JP4586110B1 - Reflection mirror device and reflection mirror substrate - Google Patents

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  • Mounting And Adjusting Of Optical Elements (AREA)

Abstract

【課題】反射ミラー基体を固定するための光学マウントを必要とせず、しかも調整可能な反射面の向きが1軸を中心とする回転方向に限定されず調整することが可能である。
【解決手段】反射ミラー基体10を保持する構造体である光学ステージ12に対して、この反射ミラー基体がその位置及び姿勢を調整可能な状態で直接固定された反射ミラー装置である。光学ステージには、第1繰り出し機構部20及び第2繰り出し機構部22が形成されており、これらの機構によって、反射ミラー基体の光学ステージに対する位置及び姿勢を調整することが可能な形態に構成されている。第1及び第2繰り出し機構部を具えていることによって、反射ミラー基体の反射面の向きが1軸を中心とする回転方向に限定されず調整することが可能とされている。
【選択図】図4
An optical mount for fixing a reflecting mirror base is not required, and the direction of an adjustable reflecting surface can be adjusted without being limited to a rotation direction about one axis.
The reflection mirror device is directly fixed to an optical stage, which is a structure holding the reflection mirror substrate, in a state where the position and posture of the reflection mirror substrate can be adjusted. The optical stage is formed with a first payout mechanism portion 20 and a second payout mechanism portion 22, and these mechanisms are configured to be capable of adjusting the position and posture of the reflecting mirror base relative to the optical stage. ing. By providing the first and second feeding mechanism portions, the direction of the reflecting surface of the reflecting mirror base can be adjusted without being limited to the rotation direction about one axis.
[Selection] Figure 4

Description

この発明は、反射ミラーの位置及び反射面の向きを調整可能とする機能を有する反射ミラー装置に関する。   The present invention relates to a reflection mirror device having a function that makes it possible to adjust the position of a reflection mirror and the direction of a reflection surface.

レンズ及び反射ミラー等の光学素子は、通常、ねじあるいはばねによって光学マウントに固定され、この光学マウントの位置及び姿勢を調整可能な状態で保持する機械的な構造体である光学ステージに取り付けられて利用される。   Optical elements such as lenses and reflecting mirrors are usually fixed to an optical mount by screws or springs, and are attached to an optical stage that is a mechanical structure that holds the position and posture of the optical mount in an adjustable state. Used.

例えば、光学素子を把持する第1プレートと、ねじ及びばねを用いて第1プレートに連結された第2プレートとを具え、上述のねじ及びばねによって第2プレートに対して第1プレートを離しあるいは近づけ、かつ第2プレートに対して第1プレートを回転することを可能とした構成の光学機器マウントが開示されている。(特許文献1参照)。光学素子はねじ機構であるファスナーで第1プレートに固定されて把持され、第2プレートは止めねじで光学ステージ等の基台に取り付けられる。   For example, a first plate for holding the optical element and a second plate connected to the first plate using a screw and a spring, and the first plate is separated from the second plate by the above-described screw and spring, or An optical device mount is disclosed which is configured to be close and capable of rotating the first plate relative to the second plate. (See Patent Document 1). The optical element is fixed and held on the first plate by a fastener that is a screw mechanism, and the second plate is attached to a base such as an optical stage by a set screw.

ここで、第1プレートは光学マウントに該当し、第2プレートは光学ステージに該当する。すなわち、特許文献1に開示されている光学機器マウントは、光学素子がねじで光学マウントに固定され、この光学マウントがばね及びねじによって光学ステージに連結されて構成されている。   Here, the first plate corresponds to the optical mount, and the second plate corresponds to the optical stage. In other words, the optical device mount disclosed in Patent Document 1 is configured such that an optical element is fixed to an optical mount with a screw, and this optical mount is connected to an optical stage with a spring and a screw.

また、反射ミラーの設置角度を調整する調整部材と、この調整部材による設置角度変更の支点となる支点部と、この支点部及び調整部材に反射ミラーを押圧する弾性部材とを具えた光学部品固定機構が開示されている(特許文献2参照)。この光学部品固定機構において、弾性部材は、反射ミラーの側面の調整部材に近い方を押圧する調整部材側押圧部と、反射ミラーの側面の支点部に近い方を押圧する支点側押圧部とを有し、支点側押圧部は、反射ミラーの調整部材による設置角度の変更に連動して押圧力が変更される構成とされている。ここで、反射ミラーが光学素子に該当する。   Also, an optical component fixing comprising an adjustment member that adjusts the installation angle of the reflection mirror, a fulcrum part that serves as a fulcrum for changing the installation angle by the adjustment member, and an elastic member that presses the reflection mirror against the fulcrum part and the adjustment member. A mechanism is disclosed (see Patent Document 2). In this optical component fixing mechanism, the elastic member includes an adjustment member side pressing portion that presses the side closer to the adjustment member on the side surface of the reflecting mirror, and a fulcrum side pressing portion that presses the side closer to the fulcrum portion on the side surface of the reflecting mirror. The fulcrum side pressing portion is configured such that the pressing force is changed in conjunction with the change in the installation angle by the adjusting member of the reflection mirror. Here, the reflection mirror corresponds to the optical element.

この光学部品固定機構によれば、姿勢を変えるための力が与えられる力点及び姿勢を変える際の支点が直接反射ミラーそのものに設けられており、光学素子を固定するための光学マウントを必要とせず、直接光学素子である反射ミラーが光学ステージに連結して取り付けられる構成とされている。   According to this optical component fixing mechanism, a force point to which a force for changing the posture and a fulcrum for changing the posture are provided directly on the reflecting mirror itself, and an optical mount for fixing the optical element is not required. The reflection mirror, which is a direct optical element, is connected to and attached to the optical stage.

以後の説明において、光学素子として反射ミラーを対象とするものとし、また、反射ミラーの反射面と当該反射ミラーの構造体とを区別して説明する必要がある場合は、当該反射ミラーの構造体を反射ミラー基体というものとする。ここで、反射ミラーの構造体とは、反射面を具える反射ミラーの構成材料であって、例えば、ガラス基板、セラミック基板あるいは樹脂基板等を指す。   In the following description, it is assumed that the optical element is a reflection mirror, and when it is necessary to distinguish between the reflection surface of the reflection mirror and the structure of the reflection mirror, the structure of the reflection mirror is It is assumed to be a reflection mirror substrate. Here, the structure of the reflecting mirror is a constituent material of the reflecting mirror having a reflecting surface, and refers to, for example, a glass substrate, a ceramic substrate, or a resin substrate.

特表2002−506998号公報JP 2002-506998 A 特開2007−130032号公報JP 2007-130032 A

上述の特許文献1に開示された光学機器マウントのように、ねじにより点状の支点で反射ミラー基体を光学マウントに固定し、この光学マウントの姿勢を調整することによって反射面の向きを調整する方式の従来の支持機構では、光学マウントに反射ミラー基体を固定するための点状の支点から反射ミラー基体に加わる応力によって反射面が変形する場合がある。   Like the optical device mount disclosed in Patent Document 1 described above, the reflecting mirror base is fixed to the optical mount with a point-like fulcrum by a screw, and the orientation of the reflecting surface is adjusted by adjusting the attitude of the optical mount. In the conventional support mechanism of the system, the reflecting surface may be deformed by a stress applied to the reflecting mirror base from a point-like fulcrum for fixing the reflecting mirror base to the optical mount.

また、反射ミラー基体の素材とこの反射ミラー基体を固定している光学マウントの構成素材とは異なり、その熱膨張係数も異なる。従って、温度変化に伴って反射ミラー基体と光学マウントの熱膨張の大きさに差が生じる。この差によって、反射ミラーを固定しているねじによる支点に働く応力の大きさが変化し、これによって発生する応力の変化により反射面が更に変形することもある。   Further, the material of the reflecting mirror base is different from the constituent material of the optical mount that fixes the reflecting mirror base, and the thermal expansion coefficient thereof is also different. Therefore, a difference occurs in the magnitude of thermal expansion between the reflecting mirror base and the optical mount as the temperature changes. Due to this difference, the magnitude of the stress acting on the fulcrum by the screw fixing the reflecting mirror changes, and the reflecting surface may be further deformed by the change in the stress generated thereby.

そこで、特許文献2に開示された光学部品固定機構のように、光学素子を固定するための光学マウントを必要としない構成とすれば、ねじによる支点に働く応力の不均等性が解消され、上述の光学部品を光学マウントに固定する支点から発生する応力による光学素子の変形の問題は回避される。しかしながら、特許文献2に開示された光学部品固定機構によれば、調整可能な反射面の向きが1軸を中心とする回転方向に限られる。   Therefore, if the optical component fixing mechanism disclosed in Patent Document 2 does not require an optical mount for fixing the optical element, the unevenness of the stress acting on the fulcrum by the screw is eliminated, and the above-mentioned The problem of deformation of the optical element due to the stress generated from the fulcrum that fixes the optical component to the optical mount is avoided. However, according to the optical component fixing mechanism disclosed in Patent Document 2, the direction of the adjustable reflecting surface is limited to the rotation direction about one axis.

この出願の発明者は、反射ミラー基体を固定するための光学マウントを必要とせず、直接反射ミラー基体が光学ステージに連結して取り付けられる構成であって、かつ反射ミラー基体の姿勢制御があらゆる方向に対して可能である機構を鋭意検討した。その結果、反射ミラー基体を、当該反射ミラー基体の反射面に対向する裏面の離間した2箇所で光学ステージ側から押し出しあるいは引き戻す構成とすることによって、上述の光学マウントを必要とせず、かつ反射ミラー基体の反射面の法線方向を任意の向きに制御することが可能となることを見出した。   The inventor of this application does not require an optical mount for fixing the reflecting mirror base, and is configured so that the reflecting mirror base is directly connected to the optical stage, and the attitude control of the reflecting mirror base is in any direction. The mechanism that is possible is studied. As a result, the above-described optical mount is not required and the reflecting mirror is configured by pushing or pulling the reflecting mirror base from the optical stage side at two spaced apart positions on the back surface facing the reflecting surface of the reflecting mirror base. It has been found that the normal direction of the reflecting surface of the substrate can be controlled to an arbitrary direction.

そこで、この発明の目的は、反射ミラー基体を固定するための光学マウントを必要とせず、しかも調整可能な反射面の向きが1軸を中心とする回転方向に限定されずに調整することが可能である反射ミラー装置を提供することにある。   Therefore, the object of the present invention is that an optical mount for fixing the reflecting mirror base is not required, and the direction of the adjustable reflecting surface can be adjusted without being limited to the rotation direction about one axis. It is to provide a reflection mirror device.

この発明の要旨によれば、以下の発明の反射ミラー装置が提供される。   According to the gist of the present invention, the reflecting mirror device of the following invention is provided.

この発明の第1の反射ミラー装置は、反射面を有する反射ミラー基体を保持する構造体である光学ステージに対して、この反射ミラー基体が当該反射ミラー基体の位置及び姿勢を調整可能な状態で固定された反射ミラー装置である。   The first reflection mirror device of the present invention is such that the reflection mirror substrate can adjust the position and posture of the reflection mirror substrate with respect to the optical stage that is a structure that holds the reflection mirror substrate having the reflection surface. It is a fixed reflection mirror device.

反射面を有する基板である反射ミラー基体には、当該反射ミラー基体の反射面に対向する裏面の離間した2箇所に作用点が設定されており、光学ステージには、繰り出し具が一直線上を前進または後退するよう構成された繰り出し機構部が離間して2箇所に形成されており、繰り出し具の先頭部が、反射ミラー基体の作用点にそれぞれ接触した状態に形成されている。そして、繰り出し具を前進させて反射ミラーの作用点を押し出し、あるいは繰り出し具を後退させて反射ミラーの作用点を引き戻すことによって、反射ミラー基体の光学ステージに対する位置及び姿勢を調整することが可能な形態に構成されている。 The reflecting mirror base, which is a substrate having a reflecting surface, has two points of action on the back side facing the reflecting surface of the reflecting mirror base, and the optical stage has a feeding tool that advances in a straight line. or feeding mechanism configured to retract is formed at two positions spaced apart, the head of the feeding device is formed in contact respectively created for point of the reflecting mirror substrate. The position and posture of the reflecting mirror base relative to the optical stage can be adjusted by moving the feeding tool forward to push out the action point of the reflecting mirror, or by retracting the feeding tool to pull back the action point of the reflecting mirror. It is configured in a form.

繰り出し機構部は、光学ステージに形成された雌ねじと、この雌ねじに捩じ込まれこの雌ねじから繰り出し可能に組み合わせられた雄ねじとから構成するのが良い。この場合、この雄ねじが繰り出し具に相当する。   The feeding mechanism section may be constituted by a female screw formed on the optical stage and a male screw that is screwed into the female screw and combined so as to be fed out from the female screw. In this case, the male screw corresponds to a feeding tool.

また、繰り出し機構部は、光学ステージに固定されたシリンダーと、このシリンダーから繰り出し可能に嵌めこまれたピストンから構成される、動作流体を媒体として力をピストンに伝達する制御機構としてもよい。この場合、ピストンが繰り出し具に相当する。   Further, the feeding mechanism unit may be a control mechanism that includes a cylinder fixed to the optical stage and a piston fitted so as to be able to be fed out from the cylinder, and transmits a force to the piston using a working fluid as a medium. In this case, the piston corresponds to the feeding tool.

