 μm, the layer (B) was 64 μm, the layer (C) was 8 μm, and the styrene ratio of the entire film was 62%. .
比較例1
製造例2で得られた水添共重合体10重量部、及び製造例1で得られた水添共重合体90重量部をドライブレンドし、バレル温度180〜220℃のスクリュー式押出機に供給して、220℃の単層Tダイから押出し、60℃冷却ロ−ルを通しながら冷却固化して、無延伸状態で巻き取り、ダイシング用基体フイルムを製造した。
Comparative Example 1
10 parts by weight of the hydrogenated copolymer obtained in Production Example 2 and 90 parts by weight of the hydrogenated copolymer obtained in Production Example 1 are dry blended and supplied to a screw type extruder having a barrel temperature of 180 to 220 ° C. Then, it was extruded from a single layer T die at 220 ° C., cooled and solidified while passing through a 60 ° C. cooling roll, and wound up in an unstretched state to produce a substrate film for dicing.
得られたフイルムの厚さは、80μmであり、フイルム全体のスチレン比率は66%であった。 The thickness of the obtained film was 80 μm, and the styrene ratio of the whole film was 66%.
比較例2
製造例2で得られた水添共重合体に変えてMS2元樹脂(MMA/スチレン)(電気化学工業社製、品種TX600S、Tg99℃)を使用する以外は、実施例4と同じ条件でダイシング用基体フイルムを得た。
Comparative Example 2
Dicing is performed under the same conditions as in Example 4 except that MS binary resin (MMA / styrene) (manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd., type TX600S, Tg99 ° C.) is used instead of the hydrogenated copolymer obtained in Production Example 2. A substrate film for use was obtained.
得られたフイルムの厚さは、80μmであり、フイルム全体のスチレン比率は58%であった。 The thickness of the obtained film was 80 μm, and the styrene ratio of the whole film was 58%.
試験例1
実施例及び比較例で得られたフイルムの透明性及び温風復元性(復元率)は、次のようにして測定した。
<透明性(Haze,%)>
JIS−Z−8741により測定した。15%以下を「○」とし、15%を越えると「×」とした。許容できるHazeの上限を15%としたのは、半導体ウエハチップの目視検査を容易にするために、必要とされる透明性であるからである。
<温風復元性>
幅10mmで縦方向(MD)及び横方向(TD)にカットしたフイルムをサンプルとする。サンプルを、株式会社島津製作所製の引張試験機(AGS100A)にチャック間距離40mm(サンプルの標線間距離40mmと同じ意味)でセットし、引張速度200mm/分にて、40%伸長した。その伸長で1分間保持した後、伸長状態を解放した。解放したサンプルに60℃の温風を10秒間吹き付け、常温に戻して長さを測定し、40%伸長に対する縦及び横方向の復元率(%)を求めた。
Test example 1
The transparency and warm air restoration property (restoration rate) of the films obtained in Examples and Comparative Examples were measured as follows.
<Transparency (Haze,%)>
It measured according to JIS-Z-8741. 15% or less was rated as “◯”, and 15% was scored as “x”. The reason why the upper limit of the allowable Haze is 15% is that the transparency is required to facilitate visual inspection of the semiconductor wafer chip.
<Hot air resilience>
A film cut in the vertical direction (MD) and the horizontal direction (TD) with a width of 10 mm is taken as a sample. The sample was set in a tensile tester (AGS100A) manufactured by Shimadzu Corporation with a distance between chucks of 40 mm (the same meaning as the distance between the marked lines of the sample of 40 mm), and extended by 40% at a tensile speed of 200 mm / min. After being held for 1 minute by the extension, the extended state was released. The released sample was blown with 60 ° C. warm air for 10 seconds, returned to room temperature, measured for length, and the restoration rate (%) in the vertical and horizontal directions for 40% elongation was determined.
復元率が縦及び横方向の復元率が95%以上であれば、1×1mmカットサイズの小片ウエハに対しても、ダイシングシ−トのラックへの収納回収が迅速・容易にできるものとして「○」とし、95%未満であれば、できないものとして「×」とした。 If the restoration rate is 95% or more in the vertical and horizontal directions, it is possible to quickly and easily store and collect the dicing sheet in the rack even for 1 × 1 mm cut size small wafers. If it was less than 95%, it was deemed “x”.
表2で示すように、実施例1〜7のフイルムは、高い透明性、かつ、優れた温風復元性を有していることが分かった。 As shown in Table 2, it was found that the films of Examples 1 to 7 had high transparency and excellent warm air restoring properties.
