JP4598516B2 - 望ましくは受動モードロックを有する短パルス・レーザ装置及びそのための多重反射望遠鏡 - Google Patents

望ましくは受動モードロックを有する短パルス・レーザ装置及びそのための多重反射望遠鏡 Download PDF

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Description

本発明は、望ましくは受動モードロックを有し、長共振器アーム並びに短共振器アームであって、その内の1つはポンプ・ビーム内結合鏡を形成し、他の1つはレーザー・ビーム外結合器を形成する、アームを規定する複数の鏡並びにレーザー結晶を含む共振器を有し、共振器長を増加させ共振器アームの1つに結合された多重反射望遠鏡であって、残りの共振器にレーザー・ビームが外結合されて戻るまで鏡の間で複数回往復して鏡の間の空間に結合されているレーザー・ビームを反射するために鏡を用いて構成されている、望遠鏡を有し、鏡上の連続離心反射点が互いに対してオフセットされている、短パルス・レーザー装置に関する。
同様に、本発明は、共振器長を増加させるための短パルス・レーザー装置のための多重反射望遠鏡であって、残りのレーザー装置にレーザー・ビームが外結合されるまで鏡の間で複数回往復して鏡の間の空間に結合されているレーザー・ビームを反射するために鏡を用いて構成され、鏡上の連続離心反射点が互いに対してオフセットされている、多重反射望遠鏡に関する。
1MWを越えるピーク・パルス出力を有するフェムト秒レンジの極短パルス時間を視野に入れて科学及び産業での最も変化する応用が可能となっているので、近年、短パルス・レーザー装置は、次第に興味深いものになってきた。このように、フェムト秒レンジのパルス時間を有するそのような短パルス・レーザー装置は、電磁放射と物体との相互作用の時間分解研究のために用いることができる。他方で、材料プロセスにおける更なる微細化を視野に入れて、正確さと高速度をもって最も微細な構造を製造することが可能となってきた。高出力パルス・エネルギー及び高反復率を有するフェムト秒レーザー装置は、これに用いるには理想的である。この点で望ましいのは、10MHzのオーダーのパルス反復率において、10fsのオーダーのパルス時間並びに例えば25〜30nJのエネルギーを有するレーザー・パルスを生成するレーザー装置である。通常のチタン−サファイア−fsレーザーにおいて、以前のレーザー装置と比較して、フェムト秒レンジ内で相対的に低い(例えば、80MHzのかわりに10MHzのオーダーである)パルス反復率が望ましい。なぜなら、その場合、より高いパルス・ピーク出力又はより高いパルス・エネルギーを、それぞれ、得ることができるからであり、そのことは、材料の処理にとって興味深い。しかしながら、そのような比較的低い反復率は、レーザー共振器における相対的に長いパルス往復時間を意味し、逆も同様であるが、そのことから、単純な計算によって、共振器長の相当する、例えば2mから16mへの、増加が得られ、それは、レーザー装置の寸法の増加の原因となる。
D. Herriottらによる以前の出版物である"Off-Axis Paths in Spherical Mirror Interferometers", Applied Optics, April 1964, vol. 3, No. 4, pp. 523-526に基づいて、パルスの往復時間の長さは、その後、S.H. Choらによって提案されてきた。文献"Generation of 90-nJ pulses with a 4-MHz repetition-rate Kerr-lens mode-locked Ti:Al2O3 laser operating with net positive and negative intracavity dispersion", Optics Letters, 15 April 2001, vol. 26, No. 8, pp. 560-562において、(A. Poppeらによる文献"A Sub-10 fs, 2.5-MW Ti:Sapphire Oscillator", Ultrafast Optics 1999, pp. 154-157, Ascona, Switzerland(1999)に従って)本明細書では「多重反射望遠鏡」又は短く「望遠鏡」とも称される多重パス共振器部が提供され、それによると、互いに対向して配置された鏡での複数回の反射により、この共振器部における多重パスによってパルスの往復時間を増加させ、それによって反復率を低下させる。
しかしながら、これらの公知のレーザー装置又は望遠鏡にそれぞれ不利なことは、合計でのレーザー装置の寸法が相対的にかさばった装置となってしまうほど、相対的に大きな寸法がレーザー共振器になお要求されることである。更に、公知のレーザー装置においては、レーザー放射の安定性もまた問題をもたらし、安定性の目的のために、残りの共振器にできる限り良好に適合する必要のあるレーザー・ビームの断面像を望遠鏡が生成することを考慮しなければならない。しかしながら、公知の装置においては、望遠鏡の鏡の位置のわずかな不正確さ及び相対的にわずかな共振器長の変化が、共振器の全体的な不安定性という結果と共に、ビーム断面の多大な変化を引き起こす。更に、レーザー・ビームが望遠鏡の鏡の1つにおけるスリットによって望遠鏡部に結合され、鏡における相当するスリットによってこの望遠鏡部から再び外結合される、Choらによる文献から知られるレーザー装置においては、鏡の設計が複雑であり、その製造は問題をもたらす点が不利である。
従って、比較的小さな共振器寸法を有するレーザー装置においてパルスの往復時間を増加させることによる、最初に定義したような短パルス・レーザー装置におけるピーク・パルス出力の増加、更に、残りの共振器に対する望遠鏡の良好な適合を可能にすることが、本発明の目的であり、それにより、レーザー・ビーム生成における高い安定性が可能となり、共振器部に対する適合の正確な微調整も可能となる。更に、共振器の望遠鏡領域におけるレーザー・ビームの内結合及び外結合のための単純な適合化手段を提供することが本発明の目的である。
最初に定義された種類の本発明の短パルス・レーザー装置は、望遠鏡がただ1つの曲面の、望ましくは凹面の鏡、並びに2つの曲面鏡を有する架空の多重反射配置の中央に少なくとも実質的に相当する位置を有する平面鏡を有し、それにより、望遠鏡の1つの曲面鏡は、架空の他の曲面鏡の反射点をも含むことを特徴とする。
同様に、本発明は、最初に定義した望遠鏡であって、望遠鏡の鏡として、ただ1つの曲面の、望ましくは凹面の鏡、並びに平面鏡が与えられ、平面鏡の位置は、2つの曲面鏡を有する架空の多重反射配置の中央に少なくとも実質的に相当し、それにより、望遠鏡の1つの曲面鏡は、架空の他の曲面鏡の反射点をも含むという特徴を含む望遠鏡を提供する。
上述の設計により、望遠鏡は、その寸法が実用的に半分になり、「折り返される」。この策は、曲面鏡上で反射された場合、レーザー・ビームの波面は、同様の曲面の領域を描き、次いで波面は、反対に配置された鏡上で反射されるまで変化して、その鏡の曲率に相当するようになり、その間の中央においては波面が平面である状況が得られるという発見に基づいている。本発明によれば、この場所に平面鏡を配置する。それにより得られる寸法の減少とは別に、平面鏡―通常、レーザー共振器においては、誘電体材料の多層鏡が用いられる―は、曲面の基板(substrate)鏡よりも実質的に好ましい価格で製造することができるという事実においても、実質的な利点が見られる。後に説明するが、1つのビームすなわちビーム・パスを何ら問題なく「分割する」ために、適切な内結合鏡及び外結合鏡を、それぞれ、搭載することができるように、多重反射のコース内に生成される隣接するビーム・パスは、相対的に広く間隔を空けられるので、レーザー・ビームの内結合又は外結合に対して、この内結合及び外結合が曲面鏡と平面鏡との間のほぼ中央において生じるときに、十分な空間が利用可能となるという結果が、更なる利点として、この装置には得られる。他方、これにより、スリット、貫通孔等を何ら用いることなく、多重反射を担う鏡を製造することができる。
できる限り単純にすることができ、動作中に鏡に対してできる限り低い負荷となる、望遠鏡の鏡の設計、並びにレーザー放射の安定性を視野に入れると、1つの曲面鏡上に、この鏡の反射点並びに架空の他の曲面鏡の反射点が、互いに相当する円弧の距離で架空の円周上に交互に配置される場合に、更に有利となる。このように、この装置には、望遠鏡の鏡の間のレーザー放射のビーム・パスの「交互配置(interleaving)」が無く、更に、多重反射の間にレーザー・ビームが従うビーム・パスは、鏡の間でジグザグ状であり、近似的な円筒面又はフラスト(frusto-)円錐面に相当する。
製造技術における応用に対する短パルス・レーザー装置の設計のために特に探求されたパルス往復の増加を視野に入れると、合計8個の反射点を1つの曲面鏡上に与える場合に、さらに好適となる。
レーザー放射の安定性のために、それぞれ、望遠鏡及び共振器の適合の間に、鏡の間の距離及び曲面凹面鏡の曲率半径が、関係
L/R=1±SQRT((1+cosα)/2)
に相当する場合は、好都合である。ただし、
Lは、曲面鏡と平面鏡との間の距離の2倍であり、
Rは、曲面鏡の曲率半径であり、
αは、1つの曲面鏡に実際に結合しかつ円周上に位置する2つのそれぞれの連続する反射点の間の中央角である。
単純で安定な実施形態のために、ここで、望遠鏡の曲面鏡が凹面鏡であり、これに対して、
L/R=1−SQRT((1+cosα)/2)
が成立することを更に条件とする。
既に述べたように、望遠鏡の「折り返し」を有する本発明の設計を用いて、望遠鏡の領域においてレーザー・ビームを内結合及び外結合するための適切な実現性が与えられ、それにより、本発明に従う短パルス・レーザー装置の特に好都合な実施形態は、実質的に曲面鏡と平面鏡との間の中央において、レーザー・ビームに対する内結合鏡及び外結合鏡が、これらの2つの鏡の間のビーム・パスの内の1つのパス内に与えられることを特徴とする。
最後に、安定性を目的として、望遠鏡の残りの共振器に対するより良い適合のために、望遠鏡を長共振器アームに結合すると、特に好都合である。すなわち、長共振器アームにおいて、相対的に大きな断面を有するレーザー・ビームが、望遠鏡部への内結合のために利用可能であり、本望遠鏡の設計を用いると、内結合する間と同じ断面を実質的に有して、ビームが再び外結合されて残りの共振器部に供給される前に、望遠鏡部における異なる反射の間に、レーザー・ビームの断面は、ほんのわずかしか変化しないことが研究によって示された。これにより、ビーム断面は実質的に変化しないので、あらゆる起こり得る軽微な長さの変化、すなわち望遠鏡のレンズの間の距離の軽微な変化、は、ほとんどいかなる効果をも有しない。このように、望遠鏡と残りの共振器との間の最適な適合が実現可能となる。
以下において、図面で説明される望ましい模範的実施形態によって本発明をより詳細に説明するが、本発明をそれらの実施形態に限定するものではない。
図1において、本質的に知られているKerrlensモード・ロック原理が、例えば、短パルスを生成するために用いられる短パルス・レーザー装置11を概略的に説明する。
図1によると、レーザー装置1は、例えばアルゴン・レーザー・ビームである、ポンプ・ビーム13が供給される共振器12で構成される。例えばアルゴン・レーザーである、ポンプ・レーザー自体は、簡単のために図1においては省略されており、それは、従来技術の一部である。
レンズL1及びダイクロイック・ミラーM1を通過した後、ポンプ・ビーム13は、本例ではチタン:サファイア(Ti:S)固体レーザー結晶である、レーザー結晶14を励起する。ダイクロイック・ミラーM1は、ポンプ・ビーム13に対しては透明であるが、Ti:Sレーザー・ビームに対しては高反射性である。共振器ビームである、このレーザー・ビーム15は、次にレーザー鏡M2に当たり、それによってレーザー鏡M3へと反射される。このレーザー鏡M3は、再びレーザー・ビームをレーザー鏡M4へと反射し、そこからレーザー・ビーム15は、レーザー鏡M3、M2、及びM1へと反射されて戻り、再びレーザー結晶14を通過する。鏡M2、M3、及びM4を含むこの共振器部は、示した例においてはZ型である、いわゆる短共振器アーム16を形成する。
鏡M1から、次に、レーザー・ビーム15は、レーザー鏡M5へ、そこからレーザー鏡M6並びに更なるレーザー鏡M7へと反射され、それにより、長共振器アーム17として与えられる、第2のZ型共振器アーム17が形成される。レーザー鏡M7から、レーザー・ビーム15は、図1に単に概略的に示した望遠鏡18に入射し、そこから外結合器として動作する終端鏡OCへと到達する。更には図示されていない鏡であって、レーザー共振器12の方向へ望ましくない反射が生じるのを防ぐため並びに分散(dispersion)補正のために用いられる薄膜技術で形成された鏡、並びに補正プレートCPを用いた、補正機能の提供の下で、この外結合器終端鏡OCを介して、レーザー・ビーム15の一部は、外結合される。
レーザー結晶14は、光学的に非線形な面平行体(plane-parallel body)であり、レーザー・ビーム15の高い電界強度に対しては大きい実効光学厚さを有するが、レーザー・ビームの電界強度が低い所ではわずかな実効厚さしか有しないKerr素子を形成する。Kerr効果として本質的に知られるこの現象は、レーザー・ビーム15の自己集束のために利用される。すなわち、レーザー結晶14は、レーザー・ビーム15に対する集束レンズを構成する。例えば、図1及び2には更には示されていない開口(例えば、AT 405 992 Bを参照されたい)等の本質的に従来の方法で、モードロックは、更に実現することができる。しかしながら、例えばM4等の終端鏡を可飽和ブラッグ反射器として設計し、それにより、この鏡をモードロックのために用いることも考えられる。
鏡M1、M2、…、M7は、薄膜技術で形成される。すなわち、鏡は、大きなスペクトル帯域幅を有する超短レーザー・パルスを反射するときに、その機能を果たす多くの層で構成される。レーザー・ビーム15の異なる波長成分は、反射される前に、各鏡の層内の異なる深さに入る。この様に、異なる波長成分は、各鏡において、異なる量の時間だけ遅延される。短波成分は、かなり外側の方で(すなわち、表面の方で)反射されることになるが、長波成分は、鏡内部のより深くで反射されることになる。これにより、長波成分は短波成分に対して時間的に遅延されることになる。この様にして、特に短い時間レンジ(望ましくは、10フェムト秒及びそれ以下のレンジ)のパルスが広い周波数スペクトルを有する場合、分散補正を実現することができる。これは、レーザー結晶14内のレーザー・ビーム15の異なる周波数成分は異なる屈折率を「見る」(すなわち、レーザー結晶14の光学厚さは、異なる周波数成分に対して異なる大きさであり、それゆえ、異なる周波数成分は、レーザー結晶14を通過する際に異なる遅延を受けることになる)という事実の結果である。この効果は、薄膜レーザー鏡M1、M2、…、M7における上述の分散補正によって打ち消される。
これまでに述べてきたことは、モードロックを有する短パルス・レーザーの本質的な従来の構成であり、それゆえ、後の詳細な説明は必要ではない。
動作中、短共振器アーム16並びに長共振器アーム17におけるレーザー・ビーム15の1回毎の往復で、レーザー・パルスの一部は、上述したように、外結合器OCによって外結合される。実際には、望遠鏡18を有しないレーザー共振器12の長さは、約2mとすることができ、75〜100MHz、例えば80MHz、の周波数に従う反復率が、例えば得られる。レーザー装置11を例えば材料の処理のために用いることを視野に入れて、往復時間を増加させ、それにより、反復率を減少させることによって、より高いパルス・ピーク出力、すなわちパルス・エネルギー、を得るために、レーザー共振器12の長さは、望遠鏡18の導入によって増加される。全共振器長に因子8をかけると、それは例えば約15m又は16mの共振器長を意味するが、反復率は、例えば約10MHzとすることができる。レーザー・パルスのためのこの長いパス長を得るべく、複数回の反射に従って望遠鏡18の構造長さ(construction length)を短くすることのできる、レーザー・ビーム15の多重反射を得るために、望遠鏡18内に鏡の配置を与える。
図2に、図1に従うレーザー装置の搭載プレート19上への配置を概略的に示す。このプレートは、のサイズを有し、例えば、a=900mm*b=450mmである。この搭載プレート19上に、図1の破線で囲まれたレーザー共振器12の部分20が、筐体内に密閉されて搭載され、更に、ポンプ・レーザー21も、搭載プレート19上に配置され、そこからポンプ・ビーム13が、2個の鏡22、23を介してレーザー共振器部20に供給される。この共振器部20からレーザー・ビーム15が、レーザー鏡M6の方向に現れ、上述したようにM6によってレーザー鏡M7に反射される。そこからレーザー・ビーム15は、望遠鏡18に入る。内結合鏡24は、例えば筐体内にある望遠鏡18内に配置され、それは、2個の対向して配置された望遠鏡の鏡25、26の間にある複数のビーム・パスの内の一つの中にある。この内結合鏡24は、図2の左側にある1つの望遠鏡の平面鏡25にレーザー・ビーム15を反射し、次に平面鏡25は、対向して配置された望遠鏡の凹面鏡26にレーザー・ビーム15を反射する。次にレーザー・ビーム15は、望遠鏡の2個の鏡25、26の間で、複数回、例えば8回、往復して反射される。この例においては、合計8個の反射点は、望遠鏡の凹面鏡26上で、凹面鏡26の中心に関する架空の円周上に与えられる8個のレーザー・ビーム反射に相当する。これについては、図7と共に図8を用いて、後により詳しく説明する。
最後にレーザー・ビーム15は、外結合鏡27によって、望遠鏡18の外へ結合される。外結合鏡27は、それと同じビーム・パス内にある内結合鏡14の近傍に配置され、引き続く鏡28にレーザー・ビーム15を反射する。鏡28からレーザー・ビーム15は、鏡29を介して外結合器OCに到達する。説明を簡単にするために、鏡28、29は、図1の概略図には、更には図示していない。更に、望遠鏡18が存在しないと仮定すると、終端鏡(外結合器)OCの位置は、図1におけるレーザー鏡M6の位置となる。
増加したレーザー・パルス往復時間を有する短パルス・レーザー装置における重要な面は、レーザー発振の安定性であり、個々の鏡が生じるレーザー・ビームの断面像を視野に入れて、適切な改造を行う必要がある。特に産業上の利用のために、すなわち材料の処理の場合において、特に重要な更なる重要な面は、レーザー装置11のコンパクト性、産業用の従来のレーザー装置に相当する900mm*450mmという上述の寸法、である。しかしながら、寸法を増加させずに、望ましいレーザー・ビーム15のより長い往復時間及びより高いパルス・エネルギーを得ることができるように、分離装置をなすこともできる望遠鏡18を、ここでは(図2参照)付加的に内蔵する。追求しているのは、以前の10nJ未満にかわる数百nJのオーダーのパルス・エネルギーである。これにより、2MWより大きなピーク・パルス出力を得ることができる。
以前の望遠鏡を有するレーザー装置の場合以外に、本レーザー装置11においては、上述したように、望遠鏡18は、長共振器アーム17と結合している。これは、発振の安定性に対して有利だからであり、図9を参照して、後に、より詳細に説明する。望遠鏡18において、レーザー・ビーム15は、架空の円筒面又はフラスト円錐面にほぼ沿ってジグザグに、鏡25、26の間で、複数回、例えば8回、往復に動く。望遠鏡18の長さのほぼ中央に内結合鏡24及び外結合鏡27を配置すると、鏡24、27に対して十分な空間が存在することになる。なぜなら、鏡25、26の間のレーザー・ビーム15の他のビーム・パスに悪影響を及ぼさないように、この位置における隣のビーム・パスまでの距離は、相対的に大きいからである。ここで重要なことは、また、後により詳細に説明するが、ここで有力ないわゆる「弱集束」配置である。
図3〜8でより詳細に説明する非常に特別な構成によって、例えば8重にレーザー・ビーム15のパス長を伸ばしているにもかかわらず、極端に短い望遠鏡部18が得られることが、本実施形態に対しては特に重要である。
図3に、レーザー・ビーム15が鏡26a、26bの間で複数回往復して反射される、2つの凹面鏡26a、26bを有する望遠鏡の本質的に従来の基本構成を示す。反射の種類は、ほぼ円筒状の生成された面において、すなわち反射点1〜5(更に、〜8。ここで、図3の反射点6、7、及び8は、反射点4、3、及び2に一致して配置される。関連する図4及び5も参照されたい。)の間で、レーザー・ビームがジグザグに往復して反射されるものである。もちろん、「円筒状の生成された面に従う」ジグザグ状のコースと言う場合、これは、あまり正確ではない。なぜなら、鏡26a、26bの間の個々のビーム・パスは、直線的であり斜めに伸びていて、円筒面の母線を形成することができないからであるが、多重反射レーザー・ビーム15のコースは、円筒面に相当するものとして、比較的良く近似することができる。
個々のビーム・パスのジグザグ状のコース又は角のオフセットは、それぞれ、また、図4及び5に従う鏡26a、26bの2つの概略的な(内側の)像から生じる。これらの図に、1〜8に番号付けされた、鏡26a、26b上のレーザー・ビーム15の反射点を示す。ここでは、鏡26a上の反射点1から、それに対して角度がオフセットしている反射点2に、そして、そこから、やはり角度がオフセットしている、鏡26a上の反射点3等に、ビームは動く。説明した模範的な実施形態において、例えば2と4等の関連する反射点に対する角度のオフセットとして、各鏡26a、26bにおいて90°の中央角αが生じる。2*4反射以外の場合には、中央角αは、それに応じて、より小さくなる。
図3〜5を用いて前に説明した望遠鏡18の鏡26a、26bの間における多重反射の種類は、「弱集束」配置とも称される。他方、例えば鏡26a上の反射点1から、レーザー・ビームが、鏡26b上の反射点6へ、そしてそこから鏡26a上の点3へ、そしてそこから再び鏡26b上の反射点8へ、鏡26a上の反射点5へ、鏡26b上の反射点2へ、鏡26a上の反射点7へ、そして鏡26b上の反射点4へ、反射されて、ビームが反射点1の方向へ反射されて戻るのと仮定すると、「高集束」配置が与えられる。このビーム・コースを用いた場合、図3の破線で概略的に示した、2つの鏡26a、26bの間にある中央25’の領域に、バンドリング(bundling)すなわち「集束」が得られることになる。図2で既に提案し、図7及び8を参照して後に更に詳述する、望遠鏡18の本設計に対しては、図3〜5より生じる弱集束配置がより好適であることが研究によって示された。というのは、特に、この場合、中央25’と望遠鏡の鏡26との間にある問題の領域において、ビーム・パスが適切にかなり離れているからである。後に説明するが、平面鏡25(図6も参照されたい)は、中央25’に配置され、この中央25’と各凹面鏡26a、26bとの間で、弱集束する配置にあるビーム・パスは、なお十分に間隔が空いているので、ただ1つのビーム・パスを分割することによって、何ら問題なく、内結合鏡24及び外結合鏡27を収容することができる。
より良い説明を目的として、図5には、また、高集束配置の場合に対する、適切にオフセットした、反射点の連続番号を、弱集束配置のための反射点に対する番号2、4、6、及び8の脇に丸括弧内に示した。
例えば反射点1から反射点2への、各ビーム・パスにおけるレーザー・ビーム15は、鏡26aの曲率に相当する曲率を持つ波面を最初に有しており、その後、反射点2において鏡26bの曲率に相当する逆の曲率に変化することが、図3から更に説明可能である。それらの間の中央25’においては、平面の波面を有する状況が存在する。平面鏡である望遠鏡の鏡25をこの中央25’に配置する点において、本発明は、この状況を利用している。架空の中間的段階にある図6の概略図に表したように、図3に示した2つの望遠鏡の鏡26a、26bを、次に「折り返す」、すなわち、一致へともたらす。互いに他方へと動かされた2つの鏡26a、26bが同じ位置を有して、それにより、図2及び7に従う望遠鏡の凹面鏡26が得られるまで、鏡26aを他の望遠鏡の鏡26bへと中央25’に関して回転することが、より良い理解を目的として、描かれている。その結果、元の中央平面25’に従って配置された平面鏡25は、凹面鏡26の反対に位置することになる(図7を参照されたい)。
