JP4587049B2 - トンネル掘削方法 - Google Patents
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Description
2 爆薬
3 込め物
4 発破孔
4a 孔底
4b 開口
5 供給管部
5a 供給管
5b 仕切部材
5c 先端
6 圧送手段
7 一方の空間
8 他方の空間
9 雷管
10 爆薬層
11 共存層
12 込め物層
13 組
G 地盤
T1 切羽面
O1 供給管の軸線
Claims (2)
- トンネルの切羽面から前記トンネルの掘進方向に向けて地盤に複数の発破孔を穿孔するとともに該発破孔に爆薬と前記発破孔を填塞する込め物を装填し、前記爆薬を爆発させて前記地盤を掘削してゆくトンネル掘削方法において、
前記爆薬が供給される一方の空間及び前記込め物が供給される他方の空間の2つの空間を有して構成された供給管部と、前記発破孔に挿入され順次前記発破孔から引き抜かれる前記供給管部の開口する先端から前記爆薬と前記込め物をそれぞれ吐出させる圧送手段とを備える爆薬装填装置を用い、前記圧送手段を制御して前記供給管部の先端から吐出する前記爆薬と前記込め物のそれぞれの吐出量を制御しながら前記発破孔に前記爆薬と前記込め物を装填することを特徴とするトンネル掘削方法。 - 請求項1記載のトンネル掘削方法において、
前記発破孔に、前記爆薬のみが装填される爆薬層と、前記爆薬及び前記込め物が積層して装填される共存層と、前記込め物のみが装填される込め物層とが形成されるように、前記爆薬と前記込め物のそれぞれの吐出量を制御することを特徴とするトンネル掘削方法。
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