JP4578825B2 - レーザ顕微鏡装置 - Google Patents
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Description
図1は、この発明の実施の形態1であるレーザ顕微鏡装置100の概要構成を示す機能ブロック図である。このレーザ顕微鏡装置100は、レーザ光を出射するレーザ光源1と、出射されたレーザ光の光軸を調整するコリメートレンズ2と、コリメートレンズ2を通過したレーザ光の光強度を調節する減衰器3と、減衰器3で減衰されたレーザ光を反射するダイクロイックミラー4と、ダイクロイックミラー4で反射されたレーザ光を試料8上に走査するガルバノミラー5a,5bと、ガルバノミラー5a,5bを通過したレーザ光を対物レンズ7に投影する瞳投影レンズ6と、対物レンズ7に投影されたレーザ光を試料8に集光する対物レンズ7と、試料8から発した蛍光を透過するダイクロイックミラー4と、ダイクロイックミラー4を透過した蛍光を集光する集光レンズ9と、集光レンズ9で集光された蛍光を反射するミラー10と、ミラー10で反射された蛍光から蛍光波長以外の光を除去するフィルタ11と、レーザ光の集光点から発した蛍光のみが通過するピンホール12と、ピンホール12を通過した蛍光を入射し、入射した蛍光の光強度に対応した電流信号を出力する光検出器13と、光検出器13を動作させる高電圧電源16と、光検出器13から出力された電流信号を入力し、電圧信号に変換して出力する電流−電圧変換器(I−V)14と、I−V14から出力された電圧信号を数値化して出力するA/D15と、A/D15から出力された数値を、制御部20を介して画像表示する画像表示部19と、ガルバノミラー5a,5bを制御する走査部17と、減衰器3を制御する光強度制御部18と、A/D15と走査部17と光強度制御部18とを制御する制御部20とを有している。
つぎに、この発明の実施の形態2について説明する。上述した実施の形態1では、マルチフォトンイベントの発生回数の総数Mが所定の範囲(Mth2≦M≦Mth1)に入るように閾値Mth1,Mth2を設定し、総数Mが閾値Mth2未満である場合、光強度Lを光強度L+ΔLにするようにしてレーザ光の光強度を制御していたが、この実施の形態2では、光強度に上限を設け、レーザ光の光強度がこの上限を超えないようにしている。
つぎに、この発明の実施の形態3について説明する。上述した実施の形態1,2では、A/D15から出力されるデジタル信号Vpと閾値Vthとを比較し、マルチフォトンイベントの発生を分別していたが、この実施の形態3では、A/D15をコンパレータに代え、コンパレータに閾値電圧Vth1を入力し、コンパレータから出力されるTTL信号Wmの時間幅Tmによってマルチフォトンイベントの発生をカウントするようにしている。
2 コリメートレンズ
3 減衰器
4 ダイクロイックミラー
5a,5b ガルバノミラー
6 瞳投影レンズ
7 対物レンズ
8 試料
9 集光レンズ
10 ミラー
11 フィルタ
12 ピンホール
13 光検出器
14 I−V
15 A/D
16 高電圧電源
17 走査部
18 光強度制御部
19 画像表示部
20,20A 制御部
21 コンパレータ
201 同期信号発生部
202 ピクセルクロック発生部
203 水平同期信号生成部
204 垂直同期信号生成部
205 ミラー駆動信号生成部
206,206A 比較部
207 カウンタ
208 マルチフォトンカウンタ
209 画像演算部
210 フレームメモリ
211 表示制御部
212 光強度演算部
213 光強度制限部
100,200 レーザ顕微鏡装置
Claims (5)
- レーザ光源から出射したレーザ光を試料に照射し、該レーザ光が照射された試料から発する光を光検出器で検出して前記光の光強度に対応する光電流パルスに変換し、該光電流パルスに基づいて作成した画像信号を画像表示部に画像表示するレーザ顕微鏡装置において、
前記光検出器に入射する光子が重なり合うマルチフォトンイベントが、前記画像表示部に表示される1フレームあたりで発生する総数が、第1の閾値を超えるときには、前記試料に照射されるレーザ光の強度を減少させる制御を行い、前記総数が前記第1の閾値よりも小さい第2の閾値未満のときには、前記試料に照射されるレーザ光の強度を増加させる制御を行う制御手段を備えることを特徴とするレーザ顕微鏡装置。 - 前記制御手段は、
前記光検出器で検出した前記光の光強度が所定強度以上である場合にフォトンを検出するフォトン検出手段と、
前記フォトン検出手段が連続して所定数前記フォトンを検出した状態である前記マルチフォトンイベントの発生回数をカウントするカウント手段と、
を備えることを特徴とする請求項1に記載のレーザ顕微鏡装置。 - 前記フォトン検出手段は、前記光強度をサンプリングした値が前記所定強度以上である場合、前記フォトンを検出することを特徴とする請求項2に記載のレーザ顕微鏡装置。
- 前記フォトン検出手段は、前記所定強度以上である前記光強度が所定の時間連続した場合、前記フォトンを検出することを特徴とする請求項2に記載のレーザ顕微鏡装置。
- 前記制御手段は、前記マルチフォトンイベントの発生頻度に対応した前記レーザ光の強度に上限値を設け、前記総数が前記第2の閾値未満のときには、前記試料に照射されるレーザ光の強度を増加させ、かつ前記試料に照射されるレーザ光の強度を前記上限値以下に制御する光強度制限手段をさらに備えることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載のレーザ顕微鏡装置。
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