JP4592738B2 - Circuit board manufacturing method and circuit board inspection method - Google Patents

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Description

本発明は、回路基板の製造装置および回路基板の検査方法に係り、特に、回路基板の対向する両面に形成された回路配線がスルホールにより電気的に接続される構造を備えた回路基板の製造装置および回路基板の検査方法に関する。 The present invention relates to a circuit board manufacturing apparatus and a circuit board inspection method , and more particularly, to a circuit board manufacturing apparatus having a structure in which circuit wirings formed on both opposing surfaces of a circuit board are electrically connected by through holes. And a circuit board inspection method .

近年、半導体装置の高集積化が著しく進行し、半導体装置における実装技術に対しても高密度化が求められている。   In recent years, high integration of semiconductor devices has been remarkably advanced, and high density is also required for mounting technology in semiconductor devices.

半導体装置の高密度実装技術としては、ワイヤーボンディング技術やＴＡＢ技術等が代表的に挙げられるが、コンピュータ機器等の半導体装置に対し最も高密度化が可能な実装技術として、フリップチップ実装技術が多く用いられている。   Typical examples of high-density mounting technology for semiconductor devices include wire bonding technology and TAB technology, but the most possible mounting technology for semiconductor devices such as computer equipment is flip chip mounting technology. It is used.

フリップチップ実装技術は、図２６に示す様に、米国特許第３４０１１２６号公報、米国特許第３４２９０４０号公報が開示されて以来、広く公知の技術になっている。   As shown in FIG. 26, the flip chip mounting technique has been widely known since the disclosure of US Pat. No. 3,401,126 and US Pat. No. 3,429,040.

ところが、上述したように、半導体チップをフリップチップ実装した場合には、接続部分が半導体チップの下方に配置される実装構造上の特徴から、その接続部分を顕微鏡等を用いて直接検査することが困難であった。このため、Ｘ線透過法や超音波印加法等を用いた非破壊検査法が多く提案されてきたが、これを実施するための装置が大規模なものとなり製造コストを増加させる原因となっていた。   However, as described above, when a semiconductor chip is flip-chip mounted, it is possible to directly inspect the connecting portion using a microscope or the like because of the characteristics of the mounting structure in which the connecting portion is disposed below the semiconductor chip. It was difficult. For this reason, many non-destructive inspection methods using an X-ray transmission method, an ultrasonic wave application method, and the like have been proposed. However, a large-scale apparatus is required to increase the manufacturing cost. It was.

そこで、フリップチップ実装する半導体チップを回路基板上に実装する前に予め検査するＫＧＤ（Known Good Die）技術が開発され、実装時の接続の信頼性は極めて向上するようになってきた。   Therefore, KGD (Known Good Die) technology has been developed in which a semiconductor chip to be flip-chip mounted is preliminarily inspected before being mounted on a circuit board, and connection reliability at the time of mounting has been greatly improved.

ＫＧＤ技術として、一般的には、検査ボードによるプロービング方法が用いられるが、微細なバンプが半導体チップ上に、エリア状に配置されるようになってくると、それに対応して、検査ボード上に配置するプローブにも微細なエリア状に配置されたレイアウトが必要となっていた。   As a KGD technique, a probing method using an inspection board is generally used. However, when fine bumps are arranged in an area on a semiconductor chip, correspondingly on the inspection board. The probe to be arranged also requires a layout arranged in a fine area.

検査ボードとしての回路基板の微細化を進める上での最大の問題は、層間接続に用いるスルホール径をいかに小さくするかである。大きなスルホール径を用いた層間接続は、大きな層間接続面積を必要とするばかりでなく、他層における配線禁止領域の発生や接続部のインピーダンス不整合による信号反射の発生等、電気特性の面でも悪影響を与える。   The biggest problem in miniaturizing a circuit board as an inspection board is how to reduce the through hole diameter used for interlayer connection. Interlayer connection using a large through hole diameter not only requires a large interlayer connection area, but also adversely affects electrical characteristics such as the generation of wiring prohibited areas in other layers and the occurrence of signal reflection due to impedance mismatch at the connection. give.

一般的に、層間接続に用いるスルホール径を小さくする方法としては、感光性樹脂を用いたビアホールによる層間接続方式を回路基板に応用したビルドアップ配線基板が挙げられる。これは、図２７（ａ）に示す様に、従来のプリント配線基板をコアとして、感光性樹脂の塗布、露光、現像によりビアホールを形成し、めっき技術により、配線を順次、必要な所まで積み上げていくものである。   In general, as a method of reducing the through hole diameter used for interlayer connection, there is a build-up wiring board in which an interlayer connection method using a via hole using a photosensitive resin is applied to a circuit board. As shown in FIG. 27 (a), using a conventional printed wiring board as a core, via holes are formed by applying, exposing, and developing a photosensitive resin, and the wiring is sequentially stacked up to the required place by plating technology. It will be.

さらに、図２７（ｂ）に示したように、めっきにより形成される金属柱を用い層間接続を行うビアポスト型ビルドアップ配線基板も開発されている。この方式によれば、高解像度のドライフィルムを使用することにより、ビアホールよりも接続面積を小さくすることが可能である。   Further, as shown in FIG. 27 (b), a via post type build-up wiring board that performs interlayer connection using metal columns formed by plating has also been developed. According to this method, it is possible to make the connection area smaller than the via hole by using a high-resolution dry film.

ところが、これらの方法はいずれも基板の片面に配線層を形成するもので、検査ボードとしての回路基板の両面に配線層を形成するためには、図２８に示すように、基板の主面と裏面とを電気的に貫通して接続するスルホールを形成する必要がある。   However, these methods all form a wiring layer on one side of the substrate. In order to form a wiring layer on both sides of the circuit board as an inspection board, as shown in FIG. It is necessary to form a through hole that penetrates and connects the back surface.

このスルホールを形成する方法として、一般的には、“特集「プリント配線板用めっき」プリント配線基板製造におけるめっき”（サーキットテクノロジー、Vol.18、NO.5、 pp351‐356 、1996）に記載されているように、無電解めっき後、電気めっきで銅を厚く形成することによりスルホールを形成する方法がある。   As a method of forming this through hole, it is generally described in “Special Feature“ Plating for Printed Wiring Board ”Plating in Printed Wiring Board Manufacturing” (Circuit Technology, Vol.18, NO.5, pp351-356, 1996). As described above, there is a method of forming a through hole by forming copper thickly by electroplating after electroless plating.

スルホールの壁面を金属化する無電解めっき法は、複雑な形状品に対しても金属膜が得られ、電気めっきのように通電するための特別な冶具や設備を必要としない。さらに、無電解めっき法は、導体および不導体でも前処理を施せばめっきが可能な技術である。   The electroless plating method that metallizes the wall surface of the through hole can obtain a metal film even for a complicated shape product, and does not require special jigs and equipment for energizing like electroplating. Furthermore, the electroless plating method is a technique that enables plating even if conductors and nonconductors are pretreated.

一方、無電解めっき法で金属化されたスルホールの壁面の金属を厚くする電気めっき法は、めっき槽の中央部の陰極に回路基板を固定するとともに、両側に陽極を配置し、電気分解反応で陰極の回路基板に金属を析出させる技術である。さらに、陽極にはめっきする金属と同種の金属を板あるいはボールを配置し、めっき液中の金属イオンの補給源とするのが一般的である。但し、陽極における金属の溶解反応が遅いときには、陽極にカーボンや白金などの不溶解性材料を使用することも可能となっている。この場合、めっき液中の金属イオンはめっきする金属塩の水溶液で補充する。   On the other hand, the electroplating method to thicken the metal on the wall of the through hole that has been metallized by electroless plating method is to fix the circuit board to the cathode in the center of the plating tank, and arrange the anode on both sides, This is a technique for depositing metal on the circuit board of the cathode. Furthermore, a plate or a ball of the same type of metal as the metal to be plated is disposed on the anode, and is generally used as a supply source for metal ions in the plating solution. However, when the dissolution reaction of the metal at the anode is slow, it is possible to use an insoluble material such as carbon or platinum for the anode. In this case, the metal ions in the plating solution are supplemented with an aqueous solution of a metal salt to be plated.

さらに、電気めっき装置は、めっき槽の材質、深さ、幅、容量、陽極および陰極の形状と配置、陰極に接続された回路基板の揺動、めっき液の撹拌条件、温度、電流密度および不純物などが均一な電着性に影響を与えるため、シールド板または補助電極などを用いた電気めっきが行われ、近年では、信頼性の高いスルホールめっきが実現される様になってきた。   In addition, the electroplating equipment includes plating tank material, depth, width, capacity, anode and cathode shape and arrangement, oscillation of the circuit board connected to the cathode, plating solution stirring conditions, temperature, current density and impurities. Since this affects the uniform electrodeposition, electroplating using a shield plate or an auxiliary electrode is performed, and in recent years, highly reliable through-hole plating has been realized.

また、図２７（ｂ）に示す金属柱を用いて接続を行うビアポスト型ビルドアップ配線基板では、Proceeding of 1996 ISHM Symposium, pp243-248, 1996にも記載されている噴流式電気めっき装置を用いることを行われている（図１３参照）。   In addition, in the via post type build-up wiring board to be connected using the metal pillar shown in FIG. 27 (b), the jet type electroplating apparatus described in Proceeding of 1996 ISHM Symposium, pp243-248, 1996 should be used. (See FIG. 13).

この電気めっき装置によれば、電気めっきの均一な電着性に影響する装置の各パラメータも最適化できるため、近年の高密度・高速実装を目的としたＭＣＭ（Multichip Module）基板も高精度に形成することが可能となっている。   According to this electroplating device, each parameter of the device affecting the uniform electrodeposition of electroplating can be optimized, so the recent MCM (Multichip Module) substrate for high-density and high-speed mounting is also highly accurate. It is possible to form.

ところが、検査ボードとなる回路基板には電子機器より発生する熱に起因する温度上昇および冷却による温度低下の繰り返しによる熱ストレスによりスルホールめっき部分にクラックが発生する。これは、回路基板の基材となる材料の熱膨張係数とスルホールにめっきされる金属との熱膨張係数とが異なるため発生するもので、スルホールの内部における膜剥れクラックや基板の表面とスルホール部分の境界部分とに生じる歪クラックなどがある。   However, cracks are generated in the through-hole plating portion of the circuit board serving as the inspection board due to thermal stress due to repeated temperature rise due to heat generated from the electronic equipment and temperature drop due to cooling. This occurs because the thermal expansion coefficient of the material that is the base material of the circuit board is different from the thermal expansion coefficient of the metal plated on the through hole. There are strain cracks and the like that occur at the boundary between the parts.

そこで、スルホール部の熱ストレス信頼性を向上させるため、めっき金属被膜の信頼性を向上させることが行われ、めっき条件管理、めっき被膜管理および工程能力管理などが行われてきた。しかしながら、この方法は、めっきに際するプロセス管理を行うことにより信頼性を向上させるもので、必ずしも十分な信頼性を向上させるものではなかった。   Therefore, in order to improve the thermal stress reliability of the through hole portion, the reliability of the plated metal film has been improved, and plating condition management, plating film management, process capability management, and the like have been performed. However, this method improves reliability by performing process management during plating, and does not necessarily improve sufficient reliability.

また、一方では、ＫＧＤを実施するため、微細なエリアバンプ電極を検査ボードに位置合せすることも困難となっていた。   On the other hand, since KGD is performed, it is difficult to align the fine area bump electrodes with the inspection board.

そこで、ガラス基板の両面に検査配線を形成した検査ボードを用いることにより、ガラス基板を透過してプロービング時の半導体チップと検査ボードとの位置合わせを容易に行う方法が適用されるようになってきたが、無機セラミック材料であるガラス基板の両面を微細なスルホールを通して電気的に接続することは極めて困難なものであり、また、レーザなどを用いてガラス基板を微細加工することもコスト的に極めて高いという問題があった。   Therefore, by using an inspection board in which inspection wiring is formed on both surfaces of the glass substrate, a method of easily aligning the semiconductor chip and the inspection board during probing through the glass substrate has been applied. However, it is extremely difficult to electrically connect both surfaces of a glass substrate, which is an inorganic ceramic material, through fine through-holes, and it is extremely difficult to finely process the glass substrate using a laser or the like. There was a problem of being expensive.

そこで、日刊工業新聞（１９９６年７月１７日６ページ）に記載されている様に、ガラス基板のスルホール壁面に金属を密着接合することにより、ガラス基板に低コストで貫通スルホールを形成する提案が行われた。これは、多層配線基板のスルホール内部の壁面と電極間との隙間を高圧鋳造法で完全になくすもので、スルホール形成したガラス基板を焼結後、電極となる溶融アルミニウムをスルホール内部に１平方ミリメートル当り１〜１５ｋｇの圧力を加えながら注入することにより、アルミニウム電極とスルホール内部壁面を完全に密着させるものである。これにより熱膨張係数と熱収縮による応力歪をガラス基板に分散させクラックを防止することが可能になって、多層配線基板における電極の接続信頼性を格段に向上させることができるようになったが、溶融温度が３３８０℃と高いタングステン、アルミニウム、銅および錫などを用いているため、使用できるガラス基板に制限があり耐熱性の低いガラス基板には使用できない問題があった。   Therefore, as described in the Nikkan Kogyo Shimbun (July 17, 1996, page 6), there is a proposal to form a through-hole at a low cost on a glass substrate by tightly bonding a metal to the through-hole wall of the glass substrate. It was conducted. This completely eliminates the gap between the wall surface and the electrode inside the through hole of the multilayer wiring board by high-pressure casting, and after sintering the glass substrate formed with the through hole, the molten aluminum used as the electrode is placed in the through hole by 1 square millimeter. By injecting while applying a pressure of 1 to 15 kg per contact, the aluminum electrode and the inner wall surface of the through hole are completely brought into close contact with each other. As a result, it became possible to disperse the stress strain due to the thermal expansion coefficient and thermal shrinkage on the glass substrate and prevent cracks, and the connection reliability of the electrodes in the multilayer wiring board could be improved significantly. Since tungsten, aluminum, copper, tin and the like having a high melting temperature of 3380 ° C. are used, there are limitations on the glass substrates that can be used, and there is a problem that they cannot be used for glass substrates with low heat resistance.

一方、スルホール内部を金属導体により低温で充填する方法として、有機樹脂バインダーを含有したペーストを真空充填する方法があるが、アスペクト比１０を超える極めて高いアスペクト比のスルホールに適応することは技術的に困難であるばかりでなく、充填材として有機樹脂をバインダーとした材料を用いているため接続信頼性も充分なものではなかった。   On the other hand, as a method of filling the through hole with a metal conductor at a low temperature, there is a method of vacuum filling a paste containing an organic resin binder, but it is technically applicable to a through hole with an extremely high aspect ratio exceeding 10 aspect ratio. Not only is it difficult, but since the material using an organic resin as a binder is used as a filler, connection reliability is not sufficient.

また、ガラス基板に微細な貫通孔を形成する方法として、例えば“化学切削用感光性ガラス”（実務表面技術、pp.552~558、vol.35、 No.11、1988）に記載されている様に、感光性ガラスを用いるものがある。このガラスは、紫外線照射による紫外線エネルギーによりＣｅ3+から光電子が放出され、１部はガラス構造中の空孔に捕らえられるが、１部は感光性イオンに捕らえられて中性化するか金属原子となり、４５０℃〜６００℃の温度で熱処理を施すことにより金属コロイドが生成するものである。さらに、金属コロイドを結晶核にしてメタケイ酸リチウム（Ｌｉ2Ｏ‐ＳｉＯ2）が析出するが、この結晶は薄いフッ酸に対する溶解度が結晶化前ガラスの５０倍にもなるため、エッチングにより紫外線照射したＬｉ2Ｏ‐ＳｉＯ2結晶の部分だけが溶解されて正確な化学切削をおこなうことができる。こうして、微細貫通孔をガラス基板に形成できるが、ガラス基板は、エッチングするときのフッ酸により表面と裏面が侵食され、５μｍ〜６μｍにも達する凹凸が形成されるため、すりガラスのように不透明なものとなる。従って、透過性を保持するには表面および裏面を研磨剤により研磨する必要があった。 Further, as a method for forming fine through holes in a glass substrate, for example, it is described in “photosensitive glass for chemical cutting” (practical surface technology, pp. 552 to 558, vol. 35, No. 11, 1988). Similarly, there is one using photosensitive glass. In this glass, photoelectrons are emitted from Ce 3+ by ultraviolet energy by ultraviolet irradiation, and one part is trapped by vacancies in the glass structure, but one part is trapped by photosensitive ions and becomes neutral or metal atoms. Thus, a metal colloid is generated by heat treatment at a temperature of 450 ° C. to 600 ° C. Furthermore, lithium metasilicate (Li 2 O-SiO 2 ) precipitates with the metal colloid as the crystal nucleus, but the solubility of this crystal in thin hydrofluoric acid is 50 times that of glass before crystallization. Only the portion of the Li 2 O—SiO 2 crystal that has been melted can be dissolved and accurate chemical cutting can be performed. In this way, fine through holes can be formed in the glass substrate. However, the glass substrate is not transparent like ground glass because the front and back surfaces are eroded by hydrofluoric acid when etching, and irregularities reaching 5 μm to 6 μm are formed. It will be a thing. Therefore, in order to maintain the permeability, it is necessary to polish the front and back surfaces with an abrasive.

ところが、粒径２μｍ〜３μｍのアルミナの研磨剤や酸化セリウムの研磨剤を使用すると、エッチングにより形成した貫通孔に研磨剤が侵入し、研磨後に洗浄したとしてもこれを除去できないという問題があった。これは、貫通孔内部にも凹凸が形成され、この部分に研磨剤が残留するためである。また、ガラス基板の表面を平坦化する研磨加工は、例えば、高出力レーザを用いて貫通孔を形成する場合に発生するガラス基板表面の“ばり”を研磨で除去する場合にも必要なものなので、この場合にも、エッチングにより形成した貫通孔に研磨剤が侵入し、研磨後に洗浄したとしてもこれを除去できないという問題があった。   However, when an alumina abrasive or a cerium oxide abrasive having a particle size of 2 to 3 μm is used, there is a problem that the abrasive penetrates into the through-hole formed by etching and cannot be removed even if it is washed after polishing. . This is because irregularities are also formed inside the through hole, and the abrasive remains in this portion. In addition, the polishing process for flattening the surface of the glass substrate is also necessary, for example, when polishing the “burrs” on the surface of the glass substrate that are generated when a through-hole is formed using a high-power laser. Also in this case, there is a problem that the abrasive enters the through-hole formed by etching and cannot be removed even if it is cleaned after polishing.

さらに、スルホールを形成する際には、必要な部分に貫通孔が形成されているか否かを検査することが求められており、貫通孔が数十個程度と少ない場合には目視による検査も可能であるが、１０００個を超える貫通孔が形成されている場合には、目視による検査は事実上、不可能であるという問題があった。また、貫通孔に金属が完全充填されてスルホールが電気的に接続されているか否かを検査する場合にも同様の問題があった。   Furthermore, when through holes are formed, it is required to inspect whether or not through holes are formed in necessary parts, and visual inspection is also possible when there are as few as several through holes. However, when more than 1000 through holes are formed, there is a problem that visual inspection is virtually impossible. In addition, there is a similar problem when inspecting whether or not the through hole is completely filled with metal and the through hole is electrically connected.

本発明は、スルホールを備えた回路基板を経済的にかつ確実に得ることができる回路基板の製造方法および検査方法を提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the manufacturing method and inspection method of a circuit board which can obtain the circuit board provided with the through hole economically and reliably.

本発明に係る回路基板の製造方法は、絶縁基板を、該絶縁基板に対し貫通孔が形成されるよう処理する工程と、前記処理された絶縁基板を、前記貫通孔に少なくとも可視光を通過させる絶縁材が充填されるよう処理する工程と、前記絶縁基板を、前記絶縁材を有するべき領域が含まれるように研磨する工程と、前記研磨された絶縁基板に対し光を照射して前記絶縁材が充填されているか否かを判定する工程と、前記貫通孔に前記絶縁材が充填されていると判定された場合、前記絶縁材を除去する工程と、前記絶縁材が除去された貫通孔に金属を充填する工程とを具備したことを特徴としている。 The method for manufacturing a circuit board according to the present invention includes a step of processing an insulating substrate so that a through hole is formed in the insulating substrate, and passing at least visible light through the through hole through the processed insulating substrate. A step of treating the insulating substrate to be filled; a step of polishing the insulating substrate so as to include a region that should have the insulating material; and irradiating the polished insulating substrate with light. A step of determining whether or not the insulating material is filled, and if it is determined that the insulating material is filled in the through hole, the step of removing the insulating material and the through hole from which the insulating material has been removed And a step of filling with metal.

本発明に係る回路基板の製造方法によれば、貫通孔が形成されるよう処理された絶縁基板を、貫通孔に少なくとも可視光を通過させる絶縁材が充填されるよう処理し、絶縁基板を、絶縁材を有するべき領域が含まれるように研磨した後、絶縁基板に対し貫通孔を有するべき面から光を照射して絶縁材が充填されているか否かを判定し、貫通孔に絶縁材が充填されていると判定された場合に、絶縁材を除去して貫通孔に金属を充填することにより、貫通孔に対する研磨剤の残留を防止するとともに、貫通孔の形成が確実に確認されるので、融点の低い絶縁基板を用いた場合にも、スルーホールに生じた歪みを絶縁基板に逃がすことができ、応力に基づく歪に対し耐久性が高く、また接続信頼性の極めて高いスルホールを設けた回路基板を経済的に製造することが可能となる。   According to the method for manufacturing a circuit board according to the present invention, the insulating substrate processed so as to form the through hole is processed so that the through hole is filled with an insulating material that allows at least visible light to pass through, After polishing so as to include the region that should have the insulating material, it is determined whether or not the insulating substrate is filled with the light by irradiating light from the surface that should have the through hole on the insulating substrate, and the insulating material is filled in the through hole. When it is determined that it is filled, by removing the insulating material and filling the through hole with metal, it is possible to prevent the abrasive from remaining in the through hole and to reliably confirm the formation of the through hole. Even when an insulating substrate with a low melting point is used, the strain generated in the through-hole can be released to the insulating substrate, and a through-hole is provided that has high durability against stress-based strain and extremely high connection reliability. Economical circuit board It becomes possible to manufacture.

また、本発明に係る回路基板の製造方法は、少なくとも可視光を通過させる絶縁基板を、該絶縁基板に対し貫通孔が形成されるよう処理する工程と、前記処理された絶縁基板を、前記貫通孔に少なくとも可視光を通過させる絶縁材が充填されるよう処理する工程と、前記処理された絶縁基板を、前記絶縁材を有するべき領域が含まれるように研磨する工程と、前記研磨された絶縁基板に対して光を照射し、前記絶縁基板に対し貫通孔が形成されるべき領域として予め取得された第１のデータと、前記光に対する前記絶縁基板および前記絶縁材前記の吸収率の差として予め取得された第２のデータとを比較して、前記絶縁材が充填されているか否かを判定する工程と、前記貫通孔に前記絶縁材が充填されていると判定された場合、前記絶縁基板を、前記貫通孔より前記絶縁材が除去されるように処理する工程と、前記処理された絶縁基板を、前記貫通孔に金属が充填されるように処理する工程と、前記処理された絶縁基板に対して前記光を照射し、前記第１のデータ、前記第２のデータ、および前記光に対する前記絶縁基板と前記金属との吸収率の差と該吸収率の差が生じる位置を備え、予め取得された第３のデータとを比較して、前記金属が充填されているか否かを判定する工程とを具備したことを特徴としている。   The circuit board manufacturing method according to the present invention includes a step of treating an insulating substrate that transmits at least visible light so that a through hole is formed in the insulating substrate, and passing the treated insulating substrate through the through-hole. Treating the holes to be filled with at least an insulating material that allows visible light to pass through, polishing the treated insulating substrate so as to include a region that should have the insulating material, and the polished insulation. As a difference between the first data acquired in advance as a region where a through-hole is to be formed in the insulating substrate and light is applied to the insulating substrate, and the absorption rate of the insulating substrate and the insulating material with respect to the light Comparing the second data acquired in advance to determine whether or not the insulating material is filled; and if it is determined that the insulating material is filled in the through hole, the insulation substrate A process of removing the insulating material from the through hole, a process of treating the treated insulating substrate so that the through hole is filled with a metal, and the treated insulating substrate. Irradiating the light with respect to the first data, the second data, and a position where the difference between the absorption rate of the insulating substrate and the metal with respect to the light and the difference between the absorption rates are generated and acquired in advance And comparing with the third data thus made, and determining whether or not the metal is filled.

本発明に係る回路基板の製造方法によれば、上記第１のデータと第２のデータとを比較して、形成されるべき貫通孔に絶縁材が充填されているか否かを判定し、貫通孔に前記絶縁材が充填されていると判定された場合、絶縁基板を、貫通孔より絶縁材が除去されるように処理し、貫通孔に金属が充填されるように処理した後、絶縁基板に対して貫通孔を有するべき面から前記光を照射して、第１のデータ、第２のデータおよび上記第３のデータを比較して、貫通孔に金属が充填されているか否かを判定することにより、貫通孔に対する研磨剤の残留が防止されるとともに貫通孔の形成が確実に確認され、かつ貫通孔への金属の充填が確実に確認されるので、融点の低い絶縁基板を用いた場合にも、スルーホールに生じた歪みを絶縁基板に逃がすことができ、応力に基づく歪に対し耐久性が高く、また接続信頼性の極めて高いスルホールを設けた回路基板を経済的かつ確実に製造することが可能となる。   According to the method for manufacturing a circuit board according to the present invention, the first data and the second data are compared to determine whether or not the through hole to be formed is filled with an insulating material. If it is determined that the insulating material is filled in the hole, the insulating substrate is processed so that the insulating material is removed from the through hole, and the metal is filled in the through hole. Irradiate the light from the surface that should have a through-hole, and compare the first data, the second data, and the third data to determine whether the through-hole is filled with metal. As a result, it is possible to prevent the polishing agent from remaining in the through-holes, to reliably confirm the formation of the through-holes, and to confirm the filling of the metal into the through-holes. Therefore, an insulating substrate having a low melting point was used. In some cases, the strain generated in the through hole is released to the insulating substrate. It can be, it is possible to durability against distortion based on stress is high, also manufacturing a circuit board provided with extremely high through-hole of the connection reliability economically and reliably.

また、本発明に係る回路基板の検査方法は、貫通孔に少なくとも可視光を通過させる絶縁材が充填されるように処理された絶縁基板に対し光を照射する工程と、前記絶縁基板に対する前記光の吸収率の差に基づいて、前記貫通孔に樹脂が充填されているか否かを判定する工程とを具備したことを特徴としている。   The circuit board inspection method according to the present invention includes a step of irradiating light to an insulating substrate that has been processed so that an insulating material that allows at least visible light to pass through the through hole, and the light on the insulating substrate. And a step of determining whether or not the through hole is filled with resin based on the difference in absorption rate.

本発明に係る回路基板の検査方法によれば、貫通孔に少なくとも可視光を通過させる絶縁材が充填されるように処理された絶縁基板に対し光を照射し、絶縁基板に対する光の吸収率の差に基づいて、貫通孔に樹脂が充填されているか否かを判定することにより、貫通孔の形成が容易かつ確実に確認されるので、スルホールを設けた回路基板を経済的に製造することが可能となる。   According to the circuit board inspection method of the present invention, light is irradiated to an insulating substrate that is processed so that the through hole is filled with an insulating material that transmits at least visible light, and the light absorption rate of the insulating substrate is increased. By determining whether or not the through hole is filled with resin based on the difference, the formation of the through hole is easily and reliably confirmed, so that it is possible to economically manufacture a circuit board provided with a through hole. It becomes possible.

本発明において、絶縁基板としては、各種セラミック基板を用いることができ、さらに透過性を有するガラス基板を用いることができる。このようなガラス基板を構成するガラスとしては、例えば、ＳｉＯ2‐ＬｉＯ2‐Ａｌ2Ｏ3系ガラスやＣｅＯ2を含有したガラス等を挙げることができる。 In the present invention, various ceramic substrates can be used as the insulating substrate, and a transparent glass substrate can be used. Examples of the glass constituting such a glass substrate include SiO 2 —LiO 2 —Al 2 O 3 glass, glass containing CeO 2 , and the like.

また、絶縁基板に貫通孔を形成する方法としては、例えば、レーザを用いる方法等、特に限定されることはない。なお、感光性金属として金、銀および銅から選択される少なくとも１種類の金属と、増感剤としてのＣｅＯ2とを少量含有したＳｉＯ2‐ＬｉΟ2‐Ａｌ2Ｏ3系の感光性ガラスを用いた場合には、貫通孔は、ガラスマスクを通じて紫外線を照射した後、フッ酸を用いて溶解除去された現像部分として得ることができる。 In addition, the method for forming the through hole in the insulating substrate is not particularly limited, for example, a method using a laser. In addition, SiO 2 -LiΟ 2 -Al 2 O 3 type photosensitive glass containing a small amount of at least one kind of metal selected from gold, silver and copper as a photosensitive metal and CeO 2 as a sensitizer. When used, the through-hole can be obtained as a developed part that is irradiated with ultraviolet rays through a glass mask and then dissolved and removed using hydrofluoric acid.

また、本発明においては、絶縁基板に設けた貫通孔の内部に、透過性を有する絶縁材を完全に充填して絶縁基板を研磨して該絶縁基板面を平坦化し、該絶縁基板に検査光を照射することにより貫通孔を通過する光の吸収率を光学的に検出するので、貫通孔の形成後に実施された研磨工程における貫通孔の内部への研磨剤の残留が、絶縁材により防止されるばかりでなく、所定の部分に貫通孔が形成されているか否かの検査も容易に実現でき、透過性を示すガラス基板等においてもスルホールを容易に構成することができる。   In the present invention, the through hole provided in the insulating substrate is completely filled with a transparent insulating material, the insulating substrate is polished to flatten the insulating substrate surface, and the inspection light is applied to the insulating substrate. Since the absorption rate of the light passing through the through hole is optically detected by irradiating the surface of the through hole, the insulating material prevents the polishing agent from remaining in the through hole in the polishing process performed after the through hole is formed. In addition, it is possible to easily check whether or not a through-hole is formed in a predetermined portion, and it is possible to easily configure a through-hole in a glass substrate or the like that exhibits transparency.

例えば、絶縁基板を、３５０ｎｍ以上の波長の光に対して透過率８５％以上を示すガラス基板とし、貫通孔に充填する絶縁材を、３５０ｎｍ以上の波長の光に対して透過率８０％以下を示す波長吸収帯を有する熱硬化性樹脂とした場合には、光の吸収率を光学的に検出する波長帯を３５０ｎｍ以上とすればよい。また、絶縁基板の研磨は、例えば、液体研磨剤を用いる湿式研磨法や、液体研磨剤を用いない乾式研磨法を単独で、あるいは組み合わせて適用することができる。また、絶縁材の除去は、該絶縁材を溶解する溶媒に絶縁材を溶解させることにより実施することができるが、絶縁材の充填された貫通孔の部分と貫通孔の形成されていない部分とを、物性的に光学吸収の少ない３５０ｎｍ以上の波長の光を用い、該光の透過率の相異を効果的に利用して検出することが可能となるので、貫通孔の欠陥を容易に検出することが可能となる。さらに、絶縁材を溶解させる溶媒を、絶縁材に含有される溶媒の組成と異ならせることにより、熱硬化により溶媒溶解度の低くなった樹脂等であってもこれを容易に除去することが可能となる。また、湿式研磨法または乾式研磨法の少なくともいずれかの方法を研磨に用いているため、絶縁基板の表面のミクロな凹凸まで完全に除去でき、絶縁基板としてガラス基板を用いた場合にも、透過性の高いガラス基板を得ることが可能になる。また、絶縁材として液体熱硬化性樹脂を貫通孔に充填することにより、アスペクト比の高い貫通孔の内部に、毛細管現象を利用して絶縁材を完全に充填し、かつその硬化を容易に達成することが可能となる。   For example, the insulating substrate is a glass substrate that exhibits a transmittance of 85% or more with respect to light having a wavelength of 350 nm or more, and the insulating material that fills the through hole has a transmittance of 80% or less with respect to light having a wavelength of 350 nm or more. When the thermosetting resin has the wavelength absorption band shown, the wavelength band for optically detecting the light absorption rate may be 350 nm or more. The insulating substrate can be polished by, for example, a wet polishing method using a liquid abrasive or a dry polishing method not using a liquid abrasive alone or in combination. The insulating material can be removed by dissolving the insulating material in a solvent that dissolves the insulating material. The through-hole portion filled with the insulating material and the portion where the through-hole is not formed are provided. Can be detected using light with a wavelength of 350 nm or more, which has little optical absorption in terms of physical properties, and the difference in transmittance of the light can be effectively utilized, so that defects in through holes can be easily detected. It becomes possible to do. Furthermore, by making the solvent for dissolving the insulating material different from the composition of the solvent contained in the insulating material, it is possible to easily remove even a resin whose solvent solubility has been lowered by thermosetting. Become. Also, since at least one of the wet polishing method and the dry polishing method is used for polishing, even micro unevenness on the surface of the insulating substrate can be completely removed, and even when a glass substrate is used as the insulating substrate, transmission is possible. It becomes possible to obtain a glass substrate with high properties. In addition, by filling the through hole with a liquid thermosetting resin as an insulating material, the inside of the through hole with a high aspect ratio is completely filled with the insulating material by using capillary action, and the hardening is easily achieved. It becomes possible to do.

さらに、貫通孔を光学的に検査するに際し、例えば、貫通孔が形成されるべき位置のパターンを第１のデータとし、一方、絶縁基板を構成する物質および貫通孔に充填される絶縁材の検査光に対する吸収率差を第２データとして予め取得しておき、第１のデータと第２のデータとを比較するように構成すれば、絶縁基板上の貫通孔が形成されていない位置を容易に検出することができる。また、金属により充填されたスルホールを光学的に検査するに際しては、貫通孔に充填された金属および絶縁基板を構成する物質の検査光に対する吸収率差と、該吸収率差が生じる位置とを第３のデータとして取得しておき、第３のデータを、第１のデータおよび第２のデータと比較するように構成すれば、貫通孔に金属が完全充填されていない位置を容易に検出することができる。したがって、絶縁基板上に形成されるべき貫通孔および金属が充填されるべきスルホールの欠陥を容易かつ自動的に検出することができる。   Further, when optically inspecting the through hole, for example, the pattern of the position where the through hole is to be formed is used as the first data, while the substance constituting the insulating substrate and the insulating material filled in the through hole are inspected. If the difference between the absorptance with respect to light is acquired in advance as the second data and the first data and the second data are compared, a position where the through hole is not formed on the insulating substrate can be easily obtained. Can be detected. In addition, when optically inspecting a through hole filled with metal, the difference between the absorption factor for the inspection light of the metal that fills the through-hole and the substance constituting the insulating substrate and the position where the difference in absorption rate occurs are determined. If the third data is acquired and compared with the first data and the second data, the position where the metal is not completely filled in the through hole can be easily detected. Can do. Therefore, it is possible to easily and automatically detect a defect of a through hole to be formed on the insulating substrate and a through hole to be filled with metal.

本発明に係る回路基板の製造方法によれば、貫通孔が形成されるよう処理された絶縁基板を、貫通孔に少なくとも可視光を通過させる絶縁材が充填されるよう処理し、絶縁基板を、絶縁材を有するべき領域が含まれるように研磨した後、絶縁基板に対し光を照射して絶縁材が充填されているか否かを判定し、貫通孔に絶縁材が充填されていると判定された場合に、絶縁材を除去して貫通孔に金属を充填することにより、貫通孔に対する研磨剤の残留を防止するとともに、貫通孔の形成が確実に確認されるので、融点の低い絶縁基板を用いた場合にも、スルーホールに生じた歪みを絶縁基板に逃がすことができ、応力に基づく歪に対し耐久性が高く、また接続信頼性の極めて高いスルホールを設けた回路基板を経済的に製造することが可能となる。また、熱ストレスに対して耐久性を備え、接続抵抗の低いスルホールを有するとともに、配線密度が高密度化され、小型化の達成された回路基板の製造方法を提供することができる。さらに、絶縁基板として、ガラス基板を用いた場合には、透過性が要求されるＫＧＤ検査ボードを高い信頼性で製造することが可能になる。 According to the method for manufacturing a circuit board according to the present invention , the insulating substrate processed so as to form the through hole is processed so that the through hole is filled with an insulating material that allows at least visible light to pass through, After polishing so that the region that should have the insulating material is included, it is determined whether or not the insulating substrate is filled by irradiating light to the insulating substrate, and it is determined that the through hole is filled with the insulating material. In this case, by removing the insulating material and filling the through-hole with metal, it is possible to prevent the polishing agent from remaining in the through-hole and to reliably confirm the formation of the through-hole. Even when it is used, the strain generated in the through hole can be released to the insulating substrate, and it is economical to manufacture a circuit board with a through hole that is highly durable against stress based strain and has extremely high connection reliability. It becomes possible to . In addition, it is possible to provide a method of manufacturing a circuit board that has a through hole having durability against heat stress and having a low connection resistance, a high wiring density, and a reduction in size. Furthermore, when a glass substrate is used as the insulating substrate, a KGD inspection board that requires transparency can be manufactured with high reliability.