従来の望遠鏡のこの「折り返し」により、本発明の望遠鏡18における長さ寸法の半減が得られ、更に、図3〜5に従う全ての反射点1〜8は、1つの残りの凹面鏡26上に存在することになる。鏡26の概略図においてこれらの反射点1〜8を可視化している、図7に加えて図8も参照されたい。更に、図8には、角度のオフセットに対して重要である中央角αも入れてある。区別を容易にするために、鏡26a上に元々存在していた反射点を小円で示し(反射点1、3、5、及び7)、それに対し、他の鏡26b上に元々存在していた反射点2、4、6、8をバツ印で示した。従って、この様にして得られた最終的な発明の配置においては、一方の望遠鏡の鏡26a及び他方の望遠鏡の鏡25bのそれぞれの反射点1〜8は、交互に互いの後を追い、それぞれは、他方に対して角度α/2だけオフセットしている。それの反対では、α/4に従う角度だけ、それに対してオフセットを有する反射点1’〜8’が、平面鏡25上に存在する(図7を参照されたい)。
従って、図7に従う望遠鏡の設計は、鏡26が図3の鏡26bに相当するように、考えることができる。ここで、鏡26は、他の凹面鏡26aの反射点を更に含む。図3の望遠鏡の鏡26a、26bの間の距離(L)の半分に相当する望遠鏡の鏡26からの距離(L/2)を有する平面鏡25は、この「一体化した」凹面鏡26の対として働く。
図9は、レーザー装置1を通したパスに依存するレーザー・ビーム15の横の半径R’の経過を示しており、短共振器アーム16の終端鏡M4上に比較的小さいビーム断面が存在し、それは、レーザー結晶14までこの短共振器アーム16内で増加することが見られる。既に論じたように、レーザー結晶14は、レーザー・ビームの集束をもたらし、それは、図9の曲線における狭いへこみによって目に見える。その後、長共振器アーム17が、望遠鏡18へのレーザー・ビームの供給まで続き、望遠鏡18の入り口におけるビーム断面は、相対的に大きくなる。このように、何ら問題なく発振器において良好な安定性が得られるので、この事実も、本装置に利用される。なぜなら、望遠鏡が短共振器アーム16に結合されていると仮定した場合には、状況はそうではなく、望遠鏡18における多重反射の間に(望遠鏡18における反射点1〜8に相当する番号を与えられた図9における反射も参照されたい)、各場合に優勢なビーム断面のほんのわずかな変化となるからである。これにより、何ら問題なくレーザー装置11において安定な発振を得ることができ、また、長さのわずかな変化は、いかなる不安定性にもつながらない。
図9は、単なる概略的なものに過ぎないが、レーザー装置11の本発明の特に望ましい実施形態−弱集束配置及び望遠鏡18の長共振器アーム17への結合−との関係を説明する。他方、図11〜14は、完全に具体的な実施形態に対するコンピュータ・シミュレーションを示し、ここで、高集束配置に対する状況、又は、望遠鏡18が短共振器アーム16と結合している場合に対する状況を、それぞれ、説明する。理解を非常に簡単にするために、これらの図には、反射点1〜8、共振器アーム16、17、並びにレーザー結晶14を入れてある。
しかし、まず最初に、全システムの安定性に関する説明を図10で与える。これに対しては、関係L/R=1±SQRT((1+cosα)/2)が重要である。ここで、
Lは、凹面鏡26と平面鏡25との距離の2倍であり、
Rは、曲面凹面鏡26の曲率半径であり、
αは、1つの凹面鏡に実際に結合し円周上に位置する2つのそれぞれの連続する反射点の間の中央角である。
前に図7及び8で説明したように、合計8個の反射点1〜8(すなわち、それぞれの、架空の、凹面鏡26a、16bに対して4個の反射点)が存在するという事実から出発して、図4、5、及び8にも表したように、中央角は、α=90°となる。更に、上述の関係における符号「−」は、前に説明した弱集束配置に相当する(これに対し、符号「+」は、高集束配置に対して当てはまる)。従って、合計8個の反射点1〜8及び弱集束配置に関する例に対しては、上述の関係から次の関係が得られる。
L/R=1−SQRT(1/2)
ゆえに、関係L/R=0.293が得られる。R=5000mm(凹面鏡に対する半径の値は、通常「−」の符号と共に示されるが(図10を参照されたい)、ここでは簡単のために、符号なしで半径を与える)の鏡の半径に対しては、L=1465mmの、鏡26a、26bの間の距離が得られる。この距離Lは、個別の装置に対しては大きすぎることになるが(図2の実施形態における=900mmという搭載プレートの寸法を参照されたい)、図6及び7で述べた望遠鏡18の「折り返し」を用いると、この距離は、凹面鏡26と平面鏡25とが正確にL/2=732.5mmだけ離れて位置する非常に好適な配置となる。
初めに言及したchoらによる文献に原理的には示されているが、高集束配置の場合には、ビーム・パスのバンドリングは、上述したように、2つの凹面鏡の間で生じ、この高集束配置においては、上述の関係における符号「+」を用いる必要があり、これより、関係L/Rは、L/R=1.707という値になる。L=1465mmという鏡の間の距離を用いると、このことは、R=L/1.707=858mmという各望遠鏡の鏡の半径を意味する。L/2=732.5という距離で凹面鏡26と平面鏡25を用いると、図5の丸括弧内に示した番号に従う反射点が得られることになる。
図10において、x軸は、正確に(2倍の)(対数で示した)鏡の距離Lである。実際に実現されている配置の付近に箱を描いた(図12も参照されたい)。関連する曲線30は、望遠鏡18が発振器の長アーム17(1200mm)に結合している点で、作成されている。半径Rを変えると、距離Lは変化する。他のアーム16における(すなわち、終端鏡M4における)ビーム直径の相対的な(すなわち、パーセント)変化ΔDが計算されると、図10のy軸上に入れた値が得られる。安定性の最大値は、望遠鏡18の変化にもかかわらずビーム直径が変化しない位置に(すなわち、ゼロの所に)正確に存在する。図10において、曲線31、32、及び33は、他の実施形態に対して、比較を理由として、図示した。
曲線30:これは、弱集束配置及び長共振器アーム17に結合された望遠鏡18で議論される場合である。曲線30のゼロ線との交差点は、R=4000mmの所にある。問題となる現実の実施形態(図12)に対して、正確にこの鏡は、間際で得られなかった。従って、R=5000mmを有する鏡26での配置を実現した(図12に関する以下の説明も参照されたい)。
曲線31:長共振器アーム17及び(例えば、R=858mmのような)小さい曲率半径における望遠鏡18は、この曲線31を生成することになる。R=858mm(点34)における関係は、曲線30と比較して、より低い安定性を生じる。変化が小さい安定な点(点35)も存在するが、これは、2つの鏡の間の非常に大きな距離(L=6m)の所に位置することになる。
曲線32:(例えば、鏡の半径R=5000mmを有する)弱集束する望遠鏡18が元々の発振器12の短アーム16に結合している場合には、この曲線32が生成される。ここで、再び、安定性の最大値は、距離Lの非常に小さな値(<20cm)の所で見られる。これより、意図することとは反対に、レーザー・ビーム・パスの大きく全体的な長さは生じないことになる。
曲線33:望遠鏡アーム及び高集束配置と短共振器アーム16の組み合わせにおいて、安定性の最大値は、実際に、非常に良い位置(L=0.8m)にあるが、この場合は、この位置において、曲線33は大きい傾斜を有する。
しかしながら、実際には、製造において(10%までもの)偏差が、鏡の半径において、かなりの頻度で起こり得る。また、用いたモデルは、完全に正確ではなく、測定されたビームの輪郭及び計算されたビームの輪郭における偏差が生じることがある。従って、(曲線33におけるような)臨界的な最大値ではなく、(曲線30におけるような広い最大値)を見いだすことが、より重要である。
図11〜15において、実際の実施形態に属するmmでの横のビーム半径R’に関連する曲線を、直線(x軸)上に伸びるmでの共振器長xに対して示す。これらの実施形態は、コンピュータ・シミュレーションに基づいているが、図12に従う実施形態は、テストを目的として実際に実現した。
図11〜15の全ての図において、連続線は、全ての長さの値が理論値に相当する理想的な発振器における関係を示している。破線は、(非常に顕著であるが)2つの望遠鏡の鏡25、26の間における2cmの偏差をシミュレートしている。実際には大きな偏差は生じないように思われるが、テストは、偏差及び温度のドリフトが生じることを示した。しかしながら、大きな偏差の場合においてさえ(短共振器アーム16の領域における)レーザーが抜本的なシフトを示さないのであれば、例えば望遠鏡の鏡25、26の間の距離におけるわずかな変化につながるわずかな振動も、安定性に関してはいかなる役割も演じないことになると仮定することができる。
図11に、横方向のビーム半径R’を、レーザー装置11に対するmでの共振器長xに関して示す。ここで、共振器データは、以下の通りである。
短共振器アーム16:65cm。
長共振器アーム17:120cm(それに望遠鏡18が続く)。
望遠鏡の鏡25、26の間の距離:L/2=52cm。
望遠鏡の凹面鏡26の半径:R=3550mm。
発振器12の全長:10.22m。
この図は、共振器12の安定性において最適条件を有する実施形態に相当する。しかしながら、ここでは、レーザー・パルスの往復時間が所望の値まで拡大されない程、望遠鏡の鏡25、26の間の距離が大きくはなく、反復率は、単に14.6MHzまで減少されることになる。
既に上述したように、半径R=5000mmを有する凹面鏡は、実際の研究のために利用可能であった。望遠鏡の鏡としてこの鏡を用いて、上述のようにレーザー装置を構築すると、最適な安定性(図10のゼロ線を参照されたい)はもはや与えられないが、そのわずかな偏差は与えられる(図10の曲線30上の箱の中の点を参照されたい)という事実が容認された。しかしながら、図10から読めるように、この領域における曲線30は、非常に平らであり、実質的に0の上昇を有しているので、この場合に生じる偏差は、容認される。図12に、ビーム半径/共振器長の関連図を示す。
ここで、共振器データは、以下の通りであった。
短共振器アーム16:65cm。
長共振器アーム17:120cm(それに望遠鏡18が続く)。
望遠鏡の鏡25、26の間の距離:L/2=73.2cm。
望遠鏡の鏡26の半径:R=5000mm。
共振器12の全長:13.6m。
図13に、長共振器アーム17に続く望遠鏡18における高集束配置が与えられる場合を示す。これは、望遠鏡18の鏡25、26の変化に関しては、あまり安定でない構成を生じる。このことは、破線の実線からの偏差に基づいて、図13から直接的に認識される。
共振器データ:
短共振器アーム16:65cm。
長共振器アーム17:120cm(それに望遠鏡18が続く)。
望遠鏡の鏡25、26の間の距離:L/2=73.2cm。
望遠鏡の鏡26の半径:R=849mm。
共振器12の全長:13.6m。
このように、図13は、図10の曲線31上の点34に近似的に相当することになる。
図14に、望遠鏡18が短共振器アーム16に続くように配置される場合を示す。(上述したような)望遠鏡における高集束配置の場合の図13と比較して、安定性に関して幾分良い状況が得られていることが見られる。この高集束配置は、短共振器アーム16に対してより良く適合する。図13と比較すると図14においては、それほど変化しないビーム直径によっても、このことは示される。
図14に関する共振器データは、以下の通りである。
短共振器アーム16:65cm(それに望遠鏡18が続く)。
長共振器アーム17:120cm。
望遠鏡の鏡25、26の間の距離:L/2=73.2cm。
望遠鏡の鏡26の半径:R=849mm。
共振器12の全長:13.6m。
最後に、望遠鏡18が短共振器アーム16に続くように配置された場合には、高発散レーザー・ビーム15が望遠鏡18に内結合されるので、望遠鏡18を長共振器アーム17に結合することがいかに有利であるかが、図15から分かる。図11に与えた表現とは対照的に、弱集束する望遠鏡18の第1の反射点は、それゆえ、レーザー・ビームを再び集束する効果を有しない。長いパスの後でこの平行を得るのは、第2の反射点のみである。従って、望遠鏡の鏡の個々の反射点上の最大ビーム半径R’は、>2mmである。すなわち、ビーム直径は、4mmより大きい。しかしながら、実際には、いかなる出力も失わないようにするために、各ビームに対する望遠鏡の鏡において、因子3だけ大きい空間が存在する必要がある。しかしながら、ここで、このことは、1cmより大きな直径を有する領域が反射点ごとに鏡の上に存在する必要があることを意味しており、それにより、鏡の不均一性におけるすべての欠陥は、レーザー・ビームの像において拡大された形態で見られ、ビームのゆがみを生じることになる。
