JP4600360B2 - 排ガス浄化装置 - Google Patents
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Description
一般に、タンデム触媒システムはシングル触媒システムよりも排ガス浄化性能に優れており、これは2つの触媒の間に形成される隙間で発生する排ガスのミキシングに起因するものと考えられていた。
これに対し、上述した特許文献1では、排ガスの逆流の影響については何ら考慮されていない。そのため、タンデム触媒システムの排ガス浄化性能を充分に活用できているとはいいがたく、より一層の改良が求められている。
また、該ケーシング内の最前段の触媒の前端縁部が、円錐面状にカットされているのが好ましい。
また、該ケーシング内の最前段の触媒の前端縁部が、曲面状にカットされているのが好ましい。
図2に示すように、エンジン2の排気ポート2aには排気マニホールド4の一端が接続されるとともに、排気マニホールド4の他端には排気管6が接続されている。また、排気管6にはその下流側において図示しないマフラーが接続されている。そして、これら排気マニホールド4及び排気管6により排気通路8が構成されている。また、エンジン2の吸気ポート2bには、吸気通路10が接続されている。
〔温度分布〕
触媒活性を解析するため、タンデム触媒とシングル触媒とについて、実車運転中の触媒内の温度分布を計測した。実車の運転は、過渡運転を含む20km/h走行と、定常運転での20km/h走行とを実施した。
〔考察〕
タンデム触媒はシングル触媒に比べて前段触媒及び後段触媒の各々の容量が小さい。そのため、過渡運転を含む場合においては、加速時・減速時の運転変化の影響を受けて触媒における反応が促進されやすくなることから、タンデム触媒の方がシングル触媒よりも容量が小さい分温度上昇が早くなる可能性がある。しかしながら、熱容量の影響がない定常運転の場合においても、タンデム触媒については、後段触媒だけでなく前段触媒についてもがシングル触媒より高い触媒温度となっていることが特徴的である。このことは、以下に述べる排気逆流(逆流れともいう)の影響が大きいことを示している。
〔排気逆流れ〕
エンジン出口で生成される排ガス流は間歇流である。この排ガス流が排気通路8内に至ると、主に以下(1)〜(3)のような理由から逆流れが発生すると考えられる(図3参照)。
(1)排気弁が開いた後、筒内圧と排圧との差によって生成される筒内への排気逆流。例えば排気弁が開いた後、ピストンが下死点に移動する期間に生成される筒内への排気逆流(図3左側参照)。
(2)バルブオーバラップ期間中に吸気弁へと吹き返す排気流れ(図3右側参照)。
(3)排気管内の排ガスが冷却されることに起因する体積の減少(図3中央参照)。
なお、先に述べたタンデム触媒の前段触媒の温度がシングル触媒に比べて高い要因を特定するために、排気管内のガス流れを、点火スパークを用いた放電タフト法によって観察した。この結果、確かに排気管内では、シリンダから触媒方向に向かう流れ(順流れ)だけでなく、反対方向の流れ(逆流れ)もが発生していることを確認できた。
このとき、排気流れが順流れから逆流れに反転する際には瞬間的に流れが一旦止まるが、その際には上流―下流方向の慣性がないために、前段触媒12と後段触媒14との間に形成された隙間18においては径方向の流れが生じ、ガス濃度の均一化が促進される。
なお、前段触媒12の担体は、例えば、壁厚/セル密度の仕様は30μm/600cpsiであり、後段触媒14の担体は同じく30μm/600cpsiである。ここで、cpsiは1平方インチあたりのセル数を示す単位である。ただし、各触媒12,14の仕様は上記の数値に限定されるものではなく、エンジンの仕様や要求される性能等に応じて種々変更可能であるのは言うまでもない。
エンジン2から排出された間歇的な排ガスは排気通路8を通って触媒16に到達する(図2参照)。すると、触媒16においては、上述した排ガスの逆流により、前段触媒12と後段触媒14との間の隙間18に存在する未反応物質を含む排ガスとその熱が再度前段触媒12に向かうこととなる(図4等参照)。この結果、排ガスは前段触媒12により再度浄化されるとともに、前段触媒12の反応が促進され触媒効率が高められる。
4 排気マニホールド
6 排気管
8 排気通路
10 吸気通路
12 前段触媒(上流側触媒)
14 後段触媒(下流側触媒)
16 排気浄化触媒装置(タンデム触媒)
16a ケーシング
18 隙間
Claims (5)
- 同一のケーシング内に少なくとも2つ以上の触媒が排気流れ方向に沿って直列に配設されるとともに、互いに隣接する各触媒間に隙間が形成された排ガス浄化装置であって、
少なくとも該ケーシング内の最前段の触媒の前端縁部が、該排ガスの逆流の流速分布に略沿った形状に形成されており、
且つ該ケーシング内の最前段の触媒の後端縁部が、平面状に形成されている
ことを特徴とする、排ガス浄化装置。 - 該逆流の流速分布とは、該ケーシングを含む排気通路内に間歇的に生じる該排ガスのエンジン方向への流れの流速分布である
ことを特徴とする、請求項1記載の排ガス浄化装置。 - 該ケーシング内の最前段の触媒の前端縁部が、円錐面状にカットされている
ことを特徴とする、請求項1又は2記載の排ガス浄化装置。 - 該ケーシング内の最前段の触媒の前端縁部が、曲面状にカットされている
ことを特徴とする、請求項1又は2記載の排ガス浄化装置。 - 該触媒はメタル担体により形成されている
ことを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の排ガス浄化装置。
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