JP2011023632A - Base film for dicing and dicing film - Google Patents

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茂 佐合
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dicing film which hardly causes cutting chips (string- or whisker-like chips generated from a film after dicing) during a dicing process of a semiconductor wafer and is excellent in expandability; and to provide a base film for dicing used for the dicing film. <P>SOLUTION: The base film for dicing has an A-layer, a B-layer and a C-layer laminated in this order, wherein the A-layer is composed of a resin composition containing 30-80 wt.% of copolymer of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon or its hydrogenation object and 70-20 wt.% of polypropylene-based resin; the B-layer is composed of a resin composition containing 0-20 wt.% of polypropylene-based resin and 100-80 wt.% of olefin-based thermoplastic elastomer; and the C-layer is composed of a resin composition containing 0-40 wt.% of copolymer of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon or its hydrogenation object and 100-60 wt.% of polypropylene-based resin. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体ウエハ等をチップ状にダイシングする際に、半導体ウエハ等を固定するためのダイシングフイルムに関する。   The present invention relates to a dicing film for fixing a semiconductor wafer or the like when the semiconductor wafer or the like is diced into chips.

半導体ウエハは、予め大面積で作られた後、チップ状にダイシング(切断分離)されてエキスパンド工程に移される。そのダイシングに際して、半導体ウエハを固定するために用いられるのがダイシングフイルムである。   A semiconductor wafer is made in advance in a large area, then diced (cut and separated) into chips and transferred to an expanding process. In the dicing, a dicing film is used for fixing the semiconductor wafer.

ダイシングフイルムは、基本的には半導体ウエハを固定する粘着剤層とダイシングブレードの切り込みを受ける樹脂層(ダイシング用基体フイルム)とから構成されている。ダイシングフイルムに固定された半導体ウエハは、チップ状にダイシングされ、各チップ同士を分離するためにエキスパンドリング上で面方向に一様にエキスパンドされた後、ピックアップされる。   The dicing film is basically composed of an adhesive layer for fixing a semiconductor wafer and a resin layer (a substrate film for dicing) that receives the cutting of a dicing blade. The semiconductor wafer fixed to the dicing film is diced into chips, and is picked up after being uniformly expanded in the surface direction on the expanding ring in order to separate the chips.

半導体ウエハのダイシング工程では、ウエハとともに粘着剤層又はダイシング用基体フイルムの一部も切断されるため、樹脂の摩擦熱により溶融状態となり樹脂由来の切削屑(ダイシング屑)が発生する。この切削屑は、ウエハを汚染しチップの歩留まりを低下させるため、極力低減させる必要がある。   In the semiconductor wafer dicing process, the adhesive layer or a part of the substrate film for dicing is also cut together with the wafer, so that the resin becomes a molten state due to frictional heat of the resin, and resin-derived cutting waste (dicing waste) is generated. Since this cutting waste contaminates the wafer and lowers the yield of chips, it is necessary to reduce it as much as possible.

例えば、ダイシング工程における切削屑をなくすことを主な目的として、次のようなダイシングフイルムが報告されている。   For example, the following dicing film has been reported mainly for the purpose of eliminating cutting waste in the dicing process.

特許文献1には、基材フイルムとして、電子線又はγ線を1〜80Mrad照射したポリエチレン等のポリオレフィン系フイルムが記載されている。しかし、このフイルムは、架橋性樹脂全体を電子線等で架橋するものであるため硬くなり充分なエキスパンド性が得られない。   Patent Document 1 describes a polyolefin film such as polyethylene irradiated with 1 to 80 Mrad of an electron beam or γ-ray as a base film. However, since this film crosslinks the entire crosslinkable resin with an electron beam or the like, it becomes hard and sufficient expandability cannot be obtained.

特許文献2には、基材フイルムとして、エチレン・メチルメタアクリレート共重合体フイルムが記載されている。しかし、このフイルムは、ある程度の切削屑を低減できるが、必ずしも充分ではない。   Patent Document 2 describes an ethylene / methyl methacrylate copolymer film as a base film. However, although this film can reduce a certain amount of cutting waste, it is not always sufficient.

特許文献3には、主に、エチレン、(メタ)アクリル酸及び(メタ)アクリル酸アルキルエステルの3元共重合体を金属イオンで架橋したアイオノマー樹脂を主成分とする樹脂層Bと粘着剤層Aとが積層された半導体ウエハ固定用粘着テープが記載されている。しかし、このフイルムは、金属イオンを含むためウエハの汚染が問題となる。   Patent Document 3 mainly discloses a resin layer B mainly composed of an ionomer resin obtained by crosslinking a terpolymer of ethylene, (meth) acrylic acid, and (meth) acrylic acid alkyl ester with metal ions, and an adhesive layer. A semiconductor wafer fixing adhesive tape laminated with A is described. However, since this film contains metal ions, contamination of the wafer becomes a problem.

特許文献4には、粘着剤被塗布層と、熱可塑性エラストマー層と樹脂層とがこの順に積層され、前記熱可塑性エラストマー層が、水素添加したスチレン−ブタジエン共重合体を70質量%以上含む樹脂組成物からなり、層厚が基材肉厚に対して30%以上である粘着テープ用基材が記載されている。しかし、このフイルムは、切削屑の低減効果は必ずしも充分ではない。   In Patent Document 4, a pressure-sensitive adhesive coated layer, a thermoplastic elastomer layer, and a resin layer are laminated in this order, and the thermoplastic elastomer layer contains 70% by mass or more of a hydrogenated styrene-butadiene copolymer. An adhesive tape base material comprising a composition and having a layer thickness of 30% or more with respect to the base material thickness is described. However, this film does not always have a sufficient cutting scrap reduction effect.

特許文献5には、少なくとも2層からなる基材フイルムにおいて、粘着剤層側の層の樹脂としてポリプロピレンが、粘着剤層側の樹脂層以外の層としてスチレン−ブタジエン共重合体の水素添加物を用いることが記載されている。   In Patent Document 5, in a base film comprising at least two layers, polypropylene is used as a resin for the adhesive layer side, and a hydrogenated styrene-butadiene copolymer is used as a layer other than the resin layer on the adhesive layer side. The use is described.

特許文献6には、オレフィン系熱可塑性エラストマーを含有してなる基材フイルム上の少なくとも片面に粘着剤層が設けられてなるダイシング用粘着シートが開示されている。該基材フイルムを多層フイルムとすることについては開示されているものの、その層構成については十分に検討がなされていないものである。従って、このような特許文献6のフイルムは、切削屑の低減効果は必ずしも充分ではない。   Patent Document 6 discloses a dicing pressure-sensitive adhesive sheet in which a pressure-sensitive adhesive layer is provided on at least one surface of a substrate film containing an olefinic thermoplastic elastomer. Although it has been disclosed that the base film is a multilayer film, the layer structure has not been sufficiently studied. Therefore, such a film of Patent Document 6 is not always sufficient in reducing cutting waste.

特許文献7、8には、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体水素添加物とポリプロピレン系樹脂からなる樹脂組成物からなる層を含む多層ダイシング用基体フイルムが開示されている。特許文献7、8は、形状復元性を有するダイシングフイルムを提供することを目的とするものであり、切削屑の低減については十分な検討がなされていない。   Patent Documents 7 and 8 disclose a substrate film for multi-layer dicing including a layer made of a resin composition comprising a hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer and a polypropylene resin. Patent Documents 7 and 8 are intended to provide a dicing film having a shape restoring property, and sufficient studies have not been made on reduction of cutting waste.

特開平5−211234号公報Japanese Patent Laid-Open No. 5-21234 特開平5−156214号公報JP-A-5-156214 特開平9−8111号公報Japanese Patent Laid-Open No. 9-8111 特開2005−272724号公報JP 2005-272724 A 特開2005−174963号公報JP 2005-174963 A 特開2003−7654号公報JP 2003-7654 A 特開2009−94417号公報JP 2009-94417 A 特開2009−105235号公報JP 2009-105235 A

本発明は、半導体ウエハのダイシング工程における切削屑(ダイシング後にフイルムから発生する糸状又はヒゲ状の屑)の発生がほとんどなく、かつ、エキスパンド性が優れるダイシングフイルムを提供することを目的とする。また、該ダイシングフイルムに用いられるダイシング用基体フイルムを提供することも目的とする。   An object of the present invention is to provide a dicing film that has almost no generation of cutting waste (thread-like or whisker-like waste generated from a film after dicing) in a dicing process of a semiconductor wafer and that has excellent expandability. Another object of the present invention is to provide a substrate film for dicing used for the dicing film.

本発明者は、上記の課題を解決するために鋭意研究を行った結果、特定の樹脂組成を有する層が積層されてなるダイシング用基体フイルムとすることで、上記の課題を全て解決できることを見出した。かかる知見に基づき、さらに研究を重ねて本発明を完成するに至った。   As a result of diligent research to solve the above problems, the present inventor has found that all of the above problems can be solved by forming a substrate film for dicing in which layers having a specific resin composition are laminated. It was. Based on this knowledge, further studies have been made and the present invention has been completed.

即ち、本発明は下記のダイシング用基体フイルム及びダイシングフイルムを提供する。
項1.A層/B層/C層の順に積層されてなるダイシング用基体フイルムであって、
A層は、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物30〜80重量%及びポリプロピレン系樹脂70〜20重量%を含む樹脂組成物からなり、
B層は、ポリプロピレン系樹脂0〜20重量%及びオレフィン系熱可塑性エラストマー100〜80重量%を含む樹脂組成物からなり、
C層は、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物0〜40重量%及びポリプロピレン系樹脂100〜60重量%を含む樹脂組成物からなる、
ダイシング用基体フイルム。
項2.前記ダイシング用基体フイルムの全厚さが50〜300μmであり、ダイシング用基体フイルムの全厚さに対し、A層の厚さが5〜40%であり、B層の厚さが20〜90%である上記項1に記載のダイシング用基体フイルム。
項3.上記項1又は2に記載のダイシング用基体フイルムのA層上にさらに粘着剤層を有するダイシングフイルム。
項4.A層/B層/C層の順に積層されてなるダイシング用基体フイルムの製造方法であって、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物30〜80重量%及びポリプロピレン系樹脂70〜20重量%を含むA層用樹脂組成物、
ポリプロピレン系樹脂0〜20重量%及びオレフィン系熱可塑性エラストマー100〜80重量%を含むB層用樹脂組成物、及び
ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物0〜40重量%及びポリプロピレン系樹脂100〜60重量%を含むC層用樹脂組成物を、
A層/B層/C層の順に共押出成形することを特徴とする製造方法。
That is, the present invention provides the following dicing substrate film and dicing film.
Item 1. A substrate film for dicing laminated in the order of A layer / B layer / C layer,
The layer A consists of a resin composition containing a copolymer of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon or hydrogenated product thereof in an amount of 30 to 80% by weight and a polypropylene resin of 70 to 20% by weight,
B layer consists of a resin composition containing 0 to 20% by weight of a polypropylene resin and 100 to 80% by weight of an olefin thermoplastic elastomer,
Layer C is composed of a resin composition containing a copolymer of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon or hydrogenated product thereof of 0 to 40% by weight and polypropylene resin of 100 to 60% by weight,
Base film for dicing.
Item 2. The total thickness of the substrate film for dicing is 50 to 300 μm, the thickness of the A layer is 5 to 40%, and the thickness of the B layer is 20 to 90% with respect to the total thickness of the substrate film for dicing. 2. The substrate film for dicing according to item 1, wherein
Item 3. 3. A dicing film further comprising an adhesive layer on the A layer of the substrate film for dicing according to item 1 or 2.
Item 4. A method for producing a substrate film for dicing laminated in the order of A layer / B layer / C layer, comprising a copolymer of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon or hydrogenated product thereof in an amount of 30 to 80% by weight And a layer A resin composition comprising 70 to 20% by weight of a polypropylene resin,
B-layer resin composition containing 0 to 20% by weight of a polypropylene resin and 100 to 80% by weight of an olefinic thermoplastic elastomer, and a copolymer of a vinyl aromatic hydrocarbon and a conjugated diene hydrocarbon or a hydrogenated product thereof 0 A resin composition for the C layer containing -40 wt% and polypropylene resin 100-60 wt%,
A production method comprising co-extrusion molding in the order of A layer / B layer / C layer.

本発明によれば、半導体ウエハのダイシング工程における切削屑の発生がほとんどなく、かつ、エキスパンド性が優れるダイシングフイルムを提供することができる。本発明のダイシングフイルムは、ダイシング工程における切削屑の発生がほとんどないためウエハの汚染やIC(集積回路)の破壊といった心配がない。   According to the present invention, it is possible to provide a dicing film that hardly generates cutting waste in the dicing process of a semiconductor wafer and has excellent expandability. In the dicing film of the present invention, there is almost no generation of cutting waste in the dicing process, so there is no concern of wafer contamination or IC (integrated circuit) destruction.

1.ダイシング用基体フイルム
本発明のダイシング用基体フイルムは、A層/B層/C層の順に積層されてなるダイシング用基体フイルムであって、
A層は、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物30〜80重量%及びポリプロピレン系樹脂70〜20重量%を含む樹脂組成物からなり、
B層は、ポリプロピレン系樹脂0〜20重量%及びオレフィン系熱可塑性エラストマー100〜80重量%を含む樹脂組成物からなり、
C層は、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物0〜40重量%及びポリプロピレン系樹脂100〜60重量%を含む樹脂組成物からなることを特徴とする。
1. Dicing Substrate Film The dicing substrate film of the present invention is a dicing substrate film that is laminated in the order of A layer / B layer / C layer,
The layer A consists of a resin composition containing a copolymer of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon or hydrogenated product thereof in an amount of 30 to 80% by weight and a polypropylene resin of 70 to 20% by weight,
B layer consists of a resin composition containing 0 to 20% by weight of a polypropylene resin and 100 to 80% by weight of an olefin thermoplastic elastomer,
The C layer is composed of a resin composition containing a copolymer of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon or hydrogenated product thereof of 0 to 40% by weight and polypropylene resin of 100 to 60% by weight. .

以下、各層毎に説明する。   Hereinafter, each layer will be described.

1.1 A層
A層は、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物30〜80重量%及びポリプロピレン系樹脂70〜20重量%を含む樹脂組成物からなる研削層である。
1.1 A layer A layer consists of a resin composition containing a copolymer of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon or a hydrogenated product thereof of 30 to 80% by weight and a polypropylene resin of 70 to 20% by weight. It is a grinding layer.

(1)ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物
ビニル芳香族炭化水素とは、少なくとも1つのビニル基を有する芳香族炭化水素のことであり、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ジビニルベンゼン、1,1−ジフェニルエチレン、N,N−ジメチル−p−アミノエチルスチレン、N,N−ジエチル−p−アミノエチルスチレン、p−tert−ブチルスチレン、1,3−ジメチルスチレン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、等を挙げることができる。これらは一種単独又は二種以上を混合して使用することができる。これらの中でも、スチレンが好ましい。
(1) Copolymer of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon or hydrogenated product Vinyl aromatic hydrocarbon is an aromatic hydrocarbon having at least one vinyl group, such as styrene. , Α-methylstyrene, p-methylstyrene, divinylbenzene, 1,1-diphenylethylene, N, N-dimethyl-p-aminoethylstyrene, N, N-diethyl-p-aminoethylstyrene, p-tert-butyl Examples thereof include styrene, 1,3-dimethylstyrene, α-methylstyrene, vinyl naphthalene, vinyl anthracene, and the like. These can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Among these, styrene is preferable.

共役ジエン炭化水素とは、1対の共役二重結合を有するジオレフィンであり、例えば、1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ブタジエン(イソプレン)、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエン、1,3−ペンタジエン、2−メチル−1,3−ペンタジエン、1,3−ヘキサジエン等を挙げることができる。これらは一種単独又は二種以上を混合して使用することができる。これらの中でも、ブタジエン、イソプレンが好ましい。   The conjugated diene hydrocarbon is a diolefin having a pair of conjugated double bonds, such as 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene (isoprene), 2,3-dimethyl-1, Examples include 3-butadiene, 1,3-pentadiene, 2-methyl-1,3-pentadiene, 1,3-hexadiene, and the like. These can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Among these, butadiene and isoprene are preferable.

A層用樹脂組成物には、前記ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又は該共重合体の水素添加物のいずれも用いることができるが、A層用樹脂組成物に含まれるポリプロピレン樹脂との相溶性の点から水素添加物が好ましい。   As the resin composition for the A layer, either a copolymer of the vinyl aromatic hydrocarbon and the conjugated diene hydrocarbon or a hydrogenated product of the copolymer can be used. A hydrogenated product is preferable from the viewpoint of compatibility with the contained polypropylene resin.

ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体水素添加物は、上記ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素の共重合体を水素添加することにより得られる。   The vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer hydrogenated product is obtained by hydrogenating the above-mentioned vinyl aromatic hydrocarbon / conjugated diene hydrocarbon copolymer.

水添反応は、一般的に0〜200℃、より好ましくは30〜150℃の温度範囲で実施される。水添反応に使用される水素の圧力は0.1〜15MPa、好ましくは0.2〜10MPa、更に好ましくは0.3〜7MPaが推奨される。また、水添反応時間は通常3分〜10時間、好ましくは10分〜5時間である。水添反応は、バッチプロセス、連続プロセス、或いはそれらの組み合わせのいずれでも用いることができる。   The hydrogenation reaction is generally performed in a temperature range of 0 to 200 ° C, more preferably 30 to 150 ° C. The pressure of hydrogen used for the hydrogenation reaction is 0.1 to 15 MPa, preferably 0.2 to 10 MPa, and more preferably 0.3 to 7 MPa. The hydrogenation reaction time is usually 3 minutes to 10 hours, preferably 10 minutes to 5 hours. The hydrogenation reaction can be any of a batch process, a continuous process, or a combination thereof.

ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体の水素添加物の水添率は、共重合体中の共役ジエン炭化水素に由来する二重結合の85%以上であることが好ましく、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは95%以上である。この水添率は、核磁気共鳴装置(NMR)を用いて測定することができる。   The hydrogenation rate of the hydrogenated product of the vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer is preferably 85% or more of the double bond derived from the conjugated diene hydrocarbon in the copolymer, more preferably. Is 90% or more, more preferably 95% or more. This hydrogenation rate can be measured using a nuclear magnetic resonance apparatus (NMR).

ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水素添加物におけるビニル芳香族炭化水素単位の含有量は、通常5〜40重量%であり、好ましくは5〜15重量%である。また、共役ジエン炭化水素単位の含有量は、通常60〜95重量%であり、好ましくは85〜95重量%である。スチレン系単量体単位の含有量は、紫外分光光度計又は核磁気共鳴装置(NMR)を用いて、ジエン系単量体単位の含有量は、核磁気共鳴装置(NMR)を用いて測定することができる。   The content of vinyl aromatic hydrocarbon units in a copolymer of a vinyl aromatic hydrocarbon and a conjugated diene hydrocarbon or a hydrogenated product thereof is usually 5 to 40% by weight, preferably 5 to 15% by weight. . Moreover, content of a conjugated diene hydrocarbon unit is 60 to 95 weight% normally, Preferably it is 85 to 95 weight%. The content of styrene monomer units is measured using an ultraviolet spectrophotometer or a nuclear magnetic resonance apparatus (NMR), and the content of diene monomer units is measured using a nuclear magnetic resonance apparatus (NMR). be able to.

ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体又はその水素添加物の硬度(JISK6253 デュロメータータイプA)は、通常40〜90程度であり、好ましくは、55〜85程度である。   The hardness (JISK6253 durometer type A) of the vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer or a hydrogenated product thereof is usually about 40 to 90, preferably about 55 to 85.

また、ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体又はその水素添加物の比重(ASTMD297)は、通常0.85〜1.0程度であり、MFR(ASTM D1238:230℃、21.2N)は、通常2〜6g/10分程度である。   The specific gravity (ASTMD 297) of the vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer or hydrogenated product thereof is usually about 0.85 to 1.0, and MFR (ASTM D1238: 230 ° C., 21.2 N). ) Is usually about 2 to 6 g / 10 min.

ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体又はその水素添加物の重量平均分子量(Mw)は、例えば、通常10万〜50万程度であり、好ましくは15万〜30万程度であればよい。重量平均分子量は、市販の標準ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて測定できる。   The weight average molecular weight (Mw) of the vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer or the hydrogenated product thereof is, for example, usually about 100,000 to 500,000, preferably about 150,000 to 300,000. Good. The weight average molecular weight can be measured using commercially available standard gel permeation chromatography (GPC).

該ビニル芳香族炭化水素−共役ジエン炭化水素共重合体水素添加物としては、例えば、クレイトンポリマージャパン(株)製「MD6945」、(株)クラレ製「ハイブラー7311」等を挙げることができる。   Examples of the hydrogenated vinyl aromatic hydrocarbon-conjugated diene hydrocarbon copolymer include “MD6945” manufactured by Kraton Polymer Japan Co., Ltd., “Hibler 7311” manufactured by Kuraray Co., Ltd., and the like.

(2)ポリプロピレン系樹脂
本発明で用いるポリプロピレン系樹脂(PP)としては、結晶性のものが好ましい。結晶性プロピレン系樹脂としては、プロピレンの単独重合体あるいはプロピレンと少量のα−オレフィン及び/又はエチレンとのランダム又はブロック共重合体が挙げられる。
(2) Polypropylene resin As the polypropylene resin (PP) used in the present invention, a crystalline resin is preferable. Examples of the crystalline propylene-based resin include a propylene homopolymer or a random or block copolymer of propylene and a small amount of α-olefin and / or ethylene.

ポリプロピレン系樹脂が共重合体である場合には、α−オレフィン及び/又はエチレンの共重合割合は以下に示す割合であることが好ましい。   When the polypropylene resin is a copolymer, the copolymerization ratio of α-olefin and / or ethylene is preferably the ratio shown below.

ランダム共重合体の場合、該共重合体中に、プロピレン以外のα−オレフィン及び/又はエチレンが、一般に合計で10重量%以下であり、好ましくは0.5〜7重量%である。また、ブロック共重合体の場合、該共重合体中に、プロピレン以外のα−オレフィン及び/又はエチレンが、一般に合計で40重量%以下であり、好ましくは1〜40重量%であり、より好ましくは1〜25重量%、さらに好ましくは2〜20重量%、特に好ましくは3〜15重量%である。   In the case of a random copolymer, the α-olefin and / or ethylene other than propylene is generally 10% by weight or less in total and preferably 0.5 to 7% by weight in the copolymer. In the case of a block copolymer, the α-olefin and / or ethylene other than propylene is generally 40% by weight or less, preferably 1 to 40% by weight, more preferably in the copolymer. Is 1 to 25% by weight, more preferably 2 to 20% by weight, particularly preferably 3 to 15% by weight.

これらのポリプロピレン系重合体は、2種以上の重合体を混合したものであってもよい。   These polypropylene polymers may be a mixture of two or more polymers.

ポリプロピレンの結晶性の指標としては、例えば、融点、結晶融解熱量等が用いられ、融点は120〜176℃、結晶融解熱量は60〜120J/gであることが好ましい。   As an index of the crystallinity of polypropylene, for example, a melting point, a heat of crystal fusion, and the like are used. The melting point is preferably 120 to 176 ° C., and the heat of crystal fusion is preferably 60 to 120 J / g.

該ポリプロピレン系樹脂は、気相重合法、バルク重合法、溶媒重合法及び任意にそれらを組み合わせて多段重合を採用することができ、また、重合体の数平均分子量についても特に制限はないが、好ましくは10,000〜1,000,000に調整される。   The polypropylene-based resin can employ multistage polymerization by combining a gas phase polymerization method, a bulk polymerization method, a solvent polymerization method and any combination thereof, and there is no particular limitation on the number average molecular weight of the polymer, Preferably, it is adjusted to 10,000 to 1,000,000.

この結晶性ポリプロピレン系樹脂としては、JIS K7210に準拠して、温度230℃で、荷重21.18Nで測定したときのMFR(メルトフローレート)が、一般に0.5〜20g/10分であり、好ましくは0.5〜10g/10分である。   As this crystalline polypropylene resin, in accordance with JIS K7210, MFR (melt flow rate) when measured at a temperature of 230 ° C. and a load of 21.18 N is generally 0.5 to 20 g / 10 min. Preferably it is 0.5-10 g / 10min.

(3)A層用樹脂組成物
本発明のダイシングフイルムに用いるA層用樹脂組成物は、前記ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物30〜80重量%及び前記ポリプロピレン系樹脂70〜20重量%を含み、前記ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物50〜80重量%及びポリプロピレン系樹脂20〜50重量%を含むことが好ましく、前記ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物60〜75重量%及びポリプロピレン系樹脂25〜40重量%を含むことがより好ましい。A層用樹脂組成物の組成が前記範囲内であることにより、半導体ウエハのダイシング工程において切削屑の発生を抑制することができるため好ましい。
(3) Resin composition for A layer The resin composition for A layer used for the dicing film of the present invention is a copolymer of the vinyl aromatic hydrocarbon and the conjugated diene hydrocarbon or a hydrogenated product thereof of 30 to 80% by weight. And 70 to 20% by weight of the polypropylene resin, 50 to 80% by weight of the copolymer of the vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon or hydrogenated product thereof, and 20 to 50% by weight of the polypropylene resin. The vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon copolymer or hydrogenated product thereof is more preferably 60 to 75% by weight, and more preferably 25 to 40% by weight of a polypropylene resin. It is preferable that the composition of the resin composition for the A layer is within the above range because generation of cutting waste can be suppressed in the dicing process of the semiconductor wafer.

また、前記A層用樹脂組成物には、前記ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又は前記ポリプロピレン系樹脂以外にも酸化防止剤、耐候性剤等の公知の添加剤を含むことができる。その添加範囲としては、特に限定されるものではないが、A層用樹脂組成物全固形分中10重量%以下であることが好ましく、1〜5重量%の範囲を挙げることができる。   In addition to the copolymer of the vinyl aromatic hydrocarbon and the conjugated diene hydrocarbon or the polypropylene resin, the resin composition for the layer A contains known additives such as an antioxidant and a weather resistance agent. Can be included. Although it does not specifically limit as the addition range, It is preferable that it is 10 weight% or less in the resin composition for A layer, and the range of 1-5 weight% can be mentioned.

1.2 B層
B層は、ポリプロピレン系樹脂0〜20重量%及びオレフィン系熱可塑性エラストマー100〜80重量%を含む樹脂組成物からなる中間層である。
1.2 B layer B layer is an intermediate | middle layer which consists of a resin composition containing 0-20 weight% of polypropylene-type resins, and 100-80 weight% of olefin type thermoplastic elastomers.

(1)ポリプロピレン系樹脂
B層で用いられるポリプロピレン系樹脂は、前記A層で用いることができるものと同じものを挙げることができる。
(1) Polypropylene resin The polypropylene resin used in the B layer can be the same as that used in the A layer.

(2)オレフィン系熱可塑性エラストマー
本発明で用いるオレフィン系熱可塑性エラストマーとしては、ポリプロピレン系樹脂成分と、プロピレンとエチレンとの共重合体ゴム成分を含有するものが好ましく、ポリプロピレン系樹脂(マトリックス相)中に、プロピレンとエチレンとの共重合体ゴムが微分散している海−島構造を有するエラストマーであることがより好ましい。
(2) Olefin-based thermoplastic elastomer The olefin-based thermoplastic elastomer used in the present invention preferably contains a polypropylene resin component and a copolymer rubber component of propylene and ethylene, and a polypropylene resin (matrix phase). An elastomer having a sea-island structure in which a copolymer rubber of propylene and ethylene is finely dispersed is more preferable.

オレフィン系熱可塑性エラストマーは、ポリプロピレン系樹脂成分が10〜40重量%であることが好ましく、20〜30重量%であることがより好ましい。また、プロピレンとエチレンとの共重合体ゴム成分は、60〜90重量%であることが好ましく、70〜80重量%であることがより好ましい。   In the olefin thermoplastic elastomer, the polypropylene resin component is preferably 10 to 40% by weight, and more preferably 20 to 30% by weight. The copolymer rubber component of propylene and ethylene is preferably 60 to 90% by weight, and more preferably 70 to 80% by weight.

(i)ポリプロピレン系樹脂成分
ポリプロピレン系樹脂としては、アイソタクチックインデックスが90%以上のプロピレン単独重合体が好ましく、95%以上であるプロピレン単独重合体であることがより好ましい。ポリプロピレン系樹脂のアイソタクチックインデックスが90%未満では、オレフィン系熱可塑性エラストマーの耐熱性が劣る傾向にある。
(I) Polypropylene resin component The polypropylene resin is preferably a propylene homopolymer having an isotactic index of 90% or more, and more preferably a propylene homopolymer having 95% or more. When the isotactic index of the polypropylene resin is less than 90%, the heat resistance of the olefin thermoplastic elastomer tends to be inferior.

(ii)プロピレンとエチレンとの共重合体ゴム成分
プロピレンとエチレンの共重合割合は、特に限定されるものではなく、適宜決定することができる。一例としては、例えば、プロピレン/エチレン=10〜90/90〜10(重量%)等を挙げることできる。
(Ii) Copolymer rubber component of propylene and ethylene The copolymerization ratio of propylene and ethylene is not particularly limited and can be appropriately determined. As an example, propylene / ethylene = 10-90 / 90-10 (weight%) etc. can be mentioned, for example.

共重合体ゴムには、プロピレンとエチレン以外にも共重合成分を含んでもよい。共重合成分としては、例えば、1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,5−ヘキサジエン、1,4−オクタジエン、シクロヘキサジエン、シクロオクタジエン、ジシクロペンタジエン、5−エチリデン−2−ノルボルネン、5−ブチリデン−2−ノルボルネン、2−イソプロペニル−5−ノルボルネン等の非共役ジエンを挙げることができる。これらの添加量は特に限定されるものではなく、本発明の効果を損なわない範囲で添加することができる。   The copolymer rubber may contain a copolymer component in addition to propylene and ethylene. Examples of the copolymer component include 1,4-hexadiene, 5-methyl-1,5-hexadiene, 1,4-octadiene, cyclohexadiene, cyclooctadiene, dicyclopentadiene, 5-ethylidene-2-norbornene, 5 Non-conjugated dienes such as -butylidene-2-norbornene and 2-isopropenyl-5-norbornene can be mentioned. These addition amounts are not particularly limited, and can be added within a range not impairing the effects of the present invention.

本発明で用いるオレフィン系熱可塑性エラストマーは、o−ジクロロベンゼンを溶媒として用いた、温度0〜140℃の間の温度上昇溶離分別における0℃での溶出量が全溶出量に対して60〜80重量%であることが好ましい。0℃での溶出量がこの範囲であると反りを効果的に抑制できるため好ましい。   In the olefinic thermoplastic elastomer used in the present invention, the elution amount at 0 ° C. in the temperature rising elution fractionation between 0 ° C. and 140 ° C. using o-dichlorobenzene as a solvent is 60-80 with respect to the total elution amount. It is preferable that it is weight%. It is preferable that the elution amount at 0 ° C. is within this range because warpage can be effectively suppressed.

ここで、温度上昇溶離分別(Temperature Rising Elution Fractionation;TREF)は、公知の分析法である。具体的な測定方法としては、例えば、特開2003−7654号公報に開示されている方法等を挙げることができる。   Here, temperature rising elution fractionation (TREF) is a known analysis method. As a specific measuring method, for example, a method disclosed in JP-A-2003-7654 can be exemplified.

(iii)オレフィン系熱可塑性エラストマーの製造方法
本発明で用いるオレフィン系熱可塑性エラストマーの製造方法は、特に限定されるものではなく、公知のいかなる方法であってもよいが、下記に製造方法の一例を示す。
(Iii) Production method of olefinic thermoplastic elastomer The production method of the olefinic thermoplastic elastomer used in the present invention is not particularly limited, and any known method may be used. Indicates.

第一段階で、反応容器にプロピレンを供給して、触媒の存在下に温度50〜150℃(好ましくは、50〜100℃)、プロピレン分圧0.5〜4.5MPa(好ましくは、1.0〜3.5MPa)の条件で、プロピレン単独重合体の重合を実施する。   In the first stage, propylene is supplied to the reaction vessel, the temperature is 50 to 150 ° C. (preferably 50 to 100 ° C.), and the partial pressure of propylene is 0.5 to 4.5 MPa (preferably 1. The polymerization of the propylene homopolymer is performed under the conditions of 0 to 3.5 MPa).

引き続いて、第二段階で、プロピレンとエチレンを供給して、触媒の存在下に温度50〜150℃(好ましくは50〜100℃)、プロピレン及びエチレン分圧各0.3〜4.5MPa(好ましくは0.5〜3.5MPa)の条件で、プロピレン−エチレン共重合体の重合を実施して製造する。   Subsequently, in the second stage, propylene and ethylene are supplied, and in the presence of a catalyst, the temperature is 50 to 150 ° C. (preferably 50 to 100 ° C.), and propylene and ethylene partial pressures are each 0.3 to 4.5 MPa (preferably Is produced by polymerizing a propylene-ethylene copolymer under the conditions of 0.5 to 3.5 MPa).

(3)B層用樹脂組成物
本発明のダイシングフイルムに用いるB層用樹脂組成物は、前記ポリプロピレン系樹脂0〜20重量%及び前記オレフィン系熱可塑性エラストマー100〜80重量%を含み、前記ポリプロピレン系樹脂0〜10重量%及びオレフィン系熱可塑性エラストマー90〜100重量%を含むことが好ましく、前記ポリプロピレン系樹脂0〜5重量%及びオレフィン系熱可塑性エラストマー95〜100重量%を含むことがより好ましい。B層用樹脂組成物の組成が前記範囲内であることにより、半導体ウエハのダイシング工程において切削屑の発生を抑制することができるため好ましい。
(3) Resin composition for B layer The resin composition for B layer used for the dicing film of the present invention comprises 0 to 20% by weight of the polypropylene resin and 100 to 80% by weight of the olefinic thermoplastic elastomer. The resin preferably contains 0 to 10% by weight of the olefin resin and 90 to 100% by weight of the olefinic thermoplastic elastomer, and more preferably contains 0 to 5% by weight of the polypropylene resin and 95 to 100% by weight of the olefinic thermoplastic elastomer. . It is preferable that the composition of the resin composition for the B layer is within the above range because generation of cutting waste can be suppressed in the dicing process of the semiconductor wafer.

1.3 C層
C層は、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物0〜40重量%及びポリプロピレン系樹脂100〜60重量%を含む樹脂組成物からなるブロッキング防止層である。
1.3 C layer C layer is composed of a resin composition containing a copolymer of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon or hydrogenated product thereof of 0 to 40% by weight and polypropylene resin of 100 to 60% by weight. Anti-blocking layer.

C層で用いられるビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物、ポリプロピレン系樹脂としては、前記A層で用いることができるものと同じものを挙げることができる。   Examples of the copolymer of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon used in the C layer or a hydrogenated product thereof, and the polypropylene-based resin include the same ones that can be used in the A layer.

本発明のダイシングフイルムに用いるC層用樹脂組成物は、前記ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物0〜40重量%及び前記ポリプロピレン系樹脂100〜60重量%を含み、前記ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物0〜30重量%及びポリプロピレン系樹脂70〜100重量%を含むことが好ましく、前記ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物10〜20重量%及びポリプロピレン系樹脂80〜90重量%を含むことがより好ましい。C層用樹脂組成物の組成が前記範囲内であることにより、ブロッキングが抑制されるため好ましい。   The resin composition for the C layer used in the dicing film of the present invention is a copolymer of the vinyl aromatic hydrocarbon and the conjugated diene hydrocarbon or a hydrogenated product thereof of 0 to 40% by weight and the polypropylene resin of 100 to 60% by weight. The vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon copolymer or hydrogenated product thereof is preferably 0 to 30% by weight and polypropylene resin 70 to 100% by weight. More preferably, it contains a copolymer of hydrogen and a conjugated diene hydrocarbon or a hydrogenated product thereof in an amount of 10 to 20% by weight and a polypropylene resin in an amount of 80 to 90% by weight. When the composition of the resin composition for the C layer is within the above range, blocking is preferably suppressed.

C層には、必要に応じさらに帯電防止剤を含んでいてもよい。C層で用いられる帯電防止剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系等の公知の界面活性剤を選択できるが、とりわけ持続性、耐久性の点から、ポリエーテルエステルアミド樹脂、親水性ポリオレフィン樹脂等のノニオン系界面活性剤が好適である。   The C layer may further contain an antistatic agent as necessary. As the antistatic agent used in the C layer, known surfactants such as anionic, cationic, and nonionic surfactants can be selected. In particular, from the viewpoint of durability and durability, polyether ester amide resins and hydrophilic polyolefins are used. Nonionic surfactants such as resins are suitable.

さらに、C層には、本発明の効果に悪影響を与えない範囲で、さらにアンチブロッキング剤等を加えてもよい。アンチブロッキング剤を添加することにより、ダイシング用基体フイルムをロール状に巻き取った場合等のブロッキングが抑えられ好ましい。アンチブロッキング剤としては、無機系または有機系の微粒子を例示することができる。   Furthermore, an antiblocking agent or the like may be further added to the C layer as long as the effects of the present invention are not adversely affected. By adding an anti-blocking agent, blocking such as when the substrate film for dicing is rolled up is preferably suppressed. Examples of the anti-blocking agent include inorganic or organic fine particles.

1.4 各層の厚さ
ダイシング用基体フイルムの厚さは、ダイシングブレードの切り込み深さよりも厚くし、且つ容易にロ−ル状に巻くことができる程度であれば良く、特に限定されるものではないが、例えば50〜300μmが好ましく、60〜250μmがより好ましく、70〜200μmがさらに好ましい。
1.4 Thickness of each layer The thickness of the substrate film for dicing should be thicker than the cutting depth of the dicing blade and can be easily wound into a roll, and is not particularly limited. However, for example, 50 to 300 μm is preferable, 60 to 250 μm is more preferable, and 70 to 200 μm is more preferable.

また、ダイシング用基体フイルム全厚さに対し、A層の厚さの割合は5〜40%が好ましく、5〜30%がより好ましく、B層の厚さの割合は20〜90%が好ましく、40〜90%がより好ましく、C層の厚さの割合は通常5〜40%が好ましく、5〜30%がより好ましい。   Further, the ratio of the thickness of the A layer to the total thickness of the substrate film for dicing is preferably 5 to 40%, more preferably 5 to 30%, and the ratio of the thickness of the B layer is preferably 20 to 90%. It is more preferably 40 to 90%, and the ratio of the thickness of the C layer is usually preferably 5 to 40%, more preferably 5 to 30%.

ダイシング用基体フイルムの具体例としては、ダイシング用基体フイルムの全厚さが120〜180μmの場合、A層の厚さは、6〜72μm、好ましくは6〜54μmである。B層の厚さは、24〜162μm、好ましくは48〜162μmである。C層の厚さは、6〜72μm、好ましくは6〜54μmである。   As a specific example of the substrate film for dicing, when the total thickness of the substrate film for dicing is 120 to 180 μm, the thickness of the layer A is 6 to 72 μm, preferably 6 to 54 μm. The thickness of the B layer is 24-162 μm, preferably 48-162 μm. The thickness of the C layer is 6 to 72 μm, preferably 6 to 54 μm.

A層及びB層の合計厚さはダイシングブレードの切り込みの最深部の深さよりも厚くし、ダイシングブレードの切込みがC層にまで達しない厚さとすることが必要である。このような厚さのA層及びB層を設けることにより基材フイルムとしての切削屑はほとんど発生しない。   The total thickness of the A layer and the B layer needs to be thicker than the depth of the deepest part of the dicing blade incision, so that the incision of the dicing blade does not reach the C layer. By providing the A layer and the B layer having such a thickness, cutting scraps as a base film are hardly generated.

2.ダイシング用基体フイルムの製造方法
本発明の3層構成のダイシング用基体フイルムは、A層、B層及びC層用樹脂組成物を多層共押出成形して製造する。具体的には、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物30〜80重量%及びポリプロピレン系樹脂70〜20重量%を含むA層用樹脂組成物、ポリプロピレン系樹脂0〜20重量%及びオレフィン系熱可塑性エラストマー100〜80重量%を含むB層用樹脂組成物、及びビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物0〜40重量%及びポリプロピレン系樹脂100〜60重量%を含むC層用樹脂組成物を、A層/B層/C層の順に共押出成形して製造する。
2. Manufacturing Method of Dicing Substrate Film The three-layer dicing substrate film of the present invention is manufactured by multilayer coextrusion molding of the resin composition for the A layer, B layer and C layer. Specifically, a resin composition for layer A comprising a copolymer of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon or a hydrogenated product thereof of 30 to 80% by weight and polypropylene resin of 70 to 20% by weight, polypropylene B layer resin composition containing 0 to 20% by weight of resin and 100 to 80% by weight of olefinic thermoplastic elastomer, and copolymer of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon or hydrogenated product thereof 0 to 40 A resin composition for a C layer containing 100% by weight and 100% by weight of a polypropylene resin is manufactured by coextrusion molding in the order of A layer / B layer / C layer.

A層、B層及びC層用樹脂組成物は、それぞれ所定割合樹脂をドライブレンド又は溶融混練し調製することができる。A層、B層及びC層用樹脂組成物は、前述した組成物を使用することができる。   The resin composition for the A layer, the B layer, and the C layer can be prepared by dry blending or melt-kneading a predetermined ratio of resin. The composition mentioned above can be used for the resin composition for A layer, B layer, and C layer.

また、本発明においては、A層用樹脂組成物とC層用樹脂組成物を同じ組成とすることができる。   Moreover, in this invention, the resin composition for A layers and the resin composition for C layers can be made into the same composition.

上記した各層用樹脂をそれぞれこの順でスクリュー式押出機に供給し、180〜225℃で多層Tダイからフイルム状に押出し、これを50〜70℃の冷却ロールに通しながら冷却して実質的に無延伸で引き取る。或いは、各層用樹脂を一旦ペレットとして取得した後、上記の様に押出成形してもよい。   The above-mentioned resins for each layer are respectively supplied to the screw type extruder in this order, extruded from a multilayer T die at 180 to 225 ° C., and cooled while passing through a cooling roll at 50 to 70 ° C. Take it unstretched. Alternatively, the resin for each layer may be once obtained as pellets and then extruded as described above.

なお、引き取りの際に実質的に無延伸とするのは、ダイシング後に行うフイルムの拡張を有効に行うためである。この実質的に無延伸とは、無延伸、或いは、ダイシングフイルムの拡張に悪影響を与えない程度の僅少の延伸を含むものである。通常、フイルム引き取りの際に、たるみの生じない程度の引っ張りであればよい。   The reason why the film is substantially unstretched at the time of taking is to effectively extend the film after dicing. This substantially non-stretching includes non-stretching or slight stretching that does not adversely affect the expansion of the dicing film. In general, the film may be pulled to such an extent that no sagging occurs during film take-up.

3.ダイシングフイルム
上記により得られるダイシング用基体フイルムは、そのフイルム上に公知のアクリル系粘着剤等をコートして粘着剤層が形成され、さらに必要に応じ該アクリル系粘着剤層(粘着剤層)上に離型フイルムが設けられて、ダイシングフイルムが製造される。つまり、ダイシング用基体フイルムのA層上に、アクリル系粘着剤層及び離型フイルムが形成される。
3. Dicing film The substrate film for dicing obtained as described above is coated with a known acrylic pressure-sensitive adhesive or the like on the film to form a pressure-sensitive adhesive layer, and if necessary, on the acrylic pressure-sensitive adhesive layer (pressure-sensitive adhesive layer) A mold release film is provided to manufacture a dicing film. That is, an acrylic pressure-sensitive adhesive layer and a release film are formed on the A layer of the substrate film for dicing.

アクリル系粘着剤層で用いられる粘着剤成分としては、公知のものが用いられ、例えば、特開平5−211234号公報等に記載された粘着剤成分を用いることができる。なお、離型フイルムも公知のものが用いられる。   As the pressure-sensitive adhesive component used in the acrylic pressure-sensitive adhesive layer, known ones can be used. For example, the pressure-sensitive adhesive component described in JP-A No. 5-21234 can be used. A known release film is also used.

アクリル系粘着剤の具体的例としては、(メタ)アクリル酸エステルを主たる構成単量体単位とする単独重合体および共重合体から選ばれたアクリル系重合体、その他の官能性単量体との共重合体、およびこれら重合体の混合物が用いられる。例えば、(メタ)アクリル酸エステルとしては、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸2−ヒドロキシエチルなどが好ましく使用できる。アクリル系重合体の分子量は、1.0×10〜10.0×10であり、好ましくは、4.0×10〜8.0×10である。 Specific examples of acrylic pressure-sensitive adhesives include acrylic polymers selected from homopolymers and copolymers having (meth) acrylic acid ester as the main constituent monomer unit, and other functional monomers And a mixture of these polymers. For example, (meth) acrylic acid ester includes ethyl methacrylate, butyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, glycidyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, Glycidyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate and the like can be preferably used. The molecular weight of the acrylic polymer is 1.0 × 10 5 to 10.0 × 10 5 , and preferably 4.0 × 10 5 to 8.0 × 10 5 .

また、上記のような粘着剤層中に放射線重合性化合物を含ませることによって、ウエハを切断分離した後、該粘着剤層に放射線を照射することによって、粘着力を低下させることができる。このような放射線重合性化合物としては、たとえば、光照射によって三次元網状化しうる分子内に光重合性炭素−炭素二重結合を少なくとも2個以上有する低分子量化合物が広く用いられる(例えば、特開昭60−196956号公報、特開昭60−223139号公報等)。   In addition, by including a radiation polymerizable compound in the pressure-sensitive adhesive layer as described above, the adhesive strength can be reduced by irradiating the pressure-sensitive adhesive layer with radiation after the wafer is cut and separated. As such a radiation polymerizable compound, for example, a low molecular weight compound having at least two photopolymerizable carbon-carbon double bonds in a molecule that can be three-dimensionally reticulated by light irradiation is widely used (for example, JP JP-A-60-196956, JP-A-60-223139, etc.).

具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートあるいは1,4−ブチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、市販のオリゴエステルアクリレートなどが用いられる。   Specifically, trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate or 1,4-butylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, commercially available oligoester acrylate, and the like are used.

さらに、放射線重合性化合物として、上記のようなアクリレート系化合物のほかに、ウレタンアクリレート系オリゴマーを用いることもできる。ウレタンアクリレート系オリゴマーは、ポリエステル型またはポリエーテル型などのポリオール化合物と、多価イソシアネート化合物とを反応させて得られる末端イソシアネートウレタンプレポリマーに、ヒドロキシル基を有するアクリレートあるいはメタクリレートを反応させて得られる。このウレタンアクリレート系オリゴマーは、炭素−炭素二重結合を少なくとも1個以上有する放射線重合性化合物である。   Furthermore, in addition to the acrylate compounds as described above, urethane acrylate oligomers can also be used as the radiation polymerizable compound. The urethane acrylate oligomer is obtained by reacting an acrylate or methacrylate having a hydroxyl group with a terminal isocyanate urethane prepolymer obtained by reacting a polyol compound such as polyester type or polyether type with a polyvalent isocyanate compound. This urethane acrylate oligomer is a radiation polymerizable compound having at least one carbon-carbon double bond.

さらに、粘着剤層中には、上記のような粘着剤と放射線重合性化合物とに加えて、必要に応じ、放射線照射により着色する化合物(ロイコ染料等)、光散乱性無機化合物粉末、砥粒(粒径0.5〜100μm程度)、イソシアネート系硬化剤、UV開始剤等を含有させることもできる。   Further, in the pressure-sensitive adhesive layer, in addition to the pressure-sensitive adhesive and the radiation-polymerizable compound as described above, a compound (such as a leuco dye) that is colored by radiation irradiation, a light-scattering inorganic compound powder, and abrasive grains, as necessary. (A particle size of about 0.5 to 100 μm), an isocyanate curing agent, a UV initiator, and the like can also be contained.

ダイシングフイルムは、通常テープ状にカットされたロール巻き状態で取得される。   The dicing film is usually obtained in a rolled state cut into a tape shape.

以下に、本発明を、実施例及び比較例を用いてより詳細に説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail using Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to these Examples.

実施例1〜9、比較例1〜6
(樹脂組成物の製造)
表1に示すそれぞれの原料を表1に示す配合割合でドライブレンドし、樹脂組成物とした。なお、表1中に記載された原料は、次の通りである。
Examples 1-9, Comparative Examples 1-6
(Manufacture of resin composition)
Each raw material shown in Table 1 was dry blended at the blending ratio shown in Table 1 to obtain a resin composition. In addition, the raw material described in Table 1 is as follows.

<ポリプロピレン系樹脂>
サンアロマーPC412A(プロピレン単独重合体、MFR:2.3g/10分(230℃)、融点:160℃、サンアロマー(株)製)。
<Polypropylene resin>
Sun Allomer PC412A (propylene homopolymer, MFR: 2.3 g / 10 min (230 ° C.), melting point: 160 ° C., manufactured by Sun Allomer Co., Ltd.).

<ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体の水添物>
SEBS(スチレン−ブタジエン共重合体水素添加物、MD6945(商品名)、MFR:3.0g/10分(230℃)、クレイトンポリマージャパン(株)製)
SEPS(スチレン−イソプレン共重合体水素添加物、ハイブラー7311(商品名)、比重:0.89、MFR:2.0g/10分(230℃)、(株)クラレ製)
<Hydrogenated copolymer of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon>
SEBS (styrene-butadiene copolymer hydrogenated product, MD6945 (trade name), MFR: 3.0 g / 10 min (230 ° C.), manufactured by Kraton Polymer Japan Co., Ltd.)
SEPS (Styrene-isoprene copolymer hydrogenated product, Hibler 7311 (trade name), specific gravity: 0.89, MFR: 2.0 g / 10 min (230 ° C.), manufactured by Kuraray Co., Ltd.)

<オレフィン系熱可塑性エラストマー>
ゼラスZT813 (ポリプロピレン系樹脂成分に、プロピレンとエチレンとの共重合体ゴムが微分散している海−島構造を有する熱可塑性エラストマー、三菱化学(株)製)。
ゼラス7023 (ポリプロピレン系樹脂成分に、プロピレンとエチレンとの共重合体ゴムが微分散している海−島構造を有する熱可塑性エラストマー、三菱化学(株)製)。
<Olefin-based thermoplastic elastomer>
Zelas ZT813 (a thermoplastic elastomer having a sea-island structure in which a copolymer resin of propylene and ethylene is finely dispersed in a polypropylene resin component, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).
Zelas 7023 (a thermoplastic elastomer having a sea-island structure in which a copolymer resin of propylene and ethylene is finely dispersed in a polypropylene resin component, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation).

(グラインド用基体フイルムの製造)
A層用樹脂組成物、B層用樹脂組成物及びC用樹脂組成物をこの順でバレル温度180〜220℃の多層押出機に供給した。230℃のTダイスから押出し、設定温度40℃の引き取りロールにて冷却固化して、無延伸の状態で巻き取った。得られたフイルムのそれぞれの層の厚みは、表1に示す通りである。
(Manufacture of substrate film for grinding)
The resin composition for A layer, the resin composition for B layer, and the resin composition for C were supplied in this order to a multilayer extruder having a barrel temperature of 180 to 220 ° C. It was extruded from a 230 ° C. T-die, cooled and solidified with a take-up roll having a set temperature of 40 ° C., and wound up in an unstretched state. The thickness of each layer of the obtained film is as shown in Table 1.

実施例1〜9及び比較例1〜6で得られたフイルムについて、下記評価方法で評価を行った。その結果を表1に示す。   About the film obtained in Examples 1-9 and Comparative Examples 1-6, it evaluated by the following evaluation method. The results are shown in Table 1.

評価方法
(各層の膜厚測定)
上記実施例1〜9及び比較例1〜6で得られた多層フイルムの任意の箇所において、幅方向に5箇所から、5つの測定サンプルをとった。各測定サンプルについて、マイクロメータを用いて、フイルムの総厚みを測定した。
Evaluation method (measurement of film thickness of each layer)
In any part of the multilayer film obtained in Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 6, five measurement samples were taken from five places in the width direction. About each measurement sample, the total thickness of the film was measured using the micrometer.

その後、各測定サンプルをミクロトームでカットし、フイルムの断面観察ができるようにした。フイルム断面を偏光顕微鏡にて観察し、A層〜C層の厚み比率を測定した。それぞれ測定サンプルの総厚みと各層の厚み比率より、A層〜C層のそれぞれの厚みを算出した。5つの測定サンプルから測定された各層の厚みについて、平均値を求めた。   Thereafter, each measurement sample was cut with a microtome so that the cross section of the film could be observed. The cross section of the film was observed with a polarizing microscope, and the thickness ratio of the A layer to the C layer was measured. Each thickness of the A layer to the C layer was calculated from the total thickness of the measurement sample and the thickness ratio of each layer. The average value was calculated | required about the thickness of each layer measured from five measurement samples.

(切削屑の評価方法)
上記実施例1〜9及び比較例1〜6で得られた多層フイルムの一部を直径180mmの大きさの円形にカットして測定用試料とし、研削装置((株)ディスコ製 AUTOMATIC DICING SAW DAD-2H/6)にセットし、以下の条件で基体フイルムへの切削を行った。
切削条件;
回転数:30,000rpm
速度:80mm/sec
カットモード:10mm□のフルオートダイシング
カット深さ:100μm
ブレード:(株)ディスコ製 B1A801 SDC 400N50M51(外径56mm×厚み0.2mm×内径40mm)
水量:1.2L/min
(Evaluation method of cutting waste)
A part of the multilayer film obtained in Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 6 was cut into a circular shape with a diameter of 180 mm to obtain a measurement sample, and a grinding apparatus (manufactured by DISCO Corporation AUTOMATIC DICING SAW DAD). -2H / 6), and the substrate film was cut under the following conditions.
Cutting conditions;
Rotation speed: 30,000rpm
Speed: 80mm / sec
Cut mode: Full auto dicing cut depth of 10mm □: 100μm
Blade: B1A801 SDC 400N50M51 manufactured by Disco Corporation (outer diameter 56 mm x thickness 0.2 mm x inner diameter 40 mm)
Water volume: 1.2L / min

次に試料を研削装置から取り外し、クリーンブース内で24時間常温乾燥させた後、デジタルマイクロスコープ(VHX−100、(株)キーエンス製)を用いて、倍率150倍で切削屑の有無の評価を行った。評価は、試料の表面を任意に10箇所観察し、以下の評価基準により評価した。
○:切削屑が全くない。
×:切削屑がわずかでもあると認められる。
Next, after removing the sample from the grinding device and drying it at room temperature in a clean booth for 24 hours, using a digital microscope (VHX-100, manufactured by Keyence Co., Ltd.), evaluate the presence or absence of cutting waste at a magnification of 150 times. went. The evaluation was performed by observing the surface of the sample arbitrarily at 10 locations and evaluating according to the following evaluation criteria.
○: No cutting waste.
X: It is recognized that there is even a small amount of cutting waste.