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006066231A JP4619309B2 (en) | 2005-05-24 | 2006-03-10 | Substrate film for dicing |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005151582 | 2005-05-24 | ||
JP2006066231A JP4619309B2 (en) | 2005-05-24 | 2006-03-10 | Substrate film for dicing |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007002218A JP2007002218A (en) | 2007-01-11 |
JP4619309B2 true JP4619309B2 (en) | 2011-01-26 |
Family
ID=37688106
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006066231A Active JP4619309B2 (en) | 2005-05-24 | 2006-03-10 | Substrate film for dicing |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4619309B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4524497B2 (en) * | 2005-05-24 | 2010-08-18 | グンゼ株式会社 | Substrate film for dicing |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6141543A (en) * | 1984-08-06 | 1986-02-27 | 旭化成株式会社 | Rigid multilayer shrinkable film and manufacture thereof |
JPH02215528A (en) * | 1989-02-17 | 1990-08-28 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | Multi-layer film |
JPH11199840A (en) * | 1998-01-16 | 1999-07-27 | Kureha Chem Ind Co Ltd | Substrate for tacky adhesive tape, tacky adhesive tape and tacky adhesive tape provided with releasing tape |
JP2004059741A (en) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Asahi Kasei Chemicals Corp | Copolymer and its composition |
JP2004292578A (en) * | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Sekisui Film Kk | Pressure-sensitive adhesive sheet and base material therefor |
JP2007002219A (en) * | 2005-05-24 | 2007-01-11 | Gunze Ltd | Film |
-
2006
- 2006-03-10 JP JP2006066231A patent/JP4619309B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6141543A (en) * | 1984-08-06 | 1986-02-27 | 旭化成株式会社 | Rigid multilayer shrinkable film and manufacture thereof |
JPH02215528A (en) * | 1989-02-17 | 1990-08-28 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | Multi-layer film |
JPH11199840A (en) * | 1998-01-16 | 1999-07-27 | Kureha Chem Ind Co Ltd | Substrate for tacky adhesive tape, tacky adhesive tape and tacky adhesive tape provided with releasing tape |
JP2004059741A (en) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Asahi Kasei Chemicals Corp | Copolymer and its composition |
JP2004292578A (en) * | 2003-03-26 | 2004-10-21 | Sekisui Film Kk | Pressure-sensitive adhesive sheet and base material therefor |
JP2007002219A (en) * | 2005-05-24 | 2007-01-11 | Gunze Ltd | Film |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2007002218A (en) | 2007-01-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI382071B (en) | Surface protective film | |
US20090130351A1 (en) | Block copolymer and process for production of heat shrinkable film | |
JP6094217B2 (en) | Block copolymer | |
JPWO2006109743A1 (en) | Hydrogenated block copolymer, or sheet or film thereof | |
JP5879111B2 (en) | Surface protection film | |
JP5159045B2 (en) | Substrate film for dicing | |
JP2005105032A (en) | Heat-shrinkable film formed from polymer composition | |
JP2012117013A (en) | Adhesive composition and surface protection adhesive film | |
JP5963411B2 (en) | Dicing substrate film | |
JP4619309B2 (en) | Substrate film for dicing | |
JP5879110B2 (en) | Adhesive composition and surface protective film | |
JP2009149861A (en) | Polypropylene resin composition and molded body | |
JP5053026B2 (en) | Multilayer dicing substrate film and dicing film | |
JP5388466B2 (en) | Backgrind substrate film and method for producing the same | |
JP2007002219A (en) | Film | |
JP2011023632A (en) | Base film for dicing and dicing film | |
JP5053035B2 (en) | Multilayer dicing substrate film and dicing film | |
JP6841642B2 (en) | Manufacturing method of heat-resistant adhesive film, surface protective film and heat-resistant adhesive film | |
JP5534878B2 (en) | Surface protection film | |
JP5074881B2 (en) | Multilayer dicing substrate film and dicing film | |
JP5053025B2 (en) | Dicing substrate film and dicing film | |
JP5057753B2 (en) | Heat shrinkable film | |
JP5388465B2 (en) | Backgrind substrate film and method for producing the same | |
JP5383070B2 (en) | Back grind film and manufacturing method thereof | |
JP4363203B2 (en) | Multilayer laminate and manufacturing method thereof |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090115 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100608 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100803 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100831 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20101005 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20101026 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131105 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4619309 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |