JP4607551B2 - 気相成長装置の排ガス除害装置の運転方法 - Google Patents

気相成長装置の排ガス除害装置の運転方法 Download PDF

Info

Publication number
JP4607551B2
JP4607551B2 JP2004327791A JP2004327791A JP4607551B2 JP 4607551 B2 JP4607551 B2 JP 4607551B2 JP 2004327791 A JP2004327791 A JP 2004327791A JP 2004327791 A JP2004327791 A JP 2004327791A JP 4607551 B2 JP4607551 B2 JP 4607551B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exhaust gas
vapor phase
phase growth
blower
gas abatement
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2004327791A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2006137984A (ja
Inventor
公昭 米谷
映徳 生方
仲男 阿久津
康弘 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiyo Nippon Sanso Corp
Original Assignee
Taiyo Nippon Sanso Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taiyo Nippon Sanso Corp filed Critical Taiyo Nippon Sanso Corp
Priority to JP2004327791A priority Critical patent/JP4607551B2/ja
Publication of JP2006137984A publication Critical patent/JP2006137984A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4607551B2 publication Critical patent/JP4607551B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

この発明は、MOCVD(有機金属化学気相堆積法)装置などの気相成長装置に付設される排ガス除害装置の運転方法に関し、気相成長装置を通常運転から省エネルギー運転に切り替える際、排ガス除害装置の送風機の回転数を徐々にかつ連続的に下げることにより、運転切替時における気相成長装置への悪影響を避けるようにしたものである。
MOCVD装置などの気相成長装置から排出される排気ガスは、これに付設されている排ガス除害装置に送られて、排気ガス中の可燃性成分や腐食性成分が除害処理されたのち、外部に排出されている。
図1は、気相成長装置およびこれに付設された排ガス除害装置の例を示すもので、符号1は、気相成長装置の例としてのMOCVD装置を示す。
MOCVD装置1の稼動に伴い発生する排ガスは、MOCVD装置1から管2を経て、排ガス除害装置3に送られる。排ガス除害装置3は、熱交換機4、ヒーター5、触媒筒6および送風機7を備えたものである。
排ガス除害装置3に導入された排ガスは、まず熱交換機4に入り、ここで戻りガスと熱交換されて加熱され、さらにヒーター5によって触媒筒6内での触媒反応が進行するに十分な温度まで加熱されて触媒筒6に送られる。
触媒筒6内には、パラジウム、白金などの触媒が充填されており、ここに送り込まれた排ガス中の可燃性ガス、腐食性ガスが酸化されて、無害化される。
触媒筒6からの無害化された排気ガスは、熱交換器4に送られ、ここでMOCVD装置1からの排気ガスと熱交換されて冷却され、送風機7に吸引される。
この送風機7は、MOCVD装置1からの排気ガスを排ガス除害装置3に吸引し、MOCVD装置1内を負圧とし、さらに無害化した排ガスを外部に排出するためのもので、熱交換機4からの無害化された排ガスが送風機7のより外部に排出されるようになっている。
このようなMOCVD装置1および排ガス除害装置3の運転については、通常運転と省エネルギー運転とがある。
通常運転とは、MOCVD装置1においては、これに成膜用の原料ガス、例えばトリメチルガリウム、アンモニア、窒素などを供給して、サファイア基板等の基板上に窒化ガリウムなどの薄膜を成膜、堆積する運転状態である。
また、排ガス除害装置3においては、その送風機7を高速で回転させて、MOCVD装置1からの排気ガスを完全に吸引し、ヒーター5を動作させて除害処理を完全に行う運転状態である。
また、省エネルギー運転とは、MOCVD装置1においては、原料ガスの供給を停止し、成膜を行わず、装置1内の各部分に吸着されている原料ガスの一部、例えばアンモニアなどを窒素などの不活性ガスを流して、脱着する運転状態であり、排ガス除害装置3においては、送風機7を低速で回転させて、ヒーター5を動作させず、脱着ガスを除害処理する運転状態である。
そして、通常運転から省エネルギー運転に切り替える時には、上述のように排ガス除害装置3の送風機7の回転数を高速から低速に下げることになる。
従来は、この送風機7の回転数の低下は、制御部8からの制御信号に基づき、1秒ないし3秒の比較的短時間の間で、その回転数を3分の1ないし5分の1に急速に低下させるようにして行っていた。
しかしながら、このような短時間で送風機7の回転数を低下させると、排気ガスの吸引圧力が急激に低下し、管2内において大きな圧力変動が生じ、MOCVD装置1へ排気ガスが逆流し、MOCVD装置1に悪影響を与える恐れがあった。
特許第341104号公報
よって、本発明における課題は、気相成長装置および排ガス除害装置を通常運転から省エネルギー運転に切り替える際に、排ガス除害装置から排気ガスが気相成長装置に逆流しないようにし、気相成長装置に悪影響を与えないようにすることにある。
かかる課題を解決するため、
請求項1にかかる発明は、気相成長装置の排ガス除害装置の運転方法であって、気相成長装置を、これに成膜用の原料ガスを供給して、基板上に薄膜を成膜、堆積する運転状態である通常運転から、原料ガスの供給を停止し、成膜を行わず、装置内の各部分に吸着されている原料ガスの一部を、不活性ガスを流して脱着する運転状態である省エネルギー運転に切り替える際、排ガス除害装置の送風機の回転数を1〜5分間かけて徐々にかつ連続的に下げることを特徴とする気相成長装置の排ガス除害装置の運転方法である。
請求項2にかかる発明は、送風機の回転数を1〜5分間かけて徐々にかつ連続的に3分の1ないし5分の1に下げることを特徴とする請求項1記載の気相成長装置の排ガス除害装置の運転方法である。
本発明によれば、送風機の回転数をゆっくりと時間をかけて低下させることになり、排気ガスの吸引圧力の低下が急激に生ずることがなく、これにより排気ガスの気相成長装置への逆流が抑えられ、気相成長装置に悪影響を与えることがない。
以下、本発明を詳しく説明する。
本発明の排ガス除害装置の運転方法は、例えば、図1に示した装置において、MOCVD装置1および排ガス除害装置3を通常運転から省エネルギー運転に切り替える際、排ガス除害装置3の送風機7の回転数を、例えば図2の実線で示したように低下させる。
すなわち、運転切替開始後から1分間ないし5分間をかけて、回転数を約50rpmから約10rpmに徐々にゆっくりと、直線的に変化させて低下させていく。
この送風機7の回転数の高速から低速への変更における回転数の変化は、高速での回転数をArpmとすると、低速での回転数がA/3〜A/5rpmとなるように定められる。また、この回転数の変化にかける時間は、1分間ないし5分間とされ、1分未満であると回転数の低下が急速になり、吸引圧力の変化が激しくなって好ましくない。
このような送風機7の回転数の緩慢な低下動作は、通常のインバータ制御などで可能であり、運転切替の信号を制御部8に入力すれば、予め設定されたプログラム制御によって自動的に行うことができる。
また、図2の破線で示したように、回転数を階段状に低下させると、排気ガスの逆流の可能性が生じ、このような回転数の変更形態は避けるべきである。
このように送風機7の回転数を徐々に低下させることで、送風機7による吸引圧力の低下も徐々に生じることになり、管2内での急激な圧力変動が抑えられ、排ガス除害装置3からMOCVD装置1への排気ガスの逆流が生じなくなる。
このため、排気ガスの逆流に伴って、MOCVD装置1に悪影響が及ぶことがない。
なお、省エネルギー運転から通常運転に運転を切り替える際には、送風機7の回転数を短時間で、低速から高速に変化させても問題はない。
また、本発明の運転方法は、MOCVD装置以外のCVD装置に付設される排ガス除害装置に対しても同様に適用できることは勿論である。
本発明における気相成長装置および排ガス除害装置の構成の例を示す概略構成図である。 本発明における送風機回転数の低下状態を示す図表である。
符号の説明
1・・・MOCVD装置、3・・・排ガス除害装置、7・・・送風機

Claims (2)

  1. 気相成長装置の排ガス除害装置の運転方法であって、気相成長装置を、これに成膜用の原料ガスを供給して、基板上に薄膜を成膜、堆積する運転状態である通常運転から、原料ガスの供給を停止し、成膜を行わず、装置内の各部分に吸着されている原料ガスの一部を、不活性ガスを流して脱着する運転状態である省エネルギー運転に切り替える際、排ガス除害装置の送風機の回転数を1〜5分間かけて徐々にかつ連続的に下げることを特徴とする気相成長装置の排ガス除害装置の運転方法。
  2. 送風機の回転数を1〜5分間かけて徐々にかつ連続的に3分の1ないし5分の1に下げることを特徴とする請求項1記載の気相成長装置の排ガス除害装置の運転方法。
JP2004327791A 2004-11-11 2004-11-11 気相成長装置の排ガス除害装置の運転方法 Expired - Fee Related JP4607551B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004327791A JP4607551B2 (ja) 2004-11-11 2004-11-11 気相成長装置の排ガス除害装置の運転方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004327791A JP4607551B2 (ja) 2004-11-11 2004-11-11 気相成長装置の排ガス除害装置の運転方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006137984A JP2006137984A (ja) 2006-06-01
JP4607551B2 true JP4607551B2 (ja) 2011-01-05

Family

ID=36618991

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004327791A Expired - Fee Related JP4607551B2 (ja) 2004-11-11 2004-11-11 気相成長装置の排ガス除害装置の運転方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4607551B2 (ja)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6150467B2 (ja) * 2012-07-09 2017-06-21 広瀬 幸雄 活性水素含有氷の製造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000107554A (ja) * 1998-10-08 2000-04-18 Japan Pionics Co Ltd 排ガスの浄化方法及び浄化装置
JP2001154739A (ja) * 1999-11-30 2001-06-08 Efutekku Kk 流量制御方法とその制御装置並びにこの制御装置を備えた除害装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000107554A (ja) * 1998-10-08 2000-04-18 Japan Pionics Co Ltd 排ガスの浄化方法及び浄化装置
JP2001154739A (ja) * 1999-11-30 2001-06-08 Efutekku Kk 流量制御方法とその制御装置並びにこの制御装置を備えた除害装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006137984A (ja) 2006-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4911980B2 (ja) 減圧処理装置
JP5456972B2 (ja) 処理システムのオペレーションを制御する方法
JP3945519B2 (ja) 被処理体の熱処理装置、熱処理方法及び記憶媒体
JP4423914B2 (ja) 処理装置及びその使用方法
JP2018050041A5 (ja)
US8349283B2 (en) Metal recovery method, metal recovery apparatus, gas exhaust system and film forming device using same
JP2006303414A (ja) 基板処理システム
CN101053736B (zh) 含有有机溶剂的空气的处理方法
JP4607551B2 (ja) 気相成長装置の排ガス除害装置の運転方法
JP2007165080A5 (ja)
JP5165838B2 (ja) ガス処理システム
JP3363030B2 (ja) 低濃度有機溶剤ガス処理装置及び処理方法
JP2009154091A (ja) 排ガス処理装置および排ガス処理方法、ならびに薄膜形成装置
JP2013015243A (ja) 排気処理システム
JP2001358137A (ja) 半導体装置の製造方法及びその半導体製造装置
JP2004228602A5 (ja)
JP2008282780A (ja) 気体置換装置及び気体置換方法
JP2905126B2 (ja) 気相成長装置
JP2003120918A (ja) 除害装置及び燃焼制御方法及びスクラバー処理制御方法
JP2006332339A (ja) 真空装置及び除害システム
JP2008034462A5 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP2010098092A (ja) 真空ポンプの運転方法及び半導体装置の製造方法
JP2010114188A (ja) 半導体製造装置
KR20040070611A (ko) 냉각수 온도 유지장치
JP2006035183A (ja) 排ガスの除害装置及びその除害方法、電子デバイスの製造システム

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070912

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100527

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100615

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100720

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100914

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101007

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4607551

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131015

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131015

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees