JP4593289B2 - 四級アンモニウムビフルオリド化合物およびそれを用いたニトロアルコールの製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、四級アンモニウムビフルオリド化合物およびそれを用いたニトロアルコールの製造方法に関する。より詳細には、ニトロ化合物のシリル化物、すなわちシリルニトロネートとアルデヒド化合物との反応により生成するニトロアルコール、の立体配置を特異的に制御することのできる相間移動触媒として有用な四級アンモニウムビフルオリド化合物、およびそれを用いた立体配置が特異的に制御されたニトロアルコールの製造方法に関する。
有機珪素化合物が、フッ素イオンに誘発されて起こす求核反応は、その反応部位の選択性が良好であるため、有機合成において重要視されている。しかし、反応生成物の立体選択性に注目した合成例は少ない。例えば、キラル四級アンモニウムフルオリドから生ずるフッ素イオンを利用した反応事例においても、そのほとんどは、シンコナアルカロイド誘導体を触媒として使用するものである。
このようなシンコナアルカロイド誘導体を使用した反応例としては、Ｎ−ベンジルシンコニウムフルオリドを使用したグリシンエステルシッフ塩基のシリルエノールエーテルへのアルデヒドの付加反応（Ｓｈｉｏｉｒｉ，Ｔ．ら、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９９３年，第３４巻，第９号，ｐ．１５０７−１５１０）、シンコニジン誘導体ビフルオリドを使用したグリシンエステルシッフ塩基のシリルエノールエーテルへのアルデヒドの付加反応（Ｃｏｒｅｙ，Ｅ．Ｊ．ら、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９９９年，第４０巻，第２０号，ｐ．３８４３−３８４６）、シンコニジン誘導体フルオリドを使用した１−エトキシ−１−（トリメチルシリルオキシ）−２−メチル−１，３−ブタジエンへのアルデヒドの付加反応（Ｃａｍｐａｇｎｅ，Ｊ．−Ｍ．ら、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，２００１年，第６６巻，第１２号，ｐ．４２９３−４２９８）、およびＮ−ベンジルシンコニウムフルオリドを使用したアルデヒドとトリフルオロメチルトリメチルシランとの反応によるアルデヒドまたはケトンのトリフルオロメチレーション（Ｋｏｂａｙａｓｈｉ，Ｙ．ら、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９９４年，第３５巻，第１９号，ｐ．３１３７−３１３８）が知られている。しかし、これら反応例は、ジアステレオ選択性かつエナンチオ選択性の両方に優れているとは言い難く、この点で必ずしも満足され得るものではない。
このようなシンコナアルカロイド誘導体を使用した反応例としては、Ｎ−ベンジルシンコニウムフルオリドを使用したグリシンエステルシッフ塩基のシリルエノールエーテルへのアルデヒドの付加反応（Ｓｈｉｏｉｒｉ，Ｔ．ら、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９９３年，第３４巻，第９号，ｐ．１５０７−１５１０）、シンコニジン誘導体ビフルオリドを使用したグリシンエステルシッフ塩基のシリルエノールエーテルへのアルデヒドの付加反応（Ｃｏｒｅｙ，Ｅ．Ｊ．ら、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９９９年，第４０巻，第２０号，ｐ．３８４３−３８４６）、シンコニジン誘導体フルオリドを使用した１−エトキシ−１−（トリメチルシリルオキシ）−２−メチル−１，３−ブタジエンへのアルデヒドの付加反応（Ｃａｍｐａｇｎｅ，Ｊ．−Ｍ．ら、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，２００１年，第６６巻，第１２号，ｐ．４２９３−４２９８）、およびＮ−ベンジルシンコニウムフルオリドを使用したアルデヒドとトリフルオロメチルトリメチルシランとの反応によるアルデヒドまたはケトンのトリフルオロメチレーション（Ｋｏｂａｙａｓｈｉ，Ｙ．ら、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ，１９９４年，第３５巻，第１９号，ｐ．３１３７−３１３８）が知られている。しかし、これら反応例は、ジアステレオ選択性かつエナンチオ選択性の両方に優れているとは言い難く、この点で必ずしも満足され得るものではない。
本発明の目的は、シリルニトロネートとアルデヒド化合物との反応において、ジアステレオ選択的かつエナンチオ選択的に立体配置が制御されたニトロアルコールの生成を可能にする四級アンモニウムビフルオリド触媒、およびそれを用いた当該ニトロアルコールの製造方法を提供することにある。
本発明は、以下の式（Ｉ）：
（ここで、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して、水素原子；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の環状アルキル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２〜Ｃ６の直鎖アルケニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の分岐鎖アルケニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の環状アルケニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２〜Ｃ６の直鎖アルキニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の環状アルキニル基；ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ３アルコキシ基で置換されていてもよいアラルキル基；ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ３アルコキシ基で置換されていてもよいヘテロアラルキル基；ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ３アルコキシ基で置換されていてもよいアリール基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基で置換されたアリール基；ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ３アルコキシ基で置換されていてもよいヘテロアリール基；（Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）カルバモイル基；ならびにＮ，Ｎ−ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）カルバモイル基（ここで、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基は、互いに同じでも異なっていてもよい）からなる群より選択される基である）で表される四級アンモニウムビフルオリド化合物を提供する。
好ましい実施態様では、上記式（Ｉ）で表される化合物のＲ５およびＲ６はそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基で置換されたアリール基である。
さらに好ましい実施態様では、上記式（Ｉ）で表される化合物のＲ５およびＲ６はともに、３，５−ビス（３，５−ジトリフルオロメチルフェニル）フェニルである。
好ましい実施態様では、上記式（Ｉ）で表される化合物の立体配置は（Ｓ，Ｓ）または（Ｒ，Ｒ）である。
本発明はまた、以下の式（Ｉ’）：
（ここで、Ｒ１’およびＲ２’はそれぞれ独立して、水素原子；Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基；Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基；Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基；Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基；Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基；Ｃ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基；Ｃ２〜Ｃ６の直鎖アルケニル基；Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルケニル基；Ｃ３〜Ｃ６の環状アルケニル基；Ｃ２〜Ｃ６の直鎖アルキニル基；Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキニル基；Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキニル基；ハロゲン原子；ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基、またはＣ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基で置換されていても良いアリール基；ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基、またはＣ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基で置換されていても良いアリール基で置換された、アリール基；ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基、またはＣ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基で置換されていても良いヘテロアリール基で置換された、アリール基；ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基、またはＣ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基で置換されていても良いヘテロアリール基；ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基、またはＣ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基で置換されていても良いアリール基で置換されたヘテロアリール基；あるいはハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基、またはＣ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基で置換されていても良いヘテロアリール基で置換された、ヘテロアリール基であり、そしてＲ５およびＲ６は、それぞれ独立して、水素原子；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の環状アルキル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２〜Ｃ６の直鎖アルケニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の分岐鎖アルケニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の環状アルケニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２〜Ｃ６の直鎖アルキニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の環状アルキニル基；ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ３アルコキシ基で置換されていてもよいアラルキル基；ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ３アルコキシ基で置換されていてもよいヘテロアラルキル基；ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ３アルコキシ基で置換されていてもよいアリール基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基で置換されたアリール基；ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ３アルコキシ基で置換されていてもよいヘテロアリール基；（Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）カルバモイル基；ならびにＮ，Ｎ−ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）カルバモイル基（ここで、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基は、互いに同じでも異なっていてもよい）からなる群より選択される基である）で表される、四級アンモニウムビフルオリド化合物を提供する。
好ましい実施態様では、上記式（Ｉ’）で表される化合物の立体配置は（Ｓ，Ｓ）または（Ｒ，Ｒ）である。
本発明はまた、上記式（Ｉ）で表される四級アンモニウムビフルオリドの製造方法を提供し、該方法は、以下の式（ＩＩ）：