(エキスパンド性の評価方法)
得られたダイシングシート用基体フイルムを300mm×300mmの大きさにカットし試料片とする。次に、試料片の全面に10mm×10mmの格子状に線を入れる。中央部に直径200mmの穴の空いた2枚の枠を用意し、穴の位置が丁度重なるように、前記試験片を間に挟んで、試験片が動かないように固定する。その後、この枠を水平に固定する。この枠の下側、穴の中央部に外径150mm、内径140mmの円筒をセットする。次にこの円筒を200cm/分の速度で40mm押し上げることにより、該試料を拡張する。そして、この押し上げた状態で中央に位置している格子の縦方向と横方向の長さを測定し、原試料に対する各々の伸度(%)を求め、その伸度の比率を算出し、以下の評価基準により評価した。
○:比率が1.3以下(拡張性が優れる)。
×:比率が1.3を超える(拡張性なし)。
(Expanding evaluation method)
The obtained substrate film for dicing sheet is cut into a size of 300 mm × 300 mm to obtain a sample piece. Next, lines are put in a 10 mm × 10 mm grid on the entire surface of the sample piece. Two frames with a hole with a diameter of 200 mm are prepared in the center, and the test piece is sandwiched between them so that the positions of the holes are exactly overlapped, and fixed so that the test piece does not move. Then, this frame is fixed horizontally. A cylinder having an outer diameter of 150 mm and an inner diameter of 140 mm is set on the lower side of the frame and at the center of the hole. Next, the sample is expanded by pushing up the cylinder by 40 mm at a speed of 200 cm / min. Then, the longitudinal and lateral lengths of the lattice positioned in the center in this pushed-up state are measured, the respective elongation (%) with respect to the original sample is obtained, and the ratio of the elongation is calculated, The evaluation criteria were evaluated.
○: Ratio is 1.3 or less (extensibility is excellent).
X: Ratio exceeds 1.3 (no expandability).

(ブロッキングの評価方法)
得られたダイシングシート基体フイルムの任意の場所から、たて100mm×よこ30mm(フイルムの流れ方向をたて方向、幅方向をよこ方向としてサンプルを切り出した)の大きさに測定用サンプルを2枚切り出した。2枚の測定用サンプルを、同一面(冷却ロールと接する面)同士がたて40mm×よこ30mmの面積で重なり合うようにし、この重なり合った測定用サンプルを2枚のガラス板で挟み、その上から、サンプルが重なり合っている部分に600gの重りをのせた。これを40℃の恒温槽の中に入れ、7日間放置した。7日後、恒温槽より取り出したサンプルを、新東科学(株)製剥離試験器(Peeling TESTER HEIDON−17)にセットし、引張り速度200mm/分で、180度せん断剥離強度を測定した。測定値が、4.9N/10mm以下であれば、ブロッキングなしとした。
(Blocking evaluation method)
Two samples for measurement were measured from an arbitrary position of the obtained dicing sheet substrate film to a size of 100 mm × 30 mm wide (the sample was cut out with the film flow direction as the vertical direction and the width direction as the horizontal direction). Cut out. Two measurement samples are placed so that the same surface (surface in contact with the cooling roll) overlaps with an area of 40 mm × 30 mm wide, and the overlapped measurement samples are sandwiched between two glass plates, from above A 600 g weight was placed on the part where the samples overlapped. This was placed in a constant temperature bath at 40 ° C. and left for 7 days. Seven days later, the sample taken out from the thermostatic chamber was set in a peel tester (Peeling TESTER HEIDON-17) manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd., and the 180 degree shear peel strength was measured at a pulling rate of 200 mm / min. When the measured value was 4.9 N / 10 mm or less, no blocking was considered.

Figure 2011023632
Figure 2011023632

Claims (4)

A層/B層/C層の順に積層されてなるダイシング用基体フイルムであって、
A層は、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物30〜80重量%及びポリプロピレン系樹脂70〜20重量%を含む樹脂組成物からなり、
B層は、ポリプロピレン系樹脂0〜20重量%及びオレフィン系熱可塑性エラストマー100〜80重量%を含む樹脂組成物からなり、
C層は、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物0〜40重量%及びポリプロピレン系樹脂100〜60重量%を含む樹脂組成物からなる、
ダイシング用基体フイルム。
A substrate film for dicing laminated in the order of A layer / B layer / C layer,
The layer A consists of a resin composition containing a copolymer of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon or hydrogenated product thereof in an amount of 30 to 80% by weight and a polypropylene resin of 70 to 20% by weight,
B layer consists of a resin composition containing 0 to 20% by weight of a polypropylene resin and 100 to 80% by weight of an olefin thermoplastic elastomer,
Layer C is composed of a resin composition containing a copolymer of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon or hydrogenated product thereof of 0 to 40% by weight and polypropylene resin of 100 to 60% by weight,
Base film for dicing.
前記ダイシング用基体フイルムの全厚さが50〜300μmであり、ダイシング用基体フイルムの全厚さに対し、A層の厚さが5〜40%であり、B層の厚さが20〜90%である請求項1に記載のダイシング用基体フイルム。 The total thickness of the substrate film for dicing is 50 to 300 μm, the thickness of the A layer is 5 to 40%, and the thickness of the B layer is 20 to 90% with respect to the total thickness of the substrate film for dicing. The substrate film for dicing according to claim 1, wherein 請求項1又は2に記載のダイシング用基体フイルムのA層上にさらに粘着剤層を有するダイシングフイルム。 A dicing film further comprising an adhesive layer on the A layer of the substrate film for dicing according to claim 1. A層/B層/C層の順に積層されてなるダイシング用基体フイルムの製造方法であって、ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物30〜80重量%及びポリプロピレン系樹脂70〜20重量%を含むA層用樹脂組成物、
ポリプロピレン系樹脂0〜20重量%及びオレフィン系熱可塑性エラストマー100〜80重量%を含むB層用樹脂組成物、及び
ビニル芳香族炭化水素と共役ジエン炭化水素との共重合体又はその水添物0〜40重量%及びポリプロピレン系樹脂100〜60重量%を含むC層用樹脂組成物を、
A層/B層/C層の順に共押出成形することを特徴とする製造方法。
A method for producing a substrate film for dicing laminated in the order of A layer / B layer / C layer, comprising a copolymer of vinyl aromatic hydrocarbon and conjugated diene hydrocarbon or hydrogenated product thereof in an amount of 30 to 80% by weight And a layer A resin composition comprising 70 to 20% by weight of a polypropylene resin,
B-layer resin composition containing 0 to 20% by weight of a polypropylene resin and 100 to 80% by weight of an olefinic thermoplastic elastomer, and a copolymer of a vinyl aromatic hydrocarbon and a conjugated diene hydrocarbon or a hydrogenated product thereof 0 A resin composition for the C layer containing -40 wt% and polypropylene resin 100-60 wt%,
A production method comprising co-extrusion molding in the order of A layer / B layer / C layer.
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