また、本発明に係る回路基板の製造方法によれば、第１のデータと第２のデータとを比較して、形成されるべき貫通孔に絶縁材が充填されているか否かを判定し、貫通孔に前記絶縁材が充填されていると判定された場合、絶縁基板を、貫通孔より絶縁材が除去されるように処理し、貫通孔に金属が充填されるように処理した後、絶縁基板に対して光を照射して、第１のデータ、第２のデータおよび第３のデータを比較して、貫通孔に金属が充填されているか否かを判定することにより、貫通孔に対する研磨剤の残留が防止されるとともに貫通孔の形成が確実に確認され、かつ貫通孔への金属の充填が確実に確認されるので、融点の低い絶縁基板を用いた場合にも、スルーホールに生じた歪みを絶縁基板に逃がすことができ、応力に基づく歪に対し耐久性が高く、また接続信頼性の極めて高いスルホールを設けた回路基板を経済的かつ確実に製造することが可能となる。また、熱ストレスに対して耐久性を備え、接続抵抗の低いスルホールを有するとともに、配線密度が高密度化され、小型化の達成された回路基板の製造方法を提供することができる。さらに、絶縁基板として、ガラス基板を用いた場合には、透過性が要求されるＫＧＤ検査ボードを高い信頼性で製造することが可能になる。 Further , according to the method for manufacturing a circuit board according to the present invention, the first data and the second data are compared to determine whether or not the through hole to be formed is filled with an insulating material, When it is determined that the insulating material is filled in the through hole, the insulating substrate is treated so that the insulating material is removed from the through hole, and the metal is filled in the through hole, and then insulated. Polishing the through hole by irradiating the substrate with light and comparing the first data, the second data, and the third data to determine whether or not the through hole is filled with metal. As a result, the formation of through-holes is reliably confirmed, and the filling of metal into the through-holes is reliably confirmed. Strain can be released to the insulating substrate, resulting in stress-based strain. And high durability, and it becomes possible to manufacture economically and reliably circuit board provided with extremely high through-hole connection reliability. In addition, it is possible to provide a method of manufacturing a circuit board that has a through hole having durability against heat stress and having a low connection resistance, a high wiring density, and a reduction in size. Furthermore, when a glass substrate is used as the insulating substrate, a KGD inspection board that requires transparency can be manufactured with high reliability.

さらに、本発明に係る回路基板の検査方法によれば、貫通孔に少なくとも可視光を通過させる絶縁材が充填されるように処理された絶縁基板に対し光を照射し、絶縁基板に対する光の吸収率の差に基づいて、貫通孔に樹脂が充填されているか否かを判定することにより、絶縁基板に形成されるべき貫通孔の存在が容易かつ確実に確認されるので、スルホールを設けた回路基板を経済的に製造することが可能となる。 Furthermore, according to the circuit board inspection method of the present invention, light is irradiated to an insulating substrate that has been processed so that the through-hole is filled with an insulating material that allows at least visible light to pass therethrough, and light is absorbed by the insulating substrate. By determining whether or not the through hole is filled with resin based on the difference in rate, the presence of the through hole to be formed in the insulating substrate can be easily and reliably confirmed. It becomes possible to manufacture the substrate economically.

以下、図面を参照して本発明に係る実施の形態を詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

（参考例１）図１は、本発明の参考例に係る回路基板の断面図、図２は、図１に係る回路基板の一部を拡大した図である。 Reference Example 1 FIG. 1 is a cross-sectional view of a circuit board according to a reference example of the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view of a part of the circuit board according to FIG.

ここで、図３を用いて、図１および図２に示した回路基板を製造する工程を説明する。   Here, the process of manufacturing the circuit board shown in FIGS. 1 and 2 will be described with reference to FIG.

はじめに、ウエハ径で１２５ｍｍφ（５インチφ）、厚み０．５ｍｍの感光性ガラス９を用意した（図３（ａ））。感光性ガラス９は公知のもので、詳細は、例えば“化学切削用感光性ガラス”実務表面技術（pp552 ‐558 、Vol.35、 NΟ.11 、1988）に記載されている。感光性ガラス９からは、紫外線照射による紫外線のエネルギーによりＣｅ3+から光電子が放出され、その一部はガラス構造中の空孔に捕らえられるが、他の一部は感光性イオンに捕らえられて中性化するか、あるは金属原子となり、４５０℃〜６００℃の温度で熱処理を施すことにより金属コロイドを生成する。また、金属コロイドを結晶核にして、メタケイ酸リチウム（Ｌｉ2Ｏ−ＳｉＯ2）が析出するが、この結晶は、薄いフッ酸に対する溶解度が、結晶化前の感光性ガラス９の５０倍にもなるため、エッチングにより、紫外線照射したＬｉ2Ｏ−ＳｉＯ2結晶だけが溶解されて正確な化学切削を行うことができるものである。 First , a photosensitive glass 9 having a wafer diameter of 125 mmφ ( 5 inches φ ) and a thickness of 0.5 mm was prepared (FIG. 3A). The photosensitive glass 9 is publicly known, and details are described in, for example, “Sensitive glass for chemical cutting” practical surface technology (pp552-558, Vol.35, N.11, 1988). From the photosensitive glass 9, photoelectrons are emitted from Ce 3+ by the energy of ultraviolet rays by ultraviolet irradiation, and some of them are trapped in vacancies in the glass structure, while the other is trapped by photosensitive ions. It becomes neutral or becomes a metal atom, and a metal colloid is generated by heat treatment at a temperature of 450 ° C. to 600 ° C. In addition, lithium metal metasilicate (Li 2 O—SiO 2 ) is precipitated using a metal colloid as a crystal nucleus. This crystal has a solubility in thin hydrofluoric acid 50 times that of the photosensitive glass 9 before crystallization. Therefore, by etching, only the Li 2 O—SiO 2 crystal irradiated with ultraviolet rays is dissolved and accurate chemical cutting can be performed.

次いで、感光性ガラス９に対して、紫外線照射および熱処理を行った。紫外線照射は、水銀ランプによる露光装置を用い、ＣｅＯ2を含有した感光性ガラス９は320μｍ付近に最大感度を有しているため、この吸収波長領域で露光を行った。マスク６の材質としては石英ガラスを用いた。マスク６には、１５０μｍピッチで４０μｍφのスルホールが形成できる長方形パターンが４８０ポイント×３２０ポイントで形成してある。この様に露光することで、感光性ガラス９の内部に潜像を形成した（図３（ｂ））。さらに、熱処理により、感光した潜像部分を結晶化させ、酸に溶けやすくした。なお、熱処理は、炉内温度分布の良好な熱処理炉を使用して６００℃にて行った。このとき、結晶化させるときの前処理として、未露光部にも再度紫外線７を照射した（図３（ｃ））。 Next, the photosensitive glass 9 was subjected to ultraviolet irradiation and heat treatment. For the ultraviolet irradiation, an exposure apparatus using a mercury lamp was used, and the photosensitive glass 9 containing CeO 2 had a maximum sensitivity in the vicinity of 320 μm. Therefore, exposure was performed in this absorption wavelength region. Quartz glass was used as the material of the mask 6. The mask 6 is formed with a rectangular pattern of 480 points × 320 points capable of forming 40 μmφ through holes at a pitch of 150 μm. By exposing in this way, a latent image was formed inside the photosensitive glass 9 (FIG. 3B). Further, the exposed latent image portion was crystallized by heat treatment, so that it was easily dissolved in acid. In addition, heat processing was performed at 600 degreeC using the heat processing furnace with favorable temperature distribution in a furnace. At this time, as a pretreatment for crystallization, the unexposed area was again irradiated with the ultraviolet rays 7 (FIG. 3C).

次いで、結晶化した部分を酸で溶解して除去した。エッチングには、フッ酸の薄い溶液を使用した。なお、エッチング方法については種々の方法が考えられるが、エッチング速度および加工精度から、シャワー式のエッチング方法が最も良好な結果を示した。また、フッ酸濃度としては、４％〜５％の範囲が最もエッチングに適していた。以上のように操作することで、感光性ガラス９に４０μｍφの貫通孔２を形成した（図３（ｄ））。   Next, the crystallized portion was removed by dissolving with an acid. A thin solution of hydrofluoric acid was used for etching. Various etching methods are conceivable, but the shower type etching method showed the best result from the etching rate and processing accuracy. Further, the hydrofluoric acid concentration was most suitable for etching in the range of 4% to 5%. By operating as described above, a through-hole 2 of 40 μmφ was formed in the photosensitive glass 9 (FIG. 3D).

ここで、感光性ガラス９の表面は、フッ酸によるミクロな腐食が発生してすりガラス状態になっているため、透過性を向上させるため、１μｍ〜３μｍ以下の研磨剤による研磨を行うことが好ましい。研磨剤としては、酸化セリウム、酸化アルミニウムおよびダイヤモンドなどを用いることができる。なお、貫通孔２は、感光性ガラス９の両面からエッチングにより形成されるため、感光性ガラス９の中央部では、感光性ガラス９の表面の４０μｍφよりも狭い３０μｍφとなっていた。このとき、感光性ガラス９の加工精度は孔公差±０．０１、平面度０．００３％であった。   Here, since the surface of the photosensitive glass 9 is in a ground glass state due to micro-corrosion caused by hydrofluoric acid, it is preferable to perform polishing with an abrasive of 1 μm to 3 μm or less in order to improve permeability. . As the abrasive, cerium oxide, aluminum oxide, diamond and the like can be used. Since the through hole 2 is formed by etching from both sides of the photosensitive glass 9, the central portion of the photosensitive glass 9 has a diameter of 30 μm, which is narrower than 40 μmφ on the surface of the photosensitive glass 9. At this time, the processing accuracy of the photosensitive glass 9 was a hole tolerance of ± 0.01 and a flatness of 0.003%.

次いで、貫通孔２が形成された感光性ガラス９に第１の金属３を形成した（図４（ｅ））。ここで、第１の金属３としては、ガラス材料と密着性の高いパラジウム、銀、金および白金から選択される金属またはこれらの合金であれば特に限定されるものではないが、本参考例においては銀とした。 Subsequently, the 1st metal 3 was formed in the photosensitive glass 9 in which the through-hole 2 was formed (FIG.4 (e)). Here, the first metal 3 is not particularly limited as long as it is a metal selected from palladium, silver, gold and platinum having high adhesion to a glass material or an alloy thereof, but in this reference example , Was silver.

銀を感光性ガラス９上に析出させるためには、表面の濡れ性を向上させる、例えば、非アニオン系の洗剤に予め浸漬された感光性ガラス９を、硝酸銀溶液の中に浸漬した後、ホルムアルデヒドを添加することにより、貫通孔２の壁面を含めた感光性ガラス９の全体に銀を析出させた。この現象は、銀鏡反応として公知のものであり、溶解度の低い塩化銀の析出を防止するため塩素は含有されてはならない。この方法により、貫通孔２を含めた感光性ガラス９の表面全体に、銀を２μｍ〜３μｍ析出させた。次いで、ガラス基板の主面および裏面を、１μｍ〜２μｍの研磨剤による乾式研磨法または１μｍ〜２μｍの布で編んである乾布によるラビング法により研磨して、貫通孔２の壁面を除いて銀を機械的に除去した（図４（ｆ））。以上のようにして、感光性ガラス９の貫通孔２の壁面のみ選択的に銀を形成することができるが、銀の密着強度を向上させるため、銀鏡反応／ラビング法による銀析出を少なくとも３回繰り返して行い、銀の密着強度を向上させると共に銀の析出膜厚を厚くすることも可能である。なお、この銀析出反応を繰り返した場合には、各ステップごとに、銀鏡反応／ラビング処理を行う前工程において、例えば、感光性ガラス９を非アニオン系溶液に浸漬することも可能である。非アニオン系溶液による処理を行うことで、感光性ガラス９への銀の析出は著しく向上する。また、尚、この前処理に用いる溶液は、非アニオン系洗剤に限定されるものではなく、ガラス基板と銀溶液との濡れ性を向上させるものであれば何ら問題はない。   In order to deposit silver on the photosensitive glass 9, the wettability of the surface is improved. For example, after the photosensitive glass 9 previously immersed in a non-anionic detergent is immersed in a silver nitrate solution, formaldehyde As a result, silver was deposited on the entire photosensitive glass 9 including the wall surface of the through hole 2. This phenomenon is known as a silver mirror reaction, and chlorine must not be contained in order to prevent precipitation of silver chloride having low solubility. By this method, 2 μm to 3 μm of silver was deposited on the entire surface of the photosensitive glass 9 including the through hole 2. Next, the main surface and the back surface of the glass substrate are polished by a dry polishing method using an abrasive of 1 μm to 2 μm or a rubbing method using a dry cloth knitted with a cloth of 1 μm to 2 μm. It was removed mechanically (FIG. 4 (f)). As described above, silver can be selectively formed only on the wall surface of the through-hole 2 of the photosensitive glass 9, but in order to improve the adhesion strength of silver, silver deposition by silver mirror reaction / rubbing method is performed at least three times. It is possible to increase the adhesion strength of silver and increase the deposited film thickness of silver while repeating the process. In addition, when this silver precipitation reaction is repeated, it is also possible to immerse the photosensitive glass 9 in a non-anionic solution, for example, in the pre-process for performing the silver mirror reaction / rubbing process for each step. By performing the treatment with the non-anionic solution, silver deposition on the photosensitive glass 9 is remarkably improved. In addition, the solution used for this pretreatment is not limited to a non-anionic detergent, and there is no problem as long as it improves the wettability between the glass substrate and the silver solution.

次いで、貫通孔２の壁面のみに、選択的に第１の金属３として銀が形成された感光性ガラス９に第２の金属４を形成した。第２の金属４としては、第１の金属３である銀と密着性の高いニッケル、銅、クロム、鉄、錫および鉛から選択される金属またはこれらの合金であれば特に限定されるものではないが、本参考例においてはニッケルとした。 Next, the second metal 4 was formed on the photosensitive glass 9 in which silver was selectively formed as the first metal 3 only on the wall surface of the through hole 2. The second metal 4 is not particularly limited as long as it is a metal selected from nickel, copper, chromium, iron, tin, and lead having high adhesion to silver as the first metal 3 or an alloy thereof. Although not provided, nickel was used in this reference example .

第２の金属４であるニッケルを、第１の金属３の析出被膜の上に析出させて貫通孔２を充填するには、貫通孔２の壁面にのみ銀が析出されている感光性ガラス９を、例えば、下記の「組成１」で構成される無電解ニッケルめっき液に５〜６時間浸漬させ、８５℃〜９０℃でニッケルを感光性ガラス９の表面に突出するまで析出させる。特に、組成１からなるめっき液では、還元剤として作用する次亜リン酸ナトリウムのため、リンが５ｗｔ％〜１０ｗｔ％含有された、均一性、耐蝕性および耐摩耗性に優れたニッケル被膜を貫通孔２に対し充填することができる。無電解めっきを行うためのめっき装置は特に限定されるものではないが、アスペクト比の高い貫通孔２の内部におけるめっき液の交換を容易にするため、めっき液の攪拌、感光性ガラス９の揺動、２．０Ｐａ程度の超音波印加を行いながら無電解めっきする機構を備えためっき装置を用いることが望ましい。このようなめっき装置を適用することで、貫通孔２の内部に対するニッケルの充填効果が向上する。さらに、感光性ガラス９とめっき装置との位置関係も特に限定されるものではないが、めっき装置に対して感光性ガラス９を縦置きにすると、１回当たりの処理枚数を増加させることができる。 In order to deposit nickel as the second metal 4 on the deposited film of the first metal 3 and fill the through hole 2, photosensitive glass 9 in which silver is deposited only on the wall surface of the through hole 2. Is immersed in an electroless nickel plating solution composed of the following “Composition 1” for 5 to 6 hours, and nickel is deposited at 85 ° C. to 90 ° C. until it projects on the surface of the photosensitive glass 9. In particular, the plating solution composed of composition 1 penetrates a nickel coating excellent in uniformity, corrosion resistance and wear resistance, containing 5 wt% to 10 wt% of phosphorus because of sodium hypophosphite acting as a reducing agent. The holes 2 can be filled. A plating apparatus for performing electroless plating is not particularly limited, but in order to facilitate replacement of the plating solution inside the through hole 2 having a high aspect ratio, the plating solution is stirred and the photosensitive glass 9 is shaken. It is desirable to use a plating apparatus having a mechanism for electroless plating while applying an ultrasonic wave of about 2.0 Pa . By applying such a plating apparatus, the effect of filling nickel into the through hole 2 is improved. Furthermore, the positional relationship between the photosensitive glass 9 and the plating apparatus is not particularly limited, but if the photosensitive glass 9 is placed vertically with respect to the plating apparatus, the number of processed sheets per process can be increased. .

（組成１）
硫酸ニッケル ２０〜３０ ｇ／Ｌ
次亜リン酸ナトリウム ２５〜３５ ｇ／Ｌ
グリコール酸 ２５〜３５ ｇ／Ｌ
酢酸ナトリウム １５〜２５ ｇ／Ｌ
安定剤（チオ尿素） ３〜５ ｐｐｍ
鉛 １〜２ ｍｇ／Ｌ
また、無電解ニッケルめっき液として、下記の「組成２」で構成される溶液を準備し、該溶液に感光性ガラス９を５〜６時間浸漬させ、６０℃〜７０℃にてニッケルめっきを行うことも可能である。組成２から構成されるめっき液では、還元剤として作用するジメチルアミノボランからボロンが１ｗｔ％程度含有されたニッケル被膜が析出するため、導電性の高いニッケルを貫通孔２に充填することができる。このときも、アスペクト比の高い貫通孔２の内部におけるめっき液交換を容易にするため、めっき液の攪拌、感光性ガラス９の揺動、２．０Ｐａ程度の超音波印加を行いながら無電解めっきする機構を備えためっき装置を用いて無電解めっきを行うと、貫通孔がニッケルにより完全充填される。 (Composition 1)
Nickel sulfate 20-30 g / L
Sodium hypophosphite 25-35 g / L
Glycolic acid 25-35 g / L
Sodium acetate 15-25 g / L
Stabilizer (thiourea) 3-5 ppm
Lead 1-2 mg / L
Moreover, the solution comprised by the following "composition 2" is prepared as an electroless nickel plating solution, the photosensitive glass 9 is immersed in this solution for 5 to 6 hours, and nickel plating is performed at 60 to 70 degreeC. It is also possible. In the plating solution composed of composition 2, since a nickel film containing about 1 wt% of boron is deposited from dimethylaminoborane that acts as a reducing agent, highly conductive nickel can be filled into the through holes 2. Also at this time, in order to facilitate the replacement of the plating solution inside the through-hole 2 having a high aspect ratio, the electroless plating is performed while stirring the plating solution, swinging the photosensitive glass 9 and applying an ultrasonic wave of about 2.0 Pa. When electroless plating is performed using a plating apparatus having a mechanism that performs this, the through holes are completely filled with nickel.

（組成２）
酢酸ニッケル ３０ ｇ／Ｌ
ジメチルアミノボラン ２．５ｇ／Ｌ
乳酸 ２５ ｇ／Ｌ
クエン酸ナトリウム ２５ ｇ／Ｌ
チオグリコール酸 １．５ｇ／Ｌ
以上のように、無電解めっきを行うことにより、感光性ガラス９に形成された貫通孔２中に、完全にニッケルを充填することができる。なお、貫通孔２中に、完全にニッケルを充填させるため、析出したニッケルが感光性ガラス９の面から少なくとも0.1μｍは突出するまでめっきを行うことが好ましい。 (Composition 2)
Nickel acetate 30 g / L
Dimethylaminoborane 2.5g / L
Lactic acid 25 g / L
Sodium citrate 25 g / L
Thioglycolic acid 1.5g / L
As described above, by performing electroless plating, the through hole 2 formed in the photosensitive glass 9 can be completely filled with nickel. In order to completely fill the through hole 2 with nickel, it is preferable to perform plating until the deposited nickel protrudes at least 0.1 μm from the surface of the photosensitive glass 9.

次いで、貫通孔２より突出した第２の金属（ニッケル膜）を、感光性ガラス９の面と同一平面を構成するように機械的に研磨した（図４（ｇ））。研磨は、貫通孔２より突出した第２の金属（ニッケル膜）を、感光性ガラス９の面と同一平面を構成するように、マクロ研磨により感光性ガラス９の面から突出する量が±５μｍ程度になるまで均一化した後、ミクロ研磨により研磨した。なお、ミクロ研磨を行ったときの凹凸の公差は、回路基板面に形成する回路配線の接触抵抗上、±３μｍ以下の精度に保つことが好ましい。   Next, the second metal (nickel film) protruding from the through hole 2 was mechanically polished so as to form the same plane as the surface of the photosensitive glass 9 (FIG. 4G). The amount of protrusion of the second metal (nickel film) protruding from the through hole 2 from the surface of the photosensitive glass 9 by macro polishing is ± 5 μm so as to form the same plane as the surface of the photosensitive glass 9 After homogenizing to the extent, it was polished by micropolishing. In addition, it is preferable that the unevenness tolerance when micropolishing is performed with an accuracy of ± 3 μm or less in terms of contact resistance of circuit wiring formed on the circuit board surface.

ここで、マクロ研磨は、例えば、５μｍ〜１０μｍ程度の粒径を有する酸化セリウム、または＃１０００程度の耐水研磨紙を用い、ミクロ研磨は、０．３μｍ程度の粒径を有する酸化セリウム、酸化アルミナまたはダイヤモンドを用いて行うことが好ましい。このとき、液体状の研磨ペーストを研磨剤とする湿式研磨法を用いると、感光性ガラス９、第１の金属３および第２の金属４の間に、研磨速度差が発生するため、ミクロ研磨には、ダイヤモンド等が埋め込まれたデイスク盤を用いて研磨する乾式研磨を適用することが好ましい。   Here, macro polishing uses, for example, cerium oxide having a particle size of about 5 μm to 10 μm, or water resistant abrasive paper of about # 1000, and micro polishing uses cerium oxide or alumina oxide having a particle size of about 0.3 μm. Alternatively, it is preferable to use diamond. At this time, if a wet polishing method using a liquid polishing paste as an abrasive is used, a polishing rate difference is generated between the photosensitive glass 9, the first metal 3 and the second metal 4. For this, it is preferable to apply dry polishing using a disk machine in which diamond or the like is embedded.

以上のように、貫通孔２に第１の金属３および第２の金属４が完全充填された感光性ガラス９を得ることができた。   As described above, the photosensitive glass 9 in which the first metal 3 and the second metal 4 were completely filled in the through hole 2 could be obtained.

次いで、回路配線５を感光性ガラス９上に形成した（図４（ｈ））。回路配線を構成する金属は特に限定されるものではないが、例えば、回路配線５に透過性を持たせたい場合には、インジウム・スズ酸化膜（ＩＴＯ膜）を用いることが好ましい。このとき、図５（ｂ）に示したように、回路配線５は、貫通孔２を、第１の金属３および第２の金属４金属により完全に充填しているため、図５（ａ）に示したように、スルホール１１の部分にランド１０を設ける必要がなく、従来のレイアウトに比較して、約１．５倍の密度で回路配線５をレイアウトすることが可能となった。   Next, the circuit wiring 5 was formed on the photosensitive glass 9 (FIG. 4 (h)). The metal constituting the circuit wiring is not particularly limited. For example, when the circuit wiring 5 is desired to have transparency, it is preferable to use an indium tin oxide film (ITO film). At this time, as shown in FIG. 5B, the circuit wiring 5 completely fills the through hole 2 with the first metal 3 and the second metal 4 metal. As shown in FIG. 5, the land 10 does not need to be provided in the through hole 11, and the circuit wiring 5 can be laid out at a density about 1.5 times that of the conventional layout.

ここで、回路配線５となるＩＴＯは、例えば、以下のようにして形成することができる。すなわち、スパッタ法などを用いて、感光性ガラス９の表面上にＩＴＯ膜を形成した後、ＯＦＰＲ−８００（東京応化社製）等のレジストを被覆してパターンニングを行い、感光したＩＴＯをエッチングにより除去するとともにレジストをアセトンで除去する。さらに、感光性ガラス９の表面に形成されたＩＴＯのパターンを、例えば、ポリイミド膜（ＵＲ−３１４０）にて全面被覆する。   Here, the ITO used as the circuit wiring 5 can be formed as follows, for example. That is, after forming an ITO film on the surface of the photosensitive glass 9 using a sputtering method or the like, a resist such as OFPR-800 (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is coated and patterned, and the exposed ITO is etched. And the resist is removed with acetone. Further, the entire surface of the ITO pattern formed on the surface of the photosensitive glass 9 is covered with, for example, a polyimide film (UR-3140).

次いで、感光性ガラス９の裏面側に対しても、上記操作を施して、ＩＴＯのパターンを、例えば、ポリイミド膜（ＵＲ−３１４０）にて全面被覆する。こうして、回路配線５を備えた回路基板１が作製される。   Next, the above operation is performed also on the back surface side of the photosensitive glass 9 to cover the entire surface of the ITO pattern with, for example, a polyimide film (UR-3140). Thus, the circuit board 1 provided with the circuit wiring 5 is manufactured.

尚、本参考例では、ＩＴＯ膜を回路配線に用いる金属として適用したが、回路配線を構成する金属として、ニッケル、クロム、銅および錫から選択される金属も用いることができ、その材質は特に限定されるものではない。こうして、図１および図２に示した回路基板１を構成した。 In this reference example , the ITO film was applied as a metal used for circuit wiring. However, a metal selected from nickel, chromium, copper and tin can also be used as the metal constituting the circuit wiring, and the material is particularly It is not limited. Thus, the circuit board 1 shown in FIGS. 1 and 2 was configured.

次いで、回路基板１の接続信頼性を評価したところ以下の結果を得た。なお、感光性ガラス９に４０μｍφの貫通孔を４８０ポイント×３２０ポイント形成し、銀およびニッケルを用いて該貫通孔を充填した試料を比較のために準備した。また、この貫通孔の密度は、図１および図２に示した回路基板１と全く同様である。さらに、評価の基準は、回路基板に温度サイクルを負荷し、４８０ポイント×３２０ポイントに渡り形成した貫通孔の中で１箇所でもスルホールの接続部分がオープンになった場合を不良とした。図６には、縦軸に累積不良率、横軸に温度サイクルが示されている。また、サンプル数は各々１０００個、温度サイクルの条件は、−５５℃（３０ｍｉｎ）〜２５℃（５ｍｉｎ）〜１２５℃（３０ｍｉｎ）〜２５℃（５ｍｉｎ）
である。 Next, when the connection reliability of the circuit board 1 was evaluated, the following results were obtained. A sample in which through holes of 40 μmφ were formed in the photosensitive glass 9 at 480 points × 320 points and the through holes were filled with silver and nickel was prepared for comparison. The density of the through holes is exactly the same as that of the circuit board 1 shown in FIGS. Furthermore, as a criterion for evaluation, a temperature cycle was loaded on the circuit board, and a case where a through-hole connection portion was opened in one of the through holes formed over 480 points × 320 points was regarded as defective. In FIG. 6, the vertical axis shows the cumulative defect rate and the horizontal axis shows the temperature cycle. The number of samples is 1000, and the temperature cycle conditions are -55 ° C (30 min) to 25 ° C (5 min) to 125 ° C (30 min) to 25 ° C (5 min).
It is.

図６に示したように、スルホールとなる貫通孔に金属を完全に充填せず、貫通孔の壁面のみにニッケル皮膜を形成した従来品では、点線で示したように、１５００サイクルで接続不良が発生し、３０００サイクルにおいては接続不良が１００％に達した。また、スルホールとなる貫通孔に金属を完全に充填せず、貫通孔の壁面のみに銅皮膜を形成した場合でも、上記ニッケル皮膜を形成したときと同様に１５００サイクルで接続不良が発生し、３０００サイクルで１００％の不良率に達して、金属による相異はみられなかった。   As shown in FIG. 6, in the conventional product in which the through hole serving as the through hole is not completely filled with metal and the nickel film is formed only on the wall surface of the through hole, the connection failure occurs in 1500 cycles as indicated by the dotted line. The connection failure reached 100% in 3000 cycles. Further, even when the through hole serving as a through hole is not completely filled with metal and a copper film is formed only on the wall surface of the through hole, a connection failure occurs in 1500 cycles as in the case where the nickel film is formed. The defect rate of 100% was reached in the cycle, and no difference due to metal was observed.

ところが、図１および図２に示した回路基板１においては、３５００サイクルまで接続不良は発生せず、接続信頼性が極めて向上することが確認された。なお、この接続信頼性は、第１の金属にガラス材料と親和性の高いパラジウム、銀、金および白金から選択される金属またはこれらの金属合金、第１の金属上に配置する第２の金属として、ニッケル、銅、クロム、鉄、錫および鉛から選択される金属またはこれらの金属合金を用いた場合においても、金属または金属の組合わせに関わらず３５００サイクルまで接続不良は確認されなかった。   However, in the circuit board 1 shown in FIG. 1 and FIG. 2, it was confirmed that connection failure did not occur until 3500 cycles, and connection reliability was greatly improved. In addition, this connection reliability is the metal selected from palladium, silver, gold | metal | money and platinum with high affinity with a glass material for the 1st metal, or these metal alloys, 2nd metal arrange | positioned on 1st metal As a result, even when a metal selected from nickel, copper, chromium, iron, tin and lead or a metal alloy thereof was used, connection failure was not confirmed up to 3500 cycles regardless of the combination of metals or metals.

また、回路基板１におけるスルホールの接続不良は、上記従来品において確認されたスルホールの金属の剥離破壊とは全く異なるモードであり、接続不良の解析からも接続信頼性が極めて向上していることが確認された。これは、回路基板１においては、スルホールの構造が従来品とは異なり、金属で完全に充填されている構造をとっているため、応力による歪を充填された金属全体で緩和して貫通孔の壁面における金属に生じるクラックを防止し、また、スルホールの形状が鼓型を有して応力による歪を回路基板の面に向かって段階的に緩和しているためと考えられる。   In addition, the through-hole connection failure in the circuit board 1 is a mode completely different from the through-hole metal peeling failure confirmed in the above-mentioned conventional product, and the connection reliability is extremely improved from the analysis of the connection failure. confirmed. This is because the circuit board 1 has a structure in which the through hole is completely filled with a metal, unlike the conventional product. This is considered to be because cracks generated in the metal on the wall surface are prevented, and the shape of the through hole has a drum shape, and strain due to stress is gradually reduced toward the surface of the circuit board.

また、回路基板１では、スルホールは金属により完全に充填されているため、接続抵抗は０．０５ｍΩであり、一方、上記従来品におけるスルホールでは同一組成のニッケル合金を用いた場合でも接続抵抗が０．５ｍΩであったことと比較すると、スルホールにおける接続抵抗は約１０倍低くなっていることが確認された。これは、スルホールの断面が従来品とは異なり、約２倍以上の面積をもって回路配線と接続されているためと考えられる。   Further, in the circuit board 1, since the through hole is completely filled with metal, the connection resistance is 0.05 mΩ. On the other hand, the through hole in the conventional product has a connection resistance of 0 even when a nickel alloy having the same composition is used. It was confirmed that the connection resistance at the through hole was about 10 times lower than that of .5 mΩ. This is thought to be because the cross-section of the through hole is different from the conventional product and is connected to the circuit wiring with an area of about twice or more.

さらに、回路基板１を用いて、ＫＧＤ検査ボードを作製した。その結果、従来までの不透明なガラスエポキシ材料から構成される検査ボードを用いた場合と比較して、位置合せがガラス基板を通して行えたため、該位置合せを極めて容易に実施することができた。   Furthermore, a KGD inspection board was produced using the circuit board 1. As a result, compared with the conventional case where an inspection board made of an opaque glass epoxy material is used, the alignment can be performed through the glass substrate, so that the alignment can be performed very easily.

具体的には、１０００個の半導体チップを検査するのに、従来は３時間要していた検査時間を１時間にまで短縮することができ、約１／３の検査時間でＫＧＤを完了することができた。   Specifically, the inspection time, which conventionally required 3 hours to inspect 1000 semiconductor chips, can be reduced to 1 hour, and KGD can be completed in about 1/3 of the inspection time. I was able to.

さらに、従来品では、貫通孔のスルホールを避けて検査パッドを配置するレイアウトをとらなければならず、回路配線および検査ボードの高密度化は限界に達していたが、回路基板１においては、スルホールの貫通孔の部分も検査パッドとすることが可能になったため、従来品と比較して約１．５倍の高密度化が可能になり、検査ボードの面積も２／３まで縮小することができた。   Furthermore, in the conventional product, it is necessary to take a layout in which the inspection pads are arranged avoiding the through holes of the through holes, and the density of the circuit wiring and the inspection board has reached the limit. Since the through-hole part of this can also be used as a test pad, the density can be increased by about 1.5 times compared to the conventional product, and the area of the test board can be reduced to 2/3. did it.

また、回路基板１においては、スルホールが金属により完全に充填されているため、図７に示すように、回路基板１の裏面を液体窒素などの冷媒に接触させることが可能となり、半導体チップ１２からの発熱を効果的に放熱する構成をとることが可能になった。これは、高速動作を行うＣＰＵを所定の動作クロック以上の環境で検査するとき発生する熱を効果的に低減することができることから、その効果は極めて高いものと考えられる。このとき、冷媒は液体窒素に限定されるものではなく、冷却用純水などを用いることも可能であり、いずれにしても冷却効果は著しく向上した。また、回路基板１においては、スルホールの形状が鼓型となっているため、貫通孔に充填した金属が圧力に対して耐性を有しているためである。なお、このとき、気密性は−７６ｍｍＨｇまで可能であった。   Further, in the circuit board 1, since the through holes are completely filled with metal, the back surface of the circuit board 1 can be brought into contact with a coolant such as liquid nitrogen as shown in FIG. It has become possible to take a configuration that effectively dissipates the heat generated. This is considered to be extremely effective because heat generated when a CPU performing a high-speed operation is inspected in an environment of a predetermined operating clock or more can be effectively reduced. At this time, the refrigerant is not limited to liquid nitrogen, and it is possible to use pure water for cooling or the like, and in any case, the cooling effect is remarkably improved. Moreover, in the circuit board 1, since the through hole has a drum shape, the metal filled in the through hole is resistant to pressure. At this time, airtightness was possible up to -76 mmHg.

さらに、回路基板１の貫通孔２に対する第１の金属３および第２の金属４の密着性を評価した。なお、比較のために、溶融金属により貫通孔を充填した以外は回路基板１と同一に構成された試料を比較のために準備した。また、評価の基準は、気密性試験を行い、−５０ｍｍＨｇでスルーホールの気密性が保たれなかった場合を不良とした。   Furthermore, the adhesion of the first metal 3 and the second metal 4 to the through hole 2 of the circuit board 1 was evaluated. For comparison, a sample having the same configuration as the circuit board 1 except that the through hole was filled with molten metal was prepared for comparison. In addition, as an evaluation standard, an airtightness test was performed, and a case where the airtightness of the through hole was not maintained at −50 mmHg was regarded as defective.

評価の結果、回路基板１は、比較のために準備した従来品と比べ、回路基板１の貫通孔２に対する第１の金属３および第２の金属４の密着性が大きく向上していることが確認された。   As a result of the evaluation, the adhesion of the first metal 3 and the second metal 4 to the through hole 2 of the circuit board 1 is greatly improved in the circuit board 1 compared to the conventional product prepared for comparison. confirmed.

以上から明らかなように、回路基板１は、熱サイクルに対してもスルーホールにクラック等の損傷を生じず、優れた耐性を有する信頼性の高い構造であり、回路基板上の回路配線の密度を従来品と比較して著しく向上できるものであることが確認された。また、貫通孔に対する第１の金属および第２の金属の密着性が大きく向上していることから、貫通孔を覆う金属の剥離がほぼ防止されることが確認された。   As is clear from the above, the circuit board 1 has a highly reliable structure having excellent resistance without causing cracks or the like in the through-holes even with respect to the thermal cycle, and the density of the circuit wiring on the circuit board. It was confirmed that it can be remarkably improved compared with the conventional product. Moreover, since the adhesiveness of the 1st metal and 2nd metal with respect to a through-hole is improving greatly, it was confirmed that peeling of the metal which covers a through-hole is substantially prevented.

（参考例２）はじめに、ウエハ径で１２５ｍｍφ（５インチφ）、厚み０．５ｍｍの感光性ガラス９を用意した（図８（ａ））。 次いで、感光性ガラス９に対して、紫外線照射および熱処理を行った。紫外線照射は、水銀ランプによる露光装置を用い、ＣｅＯ2を含有した感光性ガラス９は３２０μｍ付近に最大感度を有しているため、この吸収波長領域で露光を行った。マスク６の材質としては石英ガラスを用いた。マスク６には１５０μｍピッチで４０μｍφのスルホールが形成できる長方形パターンが４８０ポイント×３２０ポイントで形成してある。この様に露光することで、感光性ガラス９の内部に潜像を形成した（図８（ｂ））。さらに、熱処理により、感光した潜像部分を結晶化させ、酸に溶けやすくした。なお、熱処理は、炉内温度分布の良好な熱処理炉を使用して６００℃にて行った。このとき、結晶化させるときの前処理として、未露光部にも再度紫外線７を照射した（図８（ｃ））。 Reference Example 2 First , photosensitive glass 9 having a wafer diameter of 125 mmφ ( 5 inches φ ) and a thickness of 0.5 mm was prepared (FIG. 8A). Next, the photosensitive glass 9 was subjected to ultraviolet irradiation and heat treatment. For the ultraviolet irradiation, an exposure apparatus using a mercury lamp was used, and the photosensitive glass 9 containing CeO 2 had a maximum sensitivity in the vicinity of 320 μm, so that exposure was performed in this absorption wavelength region. Quartz glass was used as the material of the mask 6. The mask 6 is formed with a rectangular pattern of 480 points × 320 points that can form through holes of 40 μmφ at a pitch of 150 μm. By exposing in this way, a latent image was formed inside the photosensitive glass 9 (FIG. 8B). Further, the exposed latent image portion was crystallized by heat treatment, so that it was easily dissolved in acid. In addition, heat processing was performed at 600 degreeC using the heat processing furnace with favorable temperature distribution in a furnace. At this time, as a pretreatment for crystallization, the unexposed area was again irradiated with the ultraviolet rays 7 (FIG. 8C).

次いで、結晶化した部分を酸で溶解して除去した。エッチングには、フッ酸の薄い溶液を使用した。なお、エッチング方法については種々の方法が考えられるが、エッチング速度および加工精度から、シャワー式のエッチング方法が最も良好な結果を示した。また、フッ酸濃度としては、４％〜５％の範囲が最もエッチングに適していた。以上のように操作することで、感光性ガラス９に４０μｍφの貫通孔２を形成した（図８（ｄ））。   Next, the crystallized portion was removed by dissolving with an acid. A thin solution of hydrofluoric acid was used for etching. Various etching methods are conceivable, but the shower type etching method showed the best result from the etching rate and processing accuracy. Further, the hydrofluoric acid concentration was most suitable for etching in the range of 4% to 5%. By operating as described above, the through-hole 2 of 40 μmφ was formed in the photosensitive glass 9 (FIG. 8D).

ここで、感光性ガラス９の表面は、フッ酸によるミクロな腐食が発生してすりガラス状態になっているため、透過性を向上させるため、１μｍ〜３μｍ以下の研磨剤による研磨を行うことが好ましい。研磨剤としては、酸化セリウム、酸化アルミニウムおよびダイヤモンドなどを用いることができる。なお、貫通孔２は、感光性ガラス９の両面からエッチングにより形成されるため、感光性ガラス９の中央部では、感光性ガラス９の表面の４０μｍφよりも狭い３０μｍφとなっていた。このとき、感光性ガラス９の加工精度は孔公差±０．０１％、平面度０．００３％であった。   Here, since the surface of the photosensitive glass 9 is in a ground glass state due to micro-corrosion caused by hydrofluoric acid, it is preferable to perform polishing with an abrasive of 1 μm to 3 μm or less in order to improve permeability. . As the abrasive, cerium oxide, aluminum oxide, diamond and the like can be used. Since the through hole 2 is formed by etching from both sides of the photosensitive glass 9, the central portion of the photosensitive glass 9 has a diameter of 30 μm, which is narrower than 40 μmφ on the surface of the photosensitive glass 9. At this time, the processing accuracy of the photosensitive glass 9 was a hole tolerance of ± 0.01% and a flatness of 0.003%.

次いで、貫通孔２が形成された感光性ガラス９に第１の金属３を形成した（図９（ｅ））。ここで、第１の金属３としては、ガラス材料と密着性の高いパラジウム、銀、金および白金から選択される金属またはこれらの合金であれば特に限定されるものではないが、本参考例においては銀とした。 Subsequently, the 1st metal 3 was formed in the photosensitive glass 9 in which the through-hole 2 was formed (FIG.9 (e)). Here, the first metal 3 is not particularly limited as long as it is a metal selected from palladium, silver, gold and platinum having high adhesion to a glass material or an alloy thereof, but in this reference example , Was silver.

銀を感光性ガラス９上に析出させるためには、表面の濡れ性を向上させる、例えば、非アニオン系の洗剤に予め浸漬された感光性ガラス９を、硝酸銀溶液の中に浸漬した後、ホルムアルデヒドを添加することにより、貫通孔２の壁面を含めた感光性ガラス９の全体に銀を析出させた。この現象は、銀鏡反応として公知のものであり、溶解度の低い塩化銀の析出を防止するため塩素は含有されてはならない。この方法により、貫通孔２を含めた感光性ガラス９の表面全体に、銀を２μｍ〜３μｍ析出させた。次いで、ガラス基板の主面および裏面を、１μｍ〜２μｍの研磨剤による乾式研磨法または１μｍ〜２μｍの布で編んである乾布によるラビング法により研磨して、貫通孔２の壁面を除いて銀を機械的に除去した（図４（ｆ））。このとき、銀が貫通孔２の内部に入り込んだとしても、後工程の無電解めっきの核として機能するため何ら問題はない。以上のようにして、感光性ガラス９の貫通孔２の壁面のみ選択的に銀を形成することができたが、銀の密着強度を向上させるため、銀鏡反応／ラビング法による銀析出を少なくとも３回繰り返して行い、銀の密着強度を向上させると共に銀の析出膜厚を厚くすることも可能である。なお、この銀析出反応を繰り返した場合には、各ステップごとに、銀鏡反応／ラビング処理を行う前工程において、例えば、感光性ガラス９を非アニオン系溶液に浸漬することも可能である。非アニオン系溶液による処理を行うことで、感光性ガラス９への銀の析出は著しく向上する。また、尚、この前処理に用いる溶液は、非アニオン系洗剤に限定されるものではなく、ガラス基板と銀溶液との濡れ性を向上させるものであれば何ら問題はない。   In order to deposit silver on the photosensitive glass 9, the wettability of the surface is improved. For example, after the photosensitive glass 9 previously immersed in a non-anionic detergent is immersed in a silver nitrate solution, formaldehyde As a result, silver was deposited on the entire photosensitive glass 9 including the wall surface of the through hole 2. This phenomenon is known as a silver mirror reaction, and chlorine must not be contained in order to prevent precipitation of silver chloride having low solubility. By this method, 2 μm to 3 μm of silver was deposited on the entire surface of the photosensitive glass 9 including the through hole 2. Next, the main surface and the back surface of the glass substrate are polished by a dry polishing method using an abrasive of 1 μm to 2 μm or a rubbing method using a dry cloth knitted with a cloth of 1 μm to 2 μm. It was removed mechanically (FIG. 4 (f)). At this time, even if silver enters the inside of the through-hole 2, there is no problem because it functions as a core of electroless plating in a subsequent process. As described above, it was possible to selectively form silver only on the wall surface of the through hole 2 of the photosensitive glass 9. However, in order to improve the adhesion strength of silver, at least 3 silver deposition by the silver mirror reaction / rubbing method was performed. It is possible to increase the adhesion strength of silver and to increase the deposited film thickness of silver by repeating the process repeatedly. In addition, when this silver precipitation reaction is repeated, it is also possible to immerse the photosensitive glass 9 in a non-anionic solution, for example, in the pre-process for performing the silver mirror reaction / rubbing process for each step. By performing the treatment with the non-anionic solution, silver deposition on the photosensitive glass 9 is remarkably improved. In addition, the solution used for this pretreatment is not limited to a non-anionic detergent, and there is no problem as long as it improves the wettability between the glass substrate and the silver solution.

次いで、貫通孔２の壁面のみに、選択的に第１の金属３として銀が形成された感光性ガラス９に第２の金属４を形成した。第２の金属４としては、第１の金属３である銀と密着性の高いニッケル、銅、クロム、鉄、錫および鉛から選択される金属またはこれらの合金であれば特に限定されるものではないが、本参考例においてはニッケルとした。第２の金属４であるニッケルを、第１の金属３の析出被膜の上に析出させて貫通孔２を充填するには、貫通孔２の壁面にのみ銀が析出されている感光性ガラス９を、例えば、上記の「組成１」で構成される無電解ニッケルめっき液に５〜６時間浸漬させ、８５℃〜９０℃でニッケルを感光性ガラス９の表面に突出するまで析出させる。特に、組成１からなるめっき液では、還元剤として作用する次亜リン酸ナトリウムのため、リンが５ｗｔ％〜１０ｗｔ％含有された、均一性、耐蝕性および耐摩耗性に優れたニッケル被膜を貫通孔２に対し充填することができる。 Next, the second metal 4 was formed on the photosensitive glass 9 in which silver was selectively formed as the first metal 3 only on the wall surface of the through hole 2. The second metal 4 is not particularly limited as long as it is a metal selected from nickel, copper, chromium, iron, tin, and lead having high adhesion to silver as the first metal 3 or an alloy thereof. Although not provided, nickel was used in this reference example . In order to deposit nickel as the second metal 4 on the deposited film of the first metal 3 and fill the through hole 2, photosensitive glass 9 in which silver is deposited only on the wall surface of the through hole 2. Is immersed in an electroless nickel plating solution composed of the above-mentioned “Composition 1” for 5 to 6 hours, and nickel is deposited at 85 ° C. to 90 ° C. until it projects on the surface of the photosensitive glass 9. In particular, the plating solution composed of composition 1 penetrates a nickel coating excellent in uniformity, corrosion resistance and wear resistance, containing 5 wt% to 10 wt% of phosphorus because of sodium hypophosphite acting as a reducing agent. The holes 2 can be filled.

また、無電解ニッケルめっき液として、上記「組成２」で構成される溶液を準備し、該溶液に感光性ガラス９を５〜６時間浸漬させ、６０℃〜７０℃にてニッケルめっきを行うことも可能である。組成２から構成されるめっき液では、還元剤として作用するジメチルアミノボランからボロンが１ｗｔ％程度含有されたニッケル被膜が析出するため、導電性の高いニッケルを貫通孔２に充填することができる。   Moreover, the solution comprised by the said "composition 2" is prepared as an electroless nickel plating solution, the photosensitive glass 9 is immersed in this solution for 5 to 6 hours, and nickel plating is performed at 60 to 70 degreeC. Is also possible. In the plating solution composed of composition 2, since a nickel film containing about 1 wt% of boron is deposited from dimethylaminoborane that acts as a reducing agent, highly conductive nickel can be filled into the through holes 2.

ここで、無電解めっき法を実行する回路基板の製造装置は、以下のように構成されている。すなわち、図１０および図１１に示したように、該回路基板の製造装置は、めっき液２５を保持するめっき液槽２６、めっき液２５を流通させるための流路配管２７、めっき液を循環させるポンプ２８、めっき液を循環させる循環装置２９および流路制御装置３０を備えている。さらに、めっき液槽２６には、第１の溶液領域３１および第２の溶液領域３２における圧力を計測をする圧力センサ３３と圧力計３４および感光性ガラス９を保持するための保持機構３５を備えている。保持機構３５は、めっき液槽２６内の一定位置で感光性ガラス９を保持することにより、第１の溶液領域３１と第２の溶液領域３２にめっき液２５を分離するためのもので、第１の溶液領域３１におけるめっき液と第２の溶液領域３２におけるめっき液とが相互に入り込まない様にシールされている。シーリングする機構は特に限定されるものではないが、本参考例ではバイトンＯリング、またはシリコンＯリング等のＯリングを用いて隙間が発生しないようにした。さらに、めっき液槽２６、流路配管２７およびポンプ２８の内部等の、めっき液２５が接触する部分はフッ素樹脂類、ポリオレフィン類、ポリアミド類、ポリエステル類、ポリエーテル類および塩化ビニル類等から構成されている。また、ポンプ２８本体は、耐食性に優れたマグネットポンプを用いており、回転数をインバータで制御している。 Here, the circuit board manufacturing apparatus for performing the electroless plating method is configured as follows. That is, as shown in FIGS. 10 and 11, the circuit board manufacturing apparatus circulates the plating solution tank 26 for holding the plating solution 25, the flow path pipe 27 for circulating the plating solution 25, and the plating solution. A pump 28, a circulation device 29 for circulating the plating solution, and a flow path control device 30 are provided. Further, the plating solution tank 26 includes a pressure sensor 33 that measures the pressure in the first solution region 31 and the second solution region 32, a pressure gauge 34, and a holding mechanism 35 that holds the photosensitive glass 9. ing. The holding mechanism 35 is for separating the plating solution 25 into the first solution region 31 and the second solution region 32 by holding the photosensitive glass 9 at a fixed position in the plating solution tank 26. The plating solution in the first solution region 31 and the plating solution in the second solution region 32 are sealed so as not to enter each other. The sealing mechanism is not particularly limited, but in this reference example , an O-ring such as a Viton O-ring or a silicon O-ring is used so as not to generate a gap. Further, the portions where the plating solution 25 contacts, such as the inside of the plating solution tank 26, the flow path pipe 27 and the pump 28, are composed of fluororesins, polyolefins, polyamides, polyesters, polyethers, vinyl chlorides and the like. Has been. Moreover, the pump 28 main body uses a magnet pump excellent in corrosion resistance, and the rotation speed is controlled by an inverter.

また、感光性ガラス９は、めっき液槽２６の内部に水平配置されており、感光性ガラス９を設置した後、ポンプ２８を稼動させて、めっき液槽２６内部のめっき液２５の水面を上昇させる。感光性ガラス９に接触しためっき液２５は、第１の溶液領域３１から、感光性ガラス９の貫通孔２の内部を通過して第２の溶液領域３２に移動する。さらに、めっき液２５は、第２の溶液領域３２からオーバーフローして外部に流出するようになっており、流出しためっき液２５は装置内部で循環する構成となっている。また、第１の溶液領域３１と第２の溶液領域３２の圧力差を計測する圧力計３４では、得られた信号がデジタル信号化されるようになっている。この変換された圧力信号を流路制御装置３０が検出して、循環装置２９を制御することで無電解めっきを完了させる。   The photosensitive glass 9 is horizontally disposed inside the plating solution tank 26. After the photosensitive glass 9 is installed, the pump 28 is operated to raise the water surface of the plating solution 25 inside the plating solution tank 26. Let The plating solution 25 that has contacted the photosensitive glass 9 moves from the first solution region 31 to the second solution region 32 through the inside of the through hole 2 of the photosensitive glass 9. Further, the plating solution 25 overflows from the second solution region 32 and flows to the outside, and the flowing plating solution 25 circulates inside the apparatus. In the pressure gauge 34 that measures the pressure difference between the first solution region 31 and the second solution region 32, the obtained signal is converted into a digital signal. The flow path control device 30 detects the converted pressure signal and controls the circulation device 29 to complete the electroless plating.

上記回路基板の製造装置では、アスペクト比の高い貫通孔２の内部をめっき液２５が常時移動するため、金属イオン濃度は、無電解めっき膜を析出させるに適した濃度に制御されている。したがって、図１２に示したに、これまでアスペクト比の高い貫通孔の内部で発生していた、めっき液の循環が不充分なことによる金属イオンの濃度低下を防止することができ、欠陥のない均一なスルホールを形成することができる。   In the circuit board manufacturing apparatus, since the plating solution 25 always moves inside the through hole 2 having a high aspect ratio, the metal ion concentration is controlled to a concentration suitable for depositing the electroless plating film. Accordingly, as shown in FIG. 12, it is possible to prevent the metal ion concentration from being lowered due to insufficient circulation of the plating solution, which has been generated in the through hole having a high aspect ratio, and there is no defect. A uniform through hole can be formed.

なお、貫通孔内部におけるめっき液交換を完全に行うため、めっき液槽２６全体または感光性ガラス９のみに選択的に２．０Ｐａ程度の超音波を印加することも可能である。さらに、第１の溶液領域３１および第２の溶液領域３２に圧力センサ３３を配置して、相互の溶液領域に圧力差が発生した時点をめっき完了点として流路制御する流路制御装置３０を備えているため、貫通孔２の全体が金属で完全充填されて第１の溶液領域３１から第２の溶液領域３２にめっき液２５が移動しなくなることにより、圧力差が発生する点をめっきの完了点とすることができる。これにより、無電解めっきの完了点を検出することができないため発生していたスルホールの欠陥を容易に防止することができ、接続信頼性の高いスルホールを形成することが可能となった。   In addition, in order to completely replace the plating solution inside the through hole, it is possible to selectively apply an ultrasonic wave of about 2.0 Pa to the entire plating solution tank 26 or only the photosensitive glass 9. Further, a flow path control device 30 is provided in which a pressure sensor 33 is disposed in the first solution area 31 and the second solution area 32, and the flow path control is performed with a point of time when a pressure difference is generated in the solution area as a plating completion point. Since the entire through hole 2 is completely filled with metal and the plating solution 25 does not move from the first solution region 31 to the second solution region 32, the point where the pressure difference is generated is It can be a completion point. As a result, the completion point of the electroless plating cannot be detected, so that it is possible to easily prevent a through hole defect that has occurred, and to form a through hole with high connection reliability.

以上のように、無電解めっきを行うことにより、感光性ガラス９に形成された貫通孔２中に、完全にニッケルを充填することができた。なお、貫通孔２中に、完全にニッケルを充填させるため、浸漬時間をめっき圧力差の発生した時点から約１０分程度延長させ、析出したニッケルが感光性ガラス９の面から少なくとも１μｍは突出するまでめっきを行うことが好ましい。   As described above, by performing electroless plating, the through holes 2 formed in the photosensitive glass 9 could be completely filled with nickel. In order to completely fill the through hole 2 with nickel, the immersion time is extended by about 10 minutes from the time when the plating pressure difference occurs, and the deposited nickel protrudes from the surface of the photosensitive glass 9 by at least 1 μm. It is preferable to perform the plating until.

次いで、貫通孔２より突出した第２の金属（ニッケル膜）を、感光性ガラス９の面と同一平面を構成するように機械的に研磨した（図９（ｇ））。研磨は、貫通孔２より突出した第２の金属（ニッケル膜）を、感光性ガラス９の面と同一平面を構成するように、マクロ研磨により感光性ガラス９の面から突出する量が±5μｍ程度になるまで均一化した後、ミクロ研磨により研磨した。なお、ミクロ研磨を行ったときの凹凸の公差は、回路基板面に形成する回路配線の接触抵抗上、±3μｍ以下の精度に保つことが好ましい。   Next, the second metal (nickel film) protruding from the through hole 2 was mechanically polished so as to form the same plane as the surface of the photosensitive glass 9 (FIG. 9G). The amount of protrusion of the second metal (nickel film) protruding from the through-hole 2 from the surface of the photosensitive glass 9 by macro polishing is ± 5 μm so as to form the same plane as the surface of the photosensitive glass 9. After homogenizing to the extent, it was polished by micropolishing. It should be noted that the unevenness tolerance when micropolishing is performed is preferably maintained within an accuracy of ± 3 μm or less in view of the contact resistance of the circuit wiring formed on the circuit board surface.

ここで、マクロ研磨は、例えば、５μｍ〜１０μｍ程度の粒径を有する酸化セリウム、または＃１０００程度の耐水研磨紙を用い、ミクロ研磨は、０．３μｍ程度の粒径を有する酸化セリウム、酸化アルミナまたはダイヤモンドを用いて行うことが好ましい。このとき、液体状の研磨ペーストを研磨剤とする湿式研磨法を用いると、感光性ガラス９、第１の金属３および第２の金属４の間に、研磨速度差が発生するため、ミクロ研磨には、ダイヤモンド等が埋め込まれたデイスク盤を用いて研磨する乾式研磨を適用することが好ましい。   Here, macro polishing uses, for example, cerium oxide having a particle size of about 5 μm to 10 μm, or water resistant abrasive paper of about # 1000, and micro polishing uses cerium oxide or alumina oxide having a particle size of about 0.3 μm. Alternatively, it is preferable to use diamond. At this time, if a wet polishing method using a liquid polishing paste as an abrasive is used, a polishing rate difference is generated between the photosensitive glass 9, the first metal 3 and the second metal 4. For this, it is preferable to apply dry polishing using a disk machine in which diamond or the like is embedded.

以上のように、貫通孔２に第１の金属３および第２の金属４が完全充填された感光性ガラス９を得ることができた。   As described above, the photosensitive glass 9 in which the first metal 3 and the second metal 4 were completely filled in the through hole 2 could be obtained.

次いで、回路配線５を感光性ガラス９上に形成した（図９（ｈ））。回路配線を構成する金属は特に限定されるものではないが、ここでは、参考例１と同様にして実施した。このとき、貫通孔２は金属により完全に充填されているため、従来品のように、スルホールの部分でランドを設ける必要がなく、従来品と比較して約１．５倍の密度で回路配線をレイアウトすることができた。なお、本参考例では、ＩＴＯ膜を回路配線を構成する金属として適用したが、回路配線を構成する金属として、例えば、ニッケル、クロム、銅および錫から選択される金属も用いることができ、その材質は特に限定されるものではない。 Next, the circuit wiring 5 was formed on the photosensitive glass 9 (FIG. 9 (h)). Although the metal which comprises circuit wiring is not specifically limited, It implemented similarly to the reference example 1 here. At this time, since the through hole 2 is completely filled with metal, it is not necessary to provide a land at the through-hole portion unlike the conventional product, and the circuit wiring is about 1.5 times as dense as the conventional product. Could be laid out. In this reference example , the ITO film is applied as a metal constituting the circuit wiring. However, as the metal constituting the circuit wiring, for example, a metal selected from nickel, chromium, copper and tin can be used. The material is not particularly limited.

次いで、回路基板１の接続信頼性を評価したところ以下の結果を得た。なお、感光性ガラス９に４０μｍφの貫通孔を４８０ポイント×３２０ポイント形成し、銀およびニッケルを、図１３および図１４に示した従来のめっき装置を用いて該貫通孔に対し充填した試料を比較のために準備した。なお、図１３に示しためっき装置では電気めっき方式を採用しており、一方、図１４に示しためっき装置では無電解めっきを採用してはいるものの、めっき液を、感光性ガラス９を用いて異なる領域に分割していない構成をとっている。また、評価は、上記参考例１と同様の基準で行った。 Next, when the connection reliability of the circuit board 1 was evaluated, the following results were obtained. A sample in which 40 μmφ through holes of 480 points × 320 points were formed in the photosensitive glass 9 and silver and nickel were filled into the through holes using the conventional plating apparatus shown in FIGS. 13 and 14 was compared. Prepared for. The plating apparatus shown in FIG. 13 employs an electroplating method, while the plating apparatus shown in FIG. 14 employs electroless plating, but uses a photosensitive glass 9 as a plating solution. The structure is not divided into different areas. The evaluation was performed according to the same criteria as in Reference Example 1 above.

図１５に示したように、スルホールとなる貫通孔に金属を完全に充填せず、貫通孔の壁面のみにニッケル皮膜を形成した上記試料（従来品）では、点線で示したように、１５００サイクルで接続不良が発生し、３０００サイクルにおいては接続不良が１００％に達した。また、スルホールとなる貫通孔に金属を完全に充填せず、貫通孔の壁面のみに銅皮膜を形成した場合でも、上記ニッケル皮膜を形成したときと同様に１５００サイクルで接続不良が発生し、３０００サイクルで１００％の不良率に達して、金属による相異はみられなかった。   As shown in FIG. 15, in the sample (conventional product) in which the through hole serving as the through hole is not completely filled with metal and the nickel film is formed only on the wall surface of the through hole, as shown by the dotted line, 1500 cycles Connection failure occurred and the connection failure reached 100% in 3000 cycles. Further, even when the through hole serving as a through hole is not completely filled with metal and a copper film is formed only on the wall surface of the through hole, a connection failure occurs in 1500 cycles as in the case where the nickel film is formed. The defect rate of 100% was reached in the cycle, and no difference due to metal was observed.

ところが、本参考例により得られた回路基板１においては、３５００サイクルまで接続不良は発生せず、接続信頼性が極めて向上することが確認された。なお、この接続信頼性は、第１の金属にガラス材料と親和性の高いパラジウム、銀、金および白金から選択される金属またはこれらの金属合金、第１の金属上に配置する第２の金属として、ニッケル、銅、クロム、鉄、錫および鉛から選択される金属またはこれらの金属合金を用いた場合においても、金属または金属の組合わせに関わらず３５００サイクルまで接続不良は確認されなかった。 However, in the circuit board 1 obtained by this reference example, it was confirmed that connection failure did not occur until 3500 cycles, and the connection reliability was greatly improved. In addition, this connection reliability is the metal selected from palladium, silver, gold | metal | money and platinum with high affinity with a glass material for the 1st metal, or these metal alloys, 2nd metal arrange | positioned on 1st metal As a result, even when a metal selected from nickel, copper, chromium, iron, tin and lead or a metal alloy thereof was used, connection failure was not confirmed up to 3500 cycles regardless of the combination of metals or metals.

また、回路基板１におけるスルホールの接続不良は、上記従来品において確認されたスルホールの金属の剥離破壊とは全く異なるモードであり、接続不良の解析からも接続信頼性が極めて向上していることが確認された。これは、回路基板１においては、スルホールの構造が従来品とは異なり、金属で完全に充填されている構造をとっているため、応力による歪を充填された金属全体で緩和して貫通孔の壁面における金属に生じるクラックを防止し、また、スルホールの形状が鼓型を有して応力による歪を回路基板の面に向かって段階的に緩和しているためと考えられる。   In addition, the through-hole connection failure in the circuit board 1 is a mode completely different from the through-hole metal peeling failure confirmed in the above-mentioned conventional product, and the connection reliability is extremely improved from the analysis of the connection failure. confirmed. This is because the circuit board 1 has a structure in which the through hole is completely filled with a metal, unlike the conventional product. This is considered to be because cracks generated in the metal on the wall surface are prevented, and the shape of the through hole has a drum shape, and strain due to stress is gradually reduced toward the surface of the circuit board.

また、回路基板１では、スルホールは金属により完全に充填されているため、接続抵抗は０．０５ｍΩであり、一方、上記従来品におけるスルホールでは同一組成のニッケル合金を用いた場合でも接続抵抗が０．５ｍΩであったことと比較すると、スルホールにおける接続抵抗は約１０倍低くなっていることが確認された。これは、スルホールの断面が従来品とは異なり、約２倍以上の面積をもって回路配線と接続されているためと考えられる。   Further, in the circuit board 1, since the through hole is completely filled with metal, the connection resistance is 0.05 mΩ. On the other hand, the through hole in the conventional product has a connection resistance of 0 even when a nickel alloy having the same composition is used. It was confirmed that the connection resistance at the through hole was about 10 times lower than that of .5 mΩ. This is thought to be because the cross-section of the through hole is different from the conventional product and is connected to the circuit wiring with an area of about twice or more.

さらに、回路基板１を用いて、ＫＧＤ検査ボードを作製した。その結果、従来までの不透明なガラスエポキシ材料から構成される検査ボードを用いた場合と比較して、位置合せがガラス基板を通して行えたため、該位置合せを極めて容易に実施することができた。   Furthermore, a KGD inspection board was produced using the circuit board 1. As a result, compared with the conventional case where an inspection board made of an opaque glass epoxy material is used, the alignment can be performed through the glass substrate, so that the alignment can be performed very easily.

具体的には、１０００個の半導体チップを検査するのに、従来は３時間要していた検査時間を１時間にまで短縮することができ、約１／３の検査時間でＫＧＤを完了することができた。   Specifically, the inspection time, which conventionally required 3 hours to inspect 1000 semiconductor chips, can be reduced to 1 hour, and KGD can be completed in about 1/3 of the inspection time. I was able to.

さらに、従来品では、貫通孔のスルホールを避けて検査パッドを配置するレイアウトをとらなければならず、回路配線および検査ボードの高密度化は限界に達していたが、回路基板１においては、スルホールの貫通孔の部分も検査パッドとすることが可能になったため、従来品と比較して約１．５倍の高密度化が可能になり、検査ボードの面積も２／３まで縮小することができた。   Furthermore, in the conventional product, it is necessary to take a layout in which the inspection pads are arranged avoiding the through holes of the through holes, and the density of the circuit wiring and the inspection board has reached the limit. Since the through-hole part of this can also be used as a test pad, the density can be increased by about 1.5 times compared to the conventional product, and the area of the test board can be reduced to 2/3. did it.

また、回路基板１においては、スルホールが金属により完全に充填されているため、図７に示すように、回路基板１の裏面を液体窒素などの冷媒に接触させることが可能となり、半導体チップ１２からの発熱を効果的に放熱する構成をとることが可能になった。これは、高速動作を行うＣＰＵを所定の動作クロック以上の環境で検査するとき発生する熱を効果的に低減することができることから、その効果は極めて高いものと考えられる。このとき、冷媒は液体窒素に限定されるものではなく、冷却用純水などを用いることも可能であり、いずれにしても冷却効果は著しく向上した。また、回路基板１においては、スルホールの形状が鼓型となっているため、貫通孔に充填した金属が圧力に対して耐性を有しているためである。なお、このとき、気密性は−７６ｍｍＨｇまで可能であった。   Further, in the circuit board 1, since the through holes are completely filled with metal, the back surface of the circuit board 1 can be brought into contact with a coolant such as liquid nitrogen as shown in FIG. It has become possible to take a configuration that effectively dissipates the heat generated. This is considered to be extremely effective because heat generated when a CPU performing a high-speed operation is inspected in an environment of a predetermined operating clock or more can be effectively reduced. At this time, the refrigerant is not limited to liquid nitrogen, and it is possible to use pure water for cooling or the like, and in any case, the cooling effect is remarkably improved. Moreover, in the circuit board 1, since the through hole has a drum shape, the metal filled in the through hole is resistant to pressure. At this time, airtightness was possible up to -76 mmHg.

以上から明らかなように、回路基板１は、熱サイクルに対してもスルーホールにクラック等の損傷を生じず、優れた耐性を有する信頼性の高い構造であり、回路基板上の回路配線の密度を従来品と比較して著しく向上できるものであることが確認された。   As is clear from the above, the circuit board 1 has a highly reliable structure having excellent resistance without causing cracks or the like in the through-holes even with respect to the thermal cycle, and the density of the circuit wiring on the circuit board. It was confirmed that it can be remarkably improved compared with the conventional product.

（実施の形態）はじめに、ウエハ径で１２５ｍｍφ（５インチφ）、厚み０．５ｍｍの感光性ガラス９を用意した（図１６（ａ））。 次いで、感光性ガラス９に対して、紫外線照射および熱処理を行った。紫外線照射は、水銀ランプによる露光装置を用い、ＣｅＯ2を含有した感光性ガラス９は３２０μｍ付近に最大感度を有しているため、この吸収波長領域で露光を行った。マスク６の材質としては石英ガラスを用いた。マスク６には１５０μｍピッチで４０μｍφのスルホールが形成できる長方形パターンが４８０ポイント×３２０ポイントで形成してある。この様に露光することで、感光性ガラス９の内部に潜像を形成した（図１６（ｂ））。さらに、熱処理により、感光した潜像部分を結晶化させ、酸に溶けやすくした。なお、熱処理は、炉内温度分布の良好な熱処理炉を使用して６００℃にて行った。このとき、結晶化させるときの前処理として、未露光部にも再度紫外線７を照射した（図１６（ｃ））。 ( Embodiment ) First , photosensitive glass 9 having a wafer diameter of 125 mmφ ( 5 inch φ ) and a thickness of 0.5 mm was prepared (FIG. 16A). Next, the photosensitive glass 9 was subjected to ultraviolet irradiation and heat treatment. For the ultraviolet irradiation, an exposure apparatus using a mercury lamp was used, and the photosensitive glass 9 containing CeO 2 had a maximum sensitivity in the vicinity of 320 μm, so that exposure was performed in this absorption wavelength region. Quartz glass was used as the material of the mask 6. The mask 6 is formed with a rectangular pattern of 480 points × 320 points that can form through holes of 40 μmφ at a pitch of 150 μm. By exposing in this way, a latent image was formed inside the photosensitive glass 9 (FIG. 16B). Further, the exposed latent image portion was crystallized by heat treatment, so that it was easily dissolved in acid. In addition, heat processing was performed at 600 degreeC using the heat processing furnace with favorable temperature distribution in a furnace. At this time, as a pretreatment for crystallization, the unexposed area was again irradiated with ultraviolet rays 7 (FIG. 16C).

次いで、結晶化した部分を酸で溶解して除去した。エッチングには、フッ酸の薄い溶液を使用した。なお、エッチング方法については種々の方法が考えられるが、エッチング速度および加工精度から、シャワー式のエッチング方法が最も良好な結果を示した。また、フッ酸濃度としては、４％〜５％の範囲が最もエッチングに適していた。以上のように操作することで、感光性ガラス９に４０μｍφの貫通孔２を形成した（図１６（ｄ））。ここで、感光性ガラス９の表面には、図１９（ａ）に示したように、フッ酸によるミクロな腐食による凹凸４７が発生しており、すりガラス状態になっていた。   Next, the crystallized portion was removed by dissolving with an acid. A thin solution of hydrofluoric acid was used for etching. Various etching methods are conceivable, but the shower type etching method showed the best result from the etching rate and processing accuracy. Further, the hydrofluoric acid concentration was most suitable for etching in the range of 4% to 5%. By operating as described above, a through hole 2 having a diameter of 40 μm was formed in the photosensitive glass 9 (FIG. 16D). Here, as shown in FIG. 19A, the surface of the photosensitive glass 9 has irregularities 47 due to micro-corrosion caused by hydrofluoric acid, and is in a ground glass state.

次いで、貫通孔２の内部に絶縁材４８を充填した（図１７（ｅ））。絶縁材４８は、透過性を有していれば特に限定されるものではないが、研磨精度を向上させるため、熱硬化性とともに溶解性を向上させる光反応性を有するものであることが好ましい。このため、本実施の形態では、絶縁材４８として、ポジ型レジストであるＯＦＰＲ−８００（東京応化社製）を用いた。   Next, an insulating material 48 was filled in the through hole 2 (FIG. 17E). The insulating material 48 is not particularly limited as long as it has transparency, but in order to improve polishing accuracy, it is preferable that the insulating material 48 has photoreactivity that improves solubility as well as thermosetting. For this reason, in this embodiment, OFPR-800 (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.), which is a positive resist, is used as the insulating material 48.

また、絶縁材４８の貫通孔２への充填は、貫通孔２のアスペクト比が高いため毛細管現象により実施した。具体的には、図２０に示したように、ポジ型レジストＯＦＰＲ−８００の溶液４９中に感光性ガラス９の裏面を接触させる様に配置して感光性ガラス９の表面まで溶液４９を上昇させる。したがって、溶液４９の粘度は低粘度であることがより好ましい。本実施例では、２０ｃｐ〜５０ｃｐの粘度を有する溶液４９を用いたが、いずれの場合でも貫通孔２への絶縁材４８の充填は良好に行われた。このとき、感光性ガラス９の表面に付着する溶液４９は、特に除去しないでそのまま研磨工程において除去するようにした。また、貫通孔２に充填されている溶液４９を硬化させるため、オーブンにて、９０℃で３０ｍｉｎにわたりベークした。   Further, the filling of the insulating material 48 into the through hole 2 was performed by capillary action because the aspect ratio of the through hole 2 was high. Specifically, as shown in FIG. 20, the solution 49 is raised to the surface of the photosensitive glass 9 by placing the backside of the photosensitive glass 9 in contact with the solution 49 of the positive resist OFPR-800. . Therefore, the viscosity of the solution 49 is more preferably low. In the present example, the solution 49 having a viscosity of 20 cp to 50 cp was used, but in any case, the insulating material 48 was satisfactorily filled into the through hole 2. At this time, the solution 49 adhering to the surface of the photosensitive glass 9 was removed as it is in the polishing step without being particularly removed. Moreover, in order to harden the solution 49 with which the through-hole 2 was filled, it baked at 90 degreeC for 30 minutes in oven.

次いで、図１９（ａ）に示したように、不透明となっている感光性ガラス９を研磨して透明にした。感光性ガラス９の研磨は、液体研磨剤を使用する湿式研磨法または液体研磨剤を使用しない乾式研磨法のうち少なくとも１つの研磨法を適用して実施することが好ましい。本実施の形態では、例えば、湿式研磨法および乾式研磨法の２つの方法を用いて研磨した。なお、液体研磨剤としては、１μｍ〜３μｍ以上の粒径を有する酸化セリウム、酸化アルミニウムおよびダイヤモンド等を含有した研磨剤を用いることができ、これらの研磨剤を、例えば、ナイロンで編んであるバフクロス上に塗布して、図２１に示したように研磨した。こうして、感光性ガラス９の表面の凹凸は２μｍ〜３μｍ程度にまで平坦化できた。   Next, as shown in FIG. 19A, the opaque photosensitive glass 9 was polished to be transparent. The polishing of the photosensitive glass 9 is preferably performed by applying at least one of a wet polishing method using a liquid abrasive and a dry polishing method not using a liquid abrasive. In the present embodiment, for example, polishing is performed using two methods, a wet polishing method and a dry polishing method. In addition, as a liquid abrasive | polishing agent, the abrasive | polishing agent containing the cerium oxide, aluminum oxide, diamond, etc. which have a particle size of 1 micrometer-3 micrometers or more can be used, These buff cloths which knit nylon, for example It was applied and polished as shown in FIG. Thus, the unevenness on the surface of the photosensitive glass 9 could be flattened to about 2 μm to 3 μm.

さらに、液体研磨剤が塗布してある研磨盤５１を、例えば１μｍ〜２μｍのダイヤモンドが一様に配置してある研磨盤に交換して乾式研磨した。これにより、感光性ガラス９の表面の凹凸は１μｍ〜２μｍ程度にまで平坦化でき、極めて透過性の高い感光性ガラスを得ることができた。   Further, the polishing disk 51 coated with the liquid abrasive was replaced with a polishing disk in which, for example, 1 μm to 2 μm of diamond was uniformly arranged, and dry polishing was performed. Thereby, the unevenness | corrugation of the surface of the photosensitive glass 9 can be planarized to about 1 micrometer-2 micrometers, and the photosensitive glass with very high transparency was able to be obtained.

次いで、スルホールとなる部分に貫通孔２が形成されているか否かを光学的に検査した（図１７（ｆ））。このときの検査は、感光性ガラス９と絶縁材４８との検査光に対する吸収率差を検出する方法で行った。   Next, it was optically inspected whether or not the through hole 2 was formed in the portion to be a through hole (FIG. 17 (f)). The inspection at this time was performed by a method of detecting a difference in absorption rate of the photosensitive glass 9 and the insulating material 48 with respect to the inspection light.

ここで、感光性ガラス９および絶縁材４８の光学特性を、各々図２２および図２３に示す。図２２および図２３から明らかなように、感光性ガラス９は、波長２５０ｎｍ付近では透過率０％に対して、波長３５０ｎｍ付近では約１００％の透過率を示す。一方、絶縁材４８では、波長２５０ｎｍ付近で、透過率が上昇する小さなピークを示すが、概ね透過率は０％に近く、波長２７０ｎｍ以上で透過率が大きく上昇する傾向を示す。ところが、図２３から明らかなように、絶縁材４８の透過率は３５０ｎｍ付近で５０％程度であり、５００ｎｍ以上でも最大の９０％を示すのみである。   Here, the optical characteristics of the photosensitive glass 9 and the insulating material 48 are shown in FIGS. 22 and 23, respectively. As is apparent from FIGS. 22 and 23, the photosensitive glass 9 exhibits a transmittance of about 100% near the wavelength of 350 nm, whereas the transmittance is around 0% near the wavelength of 250 nm. On the other hand, the insulating material 48 shows a small peak in which the transmittance increases near the wavelength of 250 nm, but the transmittance is almost 0%, and the transmittance tends to increase greatly at a wavelength of 270 nm or more. However, as is apparent from FIG. 23, the transmittance of the insulating material 48 is about 50% near 350 nm, and only shows the maximum 90% even at 500 nm or more.

したがって、波長３５０ｎｍ以上の検査光を、波長を段階的に変化させながら感光性ガラス９に全面にわたり照射することにより、貫通孔２において、絶縁材４８が充填されている部分のみ透過率が減少するので、貫通孔２が形成されているか否かを確実に検出できるものである。そして、感光性ガラス９に対して、４００ｎｍの波長を有する検査光を照射した結果、感光性ガラス９の部分では１００％の透過率を示したのに対して、絶縁材４８の部分では５０％程度の透過率を示した。さらに、これらの透過率を吸収率に変換した後、これらの吸収率の差を第２データとし、該第２のデータと、予め貫通孔２の形成されるべき位置として取得していた第１データとを比較したところ、第１データおよび第２データは完全な一致を示し、貫通孔２が高精度に形成されていることが確認された。   Therefore, by irradiating the entire surface of the photosensitive glass 9 with inspection light having a wavelength of 350 nm or more while changing the wavelength stepwise, the transmittance of only the portion filled with the insulating material 48 in the through hole 2 is reduced. Therefore, it can be reliably detected whether or not the through hole 2 is formed. As a result of irradiating the photosensitive glass 9 with inspection light having a wavelength of 400 nm, the photosensitive glass 9 portion showed 100% transmittance, whereas the insulating material 48 portion showed 50%. A degree of transmittance was shown. Furthermore, after converting these transmittances into absorption rates, the difference between these absorption rates is used as the second data, and the second data and the first position obtained in advance as the position where the through hole 2 is to be formed. As a result of comparison with the data, it was confirmed that the first data and the second data were completely coincident and the through hole 2 was formed with high accuracy.

また、貫通孔２が形成された位置を予めメタルマスクで覆い、貫通孔が形成されていない感光性ガラス９を比較サンプルとして、上記と同様の方法で検査した結果、図２４に示すように、貫通孔の欠陥部分５４が１００％の精度で検出され、検査方法の妥当性が確認された。   Further, the position where the through hole 2 was formed was covered with a metal mask in advance, and the photosensitive glass 9 without the through hole was used as a comparative sample, and as a result of inspection by the same method as described above, as shown in FIG. The defective portion 54 of the through hole was detected with 100% accuracy, and the validity of the inspection method was confirmed.

次いで、感光性ガラス９を絶縁材４８（OFPR-800）の現像液であるＮＭＤ−３（東京応化社製）に浸漬して貫通孔２より除去した（図１７（ｇ））。このとき、絶縁材４８には紫外線が照射されているため、通常の露光部分と同様に、現像液に対して容易に溶解するものである。なお、キシレンやエチルセロソルブアセテート等の残留溶媒に起因して貫通孔２の壁面に多少残る絶縁材は、はくり−１０（東京応化社製）やアセトン等を用いて完全に除去することが可能である。   Next, the photosensitive glass 9 was immersed in NMD-3 (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) which is a developer of the insulating material 48 (OFPR-800) and removed from the through hole 2 (FIG. 17 (g)). At this time, since the insulating material 48 is irradiated with ultraviolet rays, it is easily dissolved in the developer as in the case of a normal exposure portion. Insulating material that remains on the wall surface of the through-hole 2 due to residual solvent such as xylene or ethyl cellosolve acetate can be completely removed using peel-10 (manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) or acetone. It is.

なお、貫通孔２は、感光性ガラス９の両面からエッチングにより形成されるため、感光性ガラス９の中央部では、感光性ガラス９の表面の４０μｍφよりも狭い３０μｍφとなっていた。このとき、感光性ガラス９の加工精度は孔公差±０．０１％、平面度０．００３％であった。   Since the through hole 2 is formed by etching from both sides of the photosensitive glass 9, the central portion of the photosensitive glass 9 has a diameter of 30 μm, which is narrower than 40 μmφ on the surface of the photosensitive glass 9. At this time, the processing accuracy of the photosensitive glass 9 was a hole tolerance of ± 0.01% and a flatness of 0.003%.

次いで、貫通孔２が形成された感光性ガラス９に第１の金属３を形成した（図１７（ｈ））。ここで、第１の金属３としては、ガラス材料と密着性の高いパラジウム、銀、金および白金から選択される金属またはこれらの合金であれば特に限定されるものではないが、本実施の形態においては銀とした。   Subsequently, the 1st metal 3 was formed in the photosensitive glass 9 in which the through-hole 2 was formed (FIG.17 (h)). Here, the first metal 3 is not particularly limited as long as it is a metal selected from palladium, silver, gold, and platinum having high adhesion to a glass material, or an alloy thereof. In silver.

銀を感光性ガラス９上に析出させるためには、表面の濡れ性を向上させる、例えば、非アニオン系の洗剤に予め浸漬された感光性ガラス９を、硝酸銀溶液の中に浸漬した後、ホルムアルデヒドを添加することにより、貫通孔２の壁面を含めた感光性ガラス９の全体に銀を析出させた。この現象は、銀鏡反応として公知のものであり、溶解度の低い塩化銀の析出を防止するため塩素は含有されてはならない。この方法により、貫通孔２を含めた感光性ガラス９の表面全体に、銀を２μｍ〜３μｍ析出させた。次いで、ガラス基板の主面および裏面を、１μｍ〜２μｍの研磨剤による乾式研磨法または１μｍ〜２μｍの布で編んである乾布によるラビング法により研磨して、貫通孔２の壁面を除いて銀を機械的に除去した（図１７（ｉ））。このとき、銀が貫通孔２の内部に入り込んだとしても、後工程の無電解めっきの核として機能するため何ら問題はない。以上のようにして、感光性ガラス９の貫通孔２の壁面のみ選択的に銀を形成することができたが、銀の密着強度を向上させるため、銀鏡反応／ラビング法による銀析出を少なくとも３回繰り返して行い、銀の密着強度を向上させると共に銀の析出膜厚を厚くすることも可能である。なお、この銀析出反応を繰り返した場合には、各ステップごとに、銀鏡反応／ラビング処理を行う前工程において、例えば、感光性ガラス９を非アニオン系溶液に浸漬することも可能である。非アニオン系溶液による処理を行うことで、感光性ガラス９への銀の析出は著しく向上する。また、尚、この前処理に用いる溶液は、非アニオン系洗剤に限定されるものではなく、ガラス基板と銀溶液との濡れ性を向上させるものであれば何ら問題はない。   In order to deposit silver on the photosensitive glass 9, the wettability of the surface is improved. For example, after the photosensitive glass 9 previously immersed in a non-anionic detergent is immersed in a silver nitrate solution, formaldehyde As a result, silver was deposited on the entire photosensitive glass 9 including the wall surface of the through hole 2. This phenomenon is known as a silver mirror reaction, and chlorine must not be contained in order to prevent precipitation of silver chloride having low solubility. By this method, 2 μm to 3 μm of silver was deposited on the entire surface of the photosensitive glass 9 including the through hole 2. Next, the main surface and the back surface of the glass substrate are polished by a dry polishing method using an abrasive of 1 μm to 2 μm or a rubbing method using a dry cloth knitted with a cloth of 1 μm to 2 μm. It was removed mechanically (FIG. 17 (i)). At this time, even if silver enters the inside of the through-hole 2, there is no problem because it functions as a core of electroless plating in a subsequent process. As described above, it was possible to selectively form silver only on the wall surface of the through hole 2 of the photosensitive glass 9. However, in order to improve the adhesion strength of silver, at least 3 silver deposition by the silver mirror reaction / rubbing method was performed. It is possible to increase the adhesion strength of silver and to increase the deposited film thickness of silver by repeating the process repeatedly. In addition, when this silver precipitation reaction is repeated, it is also possible to immerse the photosensitive glass 9 in a non-anionic solution, for example, in the pre-process for performing the silver mirror reaction / rubbing process for each step. By performing the treatment with the non-anionic solution, silver deposition on the photosensitive glass 9 is remarkably improved. In addition, the solution used for this pretreatment is not limited to a non-anionic detergent, and there is no problem as long as it improves the wettability between the glass substrate and the silver solution.

次いで、貫通孔２の壁面のみに、選択的に第１の金属３として銀が形成された感光性ガラス９に第２の金属４を形成した。第２の金属４としては、第１の金属３である銀と密着性の高いニッケル、銅、クロム、鉄、錫および鉛から選択される金属またはこれらの合金であれば特に限定されるものではないが、本実施の形態においてはニッケルとした。   Next, the second metal 4 was formed on the photosensitive glass 9 in which silver was selectively formed as the first metal 3 only on the wall surface of the through hole 2. The second metal 4 is not particularly limited as long as it is a metal selected from nickel, copper, chromium, iron, tin, and lead having high adhesion to silver as the first metal 3 or an alloy thereof. Although not present, nickel is used in the present embodiment.

第２の金属４であるニッケルを、第１の金属３の析出被膜の上に析出させて貫通孔２を充填するには、貫通孔２の壁面にのみ銀が析出されている感光性ガラス９を、例えば、上記の「組成１」で構成される無電解ニッケルめっき液に５〜６時間浸漬させ、８５℃〜９０℃でニッケルを感光性ガラス９の表面に３〜５μｍ程度突出するまで析出させる。特に、組成１からなるめっき液では、還元剤として作用する次亜リン酸ナトリウムのため、リンが５ｗｔ％〜１０ｗｔ％含有された、均一性、耐蝕性および耐摩耗性に優れたニッケル被膜を貫通孔２に対し充填することができる。また、無電解ニッケルめっき液として、上記「組成２」で構成される溶液を準備し、該溶液に感光性ガラス９を５〜６時間浸漬させ、６０℃〜７０℃にてニッケルめっきを行うことも可能である。組成２から構成されるめっき液では、還元剤として作用するジメチルアミノボランからボロンが１ｗｔ％程度含有されたニッケル被膜が析出するため、導電性の高いニッケルを貫通孔２に充填することができる。なお、ニッケルを貫通孔２に関前に充填するため、該ニッケルを感光性ガラス９の表面に１μｍ程度突出するまで析出させるとよい。   In order to deposit nickel as the second metal 4 on the deposited film of the first metal 3 and fill the through hole 2, photosensitive glass 9 in which silver is deposited only on the wall surface of the through hole 2. Is immersed in an electroless nickel plating solution composed of the above-mentioned “Composition 1” for 5 to 6 hours, and nickel is deposited at 85 ° C. to 90 ° C. until it protrudes about 3 to 5 μm on the surface of the photosensitive glass 9. Let In particular, the plating solution composed of composition 1 penetrates a nickel coating excellent in uniformity, corrosion resistance and wear resistance, containing 5 wt% to 10 wt% of phosphorus because of sodium hypophosphite acting as a reducing agent. The holes 2 can be filled. Moreover, the solution comprised by the said "composition 2" is prepared as an electroless nickel plating solution, the photosensitive glass 9 is immersed in this solution for 5 to 6 hours, and nickel plating is performed at 60 to 70 degreeC. Is also possible. In the plating solution composed of composition 2, since a nickel film containing about 1 wt% of boron is deposited from dimethylaminoborane that acts as a reducing agent, highly conductive nickel can be filled into the through holes 2. In addition, in order to fill nickel before the through-hole 2, it is good to precipitate this nickel until it protrudes on the surface of the photosensitive glass 9 about 1 micrometer.

無電解めっきを行うためのめっき装置は特に限定されるものではないが、アスペクト比の高い貫通孔２の内部におけるめっき液の交換を容易にするため、めっき液の攪拌、感光性ガラス９の揺動、２．０Ｐａ程度の超音波印加を行いながら無電解めっきする機構を備えためっき装置を用いることが望ましい。また、参考例２において示した回路基板の製造装置を適用することも可能である。このようなめっき装置を適用することで、貫通孔２の内部に対するニッケルの充填効果が向上する。さらに、感光性ガラス９とめっき装置との位置関係も特に限定されるものではないが、めっき装置に対して感光性ガラス９を縦置きにすると、１回当たりの処理枚数を増加させることができる。なお、この場合、参考例２に示した回路基板の製造装置を適用した場合には、第１、第２、……第ｎ領域というようにめっき液が分割されるように感光性ガラスを配置する。 A plating apparatus for performing electroless plating is not particularly limited, but in order to facilitate replacement of the plating solution inside the through hole 2 having a high aspect ratio, the plating solution is stirred and the photosensitive glass 9 is shaken. It is desirable to use a plating apparatus having a mechanism for electroless plating while applying an ultrasonic wave of about 2.0 Pa. It is also possible to apply the circuit board manufacturing apparatus shown in Reference Example 2. By applying such a plating apparatus, the effect of filling nickel into the through hole 2 is improved. Furthermore, the positional relationship between the photosensitive glass 9 and the plating apparatus is not particularly limited, but if the photosensitive glass 9 is placed vertically with respect to the plating apparatus, the number of processed sheets per process can be increased. . In this case, when the circuit board manufacturing apparatus shown in Reference Example 2 is applied, the photosensitive glass is arranged so that the plating solution is divided into the first, second,... N regions. To do.

次いで、貫通孔２より突出した第２の金属（ニッケル膜）を、感光性ガラス９の面と同一平面を構成するように機械的に研磨した（図１８（ｊ））。研磨は、貫通孔２より突出した第２の金属（ニッケル膜）を、感光性ガラス９の面と同一平面を構成するように、マクロ研磨により感光性ガラス９の面から突出する量が±２μｍ程度になるまで均一化した後、ミクロ研磨により研磨した。なお、ミクロ研磨を行ったときの凹凸の公差は、回路基板面に形成する回路配線の接触抵抗上、±０．５μｍ以下の精度に保つことが好ましい。   Next, the second metal (nickel film) protruding from the through hole 2 was mechanically polished so as to form the same plane as the surface of the photosensitive glass 9 (FIG. 18 (j)). The amount of protrusion of the second metal (nickel film) protruding from the through hole 2 from the surface of the photosensitive glass 9 by macro polishing is ± 2 μm so as to form the same plane as the surface of the photosensitive glass 9. After homogenizing to the extent, it was polished by micropolishing. In addition, it is preferable to maintain the tolerance of unevenness when micropolishing is performed with an accuracy of ± 0.5 μm or less because of the contact resistance of the circuit wiring formed on the circuit board surface.

ここで、マクロ研磨は、例えば、２μｍ〜３μｍ程度の粒径を有する酸化セリウム、または＃２０００程度の耐水研磨紙を用い、ミクロ研磨は、０．３μｍ程度の粒径を有する酸化セリウム、酸化アルミナまたはダイヤモンドを用いて行うことが好ましい。このとき、液体状の研磨ペーストを研磨剤とする湿式研磨法を用いると、感光性ガラス９、第１の金属３および第２の金属４の間に、研磨速度差が発生するため、ミクロ研磨には、ダイヤモンド等が埋め込まれたデイスク盤を用いて研磨する乾式研磨を適用することが好ましい。   Here, macro polishing uses, for example, cerium oxide having a particle size of about 2 μm to 3 μm, or water resistant abrasive paper of about # 2000, and micro polishing uses cerium oxide or alumina oxide having a particle size of about 0.3 μm. Alternatively, it is preferable to use diamond. At this time, if a wet polishing method using a liquid polishing paste as an abrasive is used, a polishing rate difference is generated between the photosensitive glass 9, the first metal 3 and the second metal 4. For this, it is preferable to apply dry polishing using a disk machine in which diamond or the like is embedded.

以上のように、貫通孔２に第１の金属３および第２の金属４が完全充填された感光性ガラス９を得ることができた。   As described above, the photosensitive glass 9 in which the first metal 3 and the second metal 4 were completely filled in the through hole 2 could be obtained.

次いで、貫通孔２に金属が充填されていることを光学的に検査した（図１８（ｋ））。このときの検査方法は、感光性ガラス９と貫通孔２に充填した金属における、検査光の吸収率差を検出するものである。なお、感光性ガラス９の光学特性は上述した通りである。ここで、感光性ガラス９に４００ｎｍの波長を有する検査光を照射した結果、感光性ガラスにおいては約１００％の透過率を示したのに対し、充填された金属部においては検査光は遮断され０％の透過率であった。   Next, it was optically inspected that the through hole 2 was filled with metal (FIG. 18 (k)). The inspection method at this time is to detect the difference in absorption rate of inspection light between the photosensitive glass 9 and the metal filled in the through hole 2. The optical characteristics of the photosensitive glass 9 are as described above. Here, as a result of irradiating the photosensitive glass 9 with inspection light having a wavelength of 400 nm, the photosensitive glass showed a transmittance of about 100%, while the filled metal portion blocked the inspection light. The transmittance was 0%.

これらの結果をもとに、貫通孔２を充填した金属および感光性ガラス９の検査光に対する吸収率差とその位置とを第３データとし、上記第１および第２データと比較したところ、第３データは第１データおよび第２データと完全な一致を示し、金属充填されたスルホールが高精度に形成されていることが確認された。   Based on these results, the difference in the absorptance of the metal filled in the through-hole 2 and the photosensitive glass 9 with respect to the inspection light and its position are set as third data, and compared with the first and second data. The three data showed complete coincidence with the first data and the second data, and it was confirmed that the through hole filled with metal was formed with high accuracy.

また、比較のために、スルホールとなるべき貫通孔のうち、任意の１０個を予め絶縁材で覆い、一部に金属が充填されていない感光性ガラスをサンプルとして、上記方法により検査した結果、図２５に示すように、貫通孔の欠陥５７が１００％の精度で検出され検査方法の妥当性が確認された。   In addition, for comparison, as a result of inspecting by using the method described above, a sample of photosensitive glass in which any 10 of the through-holes to be through-holes are covered with an insulating material in advance and partially filled with metal, As shown in FIG. 25, the defect 57 of the through hole was detected with 100% accuracy, and the validity of the inspection method was confirmed.

以上のように、貫通孔２に第１の金属３および第２の金属４が完全充填された透過性の高い感光性ガラス９を得ることができた。   As described above, a highly transparent photosensitive glass 9 in which the first metal 3 and the second metal 4 were completely filled in the through hole 2 could be obtained.

次いで、回路配線５を感光性ガラス９上に形成した（図１８（ｌ））。回路配線を構成する金属は特に限定されるものではないが、ここでは、参考例１と同様にして実施した。このとき、貫通孔２は金属により完全に充填されているため、従来品のように、スルホールの部分でランドを設ける必要がなく、従来品と比較して約１．５倍の密度で回路配線をレイアウトすることができた。なお、本実施の形態では、ＩＴＯ膜を回路配線を構成する金属として適用したが、回路配線を構成する金属として、例えば、ニッケル、クロム、銅および錫から選択される金属も用いることができ、その材質は特に限定されるものではない。 Next, the circuit wiring 5 was formed on the photosensitive glass 9 (FIG. 18L). Although the metal which comprises circuit wiring is not specifically limited, It implemented similarly to the reference example 1 here. At this time, since the through hole 2 is completely filled with metal, it is not necessary to provide a land at the through-hole portion unlike the conventional product, and the circuit wiring is about 1.5 times as dense as the conventional product. Could be laid out. In this embodiment, the ITO film is applied as a metal constituting the circuit wiring. However, as the metal constituting the circuit wiring, for example, a metal selected from nickel, chromium, copper, and tin can be used. The material is not particularly limited.

さらに、回路基板１を用いて、ＫＧＤ検査ボードを作製した。その結果、従来までの不透明なガラスエポキシ材料から構成される検査ボードを用いた場合と比較して、位置合せがガラス基板を通して行えたため、該位置合せを極めて容易に実施することができた。   Furthermore, a KGD inspection board was produced using the circuit board 1. As a result, compared with the conventional case where an inspection board made of an opaque glass epoxy material is used, the alignment can be performed through the glass substrate, so that the alignment can be performed very easily.

具体的には、１０００個の半導体チップを検査するのに、従来は３時間要していた検査時間を１時間にまで短縮することができ、約１／３の検査時間でＫＧＤを完了することができた。   Specifically, the inspection time, which conventionally required 3 hours to inspect 1000 semiconductor chips, can be reduced to 1 hour, and KGD can be completed in about 1/3 of the inspection time. I was able to.

さらに、従来品では、貫通孔のスルホールを避けて検査パッドを配置するレイアウトをとらなければならず、回路配線および検査ボードの高密度化に限界があるとともに、スルーホールおよび回路配線が透過率の向上を妨げていたが、回路基板１においては、スルホールの貫通孔の部分も検査パッドとすることが可能になったため、従来品と比較して約１．５倍の高密度化が可能になり、検査ボードの面積も２／３まで縮小することができた。また、透過率も向上したため、検査効率も大幅に向上した。   Furthermore, the conventional product must have a layout in which inspection pads are arranged avoiding through-holes in the through holes, and there is a limit to increasing the density of circuit wiring and inspection boards. Although the improvement has been hindered, in the circuit board 1, since the through hole portion of the through hole can be used as a test pad, the density can be increased by about 1.5 times compared to the conventional product. The area of the inspection board could be reduced to 2/3. In addition, since the transmittance was improved, the inspection efficiency was greatly improved.

次いで、回路基板１の接続信頼性を評価したところ以下の結果を得た。なお、感光性ガラス９に４０μｍφの貫通孔を４８０ポイント×３２０ポイント形成し、銀およびニッケルを用いて該貫通孔を充填した試料を比較のために準備した。また、評価は、上記参考例１と同様の基準で行った。 Next, when the connection reliability of the circuit board 1 was evaluated, the following results were obtained. A sample in which through holes of 40 μmφ were formed in the photosensitive glass 9 at 480 points × 320 points and the through holes were filled with silver and nickel was prepared for comparison. The evaluation was performed according to the same criteria as in Reference Example 1 above.

この結果、スルホールとなる貫通孔に金属を完全に充填せず、貫通孔の壁面のみにニッケル皮膜を形成した上記試料（従来品）では、１５００サイクルで接続不良が発生し、３０００サイクルにおいては接続不良が１００％に達した。また、スルホールとなる貫通孔に金属を完全に充填せず、貫通孔の壁面のみに銅皮膜を形成した場合でも、上記ニッケル皮膜を形成したときと同様に１５００サイクルで接続不良が発生し、３０００サイクルで１００％の不良率に達して、金属による相異はみられなかった。   As a result, in the sample (conventional product) in which the through hole serving as the through hole is not completely filled with metal and the nickel film is formed only on the wall surface of the through hole, connection failure occurs in 1500 cycles, and connection occurs in 3000 cycles. The defect reached 100%. Further, even when the through hole serving as a through hole is not completely filled with metal and a copper film is formed only on the wall surface of the through hole, a connection failure occurs in 1500 cycles as in the case where the nickel film is formed. The defect rate of 100% was reached in the cycle, and no difference due to metal was observed.

ところが、本実施の形態により得られた回路基板１においては、３５００サイクルまで接続不良は発生せず、接続信頼性が極めて向上することが確認された。なお、この接続信頼性は、第１の金属にガラス材料と親和性の高いパラジウム、銀、金および白金から選択される金属またはこれらの金属合金、第１の金属上に配置する第２の金属として、ニッケル、銅、クロム、鉄、錫および鉛から選択される金属またはこれらの金属合金を用いた場合においても、金属または金属の組合わせに関わらず３５００サイクルまで接続不良は確認されなかった。   However, in the circuit board 1 obtained according to the present embodiment, it was confirmed that connection failure did not occur until 3500 cycles, and connection reliability was greatly improved. In addition, this connection reliability is the metal selected from palladium, silver, gold | metal | money and platinum with high affinity with a glass material for the 1st metal, or these metal alloys, 2nd metal arrange | positioned on 1st metal As a result, even when a metal selected from nickel, copper, chromium, iron, tin and lead or a metal alloy thereof was used, connection failure was not confirmed up to 3500 cycles regardless of the combination of metals or metals.

また、回路基板１におけるスルホールの接続不良は、上記従来品において確認されたスルホールの金属の剥離破壊とは全く異なるモードであり、接続不良の解析からも接続信頼性が極めて向上していることが確認された。これは、回路基板１においては、スルホールの構造が従来品とは異なり、金属で完全に充填されている構造をとっているため、応力による歪を充填された金属全体で緩和して貫通孔の壁面における金属に生じるクラックを防止し、また、スルホールの形状が鼓型を有して応力による歪を回路基板の面に向かって段階的に緩和しているためと考えられる。   In addition, the through-hole connection failure in the circuit board 1 is a mode completely different from the through-hole metal peeling failure confirmed in the above-mentioned conventional product, and the connection reliability is extremely improved from the analysis of the connection failure. confirmed. This is because the circuit board 1 has a structure in which the through hole is completely filled with a metal, unlike the conventional product. This is considered to be because cracks generated in the metal on the wall surface are prevented, and the shape of the through hole has a drum shape, and strain due to stress is gradually reduced toward the surface of the circuit board.

また、回路基板１では、スルホールは金属により完全に充填されているため、接続抵抗は０．０５ｍΩであり、一方、上記従来品におけるスルホールでは同一組成のニッケル合金を用いた場合でも接続抵抗が０．５ｍΩであったことと比較すると、スルホールにおける接続抵抗は約１０倍低くなっていることが確認された。これは、スルホールの断面が従来品とは異なり、約２倍以上の面積をもって回路配線と接続されているためと考えられる。   Further, in the circuit board 1, since the through hole is completely filled with metal, the connection resistance is 0.05 mΩ. On the other hand, the through hole in the conventional product has a connection resistance of 0 even when a nickel alloy having the same composition is used. It was confirmed that the connection resistance at the through hole was about 10 times lower than that of .5 mΩ. This is thought to be because the cross-section of the through hole is different from the conventional product and is connected to the circuit wiring with an area of about twice or more.

また、回路基板１においては、スルホールが金属により完全に充填されているため、図７に示すように、回路基板１の裏面を液体窒素などの冷媒に接触させることが可能となり、半導体チップ１２からの発熱を効果的に放熱する構成をとることが可能になった。これは、高速動作を行うＣＰＵを所定の動作クロック以上の環境で検査するとき発生する熱を効果的に低減することができることから、その効果は極めて高いものと考えられる。このとき、冷媒は液体窒素に限定されるものではなく、冷却用純水などを用いることも可能であり、いずれにしても冷却効果は著しく向上した。   Further, in the circuit board 1, since the through holes are completely filled with metal, the back surface of the circuit board 1 can be brought into contact with a coolant such as liquid nitrogen as shown in FIG. It has become possible to take a configuration that effectively dissipates the heat generated. This is considered to be extremely effective because heat generated when a CPU performing a high-speed operation is inspected in an environment of a predetermined operating clock or more can be effectively reduced. At this time, the refrigerant is not limited to liquid nitrogen, and it is possible to use pure water for cooling or the like, and in any case, the cooling effect is remarkably improved.

以上から明らかなように、回路基板１は、熱サイクルに対してもスルーホールにクラック等の損傷を生じず、優れた耐性を有する信頼性の高い構造であり、回路基板に構成された回路配線の密度および光の透過率を従来品と比較して著しく向上できるものであることが確認された。   As is clear from the above, the circuit board 1 has a highly reliable structure having excellent durability without causing damage such as cracks in the through-holes even with respect to the thermal cycle, and the circuit wiring configured on the circuit board. As a result, it was confirmed that the density and light transmittance can be significantly improved as compared with the conventional products.

なお、本発明は、上記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々に変更可能である。例えば、回路配線を構成する金属は、ＩＴＯに限定されるものではなく、ＮｉやＣｕ等を用いてもよく、更に、貫通孔の数や寸法も限定されるものではない。また、上記実施の形態では、感光性ガラスを用いているが、図１９（ｂ）に示したように、レーザ加工による穴開けで、ばり５９が発生する基板についても適応可能なもので、基板の材質や穴開け方法などは限定されるものではない。   In addition, this invention is not limited to the said embodiment, In the range which does not deviate from the summary, it can be variously changed. For example, the metal constituting the circuit wiring is not limited to ITO, Ni or Cu may be used, and the number and dimensions of the through holes are not limited. In the above embodiment, photosensitive glass is used. However, as shown in FIG. 19B, it can be applied to a substrate in which a flash 59 is generated by drilling by laser processing. The material and the drilling method are not limited.

回路基板の断面を示した図。The figure which showed the cross section of the circuit board. 回路基板の断面を拡大して示した図。The figure which expanded and showed the cross section of the circuit board. 回路基板の製造工程を示した図。The figure which showed the manufacturing process of the circuit board. 回路基板の製造工程を示した図。The figure which showed the manufacturing process of the circuit board. 回路配線を形成した回路基板を示した図。The figure which showed the circuit board in which the circuit wiring was formed. サイクル数と不良率との関係を示した図。The figure which showed the relationship between the cycle number and the defect rate. 半導体装置を搭載した回路基板を示した図。The figure which showed the circuit board carrying a semiconductor device. 回路基板の製造工程を示した図。The figure which showed the manufacturing process of the circuit board. 回路基板の製造工程を示した図。The figure which showed the manufacturing process of the circuit board. 回路基板の製造装置を示した図。The figure which showed the manufacturing apparatus of a circuit board. 回路基板の製造装置の一部を拡大して示した図。The figure which expanded and showed a part of manufacturing apparatus of a circuit board. 回路基板の製造方法における作用を示した図。The figure which showed the effect | action in the manufacturing method of a circuit board. 一般的なめっき装置を示した図。The figure which showed the general plating apparatus. 一般的なめっき方法を示した図。The figure which showed the general plating method. サイクル数と不良率との関係を示した図。The figure which showed the relationship between the cycle number and the defect rate. 回路基板の製造工程を示した図。The figure which showed the manufacturing process of the circuit board. 回路基板の製造工程を示した図。The figure which showed the manufacturing process of the circuit board. 回路基板の製造工程を示した図。The figure which showed the manufacturing process of the circuit board. 貫通孔が形成された絶縁基板（感光性ガラス）の表面の状態を示した図。The figure which showed the state of the surface of the insulated substrate (photosensitive glass) in which the through-hole was formed. 貫通孔に溶液を充填する状態を示した図。The figure which showed the state which fills a through hole with a solution. 絶縁基板の研磨方法を示した図。The figure which showed the grinding | polishing method of the insulated substrate. 感光性ガラスにおける検査光の透過率を示した図。The figure which showed the transmittance | permeability of the inspection light in photosensitive glass. 絶縁材における検査光の透過率を示した図。The figure which showed the transmittance | permeability of the test | inspection light in an insulating material. 検査光による検査状況を示した図。The figure which showed the inspection condition by inspection light. 検査光による検査状況を示した図。The figure which showed the inspection condition by inspection light. フリップチップ実装を説明した図。The figure explaining flip chip mounting. ビルドアップ配線基板を示した図。The figure which showed the buildup wiring board. スルーホールを説明した図。The figure explaining the through hole.

１……回路基板 ２……貫通孔 ３……第１の金属 ４……第２の金属
５……回路配線 ６……マスク ７……紫外線 ８……露光部分
９……感光性ガラス １０……ランド １１……スルホール
１２……半導体チップ １３……バンプ電極 １４……冷却器
１５……冷媒 １６……ソルダーレジスト １７……ボンディングパッド
１８……バリアメタル １９……スルホール
２０……ブラインドスルホール ２１……ビアホール
２２……多層配線絶縁層 ２３……スタッガードビア
２４……スタックトビア ２５……めっき液 ２６……めっき液槽
２７……流路配管 ２８……ポンプ ２９……循環装置
３０……流路制御装置 ３１……第1 の溶液領域
３２……第2 の溶液領域 ３３……圧力センサ ３４……圧力計
３５……保持機構 ３６……めっき液の流れ ３７……噴出装置
３８……吸入装置 ３９……基板 ４０……バンプ
４１……めっき液槽 ４２……アノード板
４３……アノードピン ４４……カソード板 ４５……カソードピン
４６……めっき液の流れ ４７……凹凸 ４８……絶縁材
４９……溶液 ５０……毛細管現象 ５１……研磨盤
５２……研磨バフ ５３……研磨剤 ５４……検査光
５５……第２データ ５６……第１データ ５７……欠陥
５８……第３データ ５９……ばり DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Circuit board 2 ... Through-hole 3 ... 1st metal 4 ... 2nd metal 5 ... Circuit wiring 6 ... Mask 7 ... Ultraviolet light 8 ... Exposed part 9 ... Photosensitive glass 10 ... ... Land 11 ... Thru hole 12 ... Semiconductor chip 13 ... Bump electrode 14 ... Cooler 15 ... Refrigerant 16 ... Solder resist 17 ... Bonding pad 18 ... Barrier metal 19 ... Thru hole 20 ... Blind through hole 21 …… Via hole 22 …… Multi-layer wiring insulation layer 23 …… Staggered via 24 …… Stacked via 25 …… Plating solution 26 …… Plating solution tank 27 …… Channel piping 28 …… Pump 29 …… Circulating device 30 …… Flow path control device 31 …… First solution region 32 …… Second solution region 33 …… Pressure sensor 34 …… Pressure gauge 35 …… Holding mechanism 36 …… Flow of plating solution 37 …… Blowout Device 38 ... Inhaler 39 ... Substrate 40 ... Bump 41 ... Plating solution tank 42 ... Anode plate 43 ... Anode pin 44 ... Cathode plate 45 ... Cathode pin 46 ... Flow of plating solution 47 ... Concavities and convexities 48 …… Insulating material 49 …… Solution 50 …… Capillary phenomenon 51 …… Polishing plate 52 …… Polishing buff 53 …… Abrasive agent 54 …… Inspection light 55 …… Second data 56 …… First data 57 …… Defect 58 …… Third data 59 …… Burr

Claims (3)

絶縁基板を、該絶縁基板に対し貫通孔が形成されるよう処理する工程と、
前記処理された絶縁基板を、前記貫通孔に少なくとも可視光を通過させる絶縁材が充填されるよう処理する工程と、
前記絶縁基板を、前記絶縁材を有するべき領域が含まれるように研磨する工程と、
前記研磨された絶縁基板に対し、前記貫通孔を有するべき面から光を照射して前記絶縁材が充填されているか否かを判定する工程と、
前記貫通孔に前記絶縁材が充填されていると判定された場合、前記絶縁材を除去する工程と、
前記絶縁材が除去された貫通孔に金属を充填する工程と
を具備したことを特徴とする回路基板の製造方法。 Treating the insulating substrate such that a through hole is formed in the insulating substrate;
Treating the treated insulating substrate so that the through-hole is filled with an insulating material that allows at least visible light to pass through;
Polishing the insulating substrate to include a region that should have the insulating material;
Deciding whether or not the polished insulating substrate is filled with the insulating material by irradiating light from the surface that should have the through holes;
When it is determined that the insulating material is filled in the through hole, the step of removing the insulating material;
And a step of filling the through hole from which the insulating material has been removed with a metal. 少なくとも可視光を通過させる絶縁基板を、該絶縁基板に対し貫通孔が形成されるよう処理する工程と、
前記処理された絶縁基板を、前記貫通孔に少なくとも可視光を通過させる絶縁材が充填されるよう処理する工程と、
前記処理された絶縁基板を、前記絶縁材を有するべき領域が含まれるように研磨する工程と、
前記研磨された絶縁基板に対して光を照射し、前記絶縁基板に対し貫通孔が形成されるべき領域として予め取得された第１のデータと、前記光に対する前記絶縁基板および前記絶縁材前記の吸収率の差として予め取得された第２のデータとを比較して、前記絶縁材が充填されているか否かを判定する工程と、
前記貫通孔に前記絶縁材が充填されていると判定された場合、前記絶縁基板を、前記貫通孔より前記絶縁材が除去されるように処理する工程と、
前記処理された絶縁基板を、前記貫通孔に金属が充填されるように処理する工程と、
前記処理された絶縁基板に対して前記光を照射し、前記第１のデータ、前記第２のデータ、および前記光に対する前記絶縁基板と前記金属との吸収率の差と該吸収率の差が生じる位置を備え、予め取得された第３のデータとを比較して、前記金属が充填されているか否かを判定する工程と
を具備したことを特徴とする回路基板の製造方法。 Processing an insulating substrate that transmits at least visible light so that a through hole is formed in the insulating substrate;
Treating the treated insulating substrate so that the through-hole is filled with an insulating material that allows at least visible light to pass through;
Polishing the treated insulating substrate to include a region that should have the insulating material;
Irradiating light to the polished insulating substrate, first data acquired in advance as a region in which a through hole is to be formed in the insulating substrate, the insulating substrate and the insulating material for the light Comparing the second data acquired in advance as a difference in absorption rate to determine whether or not the insulating material is filled;
When it is determined that the insulating material is filled in the through hole, the insulating substrate is processed so that the insulating material is removed from the through hole; and
Treating the treated insulating substrate so that the through hole is filled with metal;
Irradiating the processed insulating substrate with the light, the first data, the second data, and the difference in absorption between the insulating substrate and the metal with respect to the light and the difference in absorption A circuit board manufacturing method comprising: a step of determining whether or not the metal is filled by comparing with a third data acquired in advance, and having a position where it occurs. 貫通孔に少なくとも可視光を通過させる絶縁材が充填されるように処理された絶縁基板に対し光を照射する工程と、
前記絶縁基板に対する前記光の吸収率の差に基づいて、前記貫通孔に樹脂が充填されているか否かを判定する工程と
を具備したことを特徴とする回路基板の検査方法。 Irradiating light to an insulating substrate that has been processed to be filled with an insulating material that allows at least visible light to pass through the through hole;
And a step of determining whether or not the through hole is filled with a resin based on a difference in the light absorption rate with respect to the insulating substrate.
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