JP4577717B2 - Bump inspection apparatus and method - Google Patents
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Description
本発明は、基板に形成されたバンプを検査するバンプ検査装置およびバンプ検査方法に関し、より特定的には、バンプが所定の精度で基板に形成されているか否かを検査するバンプ検査装置およびバンプ検査方法に関する。 The present invention relates to a bump inspection apparatus and a bump inspection method for inspecting a bump formed on a substrate, and more specifically, a bump inspection apparatus and a bump for inspecting whether a bump is formed on a substrate with a predetermined accuracy. It relates to the inspection method.
従来、多層プリント配線基板の層間を接続する方法として、バンプによる接続方法が提案されている。すなわち、例えば円錐状のバンプを基板に形成し、バンプが形成された基板と他の基板とを圧着することによってバンプを基板に貫通させて基板同士を接続するのである。このように基板にバンプを形成される場合、バンプが形成される位置およびバンプの形状に関してバンプを精度良く作成する必要があるので、バンプの形成後に当該基板を検査する必要がある。 Conventionally, a bump connection method has been proposed as a method for connecting layers of a multilayer printed wiring board. That is, for example, conical bumps are formed on the substrates, and the substrate on which the bumps are formed and another substrate are pressure-bonded so that the bumps penetrate the substrates and the substrates are connected to each other. When bumps are formed on the substrate in this way, it is necessary to accurately create the bumps with respect to the positions where the bumps are formed and the shape of the bumps. Therefore, it is necessary to inspect the substrate after the bumps are formed.
基板に形成されたバンプを検査する方法としては、検査対象の基板の画像(オブジェクト画像)と見本となる基板の画像(マスター画像)とを比較する方法がある(例えば、特許文献1参照。)。この方法では、バンプが上面に形成された基板を上から撮像して2値画像のオブジェクト画像を得る。また、2値画像のマスター画像をCADデータ等から予め作成しておく。そして、オブジェクト画像とマスター画像とを比較することによって両者の相違部分を検出し、所望の精度でバンプが形成されているか否かを当該相違部分に基づいて判断する。
ここで、1つの基板には多数のバンプが形成されることが通常であるので、バンプを1つ1つ個別に比較して検査を行うよりも、複数のバンプを同時に比較して検査を行うことが好ましい。以下、図12を用いて、複数のバンプを同時に比較する場合における検査処理を説明する。 Here, since a large number of bumps are usually formed on a single substrate, a plurality of bumps are simultaneously compared and inspected, rather than performing an inspection by individually comparing the bumps one by one. It is preferable. Hereinafter, an inspection process in the case of simultaneously comparing a plurality of bumps will be described with reference to FIG.
検査処理においては、まず、マスター画像およびオブジェクト画像が用意される。図12は、複数のバンプを同時に比較する場合における画像の例を示す図である。図12では、第1〜第3のバンプという3つのバンプについて同時に比較検査を行う場合を説明する。図12(a)はマスター画像の例を示す。マスター画像としては、第1のバンプの画像91、第2のバンプの画像92、および、第3のバンプの画像93が予め作成される。また、図12(b)はオブジェクト画像の例を示す。オブジェクト画像には、第1のバンプの画像94、第2のバンプの画像95、および、第3のバンプの画像96が含まれる。
In the inspection process, first, a master image and an object image are prepared. FIG. 12 is a diagram illustrating an example of an image when a plurality of bumps are compared simultaneously. FIG. 12 illustrates a case where a comparative inspection is simultaneously performed on three bumps, ie, first to third bumps. FIG. 12A shows an example of a master image. As the master image, a
マスター画像およびオブジェクト画像が用意されると、各バンプを適切な位置で比較できるようにマスター画像とオブジェクト画像との位置合わせが行われる。例えば、比較する全てのバンプについて相違部分の量(面積)が最小となるように位置合わせが行われる。位置合わせが行われた後、マスター画像とオブジェクト画像との比較が行われ、各バンプについて相違部分が検出される。例えば、相違部分の面積が所定の基準量よりも大きいバンプは、所望の精度で作成されていない(すなわち、欠陥である)と判断される。したがって、位置がずれているために相違部分の面積が基準量よりも大きいバンプ、および、正しい形状に形成されていないために相違部分の面積が基準量よりも大きいバンプは、欠陥であると判断される。図12(c)は、マスター画像とオブジェクト画像とを重ねて表示した図である。なお、図12(c)では、図を見やすくする目的で、マスター画像の輪郭を点線で示し、オブジェクト画像の輪郭を実線で示している。図12(c)においては、第1〜第3のバンプのそれぞれについて相違部分が検出される。そして、検出された相違部分の面積に基づいて各バンプが欠陥であるか否かが判定される。 When the master image and the object image are prepared, the master image and the object image are aligned so that each bump can be compared at an appropriate position. For example, the alignment is performed so that the amount (area) of the difference is minimized for all the bumps to be compared. After the alignment, the master image and the object image are compared, and a different part is detected for each bump. For example, it is determined that a bump in which the area of the different portion is larger than a predetermined reference amount is not created with a desired accuracy (that is, a defect). Therefore, bumps with different areas larger than the reference amount due to misalignment, and bumps with different areas larger than the reference amount because they are not formed in the correct shape are judged to be defective. Is done. FIG. 12C is a diagram in which the master image and the object image are displayed in an overlapping manner. In FIG. 12C, the outline of the master image is indicated by a dotted line and the outline of the object image is indicated by a solid line for the purpose of making the drawing easier to see. In FIG. 12C, a different portion is detected for each of the first to third bumps. Then, it is determined whether or not each bump is defective based on the detected area of the different portion.