（ここで、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して、水素原子；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の環状アルキル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２〜Ｃ６の直鎖アルケニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の分岐鎖アルケニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の環状アルケニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２〜Ｃ６の直鎖アルキニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の環状アルキニル基；ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ３アルコキシ基で置換されていてもよいアラルキル基；ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ３アルコキシ基で置換されていてもよいヘテロアラルキル基；ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ３アルコキシ基で置換されていてもよいアリール基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基で置換されたアリール基；ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ３アルコキシ基で置換されていてもよいヘテロアリール基；（Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）カルバモイル基；ならびにＮ，Ｎ−ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）カルバモイル基（ここで、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基は、互いに同じでも異なっていてもよい）からなる群より選択される基であり、そしてＸは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である）で表される化合物をイオン交換樹脂と接触させて、中間体を得る工程；および該中間体をフッ化水素水溶液と反応させる工程；を包含する。
好ましい実施態様では、上記式（ＩＩ）で表される化合物のＲ５およびＲ６はそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基で置換されたアリール基である。
さらに好ましい実施態様では、上記式（ＩＩ）で表される化合物のＲ５およびＲ６はともに、３，５−ビス（３，５−ジトリフルオロメチルフェニル）フェニルである。
好ましい実施態様では、上記式（ＩＩ）で表される化合物の立体配置は（Ｓ，Ｓ）または（Ｒ，Ｒ）である。
本発明はまた、上記式（Ｉ’）で表される四級アンモニウムビフルオリドの製造方法を提供し、該方法は、以下の式（ＩＩ’）：
（ここで、Ｒ１’およびＲ２’はそれぞれ独立して、水素原子；Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基；Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基；Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基；Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基；Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基；Ｃ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基；Ｃ２〜Ｃ６の直鎖アルケニル基；Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルケニル基；Ｃ３〜Ｃ６の環状アルケニル基；Ｃ２〜Ｃ６の直鎖アルキニル基；Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキニル基；Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキニル基；ハロゲン原子；ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基、またはＣ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基で置換されていても良いアリール基；ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基、またはＣ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基で置換されていても良いアリール基で置換された、アリール基；ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基、またはＣ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基で置換されていても良いヘテロアリール基で置換された、アリール基；ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基、またはＣ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基で置換されていても良いヘテロアリール基；ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基、またはＣ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基で置換されていても良いアリール基で置換されたヘテロアリール基；あるいはハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基、またはＣ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基で置換されていても良いヘテロアリール基で置換された、ヘテロアリール基であり、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して、水素原子；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の環状アルキル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２〜Ｃ６の直鎖アルケニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の分岐鎖アルケニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の環状アルケニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２〜Ｃ６の直鎖アルキニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の環状アルキニル基；ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ３アルコキシ基で置換されていてもよいアラルキル基；ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ３アルコキシ基で置換されていてもよいヘテロアラルキル基；ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ３アルコキシ基で置換されていてもよいアリール基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基で置換されたアリール基；ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ３アルコキシ基で置換されていてもよいヘテロアリール基；（Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）カルバモイル基；ならびにＮ，Ｎ−ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）カルバモイル基（ここで、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基は、互いに同じでも異なっていてもよい）からなる群より選択される基であり、そしてＸは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である）で表される化合物をイオン交換樹脂と接触させて、中間体を得る工程；および該中間体をフッ化水素水溶液と反応させる工程；を包含する。
本発明はまた、ジアステレオ選択性かつエナンチオ選択性に優れるニトロアルコール化合物の製造方法を提供し、該方法は、上記式（Ｉ）で表される四級アンモニウムビフルオリド化合物の存在下、式（ＩＩＩ）：
（ここで、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基か、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基か、アラルキルオキシ基か、アリール基かで置換されていてもよい、Ｃ１〜Ｃ５の直鎖アルキル基、あるいはＣ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基か、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基か、アラルキルオキシ基か、アリール基かで置換されていてもよい、Ｃ３〜Ｃ５の分岐鎖アルキル基であり；Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ５の直鎖アルキル基またはＣ３〜Ｃ５の分岐鎖アルキル基である）で表される化合物と、アルデヒドとを反応させる工程、を包含する。
本発明はまた、ジアステレオ選択性かつエナンチオ選択性に優れるニトロアルコール化合物の製造方法を提供し、該方法は、上記式（Ｉ’）で表される四級アンモニウムビフルオリド化合物の存在下、式（ＩＩＩ）：
（ここで、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基か、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基か、アラルキルオキシ基か、アリール基かで置換されていてもよい、Ｃ１〜Ｃ５の直鎖アルキル基、あるいはＣ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基か、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基か、アラルキルオキシ基か、アリール基かで置換されていてもよい、Ｃ３〜Ｃ５の分岐鎖アルキル基であり；Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ５の直鎖アルキル基またはＣ３〜Ｃ５の分岐鎖アルキル基である）で表される化合物と、アルデヒドとを反応させる工程、を包含する。
本発明は、以下の式（Ｉ）：
好ましい実施態様では、上記式（Ｉ）で表される化合物のＲ５およびＲ６はそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基で置換されたアリール基である。
さらに好ましい実施態様では、上記式（Ｉ）で表される化合物のＲ５およびＲ６はともに、３，５−ビス（３，５−ジトリフルオロメチルフェニル）フェニルである。
好ましい実施態様では、上記式（Ｉ）で表される化合物の立体配置は（Ｓ，Ｓ）または（Ｒ，Ｒ）である。
本発明はまた、以下の式（Ｉ’）：
好ましい実施態様では、上記式（Ｉ’）で表される化合物の立体配置は（Ｓ，Ｓ）または（Ｒ，Ｒ）である。
本発明はまた、上記式（Ｉ）で表される四級アンモニウムビフルオリドの製造方法を提供し、該方法は、以下の式（ＩＩ）：
好ましい実施態様では、上記式（ＩＩ）で表される化合物のＲ５およびＲ６はそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基で置換されたアリール基である。
さらに好ましい実施態様では、上記式（ＩＩ）で表される化合物のＲ５およびＲ６はともに、３，５−ビス（３，５−ジトリフルオロメチルフェニル）フェニルである。
好ましい実施態様では、上記式（ＩＩ）で表される化合物の立体配置は（Ｓ，Ｓ）または（Ｒ，Ｒ）である。
本発明はまた、上記式（Ｉ’）で表される四級アンモニウムビフルオリドの製造方法を提供し、該方法は、以下の式（ＩＩ’）：
本発明はまた、ジアステレオ選択性かつエナンチオ選択性に優れるニトロアルコール化合物の製造方法を提供し、該方法は、上記式（Ｉ）で表される四級アンモニウムビフルオリド化合物の存在下、式（ＩＩＩ）：
本発明はまた、ジアステレオ選択性かつエナンチオ選択性に優れるニトロアルコール化合物の製造方法を提供し、該方法は、上記式（Ｉ’）で表される四級アンモニウムビフルオリド化合物の存在下、式（ＩＩＩ）：
以下、本明細書中に用いられる用語を定義する。
用語「Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基」は、炭素数１〜６の任意の直鎖アルキル基を包含し、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシルが挙げられる。
用語「Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基」は、炭素数３〜６の任意の分岐鎖アルキル基を包含し、例えば、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどが挙げられる。
用語「Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基」は、炭素数３〜６の任意の環状アルキル基を包含し、例えば、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。
なお、単に「Ｃ１〜Ｃ４アルキル基」という場合は、Ｃ１〜Ｃ４の直鎖アルキル基またはＣ３〜Ｃ４の分岐鎖アルキル基を意味する。
用語「Ｃ２〜Ｃ６の直鎖アルケニル基」は、炭素数２〜６の任意の直鎖アルケニル基を包含し、例えば、エテニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、およびヘキセニルが挙げられる。
用語「Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルケニル基」は、炭素数３〜６の任意の分岐鎖アルケニル基を包含し、例えば、イソプロペニル、１−メチル−１−プロペニル、１−メチル−２−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−プロペニルなどが挙げられる。
用語「Ｃ３〜Ｃ６の環状アルケニル基」は、炭素数３〜６の任意の環状アルケニル基を包含し、例えば、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニルなどが挙げられる。
用語「Ｃ２〜Ｃ６の直鎖アルキニル基」は、炭素数２〜６の任意の直鎖アルキニル基を包含し、例えば、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、およびヘキシニルが挙げられる。
用語「Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキニル基」は、炭素数３〜６の任意の分岐鎖アルキニル基を包含し、例えば、１−メチル−２−プロピニルなどが挙げられる。
用語「Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキニル基」は、炭素数３〜６の任意の環状アルキニル基を包含し、例えば、シクロプロピルエチニル、シクロブチルエチニルなどが挙げられる。
用語「Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基」は、炭素数１〜６の任意の直鎖アルキル基を有するアルコキシ基を包含し、例えば、メチルオキシ、エチルオキシ、ｎ−プロピルオキシなどが挙げられる。
用語「Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基」は、炭素数３〜６の任意の分岐鎖アルキル基を有するアルコキシ基を包含し、例えば、イソプロピルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルオキシなどが挙げられる。
用語「Ｃ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基」は、炭素数３〜６の任意の環状アルキル基を有するアルコキシ基を包含し、例えば、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシなどが挙げられる。
本明細書中に用いられる用語「アラルキル基」の例としては、ベンジル、フェネチル、およびナフチルメチルが挙げられる。
本明細書中に用いられる用語「アラルキルオキシ基」の例としては、ベンジルオキシ、フェネチルオキシ、およびナフチルメチルオキシが挙げられる。
本明細書中に用いられる用語「ヘテロアラルキル基」の例としては、ピリジルメチル、インドリルメチル、フリルメチル、チエニルメチル、およびピロリルメチルが挙げられる。
本明細書中に用いられる用語「アリール基」の例としては、フェニルおよびナフチルが挙げられる。また、本明細書中に用いられる用語「ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基で置換されたアリール基」の例としては、３，５−ジフェニルフェニル、３，５−ジ（３，５−ジｔ−ブチルフェニル）フェニル、および３，５−ビス（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）フェニルが挙げられる。
本明細書中に用いられる用語「ヘテロアリール基」の例としては、ピリジル、ピロリル、イミダゾリル、フリル、インドリル、チエニル、オキサゾリル、チアゾリル、およびテトラゾリルが挙げられる。
本明細書中に用いられる用語「ハロゲン原子」の例としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子およびフッ素原子が挙げられる。
まず、本発明の第一の実施態様である四級アンモニウムビフルオリド化合物（以下、本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物という）について説明する。
本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物は、以下の式（Ｉ）：
（ここで、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立して、水素原子；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の環状アルキル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２〜Ｃ６の直鎖アルケニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の分岐鎖アルケニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の環状アルケニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ２〜Ｃ６の直鎖アルキニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキニル基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ３〜Ｃ６の環状アルキニル基；ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ３アルコキシ基で置換されていてもよいアラルキル基；ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ３アルコキシ基で置換されていてもよいヘテロアラルキル基；ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ３アルコキシ基で置換されていてもよいアリール基；ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基で置換されたアリール基；ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基、またはハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ３アルコキシ基で置換されていてもよいヘテロアリール基；（Ｃ１〜Ｃ３アルコキシ）カルボニル基；カルバモイル基；Ｎ−（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）カルバモイル基；ならびにＮ，Ｎ−ジ（Ｃ１〜Ｃ４アルキル）カルバモイル基（ここで、Ｃ１〜Ｃ４アルキル基は、互いに同じでも異なっていてもよい）からなる群より選択される基である）で表される化合物である。
上記式（Ｉ）で表される本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物は、ジアステレオ選択的かつエナンチオ選択的に立体配置が制御されたニトロアルコールの生成を可能にする相間移動触媒として有用である。ジアステレオ選択的かつエナンチオ選択的なニトロアルコールの生成がより効率的に行われ得るという当該触媒としての有用性を考慮すれば、本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物は、上記式（Ｉ）で表される化合物のうち、Ｒ５およびＲ６がそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基で置換されたアリール基であることが好ましく、Ｒ５およびＲ６が同一であることがより好ましい。さらにより好ましい当該四級アンモニウムビフルオリド化合物は、上記式（Ｉ）で表される化合物のＲ５およびＲ６がともに、フッ素原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基で置換されたアリール基であり、さらにより好ましくは、３，５−ビス（３，５−ジトリフルオロメチルフェニル）フェニルである化合物である。
さらに、上記式（Ｉ）で表される化合物は（Ｓ，Ｓ）または（Ｒ，Ｒ）のいずれの立体配置を有していてもよい。
上記式（Ｉ）で表される本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物は、例えば、以下のようにして製造することができる。
上記本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物の製造においては、まず、以下の式（ＩＩ）：
（ここで、Ｒ５およびＲ６は、上記式（Ｉ）において定義されたものと同様であり、そしてＸは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である）で表される化合物をイオン交換樹脂と接触させて、第一の中間体を生成する。
上記式（ＩＩ）で表される化合物のより具体的な例としては：
（ここで、Ａｒ１は、３，５−ジトリフルオロメチルフェニルである）
（ここで、（β−Ｎｐ）はβ−ナフチル基である）
（ここで、ｐｈはフェニル基を表す）
が挙げられる。上記式（ＩＩ）で表される化合物は、特にこれらに限定されない。上記式（ＩＩ）で表される化合物はまた、（Ｓ，Ｓ）または（Ｒ，Ｒ）のいずれの立体配置を有していてもよい。
なお、上記式（ＩＩ）で表される化合物は、例えば、特開２００１−４８８６６号公報に記載の方法に準じて、当業者によって容易に製造され得る。
本発明に用いられるイオン交換樹脂は、当業者によって任意のものが選択可能である。使用可能なイオン交換樹脂の具体的な例としては、アンバーリストＡ２６（ＯＨ）（オルガノ社製）が挙げられる。
上記式（ＩＩ）で表される化合物とイオン交換樹脂との接触は、例えば、上記式（ＩＩ）で表される化合物を適切な溶媒に溶解し、この溶液を、当該イオン交換樹脂を充填したカラムに通すことにより行われる。このような接触を行う際に使用され得る溶媒はアルコール溶媒が好ましい。アルコール溶媒の具体的な例としては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、およびノルマルプロピルアルコールが挙げられるが、特にこれらに限定されない。
この接触において使用される上記式（ＩＩ）で表される化合物および溶媒の量は、特に限定されず、当業者によって適切に設定され得る。
このようにして、第一の中間体が生成される。
次いで、得られた第一の中間体を、好ましくは上記溶媒を除去することなく、フッ化水素水溶液を用いて反応させる。
本発明に用いられるフッ化水素水溶液の使用量は、特に限定されないが、生産性を高める点から、好ましくは、上記で使用した式（ＩＩ）で表される化合物に対して等量以上のフッ化水素が反応するように選択される。これにより、第一の中間体がビフルオリド体に変換され、溶液中に本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物が沈殿する。
その後、当業者が通常用いる手法を用いて溶媒を除去することにより、本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリドを製造することができる。
次に、本発明の第二の実施態様である四級アンモニウムビフルオリド化合物（以下、本発明の第二の四級アンモニウムビフルオリド化合物という）について説明する。
本発明の第二の四級アンモニウムビフルオリド化合物は、以下の式（Ｉ’）：
（ここで、Ｒ１’およびＲ２’はそれぞれ独立して、水素原子；Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基；Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基；Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基；Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基；Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基；Ｃ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基；Ｃ２〜Ｃ６の直鎖アルケニル基；Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルケニル基；Ｃ３〜Ｃ６の環状アルケニル基；Ｃ２〜Ｃ６の直鎖アルキニル基；Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキニル基；Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキニル基；ハロゲン原子；ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基、またはＣ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基で置換されていても良いアリール基；ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基、またはＣ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基で置換されていても良いアリール基で置換された、アリール基；ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基、またはＣ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基で置換されていても良いヘテロアリール基で置換された、アリール基；ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基、またはＣ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基で置換されていても良いヘテロアリール基；ハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基、またはＣ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基で置換されていても良いアリール基で置換されたヘテロアリール基；あるいはハロゲン原子、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基、またはＣ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基で置換されていても良いヘテロアリール基で置換された、ヘテロアリール基であり、そしてＲ５およびＲ６は、上記式（Ｉ）において定義されたものと同様である）で表される化合物である。
式（Ｉ’）で表される本発明の第二の四級アンモニウムビフルオリド化合物は、上記式（Ｉ）で表される本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物と同様に、ジアステレオ選択的かつエナンチオ選択的に立体配置が制御されたニトロアルコールの生成を可能にする相間移動触媒として有用である。上記式（Ｉ’）で表される化合物は（Ｓ，Ｓ）または（Ｒ，Ｒ）のいずれの立体配置を有していてもよい。
上記式（Ｉ’）で表される本発明の第二の四級アンモニウムビフルオリド化合物は、例えば、以下のようにして製造することができる。
上記本発明の第二の四級アンモニウムビフルオリド化合物の製造においては、まず、以下の式（ＩＩ’）：
（ここで、Ｒ１’およびＲ２’は、上記式（Ｉ’）において定義されたものと同様であり、Ｒ５およびＲ６は、上記式（Ｉ）において定義されたものと同様であり、そしてＸは上記式（ＩＩ）において定義されたものと同様である）で表される化合物をイオン交換樹脂と接触させて、第二の中間体を生成する。
上記式（ＩＩ’）で表される化合物のより具体的な例としては：
が挙げられる。上記式（ＩＩ’）で表される化合物は特にこれらに限定されない。上記式（ＩＩ’）で表される化合物はまた、（Ｓ，Ｓ）または（Ｒ，Ｒ）のいずれの立体配置を有していてもよい。
なお、上記式（ＩＩ’）で表される化合物は、例えば、特開２００２−３２６９９２号公報に記載の方法に準じて、当業者によって容易に製造され得る。
本発明の第二の四級アンモニウムビフルオリド化合物を製造するために用いられるイオン交換樹脂は、上記本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物を製造する際に使用されるものと同様である。さらに、上記式（ＩＩ’）で表される化合物と当該イオン交換樹脂との接触もまた、上記本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物を製造する際と同様にして行われる。
このようにして、第二の中間体が生成される。
次いで、得られた第二の中間体を、好ましくは上記溶媒を除去することなく、フッ化水素水溶液を用いて反応させる。
本発明に用いられるフッ化水素水溶液の使用量は、特に限定されないが、生産性を高める点から、好ましくは、上記で使用した式（ＩＩ’）で表される化合物に対して等量以上のフッ化水素が反応するように選択される。これにより、第二の中間体がビフルオリド体に変換され、溶液中に本発明の第二の四級アンモニウムビフルオリド化合物が沈殿する。
その後、当業者が通常用いる手法を用いて溶媒を除去することにより、本発明の第二の四級アンモニウムビフルオリドを製造することができる。
例えばこのようにして得られた、本発明の第一および第二の四級アンモニウムビフルオリド化合物はいずれも、ジアステレオ選択的かつエナンチオ選択的に立体配置が制御されたニトロアルコールを生成するための触媒（相間移動触媒）として有用である。
次に、第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物を用いてニトロアルコールを生成するための、本発明の方法について、一例を挙げて説明する。
本発明のニトロアルコールの製造方法においては、まず、上記式（Ｉ）で表される本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物の存在下にて、以下の式（ＩＩＩ）：
（ここで、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基か、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基か、アラルキルオキシ基か、アリール基かで置換されていてもよい、Ｃ１〜Ｃ５の直鎖アルキル基、あるいはＣ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基か、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基か、アラルキルオキシ基か、アリール基かで置換されていてもよい、Ｃ３〜Ｃ５の分岐鎖アルキル基であり；Ｒ２、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立して、Ｃ１〜Ｃ５の直鎖アルキル基またはＣ３〜Ｃ５の分岐鎖アルキル基である）で表される化合物（シリルニトロネート）と、アルデヒドとを反応させる。
上記式（ＩＩＩ）で表されるシリルニトロネートは、ニトロアルカンのシリル化物である。当該シリルニトロネートは、ニトロアルカンおよびシリル化剤を当業者が通常用いる方法で反応させることにより、容易に誘導して得ることができる。
本発明の方法に用いられる式（ＩＩＩ）のシリルニトロネートを得るためには、使用可能なニトロアルカンは、例えば、１−ニトロエタン、１−ニトロプロパン、１−ニトロブタン、３−メチル−１−ニトロプロパン、２−メトキシ−１−ニトロエタン、３−ベンジルオキシ−１−ニトロプロパン、および２−フェニル−１−ニトロエタンが挙げられる。
また、本発明の方法に用いられる式（ＩＩＩ）のシリルニトロネートを得るためには、使用可能なシリル化剤は、例えば、トリアルキルハロゲノシラン、より具体的には、トリメチルクロロシラン、トリエチルクロロシラン、およびｔ−ブチルジメチルクロロシランが挙げられる。特に、トリメチルクロロシランまたはトリエチルクロロシランを使用して得られるシリルニトロネートを本発明の製造方法に供すれば、得られるニトロアルコール化合物は立体選択性が高められた状態で生成する。
本発明の方法に用いられる式（ＩＩＩ）のシリルニトロネートは、上述したようなニトロアルカンとシリル化剤とを用い、例えば以下の反応を経て得ることができる：すなわち、上記ニトロアルカンを、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、イソプロピルエーテルなどの溶媒に溶解させたニトロアルカン溶液に、別途、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素に溶解されたブチルリチウムとテトラヒドロフランなどに溶解させたアルキルジアミンとから調製されたリチウムジアルキルアミドを加え、さらに、例えば、−８０℃付近の冷却状態で、シリル化剤（トリアルキルシリルハライド）を添加する。その後、反応生成物を分別蒸留に供することにより、本発明の方法に用いられる式（ＩＩＩ）のシリルニトロネートを得ることができる。
本発明のニトロアルコールの製造方法に用いられるアルデヒドは、例えば、以下の式（ＩＶ）：
（ここで、Ｒ７は、Ｃ１〜Ｃ１０の直鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ１０の分岐鎖アルキル基、あるいは置換基を有していてもよいアリール基またはアラルキル基である）で表される化合物である。このような式（ＩＶ）で表されるアルデヒドの具体的な例としては、ベンズアルデヒド、２−ナフトアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド、ｐ−トルアルデヒド、ｐ−フルオロベンズアルデヒド、ｐ−メトキシベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオアルデヒド、およびペンタナールが挙げられる。特に、反応工程におけるジアステレオ選択性およびエナンチオ選択性の両方を向上させる点から、２−ナフトアルデヒドおよびｐ−トルアルデヒドが好ましい。
本発明のニトロアルコールの製造方法においては、上記アルデヒド１モルに対し、好ましくは１モル〜１．５モルの式（ＩＩＩ）のシリルニトロネートが使用される。また、この反応系において、上記式（Ｉ）で表される本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物は、好ましくは０．１モル％〜１０モル％、より好ましくは０．５モル％〜５モル％の割合で使用される。反応は、上記式（ＩＩＩ）のシリルニトロネート、アルデヒドおよび上記式（Ｉ）で表される本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物を、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、イソプロピルエーテルなどの適切な溶媒中に仕込み、好ましくは−１００℃〜−７０℃の低温で、２時間〜５時間かけて攪拌混合することにより達成される。反応終了後、反応混合物に、適切な無機酸を加え、次いで、これをエチルエーテル、イソプロピルエーテル、ジクロロエタン、酢酸エチルなどの抽出溶媒で抽出し、当業者が通常用いる手段を用いて、洗浄、カラムクロマトグラフィーなどの処理を行うことにより、目的の反応生成物（ニトロアルコール）を得ることができる。
このように、高いジアステレオ選択性およびエナンチオ選択性を発揮し得る四級アンモニウムビフルオリド化合物を触媒として用いることによって、特定の立体構造を有するニトロアルコールを高純度で製造することができる。なお、上記では本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物を用いた場合を記載したが、当該第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物の代わりに、本発明の第二の四級アンモニウムビフルオリド化合物を使用してもよい。本発明の第二の四級アンモニウムビフルオリド化合物を使用する場合の、式（ＩＩＩ）のシリルニトロネートおよびアルデヒドの使用量、ならびに各種反応条件は上記と同様である。
本発明の製造方法によって得られるニトロアルコールは、例えば、以下の式（Ｖ）：
（ここで、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基か、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基か、アラルキルオキシ基か、アリール基かで置換されていてもよい、Ｃ１〜Ｃ５の直鎖アルキル基、あるいはＣ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基か、Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基か、アラルキルオキシ基か、アリール基かで置換されていてもよい、Ｃ３〜Ｃ５の分岐鎖アルキル基であり；そしてＲ７は、Ｃ１〜Ｃ１０の直鎖アルキル基、Ｃ３〜Ｃ１０の分岐鎖アルキル基、あるいは置換基を有していてもよいアリール基またはアラルキル基である）で表される構造を有する。このニトロアルコールは、高い光学純度を有するため、医薬品、農薬等の中間物質として有効に用いられる。
用語「Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルキル基」は、炭素数１〜６の任意の直鎖アルキル基を包含し、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｎ−ブチル、ペンチル、ヘキシルが挙げられる。
用語「Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキル基」は、炭素数３〜６の任意の分岐鎖アルキル基を包含し、例えば、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどが挙げられる。
用語「Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキル基」は、炭素数３〜６の任意の環状アルキル基を包含し、例えば、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。
なお、単に「Ｃ１〜Ｃ４アルキル基」という場合は、Ｃ１〜Ｃ４の直鎖アルキル基またはＣ３〜Ｃ４の分岐鎖アルキル基を意味する。
用語「Ｃ２〜Ｃ６の直鎖アルケニル基」は、炭素数２〜６の任意の直鎖アルケニル基を包含し、例えば、エテニル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、およびヘキセニルが挙げられる。
用語「Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルケニル基」は、炭素数３〜６の任意の分岐鎖アルケニル基を包含し、例えば、イソプロペニル、１−メチル−１−プロペニル、１−メチル−２−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、２−メチル−２−プロペニルなどが挙げられる。
用語「Ｃ３〜Ｃ６の環状アルケニル基」は、炭素数３〜６の任意の環状アルケニル基を包含し、例えば、シクロブテニル、シクロペンテニル、シクロヘキセニルなどが挙げられる。
用語「Ｃ２〜Ｃ６の直鎖アルキニル基」は、炭素数２〜６の任意の直鎖アルキニル基を包含し、例えば、エチニル、プロピニル、ブチニル、ペンチニル、およびヘキシニルが挙げられる。
用語「Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルキニル基」は、炭素数３〜６の任意の分岐鎖アルキニル基を包含し、例えば、１−メチル−２−プロピニルなどが挙げられる。
用語「Ｃ３〜Ｃ６の環状アルキニル基」は、炭素数３〜６の任意の環状アルキニル基を包含し、例えば、シクロプロピルエチニル、シクロブチルエチニルなどが挙げられる。
用語「Ｃ１〜Ｃ６の直鎖アルコキシ基」は、炭素数１〜６の任意の直鎖アルキル基を有するアルコキシ基を包含し、例えば、メチルオキシ、エチルオキシ、ｎ−プロピルオキシなどが挙げられる。
用語「Ｃ３〜Ｃ６の分岐鎖アルコキシ基」は、炭素数３〜６の任意の分岐鎖アルキル基を有するアルコキシ基を包含し、例えば、イソプロピルオキシ、ｔｅｒｔ−ブチルオキシなどが挙げられる。
用語「Ｃ３〜Ｃ６の環状アルコキシ基」は、炭素数３〜６の任意の環状アルキル基を有するアルコキシ基を包含し、例えば、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシなどが挙げられる。
本明細書中に用いられる用語「アラルキル基」の例としては、ベンジル、フェネチル、およびナフチルメチルが挙げられる。
本明細書中に用いられる用語「アラルキルオキシ基」の例としては、ベンジルオキシ、フェネチルオキシ、およびナフチルメチルオキシが挙げられる。
本明細書中に用いられる用語「ヘテロアラルキル基」の例としては、ピリジルメチル、インドリルメチル、フリルメチル、チエニルメチル、およびピロリルメチルが挙げられる。
本明細書中に用いられる用語「アリール基」の例としては、フェニルおよびナフチルが挙げられる。また、本明細書中に用いられる用語「ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基で置換されたアリール基」の例としては、３，５−ジフェニルフェニル、３，５−ジ（３，５−ジｔ−ブチルフェニル）フェニル、および３，５−ビス（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）フェニルが挙げられる。
本明細書中に用いられる用語「ヘテロアリール基」の例としては、ピリジル、ピロリル、イミダゾリル、フリル、インドリル、チエニル、オキサゾリル、チアゾリル、およびテトラゾリルが挙げられる。
本明細書中に用いられる用語「ハロゲン原子」の例としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子およびフッ素原子が挙げられる。
まず、本発明の第一の実施態様である四級アンモニウムビフルオリド化合物（以下、本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物という）について説明する。
本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物は、以下の式（Ｉ）：
上記式（Ｉ）で表される本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物は、ジアステレオ選択的かつエナンチオ選択的に立体配置が制御されたニトロアルコールの生成を可能にする相間移動触媒として有用である。ジアステレオ選択的かつエナンチオ選択的なニトロアルコールの生成がより効率的に行われ得るという当該触媒としての有用性を考慮すれば、本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物は、上記式（Ｉ）で表される化合物のうち、Ｒ５およびＲ６がそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基で置換されたアリール基であることが好ましく、Ｒ５およびＲ６が同一であることがより好ましい。さらにより好ましい当該四級アンモニウムビフルオリド化合物は、上記式（Ｉ）で表される化合物のＲ５およびＲ６がともに、フッ素原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基で置換されたアリール基であり、さらにより好ましくは、３，５−ビス（３，５−ジトリフルオロメチルフェニル）フェニルである化合物である。
さらに、上記式（Ｉ）で表される化合物は（Ｓ，Ｓ）または（Ｒ，Ｒ）のいずれの立体配置を有していてもよい。
上記式（Ｉ）で表される本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物は、例えば、以下のようにして製造することができる。
上記本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物の製造においては、まず、以下の式（ＩＩ）：
上記式（ＩＩ）で表される化合物のより具体的な例としては：
なお、上記式（ＩＩ）で表される化合物は、例えば、特開２００１−４８８６６号公報に記載の方法に準じて、当業者によって容易に製造され得る。
本発明に用いられるイオン交換樹脂は、当業者によって任意のものが選択可能である。使用可能なイオン交換樹脂の具体的な例としては、アンバーリストＡ２６（ＯＨ）（オルガノ社製）が挙げられる。
上記式（ＩＩ）で表される化合物とイオン交換樹脂との接触は、例えば、上記式（ＩＩ）で表される化合物を適切な溶媒に溶解し、この溶液を、当該イオン交換樹脂を充填したカラムに通すことにより行われる。このような接触を行う際に使用され得る溶媒はアルコール溶媒が好ましい。アルコール溶媒の具体的な例としては、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、およびノルマルプロピルアルコールが挙げられるが、特にこれらに限定されない。
この接触において使用される上記式（ＩＩ）で表される化合物および溶媒の量は、特に限定されず、当業者によって適切に設定され得る。
このようにして、第一の中間体が生成される。
次いで、得られた第一の中間体を、好ましくは上記溶媒を除去することなく、フッ化水素水溶液を用いて反応させる。
本発明に用いられるフッ化水素水溶液の使用量は、特に限定されないが、生産性を高める点から、好ましくは、上記で使用した式（ＩＩ）で表される化合物に対して等量以上のフッ化水素が反応するように選択される。これにより、第一の中間体がビフルオリド体に変換され、溶液中に本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物が沈殿する。
その後、当業者が通常用いる手法を用いて溶媒を除去することにより、本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリドを製造することができる。
次に、本発明の第二の実施態様である四級アンモニウムビフルオリド化合物（以下、本発明の第二の四級アンモニウムビフルオリド化合物という）について説明する。
本発明の第二の四級アンモニウムビフルオリド化合物は、以下の式（Ｉ’）：
式（Ｉ’）で表される本発明の第二の四級アンモニウムビフルオリド化合物は、上記式（Ｉ）で表される本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物と同様に、ジアステレオ選択的かつエナンチオ選択的に立体配置が制御されたニトロアルコールの生成を可能にする相間移動触媒として有用である。上記式（Ｉ’）で表される化合物は（Ｓ，Ｓ）または（Ｒ，Ｒ）のいずれの立体配置を有していてもよい。
上記式（Ｉ’）で表される本発明の第二の四級アンモニウムビフルオリド化合物は、例えば、以下のようにして製造することができる。
上記本発明の第二の四級アンモニウムビフルオリド化合物の製造においては、まず、以下の式（ＩＩ’）：
上記式（ＩＩ’）で表される化合物のより具体的な例としては：
なお、上記式（ＩＩ’）で表される化合物は、例えば、特開２００２−３２６９９２号公報に記載の方法に準じて、当業者によって容易に製造され得る。
本発明の第二の四級アンモニウムビフルオリド化合物を製造するために用いられるイオン交換樹脂は、上記本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物を製造する際に使用されるものと同様である。さらに、上記式（ＩＩ’）で表される化合物と当該イオン交換樹脂との接触もまた、上記本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物を製造する際と同様にして行われる。
このようにして、第二の中間体が生成される。
次いで、得られた第二の中間体を、好ましくは上記溶媒を除去することなく、フッ化水素水溶液を用いて反応させる。
本発明に用いられるフッ化水素水溶液の使用量は、特に限定されないが、生産性を高める点から、好ましくは、上記で使用した式（ＩＩ’）で表される化合物に対して等量以上のフッ化水素が反応するように選択される。これにより、第二の中間体がビフルオリド体に変換され、溶液中に本発明の第二の四級アンモニウムビフルオリド化合物が沈殿する。
その後、当業者が通常用いる手法を用いて溶媒を除去することにより、本発明の第二の四級アンモニウムビフルオリドを製造することができる。
例えばこのようにして得られた、本発明の第一および第二の四級アンモニウムビフルオリド化合物はいずれも、ジアステレオ選択的かつエナンチオ選択的に立体配置が制御されたニトロアルコールを生成するための触媒（相間移動触媒）として有用である。
次に、第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物を用いてニトロアルコールを生成するための、本発明の方法について、一例を挙げて説明する。
本発明のニトロアルコールの製造方法においては、まず、上記式（Ｉ）で表される本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物の存在下にて、以下の式（ＩＩＩ）：
上記式（ＩＩＩ）で表されるシリルニトロネートは、ニトロアルカンのシリル化物である。当該シリルニトロネートは、ニトロアルカンおよびシリル化剤を当業者が通常用いる方法で反応させることにより、容易に誘導して得ることができる。
本発明の方法に用いられる式（ＩＩＩ）のシリルニトロネートを得るためには、使用可能なニトロアルカンは、例えば、１−ニトロエタン、１−ニトロプロパン、１−ニトロブタン、３−メチル−１−ニトロプロパン、２−メトキシ−１−ニトロエタン、３−ベンジルオキシ−１−ニトロプロパン、および２−フェニル−１−ニトロエタンが挙げられる。
また、本発明の方法に用いられる式（ＩＩＩ）のシリルニトロネートを得るためには、使用可能なシリル化剤は、例えば、トリアルキルハロゲノシラン、より具体的には、トリメチルクロロシラン、トリエチルクロロシラン、およびｔ−ブチルジメチルクロロシランが挙げられる。特に、トリメチルクロロシランまたはトリエチルクロロシランを使用して得られるシリルニトロネートを本発明の製造方法に供すれば、得られるニトロアルコール化合物は立体選択性が高められた状態で生成する。
本発明の方法に用いられる式（ＩＩＩ）のシリルニトロネートは、上述したようなニトロアルカンとシリル化剤とを用い、例えば以下の反応を経て得ることができる：すなわち、上記ニトロアルカンを、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、イソプロピルエーテルなどの溶媒に溶解させたニトロアルカン溶液に、別途、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素に溶解されたブチルリチウムとテトラヒドロフランなどに溶解させたアルキルジアミンとから調製されたリチウムジアルキルアミドを加え、さらに、例えば、−８０℃付近の冷却状態で、シリル化剤（トリアルキルシリルハライド）を添加する。その後、反応生成物を分別蒸留に供することにより、本発明の方法に用いられる式（ＩＩＩ）のシリルニトロネートを得ることができる。
本発明のニトロアルコールの製造方法に用いられるアルデヒドは、例えば、以下の式（ＩＶ）：
本発明のニトロアルコールの製造方法においては、上記アルデヒド１モルに対し、好ましくは１モル〜１．５モルの式（ＩＩＩ）のシリルニトロネートが使用される。また、この反応系において、上記式（Ｉ）で表される本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物は、好ましくは０．１モル％〜１０モル％、より好ましくは０．５モル％〜５モル％の割合で使用される。反応は、上記式（ＩＩＩ）のシリルニトロネート、アルデヒドおよび上記式（Ｉ）で表される本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物を、テトラヒドロフラン、エチルエーテル、イソプロピルエーテルなどの適切な溶媒中に仕込み、好ましくは−１００℃〜−７０℃の低温で、２時間〜５時間かけて攪拌混合することにより達成される。反応終了後、反応混合物に、適切な無機酸を加え、次いで、これをエチルエーテル、イソプロピルエーテル、ジクロロエタン、酢酸エチルなどの抽出溶媒で抽出し、当業者が通常用いる手段を用いて、洗浄、カラムクロマトグラフィーなどの処理を行うことにより、目的の反応生成物（ニトロアルコール）を得ることができる。
このように、高いジアステレオ選択性およびエナンチオ選択性を発揮し得る四級アンモニウムビフルオリド化合物を触媒として用いることによって、特定の立体構造を有するニトロアルコールを高純度で製造することができる。なお、上記では本発明の第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物を用いた場合を記載したが、当該第一の四級アンモニウムビフルオリド化合物の代わりに、本発明の第二の四級アンモニウムビフルオリド化合物を使用してもよい。本発明の第二の四級アンモニウムビフルオリド化合物を使用する場合の、式（ＩＩＩ）のシリルニトロネートおよびアルデヒドの使用量、ならびに各種反応条件は上記と同様である。
本発明の製造方法によって得られるニトロアルコールは、例えば、以下の式（Ｖ）：
以下、本発明の実施例を記載する。しかし、これによって本発明は特に限定されない。
＜参考例１；ニトロエタンを用いたシリルニトロネートの合成＞
アルゴン雰囲気中、０℃で、テトラヒドロフラン１００ｍＬにジイソプロピルアミン７．１ｍＬ（５１ｍｍｏｌ）を添加した溶液に、ブチルリチウムの１．５Ｍヘキサン溶液３３ｍＬ（５０ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液を３０分間攪拌した後、ニトロエタン３．７５ｇ（５０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン３０ｍＬに溶解させかつ冷却浴で−７８℃まで冷却した溶液に、すばやく添加した。同温度を１５分間維持し、得られたゼリー状物にトリメチルシリルクロリド６．２ｍＬ（５０ｍｍｏｌ）を添加した。さらに同温度で１５分攪拌した後、冷却浴を除き、２時間攪拌を継続した。反応混合物から溶媒を留去し、固溶状態の残渣をペンタン２００ｍＬに懸濁し、セライトパッドを使って濾取した。濾取した残渣をペンタン（２０ｍＬ×２）で洗浄し、この残渣を分別蒸留して、ニトロエタンのシリルニトロネートを収率８０％で得た。得られたシリルニトロネートについては、さらなる精製を施すことなく、後述するニトロアルコールの製造に使用した。
＜参考例２；３−ベンジルオキシ−１−ニトロプロパンを用いたシリルニトロネートの合成＞
参考例１におけるニトロエタンの代わりに、３−ベンジルオキシ−１−ニトロプロパンを用いたこと以外は、参考例１と同様にして、同化合物のシリルニトロネートを得た。
得られたシリルニトロネートのＮＭＲスペクトルデータを表１に示す。
また、得られたシリルニトロネートの沸点は、１１２℃／０．００３ｍｍＨｇであった。得られたシリルニトロネートについては、さらなる精製を施すことなく、後述するニトロアルコールの製造に使用した。
＜参考例３；四級アンモニウムビフルオリド化合物を合成するための準備（ａ）＞
３００ｍＬの反応容器に、化合物（１）（９．２ｇ、３０ｍｍｏｌ）と化合物（２））１８．２ｇ、７０ｍｍｏｌ）、ＰＰｈ３（８６６ｍｇ、３．３ｍｍｏｌ）、およびＫ３ＰＯ４・ｎＨ２Ｏ（２５ｇ、９０ｍｍｏｌ）を秤りとり、ＤＭＦ（１００ｍＬ、０．３Ｍ）を加えた後、減圧下にて脱気し、反応容器内をアルゴン雰囲気にした。
次いで、この反応容器に、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ３）２（３３６ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を添加し、再び容器内をアルゴン雰囲気とした後、混合液を１００℃までまで昇温し、一昼夜、加熱下にて撹拌した。ＴＬＣで反応の終結を確認した後、反応溶液を室温まで冷却し、反応溶液中に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた。これをエーテルで２回抽出し、集めた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。エバポレーターで溶媒を除去した後、カラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサンのみ）精製して、化合物（３）を７０％の単離収率で得た。
得られた化合物（３）のＮＭＲスペクトルデータを表２に示す。
＜参考例４；四級アンモニウムビフルオリド化合物を合成するための準備（ｂ）＞
２００ｍＬの反応容器に、参考例３で得られた化合物（３）（１．７ｇ、３０ｍｍｏｌ）のＣＨ２Ｃｌ２（１０ｍＬ）溶液を添加し、さらに酢酸（６０ｍＬ、０．５Ｍ）を添加した後、ＮＣＳ（８．０ｇ、６０ｍｍｏｌ）およびＮａＩ（８．９ｇ、６０ｍｍｏｌ）を順次添加した。反応混合物を攪拌しながら１００℃で９時間加熱した後、飽和亜硫酸ナトリウム水溶液を、反応溶液の色が薄い黄色になるまで加え、エーテルで２回抽出し、集めた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を用いて中和した。再びエーテルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、その後溶媒を除去し、ヘキサンから再結晶することにより、化合物（４）を７７％の収率で得た。
得られた化合物（４）のＮＭＲスペクトルデータを表３に示す。
＜参考例５；四級アンモニウムビフルオリド化合物を合成するための準備（ｃ）＞
よく乾燥した１００ｍＬの枝付き反応容器に、参考例４で得られた化合物（４）（１４．６ｇ，２３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（３０ｍＬ）溶液を加え、−７８℃に冷却した後、ｉ−ＰｒＭｇＢｒ（０．８３Ｍ ＴＨＦ溶液、３３ｍＬ、２７．６ｍｍｏｌ）を加え、０℃まで昇温し、０．５時間攪拌した。
他方、別のよく乾燥した２００ｍＬの三つ口反応容器に、Ｂ（ＯＨ３）３（４．０ｍＬ、３５ｍｍｏｌ）とＴＨＦ（４５ｍＬ）とを加え、これを−７８℃に冷却し、よく攪拌しているところに、同じく−７８℃までに冷却した上記化合物（４）とｉ−ＰｒＭｇＢｒとのＴＨＦ溶液をカニュラを用いて移し入れた。その後、徐々に反応溶液の温度を昇温させ、室温で一晩攪拌した後、１ＮのＨＣｌを加え、さらに６時間激しく攪拌した。反応溶液を酢酸エチルで２回抽出し、集めた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。次いで、溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／２（容量比））で精製することにより、化合物（５）を８２％の収率で得た（モノマーとトリマーとの比は、１：０．３であった）。
得られた化合物（５）のＮＭＲスペクトルデータを表４に示す。
＜参考例６；四級アンモニウムビフルオリド化合物を合成するための準備（ｄ）＞
２０ｍＬの反応容器に、参考例５で得られた化合物（５）（５４１ｍｇ、１ｍｍｏｌ）、化合物（６）（市販（住金エア・ウォーター・ケミカル社製）の（Ｓ）−１，１’−ビ−２−ナフトールを用い、当業者が通常用いる手法により製造された）（２６３ｍｇ、０．４５ｍｍｏｌ）、ＰＰｈ３（１３ｍｇ、０．０５ｍｍｏｌ）、およびＫ３ＰＯ４・ｎＨ２Ｏ（３８７ｍｇ、１．３ｍｍｏｌ）を秤りとり、ジオキサン（５ｍＬ、０．２Ｍ）を加えた後、減圧下にて脱気して反応容器内をアルゴン雰囲気にした。次いで、この反応容器に、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ３）２（５ｍｇ、０．０２ｍｍｏｌ）を加え、再び容器内をアルゴン雰囲気とした後、混合液の温度を８０℃まで昇温し、一昼夜かけて加熱撹拌した。ＴＬＣで反応の終結を確認した後、反応溶液を室温まで冷却し、反応溶液中に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた。これをエーテルで２回抽出し、集めた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。エバポレーターで溶媒を除去した後、カラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサンのみ）で精製することにより、化合物（７）を９４％の単離収率で得た。
得られた化合物（７）のＮＭＲスペクトルデータを表５に示す。
＜参考例７；四級アンモニウムビフルオリド化合物を合成するための準備（ｅ）＞
２０ｍＬの反応容器に、参考例６で得られた化合物（７）（６５４ｍｇ、０．５１ｍｍｏｌ）、ＮＢＳ（２３６ｍｇ、１．３ｍｍｏｌ）、ＡＩＢＮ（８ｍｇ、０．０５ｍｍｏｌ）、およびベンゼン（５ｍＬ）を加え、還流温度まで加熱してアルゴン雰囲気下で１時間反応させた。反応が完結していることを確認した後、反応溶液を飽和亜硫酸水溶液中に加え、０．５時間攪拌し、反応混合溶液をエーテルで２回抽出した。集めた有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィー（溶出液：エーテル／ヘキサン＝１／１０（容量比））を用いて精製することにより、化合物（８）を単離収率９１％で得た。
得られた化合物（８）のＮＭＲスペクトルデータを表６に示す。
＜参考例８；四級アンモニウムビフルオリド化合物を合成するための準備（ｆ）＞
２０ｍＬの反応容器に、化合物（９）（市販（住金エア・ウォーター・ケミカル社製）の（Ｓ）−１，１’−ビ−２−ナフトールを用い、当業者が通常用いる手法により製造された）（１３１ｍｇ、０．４４ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（９２ｍｇ、０．６６ｍｍｏｌ）、およびアセトニトリル（５ｍＬ、０．１Ｍ）を加え、室温で０．５時間攪拌した。その後、この反応容器に、参考例７で得られた化合物（８）（６７２ｍｇ、０．４７ｍｍｏｌ）を加え、溶媒が還流する温度まで昇温し、攪拌しながら４時間加熱した。ＴＬＣで化合物（９）の消失を確認した後、蒸留水を加えＣＨ２Ｃｌ２で２回抽出し、集めた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を除去した後、カラムクロマトグラフィーで精製することにより化合物（１０）を単離収率７８％で得た。
得られた化合物（１０）のＮＭＲスペクトルデータを表７に示す。
＜参考例９＞
参考例４において、化合物（３）の代わりに３，５−ジトリフルオロメチルフェニルトリメチルシランを用いたこと以外は、参考例４と同様にして反応を行い、そしてこれにより得られた化合物を用いて、参考例５〜８までの一連の反応を行って、以下の化合物（１１）：
で表される、Ｃ２軸不斉四級アンモニウムブロミドを得た。
＜参考例１；ニトロエタンを用いたシリルニトロネートの合成＞
アルゴン雰囲気中、０℃で、テトラヒドロフラン１００ｍＬにジイソプロピルアミン７．１ｍＬ（５１ｍｍｏｌ）を添加した溶液に、ブチルリチウムの１．５Ｍヘキサン溶液３３ｍＬ（５０ｍｍｏｌ）を加えた。この溶液を３０分間攪拌した後、ニトロエタン３．７５ｇ（５０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン３０ｍＬに溶解させかつ冷却浴で−７８℃まで冷却した溶液に、すばやく添加した。同温度を１５分間維持し、得られたゼリー状物にトリメチルシリルクロリド６．２ｍＬ（５０ｍｍｏｌ）を添加した。さらに同温度で１５分攪拌した後、冷却浴を除き、２時間攪拌を継続した。反応混合物から溶媒を留去し、固溶状態の残渣をペンタン２００ｍＬに懸濁し、セライトパッドを使って濾取した。濾取した残渣をペンタン（２０ｍＬ×２）で洗浄し、この残渣を分別蒸留して、ニトロエタンのシリルニトロネートを収率８０％で得た。得られたシリルニトロネートについては、さらなる精製を施すことなく、後述するニトロアルコールの製造に使用した。
＜参考例２；３−ベンジルオキシ−１−ニトロプロパンを用いたシリルニトロネートの合成＞
参考例１におけるニトロエタンの代わりに、３−ベンジルオキシ−１−ニトロプロパンを用いたこと以外は、参考例１と同様にして、同化合物のシリルニトロネートを得た。
得られたシリルニトロネートのＮＭＲスペクトルデータを表１に示す。
＜参考例３；四級アンモニウムビフルオリド化合物を合成するための準備（ａ）＞
次いで、この反応容器に、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ３）２（３３６ｍｇ、１．５ｍｍｏｌ）を添加し、再び容器内をアルゴン雰囲気とした後、混合液を１００℃までまで昇温し、一昼夜、加熱下にて撹拌した。ＴＬＣで反応の終結を確認した後、反応溶液を室温まで冷却し、反応溶液中に飽和塩化アンモニウム水溶液を加えた。これをエーテルで２回抽出し、集めた有機層を飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させた。エバポレーターで溶媒を除去した後、カラムクロマトグラフィー（溶出液：ヘキサンのみ）精製して、化合物（３）を７０％の単離収率で得た。
得られた化合物（３）のＮＭＲスペクトルデータを表２に示す。
得られた化合物（４）のＮＭＲスペクトルデータを表３に示す。
他方、別のよく乾燥した２００ｍＬの三つ口反応容器に、Ｂ（ＯＨ３）３（４．０ｍＬ、３５ｍｍｏｌ）とＴＨＦ（４５ｍＬ）とを加え、これを−７８℃に冷却し、よく攪拌しているところに、同じく−７８℃までに冷却した上記化合物（４）とｉ−ＰｒＭｇＢｒとのＴＨＦ溶液をカニュラを用いて移し入れた。その後、徐々に反応溶液の温度を昇温させ、室温で一晩攪拌した後、１ＮのＨＣｌを加え、さらに６時間激しく攪拌した。反応溶液を酢酸エチルで２回抽出し、集めた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。次いで、溶媒を除去し、カラムクロマトグラフィー（溶出液：酢酸エチル／ヘキサン＝１／２（容量比））で精製することにより、化合物（５）を８２％の収率で得た（モノマーとトリマーとの比は、１：０．３であった）。
得られた化合物（５）のＮＭＲスペクトルデータを表４に示す。
得られた化合物（７）のＮＭＲスペクトルデータを表５に示す。
得られた化合物（８）のＮＭＲスペクトルデータを表６に示す。
得られた化合物（１０）のＮＭＲスペクトルデータを表７に示す。
参考例４において、化合物（３）の代わりに３，５−ジトリフルオロメチルフェニルトリメチルシランを用いたこと以外は、参考例４と同様にして反応を行い、そしてこれにより得られた化合物を用いて、参考例５〜８までの一連の反応を行って、以下の化合物（１１）：
参考例８で得られた化合物（１０）（（Ｓ，Ｓ）体）１．０ｇをメチルアルコール２０ｍＬに溶解させ、アンバーリストＡ−２６（ＯＨ−）（オルガノ社製イオン交換樹脂）を充填したカラムに通した。得られた溶液に、１Ｎのフッ化水素酸水溶液を２当量相当加えた後、減圧下にて溶媒を除き、さらに、ジクロロメタン：ヘキサン（１：１（容量比））混合溶媒を加えて、共沸除去を行い、非晶質のＣ２軸不斉四級アンモニウムビフルオリド化合物を定量的に得た。
本実施例で得られたＣ２軸不斉四級アンモニウムビフルオリド化合物の分析結果を以下に示す。
［α］Ｄ ２７ ６２．３°（ｃ １．００，ＣＨ３ＯＨ）
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２）δ８．８７（２Ｈ，ｂｒ，Ａｒ−Ｈ），８．５９（４Ｈ，ｂｒ，Ａｒ−Ｈ），８．５４（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），８．２６（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），８．２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），８．１２（２Ｈ，ｂｒ，Ａｒ−Ｈ），８．１０−７．９０（４Ｈ，ｂｒ，Ａｒ−Ｈ），７．８４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．７３（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．１，７．９Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．６３（２Ｈ，ｂｒ，Ａｒ−Ｈ），７．４９（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝０．４，７．１，７．９Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．４４（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝０．４，７．１，７．９Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．３５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７ＨＺ，Ａｒ−Ｈ），７．２７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．１８（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．７，８．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．５８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），４．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２７．２Ｈｚ，Ａｒ−ＣＨ２），４．４７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２７．２Ｈｚ，Ａｒ−ＣＨ２），４．３６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２７．２Ｈｚ，Ａｒ−ＣＨ２），３．６９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２７．２Ｈｚ，Ａｒ−ＣＨ２）
１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨＺ，ＣＤ２Ｃｌ２）δ１４２．２４，１４１．７９，１４１．２７，１３９．８３，１３８．２７，１３６，９２，１３４．３０，１３４．１５，１３３．４８，１３２．９１，１３２．５２，１３２．１７，１３１．７４，１３１．４０，１３０．５９，１２８．８６，１２８．８２，１２８．６２，１２８．０１，１２７．８１，１２７．５８，１２７．２２，１２７．００，１２６．７４，１２５．３８，１２５．０３，１２２．８４，１２２．１６，６２．３４，５７．６２，３２．０２，２３．１１
１９Ｆ ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２）δ−６２．８５，−１５１．１６
ＩＲ（ＫＢｒ）３４３７，３０５９，１６２０，１５９５，１５２６，１４６６，１３９１，１３６７，１３３１，１２８１，１１７８，１１３６，９０１，８８３，８４５，７５２，７０６，６８５ｃｍ−１
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ−ＴＯＦ）Ｃ８８Ｈ４８Ｆ２４Ｎとしたときの実測値：１５７４．３４６５（［Ｍ−Ｆ］＋）、計算値：１５７４．３３９８（［Ｍ−Ｆ］＋）。
得られたＣ２軸不斉四級アンモニウムビフルオリド化合物を、さらなる精製を行うことなく、後述のニトロアルコールの製造に使用した。
本実施例で得られたＣ２軸不斉四級アンモニウムビフルオリド化合物の分析結果を以下に示す。
［α］Ｄ ２７ ６２．３°（ｃ １．００，ＣＨ３ＯＨ）
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２）δ８．８７（２Ｈ，ｂｒ，Ａｒ−Ｈ），８．５９（４Ｈ，ｂｒ，Ａｒ−Ｈ），８．５４（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），８．２６（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），８．２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），８．１２（２Ｈ，ｂｒ，Ａｒ−Ｈ），８．１０−７．９０（４Ｈ，ｂｒ，Ａｒ−Ｈ），７．８４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．７３（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．１，７．９Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．６３（２Ｈ，ｂｒ，Ａｒ−Ｈ），７．４９（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝０．４，７．１，７．９Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．４４（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝０．４，７．１，７．９Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．３５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７ＨＺ，Ａｒ−Ｈ），７．２７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．１８（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．７，８．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），６．５８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），４．９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２７．２Ｈｚ，Ａｒ−ＣＨ２），４．４７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２７．２Ｈｚ，Ａｒ−ＣＨ２），４．３６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２７．２Ｈｚ，Ａｒ−ＣＨ２），３．６９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２７．２Ｈｚ，Ａｒ−ＣＨ２）
１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨＺ，ＣＤ２Ｃｌ２）δ１４２．２４，１４１．７９，１４１．２７，１３９．８３，１３８．２７，１３６，９２，１３４．３０，１３４．１５，１３３．４８，１３２．９１，１３２．５２，１３２．１７，１３１．７４，１３１．４０，１３０．５９，１２８．８６，１２８．８２，１２８．６２，１２８．０１，１２７．８１，１２７．５８，１２７．２２，１２７．００，１２６．７４，１２５．３８，１２５．０３，１２２．８４，１２２．１６，６２．３４，５７．６２，３２．０２，２３．１１
１９Ｆ ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２）δ−６２．８５，−１５１．１６
ＩＲ（ＫＢｒ）３４３７，３０５９，１６２０，１５９５，１５２６，１４６６，１３９１，１３６７，１３３１，１２８１，１１７８，１１３６，９０１，８８３，８４５，７５２，７０６，６８５ｃｍ−１
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ−ＴＯＦ）Ｃ８８Ｈ４８Ｆ２４Ｎとしたときの実測値：１５７４．３４６５（［Ｍ−Ｆ］＋）、計算値：１５７４．３３９８（［Ｍ−Ｆ］＋）。
得られたＣ２軸不斉四級アンモニウムビフルオリド化合物を、さらなる精製を行うことなく、後述のニトロアルコールの製造に使用した。
アルゴン気流下において、テトラヒドロフラン３ｍＬに、実施例１で得られたＣ２軸不斉四級アンモニウムビフルオリド９．６ｍｇ（０．００６ｍｍｏｌ）を加え、次いでベンズアルデヒド３１．８ｍｇ（０．３ｍｍｏｌ）を室温で加え、混合物を−９８℃に冷却した。
この混合物に、参考例１で得られた、ニトロエタンから調製したトリメチルシリルニトロネート５２．９ｍｇ（０．３６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１ｍＬに溶解させた溶液を５分間かけて加えた。混合物を１時間かけて−７８℃まで温め、さらに同温度で４時間攪拌した。次いで、同温度のまま１Ｎの塩酸１．０ｍＬを加えた後、０℃まで温め、２０分間激しく攪拌し、その後、混合物をエチルエーテルで抽出した。合わせた有機層を水および塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去し、油状残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：エーテル／ヘキサン＝１／４（容量比））にかけて精製し、２−ニトロ−１−フェニル−プロパン−１−オールを得た。得られた２−ニトロ−１−フェニル−プロパン−１−オールの収量は４９．９６ｍｇ（収率９２％）（アンチ／シン＝９２：８）であり、アンチ体の光学純度は９５％ｅｅであった。
なお、上記で得られた生成物のジアステレオ比は、１Ｈ−ＮＭＲの分析結果から算出し、光学純度についてはキラルカラム（ＤＡＩＣＥＬ．Ｃｈｉｒａｌｐａｋ ＡＳ）を使用し、溶媒としてヘキサン−イソプロピルアルコール（５０：１（容量比））を使用して、測定した。
次いで、上記で得られたアンチ体を、メチルアルコールに溶解させ、これに触媒量のラネーニッケルを添加し、室温で水素添加を行った。その後、反応混合物に炭酸ジｔｅｒｔ−ブチル３当量と触媒量のジメチルアミノピリジンとを添加して、２−（Ｎ−Ｂｏｃ−アミノ）−１−フェニル−１−プロパノールを合成した。
この２−（Ｎ−Ｂｏｃ−アミノ）−１−フェニル−１−プロパノールのＨＰＬＣ保持時間を、試薬として入手可能な（１Ｒ，２Ｓ）−（−）−ノルエフェドリンから別途合成した（１Ｒ，２Ｓ）−２−（Ｎ−Ｂｏｃ−アミノ）−１−フェニル−１−プロパノールのＨＰＬＣ保持時間と対比して、絶対配置を同定したところ、（１Ｒ，２Ｓ）であることを見出した。
上記で使用したＨＰＬＣの測定条件は以下の通りである：ＨＰＬＣ測定条件：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＳ、ヘキサン：エタノール＝１０：１（容量比）、流量０．５ｍＬ／分、保持時間：１０．００分（１Ｒ，２Ｓ）体、９．５分（１Ｓ，２Ｒ）体。
さらに、上記で得られた２−（Ｎ−Ｂｏｃ−アミノ）−１−フェニル−１−プロパノールのＮＭＲスペクトルデータを表８に示す。