この発明の反射ミラー装置は、更に、光学ステージと反射ミラー基体とを弾性力を以って互いの位置関係を保持する弾性力機構を具え、この弾性力機構によって繰り出し具の先頭部が作用点に接触した状態が維持される構成とするのが良い。   The reflection mirror device of the present invention further includes an elastic force mechanism that maintains the positional relationship between the optical stage and the reflection mirror base body with an elastic force. It is preferable to have a configuration in which the state in contact with the surface is maintained.

また、この発明の反射ミラー装置は、更に、光学ステージと反射ミラー基体とを磁力を以って互いの位置関係を保持する磁力機構を具え、この磁力機構によって繰り出し具の先頭部が作用点に接触した状態が維持される構成としても良い。   Further, the reflection mirror device of the present invention further includes a magnetic mechanism that holds the optical stage and the reflection mirror substrate with each other by a magnetic force, and the leading portion of the feeding tool serves as an action point by the magnetic force mechanism. It is good also as a structure by which the state which contacted is maintained.

上述の弾性力機構は、一端が光学ステージの一点に固定され、かつ他端が反射ミラー基体の一点に固定されたばね機構とするのが良い。   The above-described elastic force mechanism is preferably a spring mechanism in which one end is fixed to one point of the optical stage and the other end is fixed to one point of the reflecting mirror base.

また、上述の磁力機構は、光学ステージ及び反射ミラー基体のそれぞれの箇所に固定された磁石の組として構成するのがよい。   Further, the above-described magnetic force mechanism is preferably configured as a set of magnets fixed to respective portions of the optical stage and the reflecting mirror base.

この発明の第2の反射ミラー装置は、上述の反射ミラー基体が、反射面に対向する裏面と、この裏面と直交する底面を有し、この底面に第1突起部及び第2突起部が設けられた構成とされる。そして、光学ステージには第1突起部及び第2突起部とそれぞれ嵌合する第1の凹部及び第2の凹部が設けられ、第1突起部及び第2突起部がそれぞれ第1の凹部及び第2の凹部に嵌合させて配置されることによって反射ミラー基体が光学ステージに取り付けられる。ここで、第1の凹部は中心対称軸を有する略円錐形状の凹みとされ、第2の凹部は第1の凹部の中心対称軸を中心とする略円弧状の凹みとされる。そして、第1突起部を中心として第2突起部が回転可能であり、かつ第1突起部と第2突起部を結ぶ直線を回転軸として反射ミラー基体が回転可能に構成される。   In the second reflecting mirror device of the present invention, the above-described reflecting mirror base has a back surface facing the reflecting surface and a bottom surface orthogonal to the back surface, and the first projecting portion and the second projecting portion are provided on the bottom surface. Configuration. The optical stage is provided with a first recess and a second recess that are respectively fitted to the first protrusion and the second protrusion, and the first protrusion and the second protrusion are respectively the first recess and the second protrusion. The reflecting mirror base is attached to the optical stage by being fitted to the two recesses. Here, the first recess is a substantially conical recess having a central symmetry axis, and the second recess is a substantially arc-shaped recess centered on the central symmetry axis of the first recess. The second protrusion is rotatable about the first protrusion, and the reflection mirror base is rotatable about a straight line connecting the first protrusion and the second protrusion.

この発明の第1及び第2の反射ミラー装置の構成要素である反射ミラー基体は、光学ステージと弾性力を以って互いの位置関係を保持するために、一端が光学ステージに固定されたばねの他端を固定するためのばね固定穴を具えるのが良い。   The reflecting mirror substrate, which is a component of the first and second reflecting mirror devices of the present invention, is a spring whose one end is fixed to the optical stage in order to maintain the mutual positional relationship with the optical stage by elastic force. A spring fixing hole for fixing the other end may be provided.

また、この発明の第1及び第2の反射ミラー装置の構成要素である反射ミラー基体は、光学ステージと磁力を以って互いの位置関係を保持するために、光学ステージに固定された一方の磁石に対する他方の磁石が固定されている構成としても良い。   In addition, the reflecting mirror substrate, which is a constituent element of the first and second reflecting mirror devices of the present invention, is fixed to the optical stage in order to maintain the mutual positional relationship with the optical stage with a magnetic force. The other magnet with respect to the magnet may be fixed.

この発明の第2の反射ミラー装置の構成要素である反射ミラー基体は、反射面とこの反射面に対向する裏面と、この裏面と直交する底面を有し、この底面に、離間した2点で光学ステージから支持されるための、第1突起部及び第2突起部とが設けられた構成とするのが良い。   The reflection mirror substrate, which is a constituent element of the second reflection mirror device of the present invention, has a reflection surface, a back surface opposite to the reflection surface, and a bottom surface orthogonal to the back surface. A configuration in which a first protrusion and a second protrusion are provided to be supported from the optical stage is preferable.

この発明の反射ミラー装置によれば、上述した様に、反射ミラー基体が光学マウントを介すことなく、直接光学ステージに当該反射ミラー基体の位置及び姿勢を調整可能な状態で連結されて取り付けられている。   According to the reflecting mirror device of the present invention, as described above, the reflecting mirror base is directly connected to the optical stage in a state where the position and posture of the reflecting mirror base can be adjusted without passing through the optical mount. ing.

そのため、反射ミラー基体を光学マウントに固定するためのねじ機構を必要としない。従って、このねじによる反射ミラー基体への応力が発生しないので、反射面が変形する原因の一つを取り除くことが可能である。   Therefore, there is no need for a screw mechanism for fixing the reflecting mirror base to the optical mount. Accordingly, since no stress is generated on the reflecting mirror base by the screw, it is possible to remove one of the causes for the deformation of the reflecting surface.

また、この発明の反射ミラー装置は、反射ミラー基体が光学マウントを介すことなく直接光学ステージに固定される構成であるから、光学マウントによって反射ミラー基体が覆われる部分が存在しない。このため、反射ミラー基体の反射面の有効面積を広くとることが可能となる。すなわち、この発明の反射ミラー装置によれば、反射ミラー基体の反射面の全面を有効に利用できるのに対して、従来の光学マウントを利用して構成する反射ミラー装置では、反射ミラー基体の周辺部分は光学マウントによって覆われる。そのため、同一の大きさの反射ミラー基体を用いて反射ミラー装置を構成した場合、この発明の反射ミラー装置の方が、従来の光学マウントを利用して構成する反射ミラー装置と比較して、反射面として有効に利用可能な面積が広く取れるという利点を有している。   In the reflection mirror device of the present invention, since the reflection mirror base is directly fixed to the optical stage without passing through the optical mount, there is no portion where the reflection mirror base is covered by the optical mount. For this reason, it is possible to increase the effective area of the reflecting surface of the reflecting mirror base. That is, according to the reflection mirror device of the present invention, the entire reflection surface of the reflection mirror substrate can be used effectively, whereas in the reflection mirror device configured using the conventional optical mount, the periphery of the reflection mirror substrate is The part is covered by an optical mount. Therefore, when the reflection mirror device is configured using the same size of the reflection mirror substrate, the reflection mirror device of the present invention is more reflective than the reflection mirror device configured using the conventional optical mount. It has the advantage that the area that can be effectively used as a surface can be widened.

この発明の反射ミラー装置によっても、反射ミラー基体には光学ステージに固定するために不均等な応力が働くことは従来の同種の反射ミラー装置と同様である。しかしながら、反射ミラー基体に働く応力によって反射面の歪みが大きく表れるのは、反射ミラー基体の反射面の周辺部分である。すなわち、利用可能な反射面を広く確保できるこの発明の反射ミラー装置によれば、歪が小さな反射面の中央部分に限定して利用することによって、反射面の歪みの影響を小さくすることが可能となる。このことは、この発明の反射ミラー装置が、反射面として有効に利用可能な面積が広く取れるという特長を有していることに起因する事であり、この点については、後述するように、実験によって確認されている。   Even in the reflection mirror device of the present invention, the non-uniform stress acts on the reflection mirror substrate to fix it to the optical stage, as in the conventional reflection mirror device of the same type. However, the distortion of the reflecting surface due to the stress acting on the reflecting mirror substrate is largely in the peripheral portion of the reflecting surface of the reflecting mirror substrate. In other words, according to the reflection mirror device of the present invention that can ensure a wide range of available reflection surfaces, it is possible to reduce the influence of the distortion of the reflection surface by using only the central portion of the reflection surface with a small distortion. It becomes. This is due to the fact that the reflecting mirror device of the present invention has a feature that a large area that can be effectively used as a reflecting surface can be taken, and this point is experimentally described later. Has been confirmed by.

更に、この発明の第1の反射ミラー装置によれば、光学ステージに繰り出し機構部が離間して2箇所に形成されており、この2箇所に形成された繰り出し機構部によって、反射ミラー基体の光学ステージに対する位置及び姿勢を調整することが可能な形態に構成されている。このような構成とされていることによって、調整可能な反射面の向きが1軸を中心とする回転方向に限られることなく、反射ミラー基体に形成されている反射面の向きは制約無く調整することが可能となる。   Furthermore, according to the first reflecting mirror device of the present invention, the feeding mechanism part is formed at two positions apart from the optical stage, and the feeding mechanism part formed at these two places allows the optical of the reflecting mirror base to be It is comprised in the form which can adjust the position and attitude | position with respect to a stage. By adopting such a configuration, the direction of the reflective surface that can be adjusted is not limited to the rotation direction around one axis, and the direction of the reflective surface formed on the reflective mirror base is adjusted without restriction. It becomes possible.

また、この発明の第2の反射ミラー装置は、光学ステージに繰り出し機構部が離間して2箇所に形成されている点が上述の第1の反射ミラー装置と共通する。その上で、この発明の第2の反射ミラー装置は、第1突起部を中心として第2突起部が回転可能であり、第1突起部と第2突起部を結ぶ直線を回転軸として反射ミラー基体が回転可能に構成されている。このような構成とされることによって、第1突起部を中心として第2突起部が円弧状に調整可能であることに加えて、第1突起部と第2突起部とを結ぶ直線を回転中心とする反射ミラー基体の回転自由度が確保されるので、反射ミラー基体に形成されている反射面の向きを制約無く調整することが可能となる。   Further, the second reflection mirror device of the present invention is common to the first reflection mirror device described above in that the feeding mechanism portion is formed at two positions apart from the optical stage. In addition, in the second reflecting mirror device of the present invention, the second projecting portion is rotatable about the first projecting portion, and the reflecting mirror is configured with a straight line connecting the first projecting portion and the second projecting portion as a rotation axis. The substrate is configured to be rotatable. With this configuration, the second protrusion can be adjusted in an arc shape around the first protrusion, and in addition, a straight line connecting the first protrusion and the second protrusion is the center of rotation. Therefore, it is possible to adjust the orientation of the reflecting surface formed on the reflecting mirror substrate without any restriction.

この発明の実施形態の反射ミラー装置と同種の代表的な構成の従来の反射ミラー装置の光学マウント側から見た斜視図である。It is the perspective view seen from the optical mount side of the conventional reflective mirror apparatus of the typical structure of the same kind as the reflective mirror apparatus of embodiment of this invention. この発明の実施形態の反射ミラー装置と同種の代表的な構成の従来の反射ミラー装置の光学ステージ側から見た斜視図である。It is the perspective view seen from the optical stage side of the conventional reflective mirror apparatus of the same kind of typical structure as the reflective mirror apparatus of embodiment of this invention. この発明の実施形態の第1の反射ミラー装置の反射ミラー基体の反射面が形成されている主面側から見た斜視図である。FIG. 5 is a perspective view seen from the main surface side where the reflecting surface of the reflecting mirror substrate of the first reflecting mirror device of the embodiment of the present invention is formed. この発明の実施形態の第1の反射ミラー装置の反射ミラー基体の反射面が形成されている主面と対向する裏面側から見た斜視図である。FIG. 5 is a perspective view seen from the back surface side facing the main surface on which the reflecting surface of the reflecting mirror substrate of the first reflecting mirror device of the embodiment of the present invention is formed. この発明の実施形態の反射ミラー装置の分解図である。It is an exploded view of the reflective mirror apparatus of embodiment of this invention. この発明の実施形態の第1の反射ミラー装置が具える反射ミラー基体の反射面の全面にわたる平面形状の説明に供する図であり、(A)は光学ステージへの装着時の反射ミラー基体の反射面の全面にわたる表面形状を3次元的に示す図であり、(B)は反射ミラー基体の反射面の中央部分を通る反射面に略垂直な平面と反射面との交線を示す図である。It is a diagram for explaining the planar shape over the entire reflection surface of the reflection mirror substrate provided in the first reflection mirror device of the embodiment of the present invention, (A) is the reflection of the reflection mirror substrate at the time of mounting on the optical stage FIG. 3B is a diagram showing a surface shape over the entire surface in a three-dimensional manner, and FIG. 5B is a diagram showing an intersection line between a reflecting surface and a plane substantially perpendicular to the reflecting surface passing through the central portion of the reflecting surface of the reflecting mirror base. . この発明の実施形態の第1の反射ミラー装置が具える反射ミラー基体の反射面の中央部分の円内の平面形状の説明に供する図であり、(A)は光学ステージへの装着時の反射ミラー基体の反射面の中央部分の円内の表面形状を3次元的に示す図であり、(B)は反射ミラー基体の反射面の中央部分の円の中心を通る反射面に略垂直な平面と反射面との交線を示す図である。It is a diagram for explaining the planar shape in the circle of the central portion of the reflecting surface of the reflecting mirror substrate provided in the first reflecting mirror device of the embodiment of the present invention, (A) is a reflection at the time of mounting on the optical stage It is a figure which shows the surface shape in the circle | round | yen of the center part of the reflective surface of a mirror base | substrate in three dimensions, (B) is a plane substantially perpendicular to the reflective surface which passes along the center of the circle | round | yen of the center part of the reflective surface of a reflective mirror base | substrate It is a figure which shows the intersection line of and a reflective surface. 従来の反射ミラー装置が具える光学マウントに固定される前の反射ミラー基体の反射面の全面にわたる平面形状の説明に供する図であり、(A)は光学マウントへの装着前の反射ミラー基体の反射面の全面にわたる表面形状を3次元的に示す図であり、(B)は反射ミラー基体の反射面の中央部分を通る反射面に略垂直な平面と反射面との交線を示す図である。It is a figure used for explanation of the planar shape over the entire reflection surface of the reflection mirror base before being fixed to the optical mount provided with the conventional reflection mirror device, and (A) is a view of the reflection mirror base before mounting to the optical mount. It is a diagram showing the surface shape over the entire surface of the reflecting surface in a three-dimensional manner, (B) is a diagram showing the intersection of the plane and the reflecting surface substantially perpendicular to the reflecting surface passing through the central portion of the reflecting surface of the reflecting mirror base is there. 従来の反射ミラー装置が具える光学マウントに固定された後の反射ミラー基体の反射面の全面にわたる平面形状の説明に供する図であり、(A)は光学マウントへの装着後の反射ミラー基体の反射面の全面にわたる表面形状を3次元的に示す図であり、(B)は反射ミラー基体の反射面の中央部分を通る反射面に略垂直な平面と反射面との交線を示す図である。It is a figure used for explanation of the planar shape over the entire reflecting surface of the reflecting mirror substrate after being fixed to the optical mount provided with the conventional reflecting mirror device, and (A) is a diagram of the reflecting mirror substrate after being mounted on the optical mount. It is a diagram showing the surface shape over the entire surface of the reflecting surface in a three-dimensional manner, (B) is a diagram showing the intersection of the plane and the reflecting surface substantially perpendicular to the reflecting surface passing through the central portion of the reflecting surface of the reflecting mirror base is there. この発明の実施形態の第2の反射ミラー装置についての説明に供する図であり、反射ミラー基体の反射面が形成されている主面側から見た概略的斜視図である。FIG. 5 is a diagram for explaining a second reflection mirror device according to an embodiment of the present invention, and is a schematic perspective view seen from the main surface side where a reflection surface of a reflection mirror base is formed. この発明の実施形態の第2の反射ミラー装置についての説明に供する図であり、(A)は反射ミラー基体の反射面に平行な方向から見た反射ミラー基体の概略的側面図であり、(B)は反射ミラー基体の反射面に平行な方向から見た光学ステージの概略的な側面図である。It is a diagram for explaining the second reflection mirror device of the embodiment of the present invention, (A) is a schematic side view of the reflection mirror substrate viewed from a direction parallel to the reflection surface of the reflection mirror substrate, B) is a schematic side view of the optical stage viewed from a direction parallel to the reflecting surface of the reflecting mirror substrate. この発明の実施形態の第2の反射ミラー装置についての説明に供する図であり、(A)は反射ミラー基体の反射面に直交する方向から見た反射ミラー基体の概略的正面図であり、(B)は反射ミラー基体の反射面に平行な方向から見た反射ミラー装置の概略的な平面図である。It is a diagram for explaining the second reflection mirror device of the embodiment of the present invention, (A) is a schematic front view of the reflection mirror substrate viewed from a direction orthogonal to the reflection surface of the reflection mirror substrate, B) is a schematic plan view of the reflecting mirror device viewed from a direction parallel to the reflecting surface of the reflecting mirror substrate.

以下、図を参照して、この発明の実施形態につき説明する。なお、各図は、この発明が理解できる程度に各構成部分を概略的に示してあるに過ぎず、この発明を図示例に限定するものではない。また、各図において同様の構成要素については同一の番号を付して示し、これらの機能等に関して、その重複する説明を省略することもある。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In addition, each figure has only shown each component schematically to such an extent that this invention can be understood, and this invention is not limited to the example of illustration. Moreover, in each figure, the same number is shown about the same component, The overlapping description about these functions etc. may be abbreviate | omitted.

<従来の反射ミラー装置>
この発明の実施形態の反射ミラー装置の構成が、従来の同種の反射ミラー装置の構成と基本的に相違する点を明確にするために、図1及び図2を参照して、従来の反射ミラー装置の構成についてまず説明する。図1は、後述するこの発明の実施形態の反射ミラー装置と同種の代表的な構成の従来の反射ミラー装置の光学マウント側から見た斜視図であり、図2は図1に示す従来の反射ミラー装置の光学ステージ側から見た斜視図である。
<Conventional reflection mirror device>
In order to clarify that the configuration of the reflection mirror device according to the embodiment of the present invention is basically different from the configuration of a conventional reflection mirror device of the same type, a conventional reflection mirror will be described with reference to FIGS. First, the configuration of the apparatus will be described. FIG. 1 is a perspective view of a conventional reflecting mirror device having a representative configuration of the same type as that of a reflecting mirror device according to an embodiment of the present invention, which will be described later, as viewed from the optical mount side, and FIG. It is the perspective view seen from the optical stage side of a mirror apparatus.

図1及び図2は、共に反射ミラー基体が取り付けられていない状態における斜視図である。反射ミラー基体が取り付けられた場合、図1に示す斜視図は、反射ミラー基体の反射面の側から見た斜視図であり、図2は反射ミラー基体の反射面の裏側から見た斜視図となる。   FIG. 1 and FIG. 2 are perspective views in a state in which the reflecting mirror base is not attached. When the reflection mirror base is attached, the perspective view shown in FIG. 1 is a perspective view seen from the reflection surface side of the reflection mirror base, and FIG. 2 is a perspective view seen from the back side of the reflection surface of the reflection mirror base. Become.

図1及び図2に示す従来の反射ミラー装置は、反射ミラー基体を把持する光学マウント150と、繰り出し機構部及びばねを用いて光学マウント150を連結する光学ステージ112とを具え、上述の繰り出し機構部及びばねによって光学ステージ112に対して光学マウント150を離しあるいは近づけ、かつ光学ステージ112に対して光学マウント150を微小角度(最大でも10°程度)だけ回転することを可能とした構成の反射ミラー装置である。以後の説明において、光学ステージ112に対して光学マウント150を微小角度だけその姿勢を回転させることを、部分的な回転運動をさせるということもある。   The conventional reflecting mirror device shown in FIGS. 1 and 2 includes an optical mount 150 that holds the reflecting mirror base, and an optical stage 112 that connects the optical mount 150 using a feeding mechanism portion and a spring, and includes the above-described feeding mechanism. The reflection mirror has a configuration in which the optical mount 150 can be separated from or brought close to the optical stage 112 by a portion and a spring, and the optical mount 150 can be rotated by a minute angle (about 10 ° at the maximum) with respect to the optical stage 112. Device. In the following description, rotating the posture of the optical mount 150 by a minute angle with respect to the optical stage 112 may also cause a partial rotational movement.

繰り出し機構部は、第1繰り出し機構部120及び第2繰り出し機構部122の2つからなっている。また、光学ステージ112に取り付けられたピン130の先頭部130Pは、光学マウント150の一点に接触されており、この一点を支点として光学マウント150の姿勢を変化させる構成とされている。   The feeding mechanism section includes two parts, a first feeding mechanism section 120 and a second feeding mechanism section 122. Further, the leading portion 130P of the pin 130 attached to the optical stage 112 is in contact with one point of the optical mount 150, and the posture of the optical mount 150 is changed using this one point as a fulcrum.

第1繰り出し機構部120は、雄ねじ116-1と雌ねじ116-2の組み合わせから成り光学ステージ112に取り付けられている。この雄ねじ116-1の先頭部116-1Pが光学マウント150の一点に接触しており、雄ねじ116-1を押し出しあるいは引き戻す事によって、雄ねじ116-1の先頭部116-1Pが接触している光学マウント150の一点が前進したり後退したりする。   The first feeding mechanism 120 is a combination of a male screw 116-1 and a female screw 116-2, and is attached to the optical stage 112. The leading end 116-1P of the male screw 116-1 is in contact with one point of the optical mount 150. By pushing or pulling back the male screw 116-1, the leading end 116-1P of the male screw 116-1 is in contact with the optical mount 150-1. One point on the mount 150 moves forward or backward.

第2繰り出し機構部122は、雄ねじ118-1と雌ねじ118-2の組み合わせから成り光学ステージ112に取り付けられている。この雄ねじ118-1の先頭部118-1Pが光学マウント150の一点に接触しており、雄ねじ118-1を押し出しあるいは引き戻す事によって、雄ねじ118-1の先頭部118-1Pが接触している光学マウント150の一点が前進したり後退したりする。   The second feeding mechanism 122 is a combination of a male screw 118-1 and a female screw 118-2, and is attached to the optical stage 112. The head portion 118-1P of the male screw 118-1 is in contact with one point of the optical mount 150, and the head portion 118-1P of the male screw 118-1 is in contact with the male screw 118-1 by pushing or pulling back the male screw 118-1. One point on the mount 150 moves forward or backward.

上述したように、雄ねじ116-1の先頭部116-1Pが接触している光学マウント150の一点が前進したり後退したりさせる操作によって、ピン130の先頭部130Pが光学マウント150に接触している支点と、第2繰り出し機構部122の雄ねじ118-1の先頭部118-1Pが光学マウント150に接触している一点とを結ぶ中心線を中心にして光学マウント150が図1に示すy軸方向を回転中心とする部分的な回転運動させることによって、光学マウント150の姿勢が調整される。   As described above, the leading portion 130P of the pin 130 is brought into contact with the optical mount 150 by the operation of moving one point forward or backward of the optical mount 150 with which the leading portion 116-1P of the male screw 116-1 is in contact. The optical mount 150 is shown in FIG. 1 with the center line connecting the fulcrum and the point where the leading end 118-1P of the male screw 118-1 of the second feeding mechanism portion 122 is in contact with the optical mount 150 as a center. The posture of the optical mount 150 is adjusted by performing a partial rotational movement with the direction as the rotational center.

同様に、雄ねじ118-1の先頭部118-1Pが接触している光学マウント150の一点が前進したり後退したりさせる操作によって、ピン130の先頭部130Pが光学マウント150に接触している支点と、第1繰り出し機構部120の雄ねじ116-1の先頭部116-1Pが光学マウント150に接触している一点とを結ぶ中心線を中心にして光学マウント150が図1に示すz軸方向を回転中心とする部分的な回転運動させることによって、光学マウント150の姿勢が調整される。   Similarly, the fulcrum in which the leading portion 130P of the pin 130 is in contact with the optical mount 150 by the operation of moving one point of the optical mount 150 in contact with the leading portion 118-1P of the male screw 118-1 to advance or retract. And the optical mount 150 in the z-axis direction shown in FIG. 1 centering on a center line connecting the leading end 116-1P of the male screw 116-1 of the first feeding mechanism portion 120 and one point in contact with the optical mount 150. The attitude of the optical mount 150 is adjusted by performing a partial rotational movement around the rotation center.

上述した第1繰り出し機構部120及び第2繰り出し機構部122による光学マウント150の姿勢調整によって、光学マウント150に取り付けられる反射ミラー基体の反射面の法線方向は、任意の方向に調整することが可能となっている。   The normal direction of the reflecting surface of the reflecting mirror base attached to the optical mount 150 can be adjusted to an arbitrary direction by adjusting the attitude of the optical mount 150 by the first feeding mechanism 120 and the second feeding mechanism 122 described above. It is possible.

反射ミラー基体は、光学マウント150の円形に抉られ形成されている窓部分154に嵌め込まれて、固定ねじ152によって固定される。   The reflecting mirror base is fitted into a window portion 154 formed in a circular shape of the optical mount 150 and fixed by a fixing screw 152.

図1及び図2において、反射ミラー基体を固定するためのねじは、固定ねじ152一つではなく複数用いられているが、固定ねじ152を除いて図示を省略してある。また、光学ステージ112に光学マウント150を連結するための構成部品であるばねについては、図面が煩瑣となり見にくくなるので図示を省略してある。光学マウント150を連結するための構成部品であるばねの図示を省略する代わりに、このばねを装着するために必要となる穴の部分及びこのばねを固定するためのピンを挿入するための穴について、円または楕円でその概略的位置及び構造を示してある。図1及び図2において、ばねを装着するために必要となる穴は158-1及び158-2であり、ピンを挿入するための穴は160-1及び160-2(図示せず)である。   In FIG. 1 and FIG. 2, a plurality of screws for fixing the reflecting mirror substrate are used instead of one fixing screw 152, but the illustration is omitted except for the fixing screw 152. Further, the illustration of the spring, which is a component for connecting the optical mount 150 to the optical stage 112, is omitted because the drawing becomes cumbersome and difficult to see. Instead of omitting the illustration of the spring that is a component for connecting the optical mount 150, a hole portion necessary for mounting the spring and a hole for inserting a pin for fixing the spring The schematic position and structure are indicated by circles or ellipses. In FIGS. 1 and 2, the holes required for mounting the springs are 158-1 and 158-2, and the holes for inserting the pins are 160-1 and 160-2 (not shown). .

また、反射ミラー装置を実際に利用する際には、この反射ミラー装置をマグネットチャック等に固定することが必要となるが、図1には、このような場合に光学ステージ112をマグネットチャック等に固定するためのねじ穴156を示してある。   Further, when actually using the reflection mirror device, it is necessary to fix the reflection mirror device to a magnet chuck or the like. FIG. 1 shows that the optical stage 112 is used as a magnet chuck or the like in such a case. A screw hole 156 for fixing is shown.

図1及び図2に示す従来の反射ミラー装置の特徴の一つは、ねじによって反射ミラー基体が構成されている光学マウント150を具えている点である。図1及び図2に示す光学マウント150は、反射ミラー基体を嵌め込むための窓部分154が円形に抉られて形成されている。そのため、この光学マウント150に嵌め込まれる反射ミラー基体は反射面を円形に囲む外周で切断された円盤状である必要がある。   One of the features of the conventional reflecting mirror device shown in FIGS. 1 and 2 is that it includes an optical mount 150 in which the reflecting mirror base is constituted by screws. The optical mount 150 shown in FIGS. 1 and 2 is formed with a window portion 154 for fitting the reflecting mirror base in a circular shape. For this reason, the reflecting mirror base to be fitted into the optical mount 150 needs to have a disk shape cut at the outer periphery surrounding the reflecting surface in a circle.

一般に光学マウント150に嵌め込まれる反射ミラー基体は、光学マウント150に形成されている窓部分154の形状に合致する形状に加工する必要がある。そして、反射面として利用可能な反射ミラー基体の反射面は、光学マウント150に形成されている窓部分154の形状によって制限される。すなわち、反射面として利用可能な反射面の有効面積は、光学マウント150に形成されている窓部分154の面積より広く取ることはできない。   In general, it is necessary to process a reflecting mirror base fitted in the optical mount 150 into a shape that matches the shape of the window portion 154 formed in the optical mount 150. The reflection surface of the reflection mirror base that can be used as the reflection surface is limited by the shape of the window portion 154 formed in the optical mount 150. That is, the effective area of the reflecting surface that can be used as the reflecting surface cannot be larger than the area of the window portion 154 formed in the optical mount 150.

また、上述した様に、光学マウント150に反射ミラー基体が固定ねじ152によって固定されているので、固定ねじ152による点状の支点から反射ミラー基体に加わる応力によって反射面が変形する場合がある。更に、反射ミラー基体の素材と光学マウント150の構成素材とが異なることによる熱的な応力によっても反射面が変形する場合がある。   Further, as described above, since the reflecting mirror base is fixed to the optical mount 150 by the fixing screw 152, the reflecting surface may be deformed by the stress applied to the reflecting mirror base from the dotted fulcrum by the fixing screw 152. Furthermore, the reflective surface may be deformed by thermal stress due to the difference between the material of the reflecting mirror base and the constituent material of the optical mount 150.

<この発明の実施形態の第1の反射ミラー装置>
図3〜図5を参照して、この発明の実施の形態の第1の反射ミラー装置について説明する。図3は、この発明の実施形態の第1の反射ミラー装置が具える反射ミラー基体の反射面が形成されている主面側から見た斜視図であり、図4は、図3に示すこの発明の実施形態の第1の反射ミラー装置が具えるミラー基体の反射面が形成されている主面と対向する裏面側から見た斜視図である。図5は、この発明の実施の形態の反射ミラー装置の分解図である。
<First Reflective Mirror Device of Embodiment of the Invention>
With reference to FIGS. 3 to 5, a first reflecting mirror device according to an embodiment of the present invention will be described. FIG. 3 is a perspective view seen from the main surface side on which the reflecting surface of the reflecting mirror substrate provided in the first reflecting mirror device of the embodiment of the present invention is formed, and FIG. FIG. 3 is a perspective view seen from the back side facing the main surface on which the reflecting surface of the mirror base provided in the first reflecting mirror device of the embodiment of the invention is formed. FIG. 5 is an exploded view of the reflecting mirror device according to the embodiment of the present invention.

以下、この発明の実施形態の第1の反射ミラー装置に利用する反射ミラー基体は、入射光全てが透過されることなく反射される通常の全反射鏡として形成されている場合に限らず、入射光の一部を透過させる半透鏡として形成されている場合であっても同様に利用可能である。   Hereinafter, the reflection mirror base used in the first reflection mirror device of the embodiment of the present invention is not limited to the case where it is formed as a normal total reflection mirror that reflects all incident light without being transmitted. Even when it is formed as a semi-transparent mirror that transmits a part of light, it can be used similarly.

この発明の実施形態の第1の反射ミラー装置は、図3に示すように、反射面10Rを有する反射ミラー基体10を保持する構造体である光学ステージ12に対して、この反射ミラー基体10がその位置及び姿勢を調整可能な状態で連結されて取り付けられた反射ミラー装置であり、反射ミラー基体10は光学ステージ12に離間した第1支持点14-1及び第2支持点14-2の2点で可動的に支持されている。   As shown in FIG. 3, the first reflecting mirror device according to the embodiment of the present invention is configured such that the reflecting mirror substrate 10 is provided with respect to the optical stage 12 that is a structure holding the reflecting mirror substrate 10 having the reflecting surface 10R. The reflection mirror device is connected and attached with its position and posture adjustable, and the reflection mirror base 10 is a first support point 14-1 and a second support point 14-2 separated from the optical stage 12. It is supported movably at a point.

光学ステージ12には、繰り出し具が一直線上を前進または後退するよう構成された第1繰り出し機構部20及び第2繰り出し機構部22が形成されており、第1繰り出し機構部20及び第2繰り出し機構部22のそれぞれの構成要素である繰り出し具の先頭部が、反射ミラー基体10の反射面の領域以外の当該反射ミラー基体10の裏面側の表面上に、それぞれのこの繰り出し具の先頭部に対応させて設定された作用点にそれぞれ接触した状態に形成されている。そして、繰り出し具を前進させることによって反射ミラー基体10の作用点を押し出し、あるいは繰り出し具を後退させることによって反射ミラー基体10の作用点を引き戻すことによって、反射ミラー基体10の光学ステージ12に対する位置及び姿勢を調整することが可能な形態に構成されている。   The optical stage 12 is formed with a first feeding mechanism unit 20 and a second feeding mechanism unit 22 configured so that the feeding tool moves forward or backward on a straight line, and the first feeding mechanism unit 20 and the second feeding mechanism are formed. The leading part of the feeding tool, which is a component of each part 22, corresponds to the leading part of each feeding tool on the surface on the back side of the reflecting mirror base 10 other than the area of the reflecting surface of the reflecting mirror base 10 It is formed in the state which touched each set action point. Then, the position of the reflecting mirror base 10 with respect to the optical stage 12 can be determined by pushing the working point of the reflecting mirror base 10 by advancing the feeding tool, or by pulling back the working point of the reflecting mirror base 10 by retreating the feeding tool. The posture can be adjusted.

また、図5に示すように、光学ステージ12に取り付けられた雌ねじ34に噛み合わせられた雄ねじ32の先頭32Pは、反射ミラー基体の一点である支点30に接触されており、この一点を支点として反射ミラー基体10の姿勢を変化させる構成とされている。この発明の実施形態の第1の反射ミラー装置の製造組み立てを行う段階あるいは、反射ミラー基体10の交換作業を行う場合等に限って、雄ねじ34を回転させて、支点30と光学ステージ12との位置関係を調整するが、通常は雄ねじ34を雌ねじ34に固定された状態で使用される。   Further, as shown in FIG. 5, the head 32P of the male screw 32 meshed with the female screw 34 attached to the optical stage 12 is in contact with a fulcrum 30 that is one point of the reflecting mirror base, and this one point is used as a fulcrum. The posture of the reflecting mirror base 10 is changed. Only when the manufacturing and assembly of the first reflecting mirror device according to the embodiment of the present invention is performed or when the reflecting mirror base 10 is exchanged, the male screw 34 is rotated, and the fulcrum 30 and the optical stage 12 are rotated. The positional relationship is adjusted. Usually, the male screw 34 is used while being fixed to the female screw 34.

第1繰り出し機構部20は、図4に示すように、繰り出し具である雄ねじ16-1、この雄ねじ16-1と噛み合う雌ねじ16-2、及びねじ固定具16-3を具えて構成されており、雌ねじ16-2は光学ステージ12に取り付けられている。   As shown in FIG. 4, the first feeding mechanism unit 20 includes a male screw 16-1, which is a feeding tool, a female screw 16-2 that meshes with the male screw 16-1, and a screw fixing tool 16-3. The female screw 16-2 is attached to the optical stage 12.

図5に示すように、雄ねじ16-1を右回りあるいは左回りに回転させることによって、雄ねじ16-1の先頭部16-1Pが接触している反射ミラー基体10の作用点26(図5において×印によってその位置を示してある。)を押し出しあるいは後退させることができる。作用点26は、反射ミラー基体10の反射面と対向する裏面10Bに設けられる一点であり、その位置に特に窪み等が設けられているわけではない。   As shown in FIG. 5, by rotating the male screw 16-1 clockwise or counterclockwise, the action point 26 (in FIG. 5) of the reflecting mirror base 10 with which the leading portion 16-1P of the male screw 16-1 is in contact. The position is indicated by a cross.) Can be pushed out or retracted. The action point 26 is one point provided on the back surface 10B facing the reflection surface of the reflection mirror base 10, and no depression or the like is provided at that position.

ねじ固定具16-3は、雄ねじ16-1を固定して回転しないように、すなわち、この発明の実施形態の第1の反射ミラー装置の使用時の反射ミラー基体10の姿勢調整過程において、雄ねじ16-1による調整作業が終了した時点で雄ねじ16-1に回転の力が加わっても回転が起こらないように固定する機能を有している。   The screw fixture 16-3 fixes the male screw 16-1 so as not to rotate, that is, in the posture adjustment process of the reflecting mirror base 10 when the first reflecting mirror device of the embodiment of the present invention is used. When the adjustment work by 16-1 is completed, the male screw 16-1 has a function of fixing so that no rotation occurs even if a rotational force is applied.

具体的には、ねじ固定具16-3には固定ねじ36-1がはめ込まれ、この固定ねじ36-1によってねじ固定具16-3の姿勢が僅かに変わり、この姿勢が僅かに変わることによって、雄ねじ16-1のねじ山と雌ねじのねじ山との一部が強く押し合う結果となり、この強く押し合う部分での滑り摩擦が大きくなることによって、雄ねじ16-1を容易に回転することができなくすることが可能とされた構成となっている。   Specifically, the fixing screw 36-1 is fitted into the screw fixing device 16-3, and the posture of the screw fixing device 16-3 is slightly changed by the fixing screw 36-1, and this posture is slightly changed. As a result, a part of the screw thread of the male screw 16-1 and a part of the screw thread of the female screw are strongly pressed against each other, and the sliding friction at the strongly pressed part is increased so that the male screw 16-1 can be easily rotated. It has a configuration that can be disabled.

反射ミラー基体10と光学ステージ12とは、一端が光学ステージ12の一点にピン38-1によって固定され、かつ他端が反射ミラー基体10の一点にピン40-1によって固定されたばね42-1によって形成された弾性力機構によって可動的に支持されている。従って、雄ねじ16-1を前進あるいは後退させても、雄ねじ16-1の先頭部16-1Pが反射ミラー基体10の作用点26から離れることはない。   The reflection mirror base 10 and the optical stage 12 have one end fixed to a point on the optical stage 12 by a pin 38-1 and the other end fixed to a point on the reflection mirror base 10 by a spring 40-1. It is movably supported by the formed elastic force mechanism. Therefore, even if the male screw 16-1 is moved forward or backward, the leading portion 16-1P of the male screw 16-1 does not move away from the action point 26 of the reflecting mirror base 10.

第2繰り出し機構部22は、図4に示すように、繰り出し具である雄ねじ18-1、この雄ねじ18-1と噛み合う雌ねじ18-2、及びねじ固定具18-3を具えて構成されており、雌ねじ18-2は光学ステージ12に取り付けられている。   As shown in FIG. 4, the second feeding mechanism portion 22 includes a male screw 18-1, which is a feeding tool, a female screw 18-2 that meshes with the male screw 18-1, and a screw fixing tool 18-3. The female screw 18-2 is attached to the optical stage 12.

雄ねじ18-1を右回りあるいは左回りに回転させることによって、雄ねじ18-1の先頭部18-1Pが接触している反射ミラー基体10の作用点28を押し出しあるいは後退させることができる。作用点28は、反射ミラー基体10の反射面と対向する裏面10Bに設けられる一点であり、略楕円形の窪みが形成されている。   By rotating the male screw 18-1 clockwise or counterclockwise, the action point 28 of the reflecting mirror base 10 in contact with the head portion 18-1P of the male screw 18-1 can be pushed out or retracted. The action point 28 is a point provided on the back surface 10B facing the reflection surface of the reflection mirror base 10, and a substantially elliptical depression is formed.

ねじ固定具18-3は、その形状及びその機能共にねじ固定具16-3と同様であり、ばね42-2についても、その形状及びその機能共にばね42-1と同様である。また、ピン38-2及び40-2についても、その形状及びその機能共にピン38-1及び40-1と同様である。ねじ固定具18-3には、ねじ固定具16-3と同様に固定ねじ36-2がはめ込まれ、雄ねじ18-1を容易に回転することができなくすることが可能とされた構成となっている。   The screw fixture 18-3 has the same shape and function as the screw fixture 16-3, and the spring 42-2 also has the same shape and function as the spring 42-1. Also, the pins 38-2 and 40-2 are the same in shape and function as the pins 38-1 and 40-1. Similarly to the screw fixture 16-3, the screw fixture 18-3 is fitted with a fixing screw 36-2 so that the male screw 18-1 cannot be easily rotated. ing.

第1繰り出し機構部20及び第2繰り出し機構部22によって、反射ミラー基体10の反射面の法線方向の調整は以下のように行われる。   The normal direction of the reflecting surface of the reflecting mirror base 10 is adjusted by the first feeding mechanism 20 and the second feeding mechanism 22 as follows.

第1繰り出し機構部20の雄ねじ16-1の先頭部16-1Pが接触している反射ミラー基体10の一点(図5において×印によってその位置を示してある作用点26)が前進したり後退したりする動作によって、雄ねじ32の先頭32Pが反射ミラー基体10に接触している支点30と、第2繰り出し機構部22の雄ねじ18-1の先頭部18-1Pが反射ミラー基体10に接触している一点である作用点28とを結ぶ中心線を中心にして反射ミラー基体10が図3に示すy軸方向を回転中心とする部分的な回転運動がなされ、反射ミラー基体10の姿勢が調整される。   One point of the reflecting mirror base 10 (the point of action 26 indicated by a cross in FIG. 5) that is in contact with the leading portion 16-1P of the male screw 16-1 of the first feeding mechanism portion 20 moves forward or backward. As a result, the fulcrum 30 where the leading end 32P of the male screw 32 is in contact with the reflecting mirror base 10 and the leading end 18-1P of the male screw 18-1 of the second feeding mechanism part 22 are in contact with the reflecting mirror base 10. The reflecting mirror base 10 is partially rotated around the center line connecting the action point 28, which is a single point, with the y-axis direction shown in FIG. 3 as the center of rotation, and the attitude of the reflecting mirror base 10 is adjusted. Is done.

同様に、第2繰り出し機構部22の雄ねじ18-1の先頭部18-1Pが接触している反射ミラー基体10の一点である作用点28が前進したり後退したりする動作によって、雄ねじ32の先頭32Pが反射ミラー基体10に接触している支点30と、第1繰り出し機構部20の雌ねじ16-1の先頭部16-1Pが反射ミラー基体10に接触している作用点26とを結ぶ中心線を中心にして反射ミラー基体10が、図3に示すz軸方向を回転中心とする部分的な回転運動がなされ、反射ミラー基体10の姿勢が調整される。   Similarly, the action point 28, which is one point of the reflecting mirror base 10 with which the leading portion 18-1P of the male screw 18-1 of the second feeding mechanism portion 22 is in contact, moves forward and backward, thereby moving the male screw 32. The center connecting the fulcrum 30 where the leading 32P is in contact with the reflecting mirror base 10 and the working point 26 where the leading part 16-1P of the female screw 16-1 of the first feeding mechanism portion 20 is in contact with the reflecting mirror base 10 The reflecting mirror base 10 is partially rotated around the line about the z-axis direction shown in FIG. 3, and the posture of the reflecting mirror base 10 is adjusted.

上述した第1繰り出し機構部20及び第2繰り出し機構部22による反射ミラー基体10の姿勢調整によって、反射ミラー基体10の反射面の法線方向は、任意の方向に調整することが可能となっている。   The normal direction of the reflecting surface of the reflecting mirror base 10 can be adjusted to an arbitrary direction by adjusting the posture of the reflecting mirror base 10 by the first feeding mechanism 20 and the second feeding mechanism 22 described above. Yes.

反射ミラー基体10の反射面10Rと対向する裏面10Bに設けられる支点30が設定される部分には円錐状の窪みが形成されており、また、作用点28部分には楕円錐状の窪みが形成されている。一方、作用点26部分には特に窪み等が設けられているわけではない。作用点28が設定される部分には楕円錐状の窪みが形成されている理由は、次のとおりである。   A conical depression is formed in the portion where the fulcrum 30 is provided on the back surface 10B facing the reflecting surface 10R of the reflecting mirror base 10, and an elliptical cone-shaped depression is formed in the action point 28. Has been. On the other hand, the depression 26 is not particularly provided with a depression or the like. The reason why the elliptical cone-shaped depression is formed in the portion where the action point 28 is set is as follows.

支点30を通るz軸に平行な直線を中心に反射ミラー基体10が部分的な回転運動する際に、支点30から作用点28までの間隔が変化するので、この変化に対応させて作用点28が設定される部分には円錐状の窪みではなく楕円錐状の窪みが形成されている。   When the reflecting mirror base 10 partially rotates around a straight line passing through the fulcrum 30 and parallel to the z-axis, the distance from the fulcrum 30 to the action point 28 changes, so that the action point 28 corresponds to this change. In the portion where is set, an elliptical cone-shaped depression is formed instead of a conical depression.

支点30が設定される部分には円錐状の窪みを形成し、作用点28が設定される部分には楕円錐状の窪みを形成することによって、上述のように支点30から作用点28までの間隔の変化に対応させる事が可能となる上、更に、反射ミラー基体10が支点30が設定される部分に形成されている窪みの中心位置と作用点28が設定される部分に形成されている楕円錐状の窪みの中心位置とを結ぶ直線上に支点30及び作用点28が存在し、支点30及び作用点28がこの直線外にずれることがないという効果もある。   By forming a conical depression in the part where the fulcrum 30 is set and forming an elliptical cone depression in the part where the action point 28 is set, the fulcrum 30 to the action point 28 as described above are formed. In addition to being able to cope with the change in the interval, the reflecting mirror base 10 is formed in the portion where the center position of the depression formed in the portion where the fulcrum 30 is set and the action point 28 is set. There is an effect that the fulcrum 30 and the action point 28 exist on a straight line connecting the center position of the elliptical cone-shaped depression, and the fulcrum 30 and the action point 28 do not deviate from the straight line.

また、作用点26が設定される部分には特に窪み等が設けられない理由は次のとおりである。   Further, the reason why no depression or the like is provided in the portion where the action point 26 is set is as follows.

支点30を通るy軸に平行な直線を中心に反射ミラー基体10が部分的な回転運動する際に、支点30から作用点26までの間隔が変化するので、この変化に対応させて作用点26部分には自由にその位置が変化するように、作用点26部分を平坦にしてある。また、作用点26部分を作用点28と同様の楕円錐状の窪みを形成する必要がない理由は、上述のように支点30及び作用点28が特定の直線上に支点30及び作用点28が存在し、支点30及び作用点28がこの直線外にずれることがないという構造となっているので、支点30及び作用点26についても、同様に特定の直線上からずれないようにする構造を作りつけなくとも、反射ミラー基体10がy軸方向を回転中心とする部分的な回転運動することが保障されるためである。そのため、作用点26部分にはコストのかかる窪みを形成することを省略してある。   When the reflecting mirror base 10 partially rotates around the straight line passing through the fulcrum 30 and parallel to the y-axis, the distance from the fulcrum 30 to the action point 26 changes, so that the action point 26 corresponds to this change. The action point 26 part is flattened so that the position of the part can be freely changed. In addition, the reason why there is no need to form an elliptical cone-like depression similar to the action point 28 in the action point 26 part is that the fulcrum 30 and the action point 28 are on a specific straight line as described above. Since the fulcrum 30 and the action point 28 do not deviate outside this straight line, the structure that prevents the fulcrum 30 and the action point 26 from deviating from a specific straight line is also created. This is because it is ensured that the reflecting mirror base 10 partially rotates around the y-axis direction without being attached. For this reason, the formation of a costly depression at the point of action 26 is omitted.

<繰り出し機構部の構成>
繰り出し機構部は、上述した様に光学ステージに形成された雌ねじと、この雌ねじに捩じ込まれこの雌ねじから繰り出し可能に組み合わせられた雄ねじから構成することが可能であるが、この構成に限らず他の構成でも実現可能である。
<Configuration of feeding mechanism>
The feeding mechanism portion can be constituted by the female screw formed on the optical stage as described above and the male screw that is screwed into the female screw and can be fed from the female screw, but is not limited to this configuration. Other configurations are possible.

繰り出し機構部の他の構成は、光学ステージに固定されたシリンダーと、このシリンダーから繰り出し可能に嵌めこまれたピストンから構成される動作流体を媒体として力をピストンに伝達する制御機構として構成される繰り出し機構部である。この構成では、上述のこの発明の実施形態の第1の反射ミラー装置が具える繰り出し機構部を構成していた雄ねじがピストンに対応し、雌ねじがシリンダーに対応する。このような構成は、周知の油圧ジャッキ等に代表される油圧制御装置の構成を適宜利用して実現することが可能である。   The other structure of the feeding mechanism section is configured as a control mechanism that transmits a force to the piston using a working fluid composed of a cylinder fixed to the optical stage and a piston fitted so as to be able to be fed out from the cylinder. It is a feeding mechanism part. In this configuration, the male screw constituting the feeding mechanism portion included in the first reflecting mirror device of the above-described embodiment of the present invention corresponds to the piston, and the female screw corresponds to the cylinder. Such a configuration can be realized by appropriately using a configuration of a hydraulic control device represented by a known hydraulic jack or the like.

反射ミラー基体の反射面の向きの調整を手動で行う場合には、繰り出し機構部を雄ねじと雌ねじとの組み合わせとして構成するのが便利であるが、例えば、機械的な制御装置からの制御によって自動化して行う場合は、ピストンとシリンダーとの組み合わせとして形成するのが便利である。   When adjusting the direction of the reflecting surface of the reflecting mirror base manually, it is convenient to configure the feeding mechanism part as a combination of male and female screws. For example, it is automated by control from a mechanical control device. In this case, it is convenient to form it as a combination of a piston and a cylinder.

この発明の実施形態の第1の反射ミラー装置においては、上述した様に、反射ミラー基体10と光学ステージ12とが、ばねの弾性力を利用した弾性力機構によって互いの位置関係を可動的に支持されている。このように構成することによって、繰り出し機構部と反射ミラー基体とが作用点で接したままの状態が維持されている。   In the first reflecting mirror device according to the embodiment of the present invention, as described above, the reflecting mirror base 10 and the optical stage 12 are movable relative to each other by an elastic force mechanism using the elastic force of the spring. It is supported. With this configuration, the state where the feeding mechanism portion and the reflection mirror base are in contact at the point of action is maintained.

繰り出し機構部と反射ミラー基体とが作用点で接したままの状態を維持する機構としては、上述の弾性力機構によらずとも、光学ステージと反射ミラー基体とを磁力を以って互いの位置関係を保持する磁力機構によっても実現することが可能である。この磁力機構は、例えば、光学ステージ及び反射ミラー基体のそれぞれの箇所に固定された磁石の組として構成することが可能である。   As a mechanism for maintaining the state where the feeding mechanism part and the reflection mirror base remain in contact with each other at the point of action, the optical stage and the reflection mirror base can be positioned relative to each other with magnetic force, regardless of the above-described elastic force mechanism. It can also be realized by a magnetic mechanism that maintains the relationship. This magnetic mechanism can be configured, for example, as a set of magnets fixed to the optical stage and the reflecting mirror base.

<反射面の形状評価>
図6(A)及び(B)〜図9(A)及び(B)を参照して、この発明の実施形態の第1の反射ミラー装置が具える反射ミラー基体の反射面の形状、及び従来の反射ミラー装置が具える光学マウントに固定された反射ミラー基体の反射面の形状について評価した結果を説明する。
<Evaluation of reflection surface shape>
With reference to FIGS. 6 (A) and (B) to FIGS. 9 (A) and (B), the shape of the reflecting surface of the reflecting mirror substrate provided in the first reflecting mirror device of the embodiment of the present invention, and the related art The result of evaluating the shape of the reflecting surface of the reflecting mirror base fixed to the optical mount provided in the reflecting mirror device will be described.

評価に当たっては、この発明の実施形態の第1の反射ミラー装置が具える反射ミラー基体を46 mmの正方形板とし、従来の反射ミラー装置が具える光学マウントに固定された反射ミラー基体を28 mmの円形板とした。そして、反射ミラー基体の厚みは、両者共に5 mmとした。また、両者の反射ミラー基体の材料にはゼロデュアー(ZERODUR)を用いた。ここで、ZERODURは、ショットガラステクノロジー社の商標である。   In the evaluation, the reflection mirror substrate provided in the first reflection mirror device of the embodiment of the present invention is a 46 mm square plate, and the reflection mirror substrate fixed to the optical mount provided in the conventional reflection mirror device is 28 mm. A circular plate was used. The thickness of the reflecting mirror substrate was 5 mm for both. Moreover, zero dewar (ZERODUR) was used for the material of both reflection mirror bases. Here, ZERODUR is a trademark of Shot Glass Technology.

反射ミラー基体の材料としては、このゼロデュアーに限らず、従来から反射ミラー基体の材料として利用されている石英ガラス基材、また最近反射ミラー基材として利用が検討され始めているセラミック材料、樹脂材料等を適宜利用することが可能である。   The material of the reflecting mirror substrate is not limited to this zero dewar, but a quartz glass substrate that has been used as a material for the reflecting mirror substrate in the past, and a ceramic material, a resin material, etc. that have recently begun to be used as a reflecting mirror substrate. Can be used as appropriate.

反射ミラー基体の反射面の形状の3次元計測は、フィゾー型干渉計を用い位相シフト法によって行った。またこの計測には波長632.8 nmの単色光を利用した。   Three-dimensional measurement of the shape of the reflecting surface of the reflecting mirror substrate was performed by a phase shift method using a Fizeau interferometer. For this measurement, monochromatic light with a wavelength of 632.8 nm was used.

図6(A)及び(B)は、この発明の実施形態の第1の反射ミラー装置が具える反射ミラー基体の反射面の全面にわたる平面形状の説明に供する図であり、図6(A)は光学ステージへの装着時の反射ミラー基体の反射面の全面にわたる表面形状を3次元的に示す図であり、図6(B)は反射ミラー基体の反射面に略垂直な平面と反射面との交線を示す図である。   6 (A) and 6 (B) are diagrams for explaining the planar shape over the entire reflecting surface of the reflecting mirror substrate provided in the first reflecting mirror device of the embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 6 is a diagram three-dimensionally showing the surface shape of the reflecting surface of the reflecting mirror base when mounted on the optical stage, and FIG. 6 (B) shows a plane substantially perpendicular to the reflecting surface of the reflecting mirror base and the reflecting surface. FIG.

図6(B)において、粗い破線で示す直線は完全に平らな面を示す規準線であり、実線で示す曲線はy軸に平行であってかつ反射面に略垂直な平面との交線を示す図であり、細かな破線で示す曲線は、x軸に平行であってかつ反射面に略垂直な平面との交線を示す図である。この交線は、反射面に略垂直な平面は歪が大きく生じている箇所を通るようにその設定位置を決めてある。   In FIG. 6 (B), a straight line indicated by a rough broken line is a reference line indicating a completely flat surface, and a curved line indicated by a solid line is an intersection line with a plane parallel to the y axis and substantially perpendicular to the reflecting surface. A curve indicated by a fine broken line is a diagram showing an intersection line with a plane parallel to the x-axis and substantially perpendicular to the reflecting surface. The set position is determined so that this intersection line passes through a portion where a large distortion occurs on a plane substantially perpendicular to the reflecting surface.

図6(A)の横軸は相対位置座標を示しており、相対位置座標が97 mm〜143 mmの間の46 mmにわたる範囲を表している。すなわち、第1の反射ミラー装置が具える反射ミラー基体は、一辺が46 mmの正方形であることを示している。   The horizontal axis of FIG. 6 (A) represents the relative position coordinates, and represents the range over which the relative position coordinates range between 97 mm and 143 mm over 46 mm. In other words, the reflecting mirror base provided in the first reflecting mirror device is a square having a side of 46 mm.

光学ステージに装着した後の反射ミラー基体の反射面の表面形状は、図6(A)及び図6(B)に示す曲線から、反射面の一番高い部分と一番低い部分との差は、ほぼ130 nm程度あることが読み取れる。   The surface shape of the reflecting surface of the reflecting mirror substrate after being mounted on the optical stage is the difference between the highest part and the lowest part of the reflecting surface from the curves shown in FIGS. 6 (A) and 6 (B). It can be seen that there is approximately 130 nm.

図7(A)及び(B)は、この発明の実施形態の第1の反射ミラー装置が具える反射ミラー基体の反射面の中央部分の直径28 mmの円内の平面形状の説明に供する図であり、図7(A)は光学ステージへの装着時の反射ミラー基体の反射面の中央部分の直径28 mmの円内の表面形状を3次元的に示す図であり、図7(B)は反射ミラー基体の反射面の中央部分の直径28 mmの円の中心を通る反射面に略垂直な平面と反射面との交線を示す図である。図7(B)において、粗い破線で示す直線は完全に平らな面を示す規準線であり、実線で示す曲線はy軸に平行であってかつ反射面に略垂直な平面との交線を示す図であり、細かな破線で示す曲線は、x軸に平行であってかつ反射面に略垂直な平面との交線を示す図である。この交線は、反射面に略垂直な平面は歪が大きく生じている箇所を通るようにその設定位置を決めてある。   FIGS. 7 (A) and 7 (B) are diagrams for explaining a planar shape in a circle having a diameter of 28 mm at the central portion of the reflecting surface of the reflecting mirror base body provided in the first reflecting mirror device of the embodiment of the present invention. FIG. 7 (A) is a diagram three-dimensionally showing the surface shape in a circle with a diameter of 28 mm of the central portion of the reflecting surface of the reflecting mirror base when mounted on the optical stage, FIG. 7 (B) FIG. 4 is a diagram showing an intersection line between a reflecting surface and a plane substantially perpendicular to the reflecting surface passing through the center of a circle having a diameter of 28 mm at the central portion of the reflecting surface of the reflecting mirror substrate. In FIG. 7 (B), the straight line indicated by a rough broken line is a reference line indicating a completely flat surface, and the curved line indicated by a solid line is an intersection line with a plane parallel to the y axis and substantially perpendicular to the reflecting surface. A curve indicated by a fine broken line is a diagram showing a line of intersection with a plane parallel to the x-axis and substantially perpendicular to the reflecting surface. The set position is determined so that a plane substantially perpendicular to the reflecting surface passes through the intersection where a large distortion occurs.

図7(A)の横軸は相対位置座標を示しており、相対位置座標が105 mm〜133 mmの間の直径28 mmの円の直径の範囲を表している。   The horizontal axis of FIG. 7 (A) indicates the relative position coordinates, and represents the range of the diameter of a circle having a diameter of 28 mm between which the relative position coordinates are 105 mm to 133 mm.

光学ステージに装着した後の反射ミラー基体の反射面の表面形状は、図7(A)及び図7(B)に示す曲線から、反射面の一番高い部分と一番低い部分との差は、ほぼ5 nmあることが読み取れる。すなわち、完全な平面と区別することが困難である程度に平坦であることが読み取れる。   The surface shape of the reflecting surface of the reflecting mirror substrate after being mounted on the optical stage is the difference between the highest part and the lowest part of the reflecting surface from the curves shown in FIGS. 7 (A) and 7 (B). It can be read that it is almost 5 nm. That is, it can be read that it is difficult to distinguish from a perfect plane and is flat to some extent.

図8(A)及び(B)は、従来の反射ミラー装置が具える光学マウントに固定される前の反射ミラー基体の反射面の全面にわたる平面形状の説明に供する図であり、図8(A)は光学マウントへの装着前の反射ミラー基体の反射面の全面にわたる表面形状を3次元的に示す図であり、図8(B)は反射ミラー基体の反射面に略垂直な平面と反射面との交線を示す図である。図8(B)において、粗い破線で示す直線は完全に平らな面を示す規準線であり、実線で示す曲線はy軸に平行であってかつ反射面に略垂直な平面との交線を示す図であり、細かな破線で示す曲線は、x軸に平行であってかつ反射面に略垂直な平面との交線を示す図である。この交線は、反射面に略垂直な平面は歪が大きく生じている箇所を通るようにその設定位置を決めてある。   8 (A) and 8 (B) are diagrams for explaining the planar shape over the entire reflection surface of the reflection mirror substrate before being fixed to the optical mount provided in the conventional reflection mirror device, and FIG. ) Is a diagram three-dimensionally showing the surface shape over the entire reflective surface of the reflective mirror base before mounting on the optical mount, and FIG. 8B is a plane and reflective surface substantially perpendicular to the reflective surface of the reflective mirror base. FIG. In FIG. 8 (B), a straight line indicated by a rough broken line is a reference line indicating a completely flat surface, and a curve indicated by a solid line is an intersection line with a plane parallel to the y axis and substantially perpendicular to the reflecting surface. A curve indicated by a fine broken line is a diagram showing an intersection line with a plane parallel to the x-axis and substantially perpendicular to the reflecting surface. The set position is determined so that this intersection line passes through a portion where a large distortion occurs on a plane substantially perpendicular to the reflecting surface.

図8(A)の横軸は相対位置座標を示しており、相対位置座標が109 mm〜137 mmの間の28 mmにわたる範囲を表している。すなわち、従来の反射ミラー装置が具える光学マウントに固定される反射ミラー基体は、直径が28 mmの円形であることを示している。   The horizontal axis of FIG. 8 (A) shows the relative position coordinates, and represents the range where the relative position coordinates span between 28 mm and 109 mm to 137 mm. That is, the reflecting mirror base fixed to the optical mount provided in the conventional reflecting mirror device is a circle having a diameter of 28 mm.

光学マウントに装着する前の反射ミラー基体の反射面の表面形状は、図8(A)及び図8(B)に示す曲線から、反射面の一番高い部分と一番低い部分との差は、ほぼ5 nm程度あることが読み取れる。すなわち、完全な平面と区別することが困難である程度に平坦であることが読み取れる。   The surface shape of the reflecting surface of the reflecting mirror substrate before mounting on the optical mount is the difference between the highest and lowest portions of the reflecting surface from the curves shown in FIGS. 8 (A) and 8 (B). It can be seen that there is approximately 5 nm. That is, it can be read that it is difficult to distinguish from a perfect plane and is flat to some extent.

従来の反射ミラー装置が具える光学マウントに固定される前の反射ミラー基体の反射面の形状は、完全な平面と区別することが困難である程度に平坦であることがわかる。   It can be seen that the shape of the reflecting surface of the reflecting mirror base before being fixed to the optical mount provided in the conventional reflecting mirror device is difficult to distinguish from a perfect plane and is flat to some extent.

一方、この発明の実施形態の第1の反射ミラー装置が具える反射ミラー基体の反射面の中央部分の直径28 mmの円内に限定すれば、光学ステージに装着した後であっても、図7(A)及び図7(B)に示したように、反射面の一番高い部分と一番低い部分との差はほぼ5 nm程度あり、完全な平面と区別することが困難である程度に平坦であった。すなわち、この発明の実施形態の第1の反射ミラー装置によれば、反射ミラー基体の反射面は完全な平面であるとして扱えるという、格別に優れた効果が得られることが分かる。   On the other hand, if the first reflecting mirror device according to the embodiment of the present invention is limited to a circle having a diameter of 28 mm at the central portion of the reflecting surface of the reflecting mirror substrate, the figure is obtained even after being mounted on the optical stage. As shown in Fig. 7 (A) and Fig. 7 (B), the difference between the highest part and the lowest part of the reflective surface is about 5 nm, which is difficult to distinguish from a perfect plane. It was flat. That is, according to the first reflecting mirror device of the embodiment of the present invention, it can be seen that a particularly excellent effect is obtained that the reflecting surface of the reflecting mirror base can be handled as a perfect plane.

従って、上述した様に、従来の反射ミラー装置の有効反射面と同一の広さの直径28 mmの円内に限定すれば、この発明の実施形態の第1の反射ミラー装置によって、反射ミラー基体が光学ステージに装着される前の状態の平坦な反射面形状が保たれた状態で使用可能であるという理想的な状態が実現されることが確かめられた。   Therefore, as described above, the first reflecting mirror device according to the embodiment of the present invention allows the reflecting mirror substrate to be limited to a circle having a diameter of 28 mm and the same width as the effective reflecting surface of the conventional reflecting mirror device. It has been confirmed that an ideal state can be realized in which a flat reflecting surface shape in a state before being mounted on the optical stage is maintained.

因みに、従来の反射ミラー装置において、反射ミラー基体を光学マウントに固定した後の反射ミラー基体の反射面の全面にわたる平面形状は、図9(A)及び図9(B)に示すように、大きく歪んでいることが分かる。   Incidentally, in the conventional reflecting mirror device, the planar shape of the reflecting surface of the reflecting mirror substrate after fixing the reflecting mirror substrate to the optical mount is large as shown in FIGS. 9 (A) and 9 (B). You can see that it is distorted.

図9(A)及び(B)は、従来の反射ミラー装置が具える光学マウントに固定された後の反射ミラー基体の反射面の全面にわたる平面形状の説明に供する図であり、図9(A)は光学マウントへの装着後の反射ミラー基体の反射面の全面にわたる表面形状を3次元的に示す図であり、図9(B)は反射ミラー基体の反射面の中央部分を通る反射面に略垂直な平面と反射面との交線を示す図である。図9(B)において、粗い破線で示す直線は完全に平らな面を示す規準線であり、実線で示す曲線はy軸に平行であってかつ反射面に略垂直な平面との交線を示す図であり、細かな破線で示す曲線は、x軸に平行であってかつ反射面に略垂直な平面との交線を示す図である。この交線は、反射面に略垂直な平面は歪が大きく生じている箇所を通るようにその設定位置を決めてある。   9 (A) and 9 (B) are diagrams for explaining the planar shape over the entire reflection surface of the reflection mirror substrate after being fixed to the optical mount provided in the conventional reflection mirror device, and FIG. ) Is a diagram three-dimensionally showing the shape of the surface of the reflecting mirror substrate after it is mounted on the optical mount, and FIG. 9 (B) shows the reflecting surface passing through the central portion of the reflecting surface of the reflecting mirror substrate. It is a figure which shows the intersection of a substantially perpendicular plane and a reflective surface. In FIG. 9 (B), a straight line indicated by a rough broken line is a reference line indicating a completely flat surface, and a curved line indicated by a solid line is an intersection line with a plane parallel to the y axis and substantially perpendicular to the reflecting surface. A curve indicated by a fine broken line is a diagram showing an intersection line with a plane parallel to the x-axis and substantially perpendicular to the reflecting surface. The set position is determined so that this intersection line passes through a portion where a large distortion occurs on a plane substantially perpendicular to the reflecting surface.

図9(A)の横軸は相対位置座標を示しており、相対位置座標が109 mm〜137 mmの間の28 mmにわたる範囲を表している。   The horizontal axis of FIG. 9 (A) shows the relative position coordinates, and represents the range where the relative position coordinates extend between 28 mm and 109 mm to 137 mm.

光学マウントに装着した後の反射ミラー基体の反射面の表面形状は、図9(A)及び図9(B)に示す曲線から、反射面の一番高い部分と一番低い部分との差は、歪の大きいy軸に平行であってかつ反射面に略垂直な平面との交線を示す実線で示す曲線から、ほぼ225 nm程度あることが読み取れる。すなわち、反射ミラー基体の反射面の表面形状は、反射ミラー基体が光学マウントへ装着されたことに伴い、225 nm程度の歪みが発生したことが読み取れる。   The surface shape of the reflecting surface of the reflecting mirror substrate after mounting on the optical mount is the difference between the highest and lowest parts of the reflecting surface from the curves shown in FIGS. 9 (A) and 9 (B). From the curve indicated by the solid line showing the intersecting line with the plane that is parallel to the y-axis having a large strain and substantially perpendicular to the reflecting surface, it can be seen that there is approximately 225 nm. That is, it can be seen that the surface shape of the reflecting surface of the reflecting mirror substrate is distorted by about 225 nm as the reflecting mirror substrate is mounted on the optical mount.

この歪みの大きさは、可視光の波長を500 nmとした場合ほぼ半波長に近い大きさであり、反射ミラー装置の利用実態のほとんどの場合に問題となる。従って、従来の反射ミラー装置にあっては、反射面の有効活用部分としては、光学マウントに形成されている窓部分全体にわたることはできず、反射面の表面の歪が十分に小さい窓部分の中央部分のみが有効活用部分となる。すなわち、ほぼ同様の大きさの反射ミラー装置を利用する場合、この発明の実施形態の第1の反射ミラー装置によれば、従来の反射ミラー装置よりも、十分に広い反射面を有効活用部分として利用可能であることを意味している。   The magnitude of this distortion is close to half the wavelength when the wavelength of visible light is 500 nm, and becomes a problem in most cases of actual use of the reflection mirror device. Therefore, in the conventional reflection mirror device, the effective utilization part of the reflection surface cannot cover the entire window part formed in the optical mount, and the reflection of the surface of the reflection part is sufficiently small. Only the central part is the effective use part. That is, when using a reflection mirror device having substantially the same size, according to the first reflection mirror device of the embodiment of the present invention, a reflection surface that is sufficiently wider than the conventional reflection mirror device is used as an effective utilization part. It means that it can be used.

<この発明の実施形態の第2の反射ミラー装置>
図10、図11(A)及び(B)、図12(A)及び(B)を参照して、この発明の実施の形態の第2の反射ミラー装置について説明する。図10はこの発明の実施形態の第2の反射ミラー装置の反射ミラー基体の反射面が形成されている主面側から見た概略的斜視図である。図11(A)は反射ミラー基体の反射面に平行な方向から見た反射ミラー基体の概略的側面図であり、図11(B)は反射ミラー基体の反射面に平行な方向から見た光学ステージの概略的な側面図である。また、図12(A)は反射ミラー基体の反射面に直交する方向から見た反射ミラー基体の概略的正面図であり、図12(B)は反射ミラー基体の反射面に平行な方向から見た反射ミラー基体の概略的な平面図である。
<Second Reflective Mirror Device of Embodiment of the Invention>
With reference to FIGS. 10, 11A and 11B, and FIGS. 12A and 12B, a second reflecting mirror device according to an embodiment of the present invention will be described. FIG. 10 is a schematic perspective view seen from the main surface side where the reflecting surface of the reflecting mirror substrate of the second reflecting mirror device of the embodiment of the present invention is formed. FIG. 11 (A) is a schematic side view of the reflecting mirror substrate viewed from a direction parallel to the reflecting surface of the reflecting mirror substrate, and FIG. 11 (B) is an optical viewed from a direction parallel to the reflecting surface of the reflecting mirror substrate. It is a schematic side view of a stage. FIG. 12 (A) is a schematic front view of the reflecting mirror substrate viewed from a direction perpendicular to the reflecting surface of the reflecting mirror substrate, and FIG. 12 (B) is a diagram viewed from a direction parallel to the reflecting surface of the reflecting mirror substrate. It is a schematic plan view of the reflecting mirror base.

以下、この発明の実施形態の第2の反射ミラー装置に利用する反射ミラー基体は、入射光全てが透過されることなく反射される通常の全反射鏡として形成されている場合に限らず、入射光の一部を透過させる半透鏡として形成されている場合であっても同様に利用可能である。   Hereinafter, the reflection mirror base used in the second reflection mirror device of the embodiment of the present invention is not limited to the case where it is formed as a normal total reflection mirror that reflects all incident light without being transmitted. Even when it is formed as a semi-transparent mirror that transmits a part of light, it can be used similarly.

この発明の実施形態の第2の反射ミラー装置の反射ミラー基体60は、図11(A)及び図12(A)に示すように、反射面60Rに対向する裏面60Bと、この裏面60Bと直交する底面60Dを有し、この底面60Dに第1突起部60-1及び第2突起部60-2が設けられた構成とされている。   As shown in FIGS. 11 (A) and 12 (A), the reflecting mirror base 60 of the second reflecting mirror device according to the embodiment of the present invention includes a back surface 60B that faces the reflecting surface 60R, and is orthogonal to the back surface 60B. The bottom surface 60D has a first protrusion 60-1 and a second protrusion 60-2 on the bottom 60D.

光学ステージ62には、図11(B)及び図12(B)に示すように第1突起部60-1及び第2突起部60-2とそれぞれ嵌合する第1の凹部62-1及び第2の凹部62-2が設けられており、反射ミラー基体60を、第1突起部60-1及び第2突起部60-2がそれぞれ第1の凹部62-1及び第2の凹部62-2に嵌合させて配置することによって光学ステージ62に取り付けられている。   In the optical stage 62, as shown in FIGS. 11 (B) and 12 (B), the first recess 62-1 and the second recess which are respectively fitted to the first protrusion 60-1 and the second protrusion 60-2. Two recesses 62-2 are provided, and the first and second projections 60-1 and 60-2 are provided with the first and second recesses 62-1 and 62-2, respectively. Are attached to the optical stage 62 by being fitted to each other.

ここで、第1の凹部62-1は、光学ステージ62の反射ミラー支持面62Uに垂直な中心対称軸を有する略円錐形状の凹みとして形成されており、第2の凹部62-2は第1の凹部62-1の中心対称軸を中心とする略円弧状の凹みとして形成されている。そして、第1突起部60-1を中心として第2突起部60-2が回転可能であり、かつ第1突起部60-1と第2突起部60-2を結ぶ直線を回転軸として反射ミラー基体60が部分的な回転運動が可能となるように構成されている。   Here, the first recess 62-1 is formed as a substantially conical recess having a central symmetry axis perpendicular to the reflecting mirror support surface 62U of the optical stage 62, and the second recess 62-2 is the first recess 62-2. The recess 62-1 is formed as a substantially arc-shaped recess centered on the central symmetry axis. Then, the second protrusion 60-2 is rotatable about the first protrusion 60-1, and the reflection mirror with the straight line connecting the first protrusion 60-1 and the second protrusion 60-2 as the rotation axis The base body 60 is configured to be capable of partial rotational movement.

光学ステージ62に対して、反射ミラー基体60を、第1突起部60-1を中心とした第2突起部60-2の部分的な回転運動は、第2繰り出し機構部64-2の繰り出し具の先頭部が反射ミラー基体60に接している作用点66を、第2繰り出し機構部64-2の繰り出し具によって、前進しあるいは後退させることによって実現される。   With respect to the optical stage 62, the partial rotational movement of the reflecting mirror base 60 and the second projecting portion 60-2 around the first projecting portion 60-1 causes the feeding tool of the second feeding mechanism portion 64-2. This is realized by advancing or retreating the action point 66 in which the head portion of the second mirror is in contact with the reflecting mirror base 60 by the feeding tool of the second feeding mechanism unit 64-2.

また、光学ステージ62に対して、第1突起部60-1と第2突起部60-2を結ぶ直線を回転軸とした反射ミラー基体60の部分的な回転運動は、第1繰り出し機構部64-1の繰り出し具によって、この繰り出し具の先頭部が嵌合している嵌合穴60-3を、第1繰り出し機構部64-1の繰り出し具によって、前進しあるいは後退させることによって実現される。   Further, the partial rotational movement of the reflecting mirror base 60 with the straight line connecting the first protrusion 60-1 and the second protrusion 60-2 as the rotation axis with respect to the optical stage 62 is caused by the first feeding mechanism section 64. This is realized by advancing or retreating the fitting hole 60-3 in which the leading portion of the feeding tool is fitted by the feeding tool of the first feeding mechanism section 64-1. .

ここで、図10、図11(B)及び図12(B)では、第1繰り出し機構部64-1について、第1繰り出し機構部64-1の繰り出し具である雄ねじだけを簡略化して示している。同様に、第2繰り出し機構部64-2についても、繰り出し具である雄ねじだけを簡略化して示している。上述したこの発明の実施形態の第1の反射ミラー装置と同様に、第1繰り出し機構部64-1及び第2繰り出し機構部64-2は、ねじを利用して構成することが可能である他、ピストンとシリンダーとの組合せとしても構成可能である。   Here, in FIG. 10, FIG. 11 (B) and FIG. 12 (B), only the male screw that is the feeding tool of the first feeding mechanism portion 64-1 is shown in a simplified manner with respect to the first feeding mechanism portion 64-1. Yes. Similarly, for the second feeding mechanism portion 64-2, only the male screw that is the feeding tool is shown in a simplified manner. Similar to the first reflecting mirror device of the embodiment of the present invention described above, the first feeding mechanism unit 64-1 and the second feeding mechanism unit 64-2 can be configured using screws. It can also be configured as a combination of a piston and a cylinder.

図10、図11(A)及び(B)、図12(A)及び(B)においては、図示を省略してあるが、この発明の実施形態の第2の反射ミラー装置においてもこの発明の実施形態の第1の反射ミラー装置と同様に、反射ミラー基体60と光学ステージ62とは、ばねの弾性力を利用した弾性力機構によって互いの位置関係を可動的に支持されている。このように構成することによって、第1繰り出し機構部64-1及び第2繰り出し機構部64-2と反射ミラー基体60とが作用点66で接したままの状態が維持される。   10, FIG. 11 (A) and (B), FIG. 12 (A) and (B) are not shown, the second reflection mirror device of the embodiment of the present invention is also of the present invention Similar to the first reflecting mirror device of the embodiment, the reflecting mirror base 60 and the optical stage 62 are movably supported in mutual positional relationship by an elastic force mechanism using the elastic force of a spring. With this configuration, the state in which the first feeding mechanism portion 64-1, the second feeding mechanism portion 64-2, and the reflection mirror base 60 are kept in contact at the point of action 66 is maintained.

第1繰り出し機構部64-1及び第2繰り出し機構部64-2と反射ミラー基体60とが作用点66で接したままの状態を維持する機構としては、第1の反射ミラー装置と同様に、弾性力機構によらずとも、光学ステージ62と反射ミラー基体60とを磁力を以って互いの位置関係を保持する磁力機構によっても実現することが可能である。   As a mechanism for maintaining the state where the first feeding mechanism part 64-1 and the second feeding mechanism part 64-2 and the reflection mirror base 60 are kept in contact at the action point 66, as in the first reflection mirror device, Regardless of the elastic force mechanism, the optical stage 62 and the reflecting mirror base 60 can also be realized by a magnetic force mechanism that maintains the mutual positional relationship with a magnetic force.

上述したように、この発明の実施形態の第2の反射ミラー装置の構成要素である反射ミラー基体60は、反射面60Rとこの反射面60Rに対向する裏面60Bと、この裏面60Bと直交する底面60Dを有し、この底面60Dに、離間した2点で光学ステージ62から支持されるための、第1突起部60-1及び第2突起部60-2とが設けられて構成される。このように構成された反射ミラー基体60は、この発明の実施形態の第2の反射ミラー装置に装着されている同一の形状の反射ミラー基体に破損等の何らかの障害が発生した場合の専用の交換部品となり得る。   As described above, the reflecting mirror base 60 that is a component of the second reflecting mirror device according to the embodiment of the present invention includes the reflecting surface 60R, the back surface 60B facing the reflecting surface 60R, and the bottom surface orthogonal to the back surface 60B. The bottom surface 60D includes a first protrusion 60-1 and a second protrusion 60-2 that are supported from the optical stage 62 at two spaced points. The reflection mirror base 60 configured in this way is used only when a failure such as breakage occurs in the reflection mirror base of the same shape mounted on the second reflection mirror device of the embodiment of the present invention. Can be a part.

