JP4590060B2 - Cutting equipment - Google Patents

Cutting equipment Download PDF

Info

Publication number
JP4590060B2
JP4590060B2 JP2000113490A JP2000113490A JP4590060B2 JP 4590060 B2 JP4590060 B2 JP 4590060B2 JP 2000113490 A JP2000113490 A JP 2000113490A JP 2000113490 A JP2000113490 A JP 2000113490A JP 4590060 B2 JP4590060 B2 JP 4590060B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cutting
cutting blade
unit
cleaning water
spindle
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2000113490A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2001298002A (en
Inventor
邦治 和泉
政幸 松原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Corp filed Critical Disco Corp
Priority to JP2000113490A priority Critical patent/JP4590060B2/en
Publication of JP2001298002A publication Critical patent/JP2001298002A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4590060B2 publication Critical patent/JP4590060B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエーハ等の被加工物を切削するダイシング装置等の切削装置、更に詳しくは、2つの切削手段を備えた切削装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
ダイシング装置による半導体ウエーハの切削方式として、ステップカット方式が一般に行われている。このステップカット方式は、第1のステップでV字型のV溝ブレードを用いて半導体ウエーハに設けられた切断ライン(ストリート)に沿ってV溝を形成し、第2のステップで切断用のブレードを用いて第1のステップで形成されたV溝に沿って切削することにより、表面がテーパー状に面取りされたチップを形成する。このようなステップカット方式による切削を効率的に実施するために、2つの切削手段を備えた切削装置が例えば特公平3ー11601号公報に開示されている。この公報に開示された切削装置は、第1の回転スピンドルと該第1の回転スピンドルに装着された第1の切削ブレードとを備えた第1の切削手段と、第2の回転スピンドルと該第2の回転スピンドルに装着された第2の切削ブレードとを備えた第2の切削手段とを具備し、第1の切削手段と第2の切削手段とが並列に配設されている。
【0003】
一方、半導体ウエーハ等の被加工物を切削する切削ブレードは、使用によって磨耗しその直径が減少する。このためダイシング装置は、切削ブレードの直径の減少に対応して切削ブレードの切り込み方向の基準位置を調整する必要があり、この基準位置を検出するための切削ブレード検出機構を備えている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
而して、上述した第1の切削手段と第2の切削手段とが並列に配設された切削装置において、第1の切削手段の第1の切削ブレードの切り込み方向の基準位置と第2の切削手段の第2の切削ブレードの切り込み方向の基準位置を検出する場合、この検出作業を2度実施しなければならず、作業性が悪い。なお、第1の切削手段と第2の切削手段のそれぞれに関連して切削ブレード検出機構を2個設けることも考えられるが、第1の切削手段と第2の切削手段とが並列に配設された切削装置においては、2個の切削ブレード検出機構を設けても2つの切削ブレードについて同時に基準位置を検出することはできず、切削ブレードの切り込み方向の基準位置を検出するための検出作業の作業性を改善することはできない。
【0005】
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、その主たる技術課題は、第1の切削手段と第2の切削手段とを備えた切削装置において、2つの切削ブレードについて同時に切り込み方向の基準位置を検出することができる切削装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記主たる技術課題を解決するため、本発明によれば、第1の回転スピンドルと該第1の回転スピンドルの一端部に装着された第1の切削ブレードとを備えた第1の切削手段と、第2の回転スピンドルと該第2の回転スピンドルの一端部に装着された第2の切削ブレードとを備えた第2の切削手段とを有し、該第1の切削ブレードと該第2の切削ブレードとを対峙して配設した切削装置において、
該第1の切削手段に関連して設けられた第1の切削ブレード検出機構と、該第2の切削手段に関連して設けられた第2の切削ブレード検出機構とを具備し、
該第1の切削ブレード検出機構および該第2の切削ブレード検出機構は、切削ブレードが侵入するブレード侵入部と、該ブレード侵入部に対峙して配設される発光部および受光部と、該発光部および該受光部の端面に洗浄水を供給する洗浄水供給ノズルと、該発光部および該受光部の端面にエアーを供給するエアー供給ノズルとを具備しており、
該エアー供給ノズルの開口は該発光部および該受光部に隣接して配設され、該洗浄水供給ノズルの開口は該エアー供給ノズルの開口の背後に配設されている、
ことを特徴とする切削装置が提供される。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に従って構成された切削装置の好適な実施形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
【0009】
図1には、本発明に従って構成された切削装置としてのダイシング装置の斜視図が示されている。
図1に示されたダイシング装置は、略直方体状の装置ハウジング1を具備している。この装置ハウジング1には、被加工物である半導体ウエーハをストックするカセット機構2と、該カセット機構2に収納された被加工物を搬出するとともに切削作業終了後の被加工物をカセット機構2に搬入する被加工物搬出・搬入機構3と、該被加工物搬出・搬入機構3によって搬出された被加工物を保持するチャックテーブル機構4と、該チャックテーブル機構4に保持された被加工物を切削する切削機構5と、該切削機構5によって切削された被加工物を洗浄する洗浄機構6と、チャックテーブル機構4と洗浄機構6との間で被加工物を搬送する被加工物搬送機構7が配設されている。また、装置ハウジング1には、後述する光学手段によって撮像された画像を表示するモニター8が配設されている。
【0010】
上記カセット機構2、チャックテーブル機構4および切削機構5について、図2を参照して説明する。
図示の実施形態におけるダイシング装置は、装置ハウジング1内に配設され上記各機構を装着する静止基台10を具備している。上記カセット機構2は、静止基台10の側面に上下方向に設けられた2本のガイドレール21、21に摺動可能に配設されたカセットテーブル22と、該カセットテーブル22をガイドレール21に沿って上下方向(矢印Zで示す方向)に移動させるための駆動手段23を具備している。駆動手段23は、上記2本のガイドレール21と21の間に平行に配設された雄ネジロッド231と、カセットテーブル22に装着され雄ネジロッド231に螺合する図示しないナットと、雄ネジロッド231を回転駆動するための図示しないパルスモータ等の駆動源を含んでいる。従って、図示しないパルスモータによって雄ネジロッド231を回動することにより、カセットテーブル22が上下方向(矢印Zで示す方向)に移動せしめられる。このように上下方向に移動可能に構成されたカセットテーブル22上に複数段の収容室を備えたカセット24が載置される。このカセット24の複数段の収容室に被加工物25が1枚ずつ収容される。なお、図示の実施形態においては、被加工物25としてフレーム251にテープ252によって装着され半導体ウエーハ250が示されている。
【0011】
上記チャックテーブル機構4は、静止基台10上に固定された支持台41と、該支持台41上に矢印Xで示す方向に沿って平行に配設された2本のガイドレール42、42と、該ガイドレール42、42上に矢印Xで示す方向に移動可能に配設された被加工物を保持する被加工物保持手段としてのチャックテーブル43を具備している。このチャックテーブル43は、ガイドレール42、42上に移動可能に配設された吸着チャック支持台431と、該吸着チャック支持台431上に装着された吸着チャック432とを具備しており、該吸着チャック432上に被加工物である例えば円盤状の半導体ウエーハを図示しない吸引手段によって保持するようになっている。なお、チャックテーブル機構4は、チャックテーブル43を2本のガイドレール42、42に沿って矢印Xで示す方向に移動させるための駆動手段44を具備している。駆動手段44は、上記2本のガイドレール42、42の間に平行に配設された雄ネジロッド441と、吸着チャック支持台431に装着され雄ネジロッド441に螺合する図示しないナットと、雄ネジロッド441を回転駆動するための図示しないパルスモータ等の駆動源を含んでいる。従って、図示しないパルスモータによって雄ネジロッド441を回動することにより、チャックテーブル43が矢印Xで示す方向に移動せしめられる。即ち、チャックテーブル43は図1および図2で示す被加工物載置領域101から切削領域102の間を移動することができる。なお、上記チャックテーブル機構4は、吸着チャック432を回転する図示しない回転機構を具備している。
【0012】
次に、上記切削機構5について説明する。
切削機構5は、上記静止基台10上に固定された門型の支持台51を具備している。この門型の支持台51は、上記切削領域102を跨ぐように配設されている。支持台51の側壁には矢印Yで示す方向に沿って平行に配設された2本のガイドレール511、511が設けられているとともに、該2本のガイドレール511、511の間に平行に1本の雄ネジロッド52が固定して配設されている。このガイドレール511、511に沿って第1の基部53aおよび第2の基部53bがそれぞれ矢印Yで示す方向に摺動可能に配設されている。第1の基部53aおよび第2の基部53bにはそれぞれ上記共通の雄ネジロッド52に螺合する図示しない駆動ナットが装着されており、この駆動ナットを図示しないパルスモータ等の駆動源によって回動することにより、第1の基部53aおよび第2の基部53bをガイドレール511、511に沿って矢印Yで示す方向に移動するとができる。なお、第1の基部53aおよび第2の基部53bのそれぞれに対応して独立した雄ネジロッドを配設し、このそれぞれ独立した雄ネジロッドをパルスモータ等によってそれぞれ回転させて、第1の基部53aおよび第2の基部53bをそれぞれ矢印Yで示す方向に移動するように構成してもよい。第1の基部53aおよび第2の基部53bにはそれぞれ一対のガイドレール531aおよび531bが矢印Zで示す方向に沿って設けられており、このガイドレール531aおよび531bに沿って第1の支持部54aおよび第2の支持部54bがそれぞれ矢印Zで示す方向に摺動可能に配設されている。第1の基部53aおよび第2の基部53bにはそれぞれパルスモータ55aおよび55b等の駆動源によって回動せしめられる図示しない雄ネジロッドが配設されており、第1の支持部54aおよび第2の支持部54bにはそれぞれ上記雄ネジロッドに螺合するナットが装着されている。従って、パルスモータ55aおよび55bにとって図示しない雄ネジロッドを回動することにより、第1の支持部54aおよび第2の支持部54bをガイドレール531aおよび531bに沿って矢印Zで示す方向に移動するとができる。
【0013】
上記第1の支持部54aおよび第2の支持部54bには、第1の切削手段としての第1のスピンドルユニット56aと第2の切削手段としての第2のスピンドルユニット56bが装着されている。この第1のスピンドルユニット56aおよび第2のスピンドルユニット56bについて、簡略化して示されている図3を参照して説明する。第1のスピンドルユニット56aおよび第2のスピンドルユニット56bは、それぞれ第1の支持部54aおよび第2の支持部54bに固定された第1のスピンドルハウジング561aおよび第2のスピンドルハウジング561bと、該第1のスピンドルハウジング561aおよび第2のスピンドルハウジング561bにそれぞれ回転可能に支持された第1の回転スピンドル562aおよび第2の回転スピンドル562bと、該第1の回転スピンドル562aおよび第2の回転スピンドル562bの一端部に装着された第1の切削ブレード563aおよび第2の切削ブレード563bとからなっている。このように構成された第1のスピンドルユニット56aおよび第2のスピンドルユニット56bは、第1の切削ブレード563aと第2の切削ブレード563bが互いに対峙するように配設されている。即ち、第1のスピンドルユニット56aと第2のスピンドルユニット56bは、それぞれ軸芯が矢印Y方向に向くように、且つ図4に示すように矢印X方向の位置を共通にして一直線上になるように配設されている。このように構成された第1のスピンドルユニット56aおよび第2のスピンドルユニット56bに関連して、それぞれ顕微鏡やCCDカメラ等で構成される第1の光学手段57aおよび第2の光学手段57bが設けられている。第1の光学手段57aは第1のスピンドルハウジング561aに固定され、第2の光学手段57bは第2のスピンドルハウジング561bに固定されている。
【0014】
次に、上述したダイシング装置の加工処理動作について簡単に説明する。
先ず、カセット機構2の駆動手段23を作動してカセットテーブル22に載置されたカセット24を適宜の高さに位置付ける。カセット24が適宜の高さに位置付けられたら、被加工物搬出・搬入機構3を作動しカセット24に収容された被加工物25を挟持部31で搬出して、被加工物載置領域101に位置付けられているチャックテーブル機構4の吸着チャック432上に載置する。吸着チャック432上に載置された被加工物25は、図示しない吸着手段によって吸着チャック432上に吸引保持される。このようにして、吸着チャック432上に被加工物25が吸引保持されたら、チャックテーブル43を矢印X方向に移動するとともに、第1のスピンドルユニット56aおよび第2のスピンドルユニット56bを装着した第1の基部53aおよび第2の基部53bを矢印Y方向に移動し、吸着チャック432上に載置された被加工物25を第1の光学手段57aおよび第2の光学手段57bの直下に位置付ける。そして、第1の光学手段57aおよび第2の光学手段57bによって被加工物25である半導体ウエーハ250の表面が撮像され、半導体ウエーハ250の表面形成された切断ライン(ストリート)のうち少なくとも1本がそれぞれ検出されて、このそれぞれ検出された切断ラインと第1の切削ブレード563aおよび第2の切削ブレード563bの矢印Y方向の位置合わせが行われる。このとき第1の基部53aおよび第2の基部53bの矢印Y方向の位置は、支持台51に配設された1本のリニアスケール58による計測値に基づいて精密制御される。なお、図示の実施形態おいては、リニアスケールを1本にして第1の基部53aと第2の基部53bとで共用しているので、同じスケールで矢印Y方向の制御が遂行されるため、スケールをそれぞれ個別に設けた場合に比べ精度が向上する。このように、図示の実施形態においては、第1のスピンドルユニット56aおよび第2のスピンドルユニット56bに関連してそれぞれ第1の光学手段57aおよび第2の光学手段57bが設けられているので、第1の切削ブレード563aおよび第2の切削ブレード563bの矢印Y方向の位置合わせ作業を同時に効率的に行うことができる。
【0015】
その後、第1のスピンドルユニット56aおよび第2のスピンドルユニット56bを装着した第1の支持部54aおよび第2の支持部54bを切削位置まで下降せしめ、半導体ウエーハ250を吸引保持したチャックテーブル43を切削送り方向である矢印X方向に切削領域102まで移動することにより、高速回転する第1の切削ブレード563aおよび第2の切削ブレード563bの作用を受けて、上述のようにして検出された切断ラインが切削される。このように、第1のスピンドルユニット56aおよび第2のスピンドルユニット56bを装着した第1の基部53aおよび第2の基部53bの矢印Y方向の割り出し移動と、半導体ウエーハ250を吸引保持したチャックテーブル43の矢印X方向切削送りを繰り返し実行することにより、半導体ウエーハ250に形成された複数の切断ラインが順次切削される。そして、半導体ウエーハ250に形成された同方向の切断ラインが全て切削されたら、半導体ウエーハ250を吸引保持した吸着チャック332を90度回転させて、上記を同様の切削作業を実行することにより、半導体ウエーハ250に格子状に形成された全ての切断ラインが切削されて個々のペレットが形成される。
【0016】
上述したように切削作業が終了したら、切削領域102に位置しているチャックテーブル43を被加工物載置領域101に移動する。チャックテーブル43が被加工物載置領域101に位置付けられたら、被加工物搬送機構7を作動しチャックテーブル43に保持された半導体ウエーハ250を装着したフレーム251を吸着パッド71によって吸着して洗浄機構6のスピンナーテーブル611上に搬送する。スピンナーテーブル611上に搬送され上述したように切削された半導体ウエーハ250は、洗浄水供給ノズル612から噴射される洗浄水によって洗浄され切削屑が除去されるとともに、スピンナーテーブル611が回転することによる遠心力によって乾燥せしめられる。このようにして半導体ウエーハ250が洗浄されたならば、被加工物搬送機構7を作動し半導体ウエーハ250を装着したフレーム251を吸着パッド71によって吸着して被加工物載置領域101に位置付けられているチャックテーブル43の吸着チャック432上に載置する。そして、被加工物搬出・搬入機構3を作動し、吸着チャック432上に載置され洗浄済の半導体ウエーハ250およびフレーム251をカセット24の所定の収容室に収容する。
【0017】
図示実施形態におけるダイシング装置は、上記第1の切削手段としての第1のスピンドルユニット56aおよび第2の切削手段としての第2のスピンドルユニット56bに関連して、それぞれ第1の切削ブレード563aおよび第2の切削ブレード563bの切り込み方向の基準位置を検出するための切削ブレード検出機構9および9を具備している。この第1のスピンドルユニット56aおよび第2のスピンドルユニット56bにそれぞれ関連して配設された切削ブレード検出機構9および9は、実質的に同一の構成である。切削ブレード検出機構9について、図5および図6をも参照して説明する。この切削ブレード検出機構9は、第1の切削ブレード563aまたは第2の切削ブレード563bの外周部が侵入するブレード侵入部901を有する検出器本体90を具備している。この検出器本体90は、上記静止基台10上において上記第1の切削ブレード563aおよび第2の切削ブレード563bの矢印Y方向の移動線上に配設されている。検出器本体90には、ブレード侵入部901に対峙して配設された発光部902および受光部903が設けられている。発光部902は光ファイバー91aを介して光源92に接続されており、この光源92からの光を受光部903に向けて発光する。受光部903は発光部902が発光した光を受光し、この受光した光を光ファイバー91bを介して光電変換部93に送る。光電変換部93は、受光部902から送られる光の光量に対応した電圧を電圧比較部95へ出力する。一方、電圧比較部95には基準電圧設定部94によって設定された基準電圧(例えば、3V)が入力されている。電圧比較部95は、光電変換部93からの出力と基準電圧設定部94によって設定された基準電圧(例えば、3V)とを比較し、光電変換部93からの出力が基準電圧(例えば、3V)に達したとき、その旨の信号を基準位置検出部96に出力する。
【0018】
即ち、第1の切削ブレード563aおよび第2の切削ブレード563bの切り込み方向の基準位置を検出する場合は、第1の切削ブレード563aまたは第2の切削ブレード563bを上記ブレード侵入部901に上方から侵入させていく。このとき、第1の切削ブレード563aまたは第2の切削ブレード563bが発光部902と受光部903との間を全く遮っていない場合は受光部903が受光する光量は最大であり、この光量に対応する光電変換部93からの出力が図示の実施形態においては例えば5Vに設定されている。第1の切削ブレード563aまたは第2の切削ブレード563bが上記ブレード侵入部901に侵入されるに従って第1の切削ブレード563aまたは第2の切削ブレード563bが発光部902と受光部903との間を遮る量が増加するので、光電変換部93からの出力が徐々に減少する。そして、光電変換部93は、第1の切削ブレード563aまたは第2の切削ブレード563bが発光部902と受光部903との下端に対応する位置に達したとき、出力電圧が例えば3Vになるように設定されている。なお、光電変換部93からの出力電圧が例えば3Vになったとき、第1の切削ブレード563aまたは第2の切削ブレード563bが例えば上記吸着チャック432の上面に接触する位置になるように設定されている。従って、光電変換部93の出力電圧が3Vになったとき電圧比較部95は、光電変換部93の出力電圧が基準電圧に達した旨の信号を基準位置検出部96に出力する。このとき、基準位置検出部96は、第1の切削ブレード563aまたは第2の切削ブレード563bの切り込み方向(Z方向)の位置を検出するリニアスケール59の値を基準位置として記憶する。なお、第1の切削ブレード563aおよび第2の切削ブレード563bの切り込み方向の基準位置を設定する方法として、第1のスピンドルユニット56aおよび第2のスピンドルユニット56bを装着した第1の支持部54aおよび第2の支持部54bを矢印Zで示す方向に移動せしめるためのパルスモータ55aおよび55bの駆動パルスを用いてもよい。即ち、上記検出時に第1の支持部54aおよび第2の支持部54bを所定位置から下降する際にパルスモータ55aおよび55bの駆動パルスをカウントし、電圧比較部95から光電変換部93の出力電圧が基準電圧に達した旨の信号を基準位置検出部96に出力したとき、カウントした駆動パルス数を基準位置として記憶する。このようにして、切削ブレード検出機構9、9は第1の切削ブレード563aおよび第2の切削ブレード563bの切り込み方向の基準位置を検出する。
【0019】
以上のように図示の実施形態においては、上記第1のスピンドルユニット56aおよび第2のスピンドルユニット56bに関連して、それぞれ第1の切削ブレード563aおよび第2の切削ブレード563bの切り込み方向の基準位置を検出するための切削ブレード検出機構9および9を具備しているので、第1および第2の切削ブレード563aおよび563bについて、同時に切り込み方向の基準位置を検出することができる。従って、2つの切削手段を備えた切削装置において、2つの切削ブレードの切り込み方向の基準位置を同時に検出することができ、セットアップ作業が効率的となるため生産性を向上することができる。
【0020】
図示の実施形態における第1の切削ブレード563aおよび第2の切削ブレード563bの切り込み方向の基準位置を検出するための切削ブレード検出機構9、9は、発光部902および受光部903の端面に洗浄水を供給する洗浄水供給ノズル97a、97bと、発光部902および受光部903の端面にエアーを供給するエアー供給ノズル98a、98bとを具備している。この洗浄水供給ノズル97a、97bとエアー供給ノズル98a、98bは、図示の実施形態においてはエアー供給ノズル98a、98bの開口が発光部902および受光部903に隣接して配設され、洗浄水供給ノズル97a、97bの開口がエアー供給ノズル98a、98bの背後に配設されている。洗浄水供給ノズル97a、97bは図示しないフレシキブルホースを介して洗浄水供給源に接続されており、エアー供給ノズル98a、98bは図示しないフレシキブルホースを介して圧縮エアー供給源に接続されている。なお、図示の実施形態における切削ブレード検出機構9においては、洗浄水供給ノズル97a、97bから噴出される洗浄水は、第1の切削ブレード563aおよび第2の切削ブレード563bによる切削作業時に常に発光部902および受光部903に供給されている。一方、エアー供給ノズル98a、98bから噴出されるエアーは、切削作業が終了して洗浄水供給ノズル97a、97bからからの洗浄水の供給が停止されたら発光部902および受光部903に供給されるようになっている。
【0021】
以上のように、図示の実施形態における第1の切削ブレード563aおよび第2の切削ブレード563bの切り込み方向の基準位置を検出するための切削ブレード検出機構9は、発光部902および受光部903の端面に常時洗浄水供給ノズル97a、97bから洗浄水が供給されているので、第1の切削ブレード563aおよび第2の切削ブレード563bによって半導体ウエーハ等の被加工物を切削する際に飛散するコンタミが発光部902および受光部903に付着することがない。従って、図示の実施形態における切削ブレード検出機構9は、第1の切削ブレード563aおよび第2の切削ブレード563bの切り込み方向の基準位置を検出する際に、コンタミが発光部902に付着することによって生ずる発光光量の減少や、コンタミが受光部903に付着することによって生ずる受光光量の減少を防止することができ、常に安定して精度良く第1の切削ブレード563aおよび第2の切削ブレード563bの切り込み方向の基準位置を検出することができる。また、図示の実施形態における切削ブレード検出機構9は、切削作業時に発光部902および受光部903に洗浄水を供給した後に、エアー供給ノズル98a、98bからエアーを噴出して、発光部902および受光部903に付着した洗浄水を吹き飛ばすので、洗浄水の影響を受けることなく常に安定して精度良く第1の切削ブレード563aおよび第2の切削ブレード563bの切り込み方向の基準位置を検出することができる。
【0022】
更に、図示の実施形態における切削ブレード検出機構9は、上記エアー供給ノズル98a、98b開口が発光部902および受光部903に隣接して配設され、洗浄水供給ノズル97a、97bの開口がエアー供給ノズル98a、98bの背後に配設されているので、洗浄水の供給を停止した後にエアーを供給する際に、洗浄水供給ノズル97a、97bに残留している洗浄水を吸引霧化することはない。即ち、図示の実施形態とは逆にエアー供給ノズル98a、98bが洗浄水供給ノズル97a、97bの背後に配設されている場合には、エアー供給ノズル98a、98bによって洗浄水供給ノズル97a、97bの背後から噴出されるエアーフローの作用により、洗浄水供給ノズル97a、97bの開口部が負圧となり、この結果、洗浄水供給ノズル97a、97bに残留している洗浄水が吸引され霧化されて発光部902および受光部903の端面に付着することがある。しかるに、図示の実施形態における切削ブレード検出機構9は、上記のように洗浄水供給ノズル97a、97bの開口がエアー供給ノズル98a、98bの背後に配設されているので、エアー供給ノズル98a、98bによってエアーを供給する際に洗浄水供給ノズル97a、97bに残留している洗浄水を吸引霧化することはない。従って、エアー供給ノズル98a、98bから供給するエアーによる発光部902および受光部903に付着した洗浄水の吹き飛ばし作業を効果的に行うことができる。
【0023】
【発明の効果】
本発明による切削装置は以上のように構成されているので、次の作用効果を奏する。
【0024】
即ち、本発明によれば、第1の切削手段と第2の切削手段とを有し、該第1の切削手段に関連して設けられた第1の切削ブレード検出機構と、該第2の切削手段に関連して設けられた第2の切削ブレード検出機構とを具備しているので、2つの切削ブレードの切り込み方向の基準位置を同時に検出することができ、セットアップ作業が効率的となるため生産性を向上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に従って構成された切削装置であるダイシング装置の斜視図。
【図2】図1に示すダイシング装置の要部斜視図。
【図3】図1に示すダイシング装置を構成する第1のスピンドルユニットと第2のスピンドルユニットを簡略化して示す説明図。
【図4】図1に示すダイシング装置を構成する第1のスピンドルユニットと第2のスピンドルユニットおよび第1の光学手段と第2の光学手段を簡略化して示す説明図。
【図5】本発明に従って構成された切削ブレードの切り込み方向の基準位置を検出するための切削ブレード検出機構の要部斜視図。
【図6】本発明に従って構成された切削ブレードの切り込み方向の基準位置を検出するための切削ブレード検出機構のブロック図。
【符号の説明】
1:装置ハウジング
10:静止基台
2:カセット機構
21:ガイドレール
22:カセットテーブル
23:駆動手段
24:カセット
25:被加工物
250:半導体ウエーハ
251:フレーム
252:テープ
3:被加工物搬出・搬入機構
31:被加工物搬出・搬入機構の挟持部
4:チャックテーブル機構
41:支持台
42:ガイドレール
43:チャックテーブル
431:吸着チャック支持台
432:吸着チャック
44:駆動手段
5:切削機構
51:支持台
511:ガイドレール
53a:第1の基部
531a:ガイドレール
53b:第2の基部
531b:ガイドレール
54a:第1の支持部
54b:第2の支持部
55a:パルスモータ
55b:パルスモータ
56a:第1のスピンドルユニット
561a:第1のスピンドルハウジング
562a:第1の回転スピンドル
563a:第1の切削ブレード
56b:第2のスピンドルユニット
561b:第2のスピンドルハウジング
562b:第2の回転スピンドル
563b:第2の切削ブレード
57a:第1の光学手段
57b:第2の光学手段
6:洗浄機構
661:スピンナーテーブル
662:洗浄水供給ノズル
7:被加工物搬送機構
71:被加工物搬送機構の吸着パッド
8:モニター
9:切削ブレード検出機構
90:切削ブレード検出機構の検出器本体
901:ブレード侵入部
902:発光部
903:受光部
92:光源
93:光電変換部
94:基準電圧設定部
95:電圧比較部
96:基準位置検出部
97a、97b:洗浄水供給ノズル
88a、98b:エアー供給ノズル
59:リニアスケール
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a cutting device such as a dicing device for cutting a workpiece such as a semiconductor wafer, and more particularly to a cutting device provided with two cutting means.
[0002]
[Prior art]
As a semiconductor wafer cutting method using a dicing apparatus, a step cut method is generally performed. This step cut method uses a V-shaped V-groove blade in the first step to form a V-groove along a cutting line (street) provided in the semiconductor wafer, and a blade for cutting in the second step. Is cut along the V-groove formed in the first step to form a chip whose surface is chamfered in a tapered shape. In order to efficiently perform the cutting by such a step cutting method, a cutting apparatus including two cutting means is disclosed in, for example, Japanese Patent Publication No. 3-11601. The cutting apparatus disclosed in this publication includes a first cutting means including a first rotating spindle, a first cutting blade mounted on the first rotating spindle, a second rotating spindle, and the first rotating spindle. And a second cutting means provided with a second cutting blade mounted on the two rotating spindles, and the first cutting means and the second cutting means are arranged in parallel.
[0003]
On the other hand, a cutting blade for cutting a workpiece such as a semiconductor wafer is worn away by use and its diameter decreases. For this reason, the dicing apparatus needs to adjust the reference position in the cutting direction of the cutting blade in response to a decrease in the diameter of the cutting blade, and includes a cutting blade detection mechanism for detecting the reference position.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
Thus, in the above-described cutting device in which the first cutting means and the second cutting means are arranged in parallel, the reference position in the cutting direction of the first cutting blade of the first cutting means and the second When detecting the reference position of the cutting direction of the second cutting blade of the cutting means, this detection work must be performed twice, and workability is poor. Note that two cutting blade detection mechanisms may be provided in association with each of the first cutting means and the second cutting means, but the first cutting means and the second cutting means are arranged in parallel. In such a cutting apparatus, even if two cutting blade detection mechanisms are provided, the reference positions of the two cutting blades cannot be detected at the same time, and the detection work for detecting the reference position in the cutting direction of the cutting blade is not possible. Workability cannot be improved.
[0005]
The present invention has been made in view of the above-mentioned facts, and the main technical problem thereof is a reference position in the cutting direction for two cutting blades simultaneously in a cutting apparatus including a first cutting means and a second cutting means. It is providing the cutting device which can detect.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
  In order to solve the above-mentioned main technical problem, according to the present invention, a first cutting means comprising a first rotating spindle and a first cutting blade mounted on one end of the first rotating spindle; A second cutting means comprising a second rotating spindle and a second cutting blade mounted on one end of the second rotating spindle, the first cutting blade and the second cutting In the cutting device arranged to face the blade,
  A first cutting blade detection mechanism provided in association with the first cutting means; and a second cutting blade detection mechanism provided in association with the second cutting means.And
  The first cutting blade detection mechanism and the second cutting blade detection mechanism include a blade intrusion portion into which the cutting blade enters, a light emitting portion and a light receiving portion disposed to face the blade intrusion portion, and the light emission And a cleaning water supply nozzle for supplying cleaning water to the end face of the light receiving part, and an air supply nozzle for supplying air to the end face of the light emitting part and the light receiving part,
  The opening of the air supply nozzle is disposed adjacent to the light emitting unit and the light receiving unit, and the opening of the cleaning water supply nozzle is disposed behind the opening of the air supply nozzle.
  A cutting device is provided.
[0008]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, a preferred embodiment of a cutting device configured according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
[0009]
FIG. 1 is a perspective view of a dicing apparatus as a cutting apparatus configured according to the present invention.
The dicing apparatus shown in FIG. 1 includes a device housing 1 having a substantially rectangular parallelepiped shape. In the apparatus housing 1, a cassette mechanism 2 for stocking a semiconductor wafer as a workpiece and a workpiece stored in the cassette mechanism 2 are unloaded and the workpiece after the cutting operation is finished is transferred to the cassette mechanism 2. A workpiece unloading / loading mechanism 3 to be loaded, a chuck table mechanism 4 for holding the workpiece unloaded by the workpiece unloading / loading mechanism 3, and a workpiece held by the chuck table mechanism 4 A cutting mechanism 5 for cutting, a cleaning mechanism 6 for cleaning the workpiece cut by the cutting mechanism 5, and a workpiece conveying mechanism 7 for conveying the workpiece between the chuck table mechanism 4 and the cleaning mechanism 6. Is arranged. The apparatus housing 1 is provided with a monitor 8 for displaying an image picked up by optical means to be described later.
[0010]
The cassette mechanism 2, chuck table mechanism 4 and cutting mechanism 5 will be described with reference to FIG.
The dicing apparatus in the illustrated embodiment includes a stationary base 10 that is disposed in the apparatus housing 1 and on which the above mechanisms are mounted. The cassette mechanism 2 includes a cassette table 22 slidably disposed on two guide rails 21, 21 provided on the side surface of the stationary base 10 in the vertical direction, and the cassette table 22 as a guide rail 21. A driving means 23 for moving in the vertical direction (the direction indicated by the arrow Z) is provided. The driving means 23 includes a male screw rod 231 disposed in parallel between the two guide rails 21 and 21, a nut (not shown) that is mounted on the cassette table 22 and screwed into the male screw rod 231, and a male screw rod 231. A drive source such as a pulse motor (not shown) for rotational driving is included. Therefore, the cassette table 22 is moved in the vertical direction (direction indicated by the arrow Z) by rotating the male screw rod 231 by a pulse motor (not shown). The cassette 24 having a plurality of storage chambers is placed on the cassette table 22 configured to be movable in the vertical direction as described above. The workpieces 25 are stored one by one in the plurality of storage chambers of the cassette 24. In the illustrated embodiment, a semiconductor wafer 250 is shown that is mounted on a frame 251 with a tape 252 as a workpiece 25.
[0011]
The chuck table mechanism 4 includes a support base 41 fixed on the stationary base 10 and two guide rails 42 and 42 disposed on the support base 41 in parallel along the direction indicated by the arrow X. A chuck table 43 is provided as workpiece holding means for holding the workpiece arranged on the guide rails 42 and 42 so as to be movable in the direction indicated by the arrow X. The chuck table 43 includes a suction chuck support base 431 movably disposed on the guide rails 42 and 42, and a suction chuck 432 mounted on the suction chuck support base 431. For example, a disk-shaped semiconductor wafer as a workpiece is held on the chuck 432 by suction means (not shown). The chuck table mechanism 4 includes a drive unit 44 for moving the chuck table 43 along the two guide rails 42 and 42 in the direction indicated by the arrow X. The drive means 44 includes a male screw rod 441 disposed in parallel between the two guide rails 42, 42, a nut (not shown) that is mounted on the suction chuck support base 431 and screwed into the male screw rod 441, and a male screw rod. A drive source such as a pulse motor (not shown) for rotationally driving 441 is included. Therefore, the chuck table 43 is moved in the direction indicated by the arrow X by rotating the male screw rod 441 by a pulse motor (not shown). That is, the chuck table 43 can move between the workpiece placement area 101 shown in FIGS. 1 and 2 and the cutting area 102. The chuck table mechanism 4 includes a rotation mechanism (not shown) that rotates the suction chuck 432.
[0012]
Next, the cutting mechanism 5 will be described.
The cutting mechanism 5 includes a gate-shaped support base 51 fixed on the stationary base 10. The gate-shaped support base 51 is disposed so as to straddle the cutting region 102. Two guide rails 511 and 511 arranged in parallel along the direction indicated by the arrow Y are provided on the side wall of the support base 51, and in parallel between the two guide rails 511 and 511. One male screw rod 52 is fixedly disposed. Along the guide rails 511 and 511, a first base portion 53a and a second base portion 53b are disposed so as to be slidable in the directions indicated by arrows Y, respectively. The first base 53a and the second base 53b are each provided with a drive nut (not shown) that is screwed to the common male screw rod 52, and the drive nut is rotated by a drive source such as a pulse motor (not shown). Accordingly, the first base portion 53a and the second base portion 53b can be moved along the guide rails 511 and 511 in the direction indicated by the arrow Y. Independent male threaded rods are disposed corresponding to the first base 53a and the second base 53b, respectively, and the independent male threaded rods are rotated by a pulse motor or the like, respectively. You may comprise so that the 2nd base 53b may move to the direction shown by the arrow Y, respectively. A pair of guide rails 531a and 531b are provided on the first base portion 53a and the second base portion 53b, respectively, along the direction indicated by the arrow Z, and the first support portion 54a is provided along the guide rails 531a and 531b. And the 2nd support part 54b is each arrange | positioned so that sliding to the direction shown by the arrow Z is possible. The first base portion 53a and the second base portion 53b are provided with male screw rods (not shown) that are rotated by driving sources such as pulse motors 55a and 55b, respectively, and the first support portion 54a and the second support portion 53b. Each of the parts 54b is provided with a nut that is screwed into the male screw rod. Therefore, by rotating a male screw rod (not shown) for the pulse motors 55a and 55b, the first support portion 54a and the second support portion 54b are moved along the guide rails 531a and 531b in the direction indicated by the arrow Z. it can.
[0013]
A first spindle unit 56a as a first cutting means and a second spindle unit 56b as a second cutting means are mounted on the first support portion 54a and the second support portion 54b. The first spindle unit 56a and the second spindle unit 56b will be described with reference to FIG. 3 shown in a simplified manner. The first spindle unit 56a and the second spindle unit 56b respectively include a first spindle housing 561a and a second spindle housing 561b fixed to the first support part 54a and the second support part 54b, respectively. A first rotating spindle 562a and a second rotating spindle 562b rotatably supported by one spindle housing 561a and a second spindle housing 561b, respectively, and the first rotating spindle 562a and the second rotating spindle 562b. It consists of a first cutting blade 563a and a second cutting blade 563b attached to one end. The first spindle unit 56a and the second spindle unit 56b configured as described above are disposed so that the first cutting blade 563a and the second cutting blade 563b face each other. In other words, the first spindle unit 56a and the second spindle unit 56b are aligned so that the axis is directed in the direction of the arrow Y and the positions in the direction of the arrow X are common as shown in FIG. It is arranged. In relation to the first spindle unit 56a and the second spindle unit 56b configured as described above, a first optical unit 57a and a second optical unit 57b configured by a microscope, a CCD camera, etc. are provided. ing. The first optical means 57a is fixed to the first spindle housing 561a, and the second optical means 57b is fixed to the second spindle housing 561b.
[0014]
Next, the processing operation of the above-described dicing apparatus will be briefly described.
First, the driving means 23 of the cassette mechanism 2 is operated to position the cassette 24 placed on the cassette table 22 at an appropriate height. When the cassette 24 is positioned at an appropriate height, the workpiece unloading / loading mechanism 3 is operated to unload the workpiece 25 accommodated in the cassette 24 by the clamping unit 31, and to the workpiece mounting area 101. It is mounted on the suction chuck 432 of the chuck table mechanism 4 that is positioned. The workpiece 25 placed on the suction chuck 432 is sucked and held on the suction chuck 432 by suction means (not shown). In this way, when the workpiece 25 is sucked and held on the suction chuck 432, the chuck table 43 is moved in the direction of the arrow X, and the first spindle unit 56a and the second spindle unit 56b are mounted. The base portion 53a and the second base portion 53b are moved in the direction of the arrow Y, and the workpiece 25 placed on the suction chuck 432 is positioned directly below the first optical means 57a and the second optical means 57b. Then, the surface of the semiconductor wafer 250 as the workpiece 25 is imaged by the first optical means 57a and the second optical means 57b, and at least one of the cutting lines (streets) formed on the surface of the semiconductor wafer 250 is at least one. The respective detected cutting lines are aligned with the first cutting blade 563a and the second cutting blade 563b in the arrow Y direction. At this time, the positions of the first base portion 53a and the second base portion 53b in the direction of the arrow Y are precisely controlled based on the measurement value by one linear scale 58 disposed on the support base 51. In the illustrated embodiment, since the first base 53a and the second base 53b are shared by one linear scale, the control in the arrow Y direction is performed on the same scale. The accuracy is improved compared to the case where scales are provided individually. As described above, in the illustrated embodiment, the first optical unit 57a and the second optical unit 57b are provided in association with the first spindle unit 56a and the second spindle unit 56b, respectively. The positioning operation of the first cutting blade 563a and the second cutting blade 563b in the direction of the arrow Y can be efficiently performed simultaneously.
[0015]
After that, the first support part 54a and the second support part 54b mounted with the first spindle unit 56a and the second spindle unit 56b are lowered to the cutting position, and the chuck table 43 holding the semiconductor wafer 250 by suction is cut. By moving to the cutting region 102 in the direction of arrow X, which is the feed direction, the cutting line detected as described above is received by the action of the first cutting blade 563a and the second cutting blade 563b rotating at high speed. To be cut. As described above, the indexing movement of the first base 53a and the second base 53b on which the first spindle unit 56a and the second spindle unit 56b are mounted in the direction of the arrow Y, and the chuck table 43 that holds the semiconductor wafer 250 by suction. A plurality of cutting lines formed in the semiconductor wafer 250 are sequentially cut by repeatedly executing the cutting feed in the arrow X direction. When all the cutting lines in the same direction formed on the semiconductor wafer 250 are cut, the suction chuck 332 that sucks and holds the semiconductor wafer 250 is rotated by 90 degrees, and the above-described cutting operation is performed, thereby the semiconductor All the cutting lines formed in a lattice shape on the wafer 250 are cut to form individual pellets.
[0016]
As described above, when the cutting operation is completed, the chuck table 43 located in the cutting area 102 is moved to the workpiece placement area 101. When the chuck table 43 is positioned in the workpiece placement region 101, the workpiece conveyance mechanism 7 is operated, and the frame 251 mounted with the semiconductor wafer 250 held on the chuck table 43 is sucked by the suction pad 71 to be cleaned. 6 is conveyed onto a spinner table 611. The semiconductor wafer 250 transported onto the spinner table 611 and cut as described above is cleaned with cleaning water sprayed from the cleaning water supply nozzle 612 to remove cutting waste, and the spinner table 611 is rotated to rotate the spin. It is dried by force. When the semiconductor wafer 250 is cleaned in this way, the workpiece transfer mechanism 7 is operated and the frame 251 with the semiconductor wafer 250 mounted thereon is sucked by the suction pad 71 and positioned in the workpiece mounting area 101. The chuck table 43 is placed on the suction chuck 432. Then, the workpiece unloading / loading mechanism 3 is operated, and the cleaned semiconductor wafer 250 and the frame 251 placed on the suction chuck 432 are stored in a predetermined storage chamber of the cassette 24.
[0017]
The dicing apparatus in the illustrated embodiment relates to the first cutting blade 563a and the second spindle unit 56b as the first cutting means and the second spindle unit 56b as the second cutting means, respectively. The cutting blade detection mechanisms 9 and 9 for detecting the reference position in the cutting direction of the two cutting blades 563b are provided. The cutting blade detection mechanisms 9 and 9 disposed in association with the first spindle unit 56a and the second spindle unit 56b have substantially the same configuration. The cutting blade detection mechanism 9 will be described with reference to FIGS. 5 and 6 as well. The cutting blade detection mechanism 9 includes a detector main body 90 having a blade intrusion portion 901 into which the outer periphery of the first cutting blade 563a or the second cutting blade 563b enters. The detector main body 90 is disposed on the movement line in the arrow Y direction of the first cutting blade 563a and the second cutting blade 563b on the stationary base 10. The detector main body 90 is provided with a light emitting unit 902 and a light receiving unit 903 arranged to face the blade intrusion unit 901. The light emitting unit 902 is connected to the light source 92 via the optical fiber 91a, and emits light from the light source 92 toward the light receiving unit 903. The light receiving unit 903 receives the light emitted by the light emitting unit 902 and sends the received light to the photoelectric conversion unit 93 via the optical fiber 91b. The photoelectric conversion unit 93 outputs a voltage corresponding to the amount of light transmitted from the light receiving unit 902 to the voltage comparison unit 95. On the other hand, a reference voltage (for example, 3 V) set by the reference voltage setting unit 94 is input to the voltage comparison unit 95. The voltage comparison unit 95 compares the output from the photoelectric conversion unit 93 with the reference voltage (for example, 3V) set by the reference voltage setting unit 94, and the output from the photoelectric conversion unit 93 is the reference voltage (for example, 3V). Is reached, a signal to that effect is output to the reference position detector 96.
[0018]
That is, when detecting the reference position in the cutting direction of the first cutting blade 563a and the second cutting blade 563b, the first cutting blade 563a or the second cutting blade 563b enters the blade intrusion portion 901 from above. I will let you. At this time, when the first cutting blade 563a or the second cutting blade 563b does not block between the light emitting portion 902 and the light receiving portion 903, the light amount received by the light receiving portion 903 is the maximum and corresponds to this light amount. The output from the photoelectric conversion unit 93 is set to 5 V, for example, in the illustrated embodiment. As the first cutting blade 563a or the second cutting blade 563b enters the blade intrusion portion 901, the first cutting blade 563a or the second cutting blade 563b blocks between the light emitting portion 902 and the light receiving portion 903. Since the amount increases, the output from the photoelectric conversion unit 93 gradually decreases. Then, when the first cutting blade 563a or the second cutting blade 563b reaches the position corresponding to the lower ends of the light emitting unit 902 and the light receiving unit 903, the photoelectric conversion unit 93 has an output voltage of, for example, 3V. Is set. In addition, when the output voltage from the photoelectric conversion unit 93 becomes, for example, 3V, the first cutting blade 563a or the second cutting blade 563b is set so as to be in a position in contact with the upper surface of the suction chuck 432, for example. Yes. Therefore, when the output voltage of the photoelectric conversion unit 93 reaches 3V, the voltage comparison unit 95 outputs a signal indicating that the output voltage of the photoelectric conversion unit 93 has reached the reference voltage to the reference position detection unit 96. At this time, the reference position detection unit 96 stores the value of the linear scale 59 that detects the position of the first cutting blade 563a or the second cutting blade 563b in the cutting direction (Z direction) as the reference position. As a method of setting the reference position in the cutting direction of the first cutting blade 563a and the second cutting blade 563b, the first support portion 54a on which the first spindle unit 56a and the second spindle unit 56b are mounted and A driving pulse of pulse motors 55a and 55b for moving the second support portion 54b in the direction indicated by the arrow Z may be used. That is, when the first support part 54a and the second support part 54b are lowered from the predetermined positions during the detection, the drive pulses of the pulse motors 55a and 55b are counted, and the output voltage of the photoelectric conversion part 93 is output from the voltage comparison part 95. Is output to the reference position detector 96, the counted number of drive pulses is stored as a reference position. In this manner, the cutting blade detection mechanisms 9 and 9 detect the reference positions in the cutting direction of the first cutting blade 563a and the second cutting blade 563b.
[0019]
As described above, in the illustrated embodiment, the reference positions in the cutting direction of the first cutting blade 563a and the second cutting blade 563b are related to the first spindle unit 56a and the second spindle unit 56b, respectively. Since the cutting blade detection mechanisms 9 and 9 for detecting the above are provided, the reference positions in the cutting direction can be detected simultaneously for the first and second cutting blades 563a and 563b. Therefore, in the cutting apparatus provided with two cutting means, the reference position in the cutting direction of the two cutting blades can be detected simultaneously, and the setup operation becomes efficient, so that productivity can be improved.
[0020]
The cutting blade detection mechanisms 9 and 9 for detecting the reference positions in the cutting direction of the first cutting blade 563a and the second cutting blade 563b in the illustrated embodiment are provided with cleaning water on the end surfaces of the light emitting unit 902 and the light receiving unit 903, respectively. Cleaning water supply nozzles 97a and 97b for supplying the air, and air supply nozzles 98a and 98b for supplying air to the end surfaces of the light emitting unit 902 and the light receiving unit 903. In the illustrated embodiment, the cleaning water supply nozzles 97a and 97b and the air supply nozzles 98a and 98b are provided with the openings of the air supply nozzles 98a and 98b adjacent to the light emitting unit 902 and the light receiving unit 903, respectively. The openings of the nozzles 97a and 97b are disposed behind the air supply nozzles 98a and 98b. The cleaning water supply nozzles 97a and 97b are connected to a cleaning water supply source via a flexible hose (not shown), and the air supply nozzles 98a and 98b are connected to a compressed air supply source via a flexible hose (not shown). In the cutting blade detection mechanism 9 in the illustrated embodiment, the cleaning water ejected from the cleaning water supply nozzles 97a and 97b always emits light during the cutting operation by the first cutting blade 563a and the second cutting blade 563b. 902 and the light receiving unit 903. On the other hand, the air ejected from the air supply nozzles 98a and 98b is supplied to the light emitting unit 902 and the light receiving unit 903 when the cutting operation is completed and the supply of the cleaning water from the cleaning water supply nozzles 97a and 97b is stopped. It is like that.
[0021]
As described above, the cutting blade detection mechanism 9 for detecting the reference position in the cutting direction of the first cutting blade 563a and the second cutting blade 563b in the illustrated embodiment is the end face of the light emitting unit 902 and the light receiving unit 903. Since cleaning water is constantly supplied from the cleaning water supply nozzles 97a and 97b, contamination that is scattered when a workpiece such as a semiconductor wafer is cut by the first cutting blade 563a and the second cutting blade 563b emits light. It does not adhere to the part 902 and the light receiving part 903. Therefore, the cutting blade detection mechanism 9 in the illustrated embodiment is caused by contamination adhering to the light emitting unit 902 when detecting the reference position in the cutting direction of the first cutting blade 563a and the second cutting blade 563b. A decrease in the amount of emitted light and a decrease in the amount of received light caused by contamination adhering to the light receiving portion 903 can be prevented, and the cutting direction of the first cutting blade 563a and the second cutting blade 563b is always stable and accurate. The reference position can be detected. Further, the cutting blade detection mechanism 9 in the illustrated embodiment supplies cleaning water to the light emitting unit 902 and the light receiving unit 903 during a cutting operation, and then ejects air from the air supply nozzles 98a and 98b to thereby emit the light emitting unit 902 and the light receiving unit 902. Since the cleaning water adhering to the part 903 is blown off, the reference position in the cutting direction of the first cutting blade 563a and the second cutting blade 563b can be detected constantly and accurately without being affected by the cleaning water. .
[0022]
Further, in the cutting blade detection mechanism 9 in the illustrated embodiment, the air supply nozzles 98a and 98b are disposed adjacent to the light emitting unit 902 and the light receiving unit 903, and the openings of the cleaning water supply nozzles 97a and 97b are supplied with air. Since it is disposed behind the nozzles 98a and 98b, when supplying the air after stopping the supply of the cleaning water, the cleaning water remaining in the cleaning water supply nozzles 97a and 97b is aspirated and atomized. Absent. That is, when the air supply nozzles 98a and 98b are disposed behind the cleaning water supply nozzles 97a and 97b, contrary to the illustrated embodiment, the cleaning water supply nozzles 97a and 97b are provided by the air supply nozzles 98a and 98b. The opening of the cleaning water supply nozzles 97a and 97b becomes negative pressure due to the action of the air flow ejected from behind, and as a result, the cleaning water remaining in the cleaning water supply nozzles 97a and 97b is sucked and atomized. May adhere to the end surfaces of the light emitting unit 902 and the light receiving unit 903. However, in the cutting blade detection mechanism 9 in the illustrated embodiment, since the openings of the cleaning water supply nozzles 97a and 97b are disposed behind the air supply nozzles 98a and 98b as described above, the air supply nozzles 98a and 98b are provided. When the air is supplied, the cleaning water remaining in the cleaning water supply nozzles 97a and 97b is not sucked and atomized. Therefore, it is possible to effectively perform the operation of blowing off the cleaning water adhering to the light emitting unit 902 and the light receiving unit 903 by the air supplied from the air supply nozzles 98a and 98b.
[0023]
【The invention's effect】
Since the cutting device according to the present invention is configured as described above, the following operational effects can be obtained.
[0024]
That is, according to the present invention, the first cutting blade detection mechanism provided in association with the first cutting means, the first cutting means and the second cutting means, and the second cutting means Since the second cutting blade detection mechanism provided in association with the cutting means is provided, the reference position in the cutting direction of the two cutting blades can be detected at the same time, and the setup work becomes efficient. Productivity can be improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a perspective view of a dicing apparatus which is a cutting apparatus configured according to the present invention.
FIG. 2 is a perspective view of main parts of the dicing apparatus shown in FIG.
FIG. 3 is an explanatory diagram showing, in a simplified manner, a first spindle unit and a second spindle unit that constitute the dicing apparatus shown in FIG. 1;
FIG. 4 is an explanatory diagram showing, in a simplified manner, the first spindle unit, the second spindle unit, the first optical means, and the second optical means that constitute the dicing apparatus shown in FIG. 1;
FIG. 5 is a perspective view of a main part of a cutting blade detection mechanism for detecting a reference position in a cutting direction of a cutting blade configured according to the present invention.
FIG. 6 is a block diagram of a cutting blade detection mechanism for detecting a reference position in a cutting direction of a cutting blade configured according to the present invention.
[Explanation of symbols]
1: Device housing
10: Stationary base
2: Cassette mechanism
21: Guide rail
22: Cassette table
23: Driving means
24: Cassette
25: Workpiece
250: Semiconductor wafer
251: Frame
252: Tape
3: Workpiece unloading / loading mechanism
31: Clamping part of workpiece unloading / loading mechanism
4: Chuck table mechanism
41: Support stand
42: Guide rail
43: Chuck table
431: Adsorption chuck support
432: Suction chuck
44: Driving means
5: Cutting mechanism
51: Support stand
511: Guide rail
53a: first base
531a: Guide rail
53b: second base
531b: Guide rail
54a: 1st support part
54b: second support part
55a: Pulse motor
55b: Pulse motor
56a: first spindle unit
561a: first spindle housing
562a: first rotating spindle
563a: first cutting blade
56b: second spindle unit
561b: second spindle housing
562b: second rotating spindle
563b: second cutting blade
57a: first optical means
57b: Second optical means
6: Cleaning mechanism
661: Spinner table
662: Washing water supply nozzle
7: Workpiece transport mechanism
71: Suction pad of workpiece transfer mechanism
8: Monitor
9: Cutting blade detection mechanism
90: Detector main body of the cutting blade detection mechanism
901: Blade intrusion
902: Light emitting unit
903: Light receiver
92: Light source
93: Photoelectric conversion unit
94: Reference voltage setting section
95: Voltage comparison unit
96: Reference position detector
97a, 97b: Washing water supply nozzle
88a, 98b: Air supply nozzle
59: Linear scale

Claims (1)

第1の回転スピンドルと該第1の回転スピンドルの一端部に装着された第1の切削ブレードとを備えた第1の切削手段と、第2の回転スピンドルと該第2の回転スピンドルの一端部に装着された第2の切削ブレードとを備えた第2の切削手段とを有し、該第1の切削ブレードと該第2の切削ブレードとを対峙して配設した切削装置において、
該第1の切削手段に関連して設けられた第1の切削ブレード検出機構と、該第2の切削手段に関連して設けられた第2の切削ブレード検出機構とを具備し、
該第1の切削ブレード検出機構および該第2の切削ブレード検出機構は、切削ブレードが侵入するブレード侵入部と、該ブレード侵入部に対峙して配設される発光部および受光部と、該発光部および該受光部の端面に洗浄水を供給する洗浄水供給ノズルと、該発光部および該受光部の端面にエアーを供給するエアー供給ノズルとを具備しており、
該エアー供給ノズルの開口は該発光部および該受光部に隣接して配設され、該洗浄水供給ノズルの開口は該エアー供給ノズルの開口の背後に配設されている、
ことを特徴とする切削装置。
A first cutting means comprising a first rotating spindle and a first cutting blade mounted on one end of the first rotating spindle; a second rotating spindle; and one end of the second rotating spindle And a second cutting means provided with a second cutting blade mounted on the cutting device, wherein the first cutting blade and the second cutting blade are arranged to face each other.
A first cutting blade detection mechanism provided in association with the first cutting means, and a second cutting blade detection mechanism provided in association with the second cutting means ,
The first cutting blade detection mechanism and the second cutting blade detection mechanism include a blade intrusion portion into which the cutting blade enters, a light emitting portion and a light receiving portion disposed to face the blade intrusion portion, and the light emission And a cleaning water supply nozzle for supplying cleaning water to the end face of the light receiving part, and an air supply nozzle for supplying air to the end face of the light emitting part and the light receiving part,
The opening of the air supply nozzle is disposed adjacent to the light emitting unit and the light receiving unit, and the opening of the cleaning water supply nozzle is disposed behind the opening of the air supply nozzle.
The cutting device characterized by the above.
JP2000113490A 2000-04-14 2000-04-14 Cutting equipment Expired - Lifetime JP4590060B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000113490A JP4590060B2 (en) 2000-04-14 2000-04-14 Cutting equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000113490A JP4590060B2 (en) 2000-04-14 2000-04-14 Cutting equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2001298002A JP2001298002A (en) 2001-10-26
JP4590060B2 true JP4590060B2 (en) 2010-12-01

Family

ID=18625444

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000113490A Expired - Lifetime JP4590060B2 (en) 2000-04-14 2000-04-14 Cutting equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4590060B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170127359A (en) 2016-05-11 2017-11-21 가부시기가이샤 디스코 Cutting device

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003211354A (en) * 2002-01-18 2003-07-29 Disco Abrasive Syst Ltd Cutting device
JP4571851B2 (en) * 2004-11-30 2010-10-27 株式会社ディスコ Cutting equipment
JP6294748B2 (en) * 2014-04-23 2018-03-14 株式会社ディスコ Cutting equipment
JP7354069B2 (en) * 2020-08-26 2023-10-02 Towa株式会社 Cutting device and method for manufacturing cut products

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0550362A (en) * 1991-08-21 1993-03-02 Tokyo Seimitsu Co Ltd Blade position detector
JPH08288244A (en) * 1995-04-11 1996-11-01 Disco Abrasive Syst Ltd Optical detecting means
JPH1126402A (en) * 1997-07-02 1999-01-29 Disco Abrasive Syst Ltd Device and method for precise cutting
JP2000003887A (en) * 1999-05-31 2000-01-07 Tokyo Seimitsu Co Ltd Dicing equipment

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0550362A (en) * 1991-08-21 1993-03-02 Tokyo Seimitsu Co Ltd Blade position detector
JPH08288244A (en) * 1995-04-11 1996-11-01 Disco Abrasive Syst Ltd Optical detecting means
JPH1126402A (en) * 1997-07-02 1999-01-29 Disco Abrasive Syst Ltd Device and method for precise cutting
JP2000003887A (en) * 1999-05-31 2000-01-07 Tokyo Seimitsu Co Ltd Dicing equipment

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20170127359A (en) 2016-05-11 2017-11-21 가부시기가이샤 디스코 Cutting device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2001298002A (en) 2001-10-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100611897B1 (en) Cutting blade detection mechanism for a cutting machine
US20040083868A1 (en) Cutting device
US6439962B1 (en) Cleaning apparatus
US7329079B2 (en) Semiconductor wafer processing machine
JP2009083077A (en) Cutting blade detection mechanism
JP4813855B2 (en) Cutting apparatus and processing method
JP2018140450A (en) Grinding apparatus
JP6120710B2 (en) Cutting equipment
JP2004303855A (en) Cutting device
JP4590060B2 (en) Cutting equipment
JP6397270B2 (en) Cutting equipment
JP4542223B2 (en) Cutting equipment
JP4763398B2 (en) Cutting equipment
CN115632008B (en) Wafer edge defect processing method and wafer thinning equipment
JP2021019115A (en) Processing device
JP2008199071A (en) Wafer chamfering apparatus
JP2009188296A (en) Wafer cleaning device
JP6208587B2 (en) Cutting equipment
KR20210104558A (en) Machining apparatus
JP2021034647A (en) Protective film coating device and laser processing apparatus equipped with protective film coating device
JPH11195693A (en) Work alignment device of surface grinder
JPH11198007A (en) Surface grinding device
JP4731265B2 (en) Cutting equipment
JP2009130029A (en) Cutting device
CN117644587A (en) Wafer trimming device and wafer trimming method

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070305

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091127

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100601

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100730

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100907

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100913

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Ref document number: 4590060

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130917

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130917

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term