この混合物に、参考例１で得られた、ニトロエタンから調製したトリメチルシリルニトロネート５２．９ｍｇ（０．３６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１ｍＬに溶解させた溶液を５分間かけて加えた。混合物を１時間かけて−７８℃まで温め、さらに同温度で４時間攪拌した。次いで、同温度のまま１Ｎの塩酸１．０ｍＬを加えた後、０℃まで温め、２０分間激しく攪拌し、その後、混合物をエチルエーテルで抽出した。合わせた有機層を水および塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥させた。溶媒を留去し、油状残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶出液：エーテル／ヘキサン＝１／４（容量比））にかけて精製し、２−ニトロ−１−フェニル−プロパン−１−オールを得た。得られた２−ニトロ−１−フェニル−プロパン−１−オールの収量は４９．９６ｍｇ（収率９２％）（アンチ／シン＝９２：８）であり、アンチ体の光学純度は９５％ｅｅであった。
なお、上記で得られた生成物のジアステレオ比は、１Ｈ−ＮＭＲの分析結果から算出し、光学純度についてはキラルカラム（ＤＡＩＣＥＬ．Ｃｈｉｒａｌｐａｋ ＡＳ）を使用し、溶媒としてヘキサン−イソプロピルアルコール（５０：１（容量比））を使用して、測定した。
次いで、上記で得られたアンチ体を、メチルアルコールに溶解させ、これに触媒量のラネーニッケルを添加し、室温で水素添加を行った。その後、反応混合物に炭酸ジｔｅｒｔ−ブチル３当量と触媒量のジメチルアミノピリジンとを添加して、２−（Ｎ−Ｂｏｃ−アミノ）−１−フェニル−１−プロパノールを合成した。
この２−（Ｎ−Ｂｏｃ−アミノ）−１−フェニル−１−プロパノールのＨＰＬＣ保持時間を、試薬として入手可能な（１Ｒ，２Ｓ）−（−）−ノルエフェドリンから別途合成した（１Ｒ，２Ｓ）−２−（Ｎ−Ｂｏｃ−アミノ）−１−フェニル−１−プロパノールのＨＰＬＣ保持時間と対比して、絶対配置を同定したところ、（１Ｒ，２Ｓ）であることを見出した。
上記で使用したＨＰＬＣの測定条件は以下の通りである：ＨＰＬＣ測定条件：ＤＡＩＣＥＬ ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ ＡＳ、ヘキサン：エタノール＝１０：１（容量比）、流量０．５ｍＬ／分、保持時間：１０．００分（１Ｒ，２Ｓ）体、９．５分（１Ｓ，２Ｒ）体。
さらに、上記で得られた２−（Ｎ−Ｂｏｃ−アミノ）−１−フェニル−１−プロパノールのＮＭＲスペクトルデータを表８に示す。
上記式（ＩＩＩ）で表されるシリルニトロネートのうち、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、およびＲ４がそれぞれ表９に示されるような置換基で表される化合物、および式（ＩＶ）で表されるアルデヒドのＲ７が表９に示されるような化合物をそれぞれ原料として用い、かつ表９に示される反応時間に設定したこと以外は、実施例２と同様にして反応を行い、上記式（Ｖ）で表されるニトロアルコールを得た。得られたニトロアルコールの収率および光学純度を表１０に示す。
表１０に示されるように、本発明の四級アンモニウムビフルオリドを用いて得られた上記式（Ｖ）で表されるニトロアルコールは、いずれも高い収率で製造可能であることがわかる。また、実施例３〜９のいずれにおいても、高い光学純度を有していた。このことから、本発明のニトロアルコールの製造方法により、高いジアステレオ選択性およびエナンチオ選択性を発揮し得る四級アンモニウムビフルオリド化合物を触媒として用いることによって、特定の立体構造を有するニトロアルコールを高純度で製造することができることがわかる。
参考例８で得られた化合物（１０）の代わりに、参考例９で得られた化合物（１１）１．０ｇを用いたこと以外は、実施例１と同様にして反応を行い、Ｃ２軸不斉四級アンモニウムビフルオリドを定量的に得た。
本実施例で得られたＣ２軸不斉四級アンモニウムビフルオリド化合物の分析結果を以下に示す。
［α］Ｄ ２７ ７８．０°（ｃ ０．５０，ＣＨ３ＯＨ）
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２）δ８．３９（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），８．３０（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），８．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．７０（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．７，７．９Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．５３（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．７，８．３Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．４０（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．７，８．３Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．３１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７ＨＺ，Ａｒ−Ｈ），７．２４（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．７，８．３Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），８．４０−７．１０（６Ｈ，ｂｒ，Ａｒ−Ｈ），６．２７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ）４．６４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．９Ｈｚ，Ａｒ−ＣＨ２），４．４９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．９Ｈｚ，Ａｒ−ＣＨ２），４．２６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．１Ｈｚ，Ａｒ−ＣＨ２），３．６９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．１Ｈｚ，Ａｒ−ＣＨ２）
１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨＺ，ＣＤ２Ｃｌ２）δ１４２．１５，１３９．８２，１３６．７９，１３６．５４，１３４．２３，１３４．１４，１３４．０９，１３４．０７，１３１．８９，１３１．４５，１３１．２５，１２９．０７，１２８．９５，１２８．８３，１２８．５１，１２８．４３，１２７．９６，１２７．６２１２７．５８，１２７．３３，１２６．２８，１２４．８９，１２２．７５，１２２．２５，６２．４９，５７．５９，３１．９９，２３．０８
１９Ｆ ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２）δ−６２．８０，−１５２．２０
ＩＲ（ＫＢｒ）３３９３，１５２４，１４７０，１３７７，１３１１，１２８１，１１７７，１１３８，１０３０，８９７，８４７，７５０，７１４，６８１ｃｍ−１
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ−ＴＯＦ）Ｃ６０Ｈ３６Ｆ１２Ｎとしたときの実測値：９９８，２６５５（［Ｍ−Ｆ］＋）、計算値：９９８．２６５１（［Ｍ−Ｆ］＋）。
本実施例で得られたＣ２軸不斉四級アンモニウムビフルオリド化合物の分析結果を以下に示す。
［α］Ｄ ２７ ７８．０°（ｃ ０．５０，ＣＨ３ＯＨ）
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２）δ８．３９（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），８．３０（２Ｈ，ｓ，Ａｒ−Ｈ），８．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．８８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．７０（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．７，７．９Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．５３（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．７，８．３Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．４０（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．７，８．３Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．３１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７ＨＺ，Ａｒ−Ｈ），７．２４（２Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２，６．７，８．３Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．１８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），７．１１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ），８．４０−７．１０（６Ｈ，ｂｒ，Ａｒ−Ｈ），６．２７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ，Ａｒ−Ｈ）４．６４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．９Ｈｚ，Ａｒ−ＣＨ２），４．４９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．９Ｈｚ，Ａｒ−ＣＨ２），４．２６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．１Ｈｚ，Ａｒ−ＣＨ２），３．６９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝１３．１Ｈｚ，Ａｒ−ＣＨ２）
１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨＺ，ＣＤ２Ｃｌ２）δ１４２．１５，１３９．８２，１３６．７９，１３６．５４，１３４．２３，１３４．１４，１３４．０９，１３４．０７，１３１．８９，１３１．４５，１３１．２５，１２９．０７，１２８．９５，１２８．８３，１２８．５１，１２８．４３，１２７．９６，１２７．６２１２７．５８，１２７．３３，１２６．２８，１２４．８９，１２２．７５，１２２．２５，６２．４９，５７．５９，３１．９９，２３．０８
１９Ｆ ＮＭＲ（３７６ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２）δ−６２．８０，−１５２．２０
ＩＲ（ＫＢｒ）３３９３，１５２４，１４７０，１３７７，１３１１，１２８１，１１７７，１１３８，１０３０，８９７，８４７，７５０，７１４，６８１ｃｍ−１
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ−ＴＯＦ）Ｃ６０Ｈ３６Ｆ１２Ｎとしたときの実測値：９９８，２６５５（［Ｍ−Ｆ］＋）、計算値：９９８．２６５１（［Ｍ−Ｆ］＋）。
本発明によれば、極めて高いジアステレオ選択性およびエナンチオ選択性を発揮し得る四級アンモニウムビフルオリド化合物を触媒として用いることによって、特定の立体構造を有するニトロアルコールを高純度で製造することができる。本発明の四級アンモニウムビフルオリドおよびそれを用いたニトロアルコールの製造方法は、医薬品、農薬等の中間物質の製造において特に有用である。
Claims (9)
- 以下の式（Ｉ）：
- 前記式（Ｉ）で表される化合物のＲ５およびＲ６がそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基で置換されたアリール基である、請求項１に記載の四級アンモニウムビフルオリド化合物。
- 前記式（Ｉ）で表される化合物のＲ５およびＲ６がともに、３，５−ビス（３，５−ジトリフルオロメチルフェニル）フェニルである、請求項２に記載の四級アンモニウムビフルオリド化合物。
- 立体配置が（Ｓ，Ｓ）または（Ｒ，Ｒ）である、請求項１から３のいずれかに記載の四級アンモニウムビフルオリド化合物。
- 請求項１に記載の四級アンモニウムビフルオリドの製造方法であって、
以下の式（ＩＩ）：
を包含する、方法。 - 前記式（ＩＩ）で表される化合物のＲ５およびＲ６がそれぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１〜Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基で置換されたアリール基である、請求項５に記載の方法。
- 前記式（ＩＩ）で表される化合物のＲ５およびＲ６がともに、３，５−ビス（３，５−ジトリフルオロメチルフェニル）フェニルである、請求項６に記載の方法。
- 立体配置が（Ｓ，Ｓ）または（Ｒ，Ｒ）である、請求項５から７のいずれかに記載の方法。
- ジアステレオ選択性かつエナンチオ選択性に優れるニトロアルコール化合物の製造方法であって、
請求項１から４のいずれかに記載の四級アンモニウムビフルオリド化合物の存在下、式（ＩＩＩ）：
を包含する、方法。
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