また、この発明の実施形態の第1及び第2の反射ミラー装置の構成要素である反射ミラー基体は、光学ステージと弾性力を以って互いの位置関係を保持するために、一端が光学ステージに固定されたばねの他端を固定するためのばね固定穴を具えて構成される。このように構成された反射ミラー基体は、この発明の実施形態の第1及び第2の反射ミラー装置に装着されている同一の形状の反射ミラー基体に破損等の何らかの障害が発生した場合の専用の交換部品となり得る。   In addition, the reflecting mirror base body, which is a component of the first and second reflecting mirror devices according to the embodiment of the present invention, has one end at the optical stage in order to maintain mutual positional relationship with the optical stage by elastic force. And a spring fixing hole for fixing the other end of the spring fixed to. The reflection mirror base configured as described above is dedicated when a failure such as breakage occurs in the reflection mirror base of the same shape mounted on the first and second reflection mirror devices of the embodiment of the present invention. It can be a replacement part.

また、この発明の実施形態の第1及び第2の反射ミラー装置の構成要素である反射ミラー基体は、光学ステージと磁力を以って互いの位置関係を保持するために、光学ステージに固定された一方の磁石に対応する他方の磁石が当該反射ミラー基体に固定されて構成される。このように構成された反射ミラー基体は、この発明の実施形態の第1及び第2の反射ミラー装置に装着されている同一の形状の反射ミラー基体に破損等の何らかの障害が発生した場合の専用の交換部品となり得る。   In addition, the reflecting mirror base, which is a component of the first and second reflecting mirror devices of the embodiment of the present invention, is fixed to the optical stage in order to maintain the mutual positional relationship with the optical stage using magnetic force. The other magnet corresponding to the one magnet is fixed to the reflecting mirror base. The reflection mirror base configured as described above is dedicated when a failure such as breakage occurs in the reflection mirror base of the same shape mounted on the first and second reflection mirror devices of the embodiment of the present invention. It can be a replacement part.

10、60:反射ミラー基体
10R、60R:反射面
10B、60B:反射面と対向する裏面
12、62:光学ステージ
14-1:第1支持点
14-2:第2支持点
16-1、18-1、32:雄ねじ
16-2、18-2、34:雌ねじ
16-3、18-3:ねじ固定具
20:第1繰り出し機構部
22:第2繰り出し機構部
26、28、66:作用点
30:支点
36-1、36-2:固定ねじ
38-1、38-2、40-1、40-2:ピン
42-1、42-2:ばね
60-1:第1突起部
60-2:第2突起部
60-3:嵌合穴
60D:底面
62-1:第1の凹部
62-2:第2の凹部
62U:反射ミラー支持面
64-1:第1繰り出し機構部
64-2:第2繰り出し機構部
112:光学ステージ
116-1、118-1:雄ねじ
116-2、118-2:雌ねじ
120:第1繰り出し機構部
122:第2繰り出し機構部
130:ピン
150:光学マウント
152:固定ねじ
154:窓部分
156:ねじ穴
158-1、158-2:ばねを装着するための穴
160-1、160-2:ピンを挿入するための穴
10, 60: Reflective mirror base
10R, 60R: Reflective surface
10B, 60B: Back side facing the reflective surface
12, 62: Optical stage
14-1: First support point
14-2: Second support point
16-1, 18-1, 32: Male thread
16-2, 18-2, 34: Female thread
16-3, 18-3: Screw fixing tool
20: First feed mechanism
22: Second feed mechanism
26, 28, 66: Action point
30: fulcrum
36-1, 36-2: Fixing screw
38-1, 38-2, 40-1, 40-2: Pin
42-1, 42-2: Spring
60-1: First protrusion
60-2: Second protrusion
60-3: Mating hole
60D: Bottom
62-1: First recess
62-2: Second recess
62U: Reflective mirror support surface
64-1: First feed mechanism
64-2: Second feeding mechanism
112: Optical stage
116-1, 118-1: Male thread
116-2, 118-2: Female thread
120: First feed mechanism
122: Second feed mechanism
130: Pin
150: Optical mount
152: Fixing screw
154: Window part
156: Screw hole
158-1, 158-2: Holes for mounting springs
160-1, 160-2: Holes for inserting pins

Claims (8)

反射面を有する基板である反射ミラー基体を保持する構造体である光学ステージに対して、該反射ミラー基体が当該反射ミラー基体の位置及び姿勢を調整可能な状態で固定された反射ミラー装置であって、
前記反射ミラー基体には、当該反射ミラー基体の反射面に対向する裏面の離間した2箇所に作用点が設定されており、
前記光学ステージには、繰り出し具が一直線上を前進または後退するよう構成された繰り出し機構部が離間して2箇所に形成されており、前記繰り出し具の先頭部が、前記反射ミラー基体の前記作用点に、それぞれ接触した状態にあり、
前記繰り出し具を前進させて前記反射ミラーの前記作用点を押し出し、あるいは前記繰り出し具を後退させて前記反射ミラー基体の前記作用点を引き戻すことによって、前記反射ミラー基体の前記光学ステージに対する位置及び姿勢を調整することが可能な形態に構成され
前記光学ステージと前記反射ミラー基体とを弾性力を以って互いの位置関係を保持する弾性力機構を具え、該弾性力機構によって、前記繰り出し具の先頭部が前記作用点に接触した状態が維持される構成とされており、
前記弾性力機構は、一端が前記光学ステージの一点に固定され、かつ他端が前記反射ミラー基体の一点に固定されたばね機構であり、
前記反射ミラー基体は、前記光学ステージと弾性力を以って互いの位置関係を保持するために、一端が前記光学ステージに固定されたばねの他端を固定するためのばね固定穴を具える
ことを特徴とする反射ミラー装置。
A reflection mirror device in which the reflection mirror substrate is fixed to an optical stage that is a structure holding a reflection mirror substrate, which is a substrate having a reflection surface, in a state where the position and posture of the reflection mirror substrate can be adjusted. And
In the reflection mirror base, action points are set at two spaced locations on the back surface facing the reflection surface of the reflection mirror base.
In the optical stage, a feeding mechanism part configured so that the feeding tool moves forward or backward on a straight line is formed at two positions apart from each other, and the leading part of the feeding tool is the action of the reflecting mirror base. Each point is in contact with
The position and posture of the reflecting mirror base with respect to the optical stage by moving the feeding tool forward to push out the working point of the reflecting mirror, or by retracting the feeding tool to pull back the working point of the reflecting mirror base. Is configured in a form that can be adjusted ,
The optical stage and the reflecting mirror base are provided with an elastic force mechanism that holds the positional relationship between each other with an elastic force, and the elastic force mechanism causes the leading portion of the feeding tool to be in contact with the action point. It is supposed to be maintained,
The elastic force mechanism is a spring mechanism in which one end is fixed to one point of the optical stage and the other end is fixed to one point of the reflecting mirror base,
The reflecting mirror base includes a spring fixing hole for fixing the other end of the spring fixed to the optical stage in order to maintain the positional relationship with the optical stage with elasticity. A reflection mirror device characterized by the above.
反射面を有する基板である反射ミラー基体を保持する構造体である光学ステージに対して、該反射ミラー基体が当該反射ミラー基体の位置及び姿勢を調整可能な状態で固定された反射ミラー装置であって、
前記反射ミラー基体には、当該反射ミラー基体の反射面に対向する裏面の離間した2箇所に作用点が設定されており、
前記光学ステージには、繰り出し具が一直線上を前進または後退するよう構成された繰り出し機構部が離間して2箇所に形成されており、前記繰り出し具の先頭部が、前記反射ミラー基体の前記作用点に、それぞれ接触した状態にあり、
前記繰り出し具を前進させて前記反射ミラーの前記作用点を押し出し、あるいは前記繰り出し具を後退させて前記反射ミラー基体の前記作用点を引き戻すことによって、前記反射ミラー基体の前記光学ステージに対する位置及び姿勢を調整することが可能な形態に構成され
前記光学ステージと前記反射ミラー基体とを磁力を以って互いの位置関係を保持する磁力機構を具え、該磁力機構によって、前記繰り出し具の先頭部が前記作用点に接触した状態が維持される構成とされており、
前記磁力機構は、前記光学ステージ及び前記反射ミラー基体のそれぞれの箇所に固定された磁石の組であり、
前記反射ミラー基体は、前記光学ステージと磁力を以って互いの位置関係を保持するために、前記光学ステージに固定された一方の磁石に対する他方の磁石が固定されている
ことを特徴とする反射ミラー装置。
A reflection mirror device in which the reflection mirror substrate is fixed to an optical stage that is a structure holding a reflection mirror substrate, which is a substrate having a reflection surface, in a state where the position and posture of the reflection mirror substrate can be adjusted. And
In the reflection mirror base, action points are set at two spaced locations on the back surface facing the reflection surface of the reflection mirror base.
In the optical stage, a feeding mechanism part configured so that the feeding tool moves forward or backward on a straight line is formed at two positions apart from each other, and the leading part of the feeding tool is the action of the reflecting mirror base. Each point is in contact with
The position and posture of the reflecting mirror base with respect to the optical stage by moving the feeding tool forward to push out the working point of the reflecting mirror, or by retracting the feeding tool to pull back the working point of the reflecting mirror base. Is configured in a form that can be adjusted ,
The magnetic stage is provided with a magnetic force mechanism that maintains a mutual positional relationship between the optical stage and the reflecting mirror base with a magnetic force, and the state in which the leading portion of the feeding tool is in contact with the action point is maintained by the magnetic force mechanism. It is made up of
The magnetic mechanism is a set of magnets fixed to the optical stage and the reflecting mirror base, respectively.
The reflection mirror base is fixed with the other magnet with respect to the one magnet fixed to the optical stage in order to maintain a mutual positional relationship with the optical stage with a magnetic force. A reflection mirror device.
前記繰り出し機構部は、前記光学ステージに形成された雌ねじと、該雌ねじに捩じ込まれ該雌ねじから繰り出し可能に組み合わせられた雄ねじから構成されており、前記繰り出し具は該雄ねじである
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の反射ミラー装置。
The feeding mechanism portion is composed of a female screw formed on the optical stage and a male screw that is screwed into the female screw and is capable of being fed out from the female screw, and the feeding tool is the male screw. The reflection mirror device according to claim 1 or 2 .
前記繰り出し機構部は、前記光学ステージに固定されたシリンダーと、該シリンダーから繰り出し可能に嵌めこまれたピストンから構成される動作流体を媒体として力をピストンに伝達する制御機構であり、前記繰り出し具は該ピストンである
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の反射ミラー装置。
The feeding mechanism unit is a control mechanism that transmits a force to the piston using a working fluid including a cylinder fixed to the optical stage and a piston fitted so as to be able to be fed from the cylinder, and the feeding tool. 3. The reflecting mirror device according to claim 1, wherein is a piston.
前記反射ミラー基体は、前記反射面に対向する裏面と、該裏面と直交する底面を有し、
該底面に第1突起部及び第2突起部が設けられ、
前記光学ステージには第1の凹部及び第2の凹部が設けられ、
前記第1の凹部は中心対称軸を有する略円錐形状の凹みであり、前記第2の凹部は前記第1の凹部の中心対称軸を中心とする略円弧状の凹みであり、
前記第1突起部及び前記第2突起部がそれぞれ前記第1の凹部及び前記第2の凹部に嵌合されて設置されており、
前記第1突起部を中心として前記第2突起部が回転可能であり、かつ前記第1突起部と前記第2突起部を結ぶ直線を回転軸として前記反射ミラー基体が回転可能に構成されている
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の反射ミラー装置。
The reflective mirror base has a back surface facing the reflective surface, and a bottom surface orthogonal to the back surface,
A first protrusion and a second protrusion are provided on the bottom surface,
The optical stage is provided with a first recess and a second recess,
The first recess is a substantially conical recess having a central symmetry axis, and the second recess is a substantially arc-shaped recess centered on the central symmetry axis of the first recess,
The first protrusion and the second protrusion are fitted and installed in the first recess and the second recess, respectively;
The second protrusion is rotatable about the first protrusion, and the reflection mirror base is rotatable about a straight line connecting the first protrusion and the second protrusion. reflection mirror apparatus according to any one of claims 1 to 4, characterized in that.
請求項1に記載の反射ミラー装置に使用する反射ミラー基体であって、
光学ステージと弾性力を以って互いの位置関係を保持するために、一端が前記光学ステージに固定されたばねの他端を固定するためのばね固定穴を具えることを特徴とする反射ミラー基体。
A reflection mirror substrate used in the reflection mirror device according to claim 1 ,
A reflection mirror base having a spring fixing hole for fixing the other end of the spring fixed to the optical stage in order to maintain the positional relationship between the optical stage and the elastic stage. .
請求項2に記載の反射ミラー装置に使用する反射ミラー基体であって、
光学ステージと磁力を以って互いの位置関係を保持するために、前記光学ステージに固定された一方の磁石に対する他方の磁石が固定されていることを特徴とする反射ミラー基体。
A reflection mirror substrate used in the reflection mirror device according to claim 2 ,
A reflection mirror substrate, wherein the other magnet with respect to one magnet fixed to the optical stage is fixed in order to maintain a mutual positional relationship with the optical stage with a magnetic force.
請求項5に記載の反射ミラー装置に使用する反射ミラー基体であって、
反射面と該反射面に対向する裏面と、該裏面と直交する底面を有し、該底面に、離間した2点で光学ステージから支持されるための、第1突起部及び第2突起部とが設けられていることを特徴とする反射ミラー基体。
A reflection mirror base used in the reflection mirror device according to claim 5 ,
A first projecting portion and a second projecting portion having a reflecting surface, a back surface facing the reflecting surface, and a bottom surface orthogonal to the back surface, the bottom surface being supported from the optical stage at two points apart from each other; A reflecting mirror substrate characterized in that is provided.
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