図15に関連する共振器データは、以下の通りである。
短共振器アーム16:65cm(それに望遠鏡18が続く)。
長共振器アーム17:120cm。
望遠鏡の鏡25、26の間の距離:L/2=73.2cm。
望遠鏡の凹面鏡26の半径:R=5000mm。
共振器12の全長:13.6m。
本発明に従う望遠鏡を有する短パルス・レーザー装置の構成の概略的表現を示す図である。 搭載プレート上に配置されたときのかかる短パルス・レーザー装置と共に、概略的に表現された望遠鏡の領域におけるレーザー・ビームの内結合及び外結合を示す図である。 望遠鏡の2つの凹面鏡を有する従来の望遠鏡を概略的に示す図である。 その上に反射点を有するこの望遠鏡の鏡を概略的に示す図である。 その上に反射点を有するこの望遠鏡の鏡を概略的に示す図である。 望遠鏡の平面鏡を与えることによる、図3に従うかかる望遠鏡の「折り返し」の間の架空の中間的段階を示す図である。 凹面鏡及び平面鏡と共に、望遠鏡へのレーザー・ビームの内結合並びに望遠鏡からのレーザー・ビームの外結合を概略的に示した、本発明に従って作成された望遠鏡を示す図である。 図4及び5に従う概略図における反射点を有する図7も望遠鏡の凹面曲面鏡を示す図である。 短共振器アーム、長共振器アーム、及びその後ろに結合した望遠鏡を有する共振器におけるレーザー・ビームの通過する(mでの)距離xに対する横方向におけるレーザー・ビームの(mmでの)半径Rの経過を示す図である。 安定性を視野に入れたレーザー・ビームの適合を説明するために、望遠鏡の鏡の間の空間に対するビーム直径の変化を4個の例によって示す図である。 距離xに対する横のビーム半径R’の経過を示す、図9と同様の図である。 距離xに対する横のビーム半径R’の経過を示す、図9と同様の図である。 距離xに対する横のビーム半径R’の経過を示す、図9と同様の図である。 距離xに対する横のビーム半径R’の経過を示す、図9と同様の図である。 距離xに対する横のビーム半径R’の経過を示す、図9と同様の図である。

Claims (6)

  1. モードロックを有し、
    異なる長さの2つの共振器アーム(17,16)を備える共振器(12)を有し、前記共振器(12)は、レーザー結晶(14)並びに長共振器アーム(17)並びに短共振器アーム(16)を規定する複数個の鏡(M1〜M7、OC)を含み、
    1つの鏡(M1)は、またポンプ・ビーム内結合鏡を形成し、他の鏡(OC)は、またレーザー・ビーム外結合鏡を形成し、
    共振器長を増加させ且つ1つの共振器アーム(16、17)に結合した多重反射望遠鏡(18)を有し、
    前記望遠鏡は、レーザー・ビーム(15)が残りの共振器に外結合されて戻るまで前記望遠鏡の2つの鏡(25、26)の間で複数回往復して前記鏡(25、26)の間の空間に結合されたレーザー・ビーム(15)を反射するために前記鏡(25、26)を用いて構成され、前記鏡(25、26)上の連続する離心反射点(1〜8、1’〜8’)は、互いに対してオフセットされた短パルス・レーザー装置(11)であって、
    前記多重反射望遠鏡(18)は、
    ただ1つの凹面の球面鏡(26)並びに1つの平面鏡(25)望遠鏡の鏡として有し、前記平面鏡(25)は、2つの凹面の球面鏡(26a、26)を有する架空の多重反射配置の中央(25’)に配置され、2つの凹面の球面鏡のうちの第1の鏡は、前記望遠鏡(18)の前記凹面の球面鏡(26)によって形成され、前記平面鏡(25)に関して前記第1の凹面の球面鏡(26)と面対称に配置される架空の第2の凹面の球面鏡(26a)が、前記平面鏡(25)の平面内に位置する軸の周りで、前記第1の凹面の球面鏡(26)に一致して、前記第1の凹面の球面鏡(26)に架空に折り返されており、それにより、働きにおいては、前記凹面の球面鏡(26)は、前記平面鏡(25)上のレーザー・ビーム(15)の反射を介して、前記架空の第2の凹面の球面鏡(26a)の前記反射点(1,3,5,7)をも含んでおり、
    前記平面鏡(25)と前記凹面の球面鏡(26)との間の距離(L/2)、及び前記凹面の球面鏡(26)の曲率半径(R)が、関係L/R=1ーSQRT((1+cosα)/2)であり、且つ前記反射点の全てが1つの円周上に与えられており、ただし、
    Lは、前記凹面の球面鏡(26)と前記平面鏡(25)との間の距離の2倍であり、
    Rは、前記凹面の球面鏡(26)の前記曲率半径であり、
    αは、1つの反射点及び前記凹面の球面鏡(26)上にある次の反射点との間の各中心角である、ことを特徴とする短パルス・レーザー装置(11)
  2. 前記望遠鏡(18)の前記凹面の球面鏡(26)上において、この凹面の球面鏡(26)の反射点(2,4,6,8)並びに前記架空の第2の凹面の球面鏡(26a)の反射点(1,3,5,7)は、互いに相当する円弧の距離で前記凹面の球面鏡(26)上の架空の円周上に、交互に配置されることを特徴とする請求項1に記載の短パルス・レーザー装置
  3. 合計8個の反射点(1、2・・・8)が、前記望遠鏡(18)の前記凹面の球面鏡(26)上に与えられることを特徴とする請求項1又は2に記載の短パルス・レーザー装置
  4. 前記レーザー・ビーム(15)に対する内結合鏡及び外結合鏡(24、27)が、前記凹面の球面鏡(26)と前記平面鏡(25)との間の中央において、前記凹面の球面鏡(26)と前記平面鏡(25)との間のビーム・パスの内の1つのパス内に与えられることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の短パルス・レーザー装置
  5. 前記望遠鏡(18)は、前記長共振器アーム(17)の一部であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の短パルス・レーザー装置。
  6. 受動モードロックが与えられることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載の短パルス・レーザー装置。
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT412829B (de) 2003-11-13 2005-07-25 Femtolasers Produktions Gmbh Kurzpuls-laservorrichtung
AT414285B (de) * 2004-09-28 2006-11-15 Femtolasers Produktions Gmbh Mehrfachreflexions-verzögerungsstrecke für einen laserstrahl sowie resonator bzw. kurzpuls-laservorrichtung mit einer solchen verzögerungsstrecke
JP4452803B2 (ja) * 2004-12-17 2010-04-21 独立行政法人産業技術総合研究所 非平行平面鏡対を用いた超短パルスレーザー発振器
JP2009032916A (ja) * 2007-07-27 2009-02-12 Fujifilm Corp 分散補償器およびそれを用いた固体レーザ装置並びに分散補償方法
CN101562310B (zh) * 2009-05-04 2010-09-01 北京国科世纪激光技术有限公司 被动锁模皮秒激光器
CN101950069A (zh) * 2010-08-25 2011-01-19 中国科学院物理研究所 一种光路延时装置
GB2507721A (en) * 2012-09-28 2014-05-14 Thales Holdings Uk Plc Optical cell comprising a telescope
US10095183B2 (en) 2013-06-21 2018-10-09 University Of South Florida Full-color incoherent digital holography
US10203661B2 (en) 2014-07-10 2019-02-12 University Of South Florida Systems and methods for performing self-interference incoherent digital holography
CN106501948B (zh) * 2016-12-29 2022-07-22 苏州塞罗尔医学影像科技有限公司 一种双通道光学旋转耦合器
WO2019005014A1 (en) * 2017-06-27 2019-01-03 Massachusetts Institute Of Technology REMOTE IMAGING APPARATUS
US10261297B2 (en) 2017-06-27 2019-04-16 Massachusetts Institute Of Technology Method and apparatus for remote imaging
CN113504640B (zh) * 2021-06-02 2022-08-05 云南汉瑞光学仪器有限公司 一种低畸变双筒望远镜光学系统

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3437954A (en) * 1965-03-31 1969-04-08 Bell Telephone Labor Inc Optical delay line devices
US3550039A (en) * 1967-12-19 1970-12-22 Bell Telephone Labor Inc Optical delay system
US3571738A (en) * 1968-09-18 1971-03-23 Bell Telephone Labor Inc Folded optical delay line
US3763443A (en) * 1972-08-14 1973-10-02 Bell Telephone Labor Inc Simultaneously q-switched and mode-locked laser
US5241551A (en) * 1992-05-28 1993-08-31 General Electric Company High average power laser which generates radiation at a wavelength near 530 nm
DE4427210A1 (de) 1994-08-01 1996-02-15 Siemens Ag Kommunikationsvermittlungssystem mit einem Leistungsmerkmalsystem und einem Basisvermittlungssystem
US6150630A (en) * 1996-01-11 2000-11-21 The Regents Of The University Of California Laser machining of explosives
US5796761A (en) * 1996-09-11 1998-08-18 Trw Inc. High efficiency solid state raman laser system
US5912915A (en) 1997-05-19 1999-06-15 Coherent, Inc. Ultrafast laser with multiply-folded resonant cavity
US20010021215A1 (en) * 1999-07-30 2001-09-13 Udo Bunting Compact ultra fast laser
JP3540741B2 (ja) * 2000-11-30 2004-07-07 独立行政法人 科学技術振興機構 共振器長可変レーザー共振器とパルスレーザー光源装置
CN2490740Y (zh) * 2001-04-09 2002-05-08 中国科学院物理研究所 一种小型化固体飞秒激光振荡器

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