ここで、実際には、バンプは、位置ずれがある程度生じていたとしても形状が正確に形成されていれば欠陥ではない。例えば、径が50μmのバンプであれば、±20μm程度の位置ずれは許容される。図12の例では、第2のバンプは位置ずれが生じているものの形状が正確に形成されているので、欠陥ではないと判断されるべきである。一方、形状に関しては位置ずれよりも厳しく判断する必要があることが多く、バンプ自体が所定の面積を有していなければ欠陥と判断される。図12の例では、第3のバンプは形状が正確に形成されていないので、欠陥であると判断されるべきである。以上より、バンプの位置ずれに関する許容範囲は、バンプの形状に関する許容範囲よりも広いと言える。すなわち、バンプの位置ずれに関しては、上記基準量は大きく設定されるべきであるのに対して、バンプの形状に関しては、上記基準量は小さく設定されるべきである。 Here, actually, the bump is not a defect as long as the shape is accurately formed even if there is some positional deviation. For example, if the bump has a diameter of 50 μm, a positional deviation of about ± 20 μm is allowed. In the example of FIG. 12, the second bump is misaligned, but the shape is accurately formed. Therefore, it should be determined that the second bump is not a defect. On the other hand, it is often necessary to judge the shape more strictly than the positional deviation, and if the bump itself does not have a predetermined area, it is judged as a defect. In the example of FIG. 12, since the shape of the third bump is not accurately formed, it should be determined as a defect. From the above, it can be said that the permissible range regarding the positional deviation of the bump is wider than the permissible range regarding the shape of the bump. That is, the reference amount should be set large for the positional deviation of the bump, whereas the reference amount should be set small for the bump shape.
しかし、従来の方法では、位置および形状の両方に関して同じ基準量で検査を行うので、いずれか一方については正確な検査を行うことができなかった。すなわち、基準量を小さく設定すれば、位置ずれに関して許容範囲が狭く設定されてしまうので、多少位置がずれているが本来欠陥ではないバンプ(図12の第2のバンプ)が欠陥であると判断されてしまう。逆に、基準量を大きく設定すれば、形状に関して許容範囲が広く設定されてしまうので、本来許容されない形状のバンプ(図12の第3のバンプ)が欠陥でないと判断されてしまう。したがって、従来の検査方法では、バンプの位置および形状に関して欠陥の有無を正確に判断することができなかった。 However, in the conventional method, since the inspection is performed with the same reference amount with respect to both the position and the shape, an accurate inspection cannot be performed for either one. That is, if the reference amount is set to be small, the allowable range for the positional deviation is set narrow, so it is determined that the bump (second bump in FIG. 12) that is slightly out of position but not originally defective is defective. Will be. On the other hand, if the reference amount is set to be large, the allowable range for the shape is set wide, so that it is determined that the bump (the third bump in FIG. 12) that is not originally allowed is not a defect. Therefore, the conventional inspection method cannot accurately determine the presence or absence of a defect with respect to the bump position and shape.
それ故、本発明の目的は、バンプの位置および形状に関して欠陥の有無を正確に判断することができるバンプ検査装置およびバンプ検査方法を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a bump inspection apparatus and a bump inspection method that can accurately determine the presence or absence of a defect with respect to the position and shape of the bump.
上記課題を解決するために、本発明は以下に示す構成を採用した。すなわち、第1の発明は、基板に形成されたバンプを検査するバンプ検査装置である。バンプ検査装置は、基板を撮像する撮像部と、撮像部によって得られたオブジェクト画像に含まれるバンプを表す画像につき、当該バンプの形状が正しいか否かを判定し、バンプを表す画像のうち、正しいバンプの形状を有する画像を検出する形状検出部と、オブジェクト画像の領域のうち、形状検出部によって検出された画像を少なくとも含む領域を非検査領域とし、その他の領域を検査領域として設定する検査領域設定部と、検査の基準となるマスター画像を記憶するマスター画像記憶部と、検査領域設定部によって設定された検査領域についてオブジェクト画像とマスター画像とを比較することによって、バンプが所定の精度で形成されているか否かを検査する比較検査部とを備えている。 In order to solve the above problems, the present invention adopts the following configuration. That is, the first invention is a bump inspection apparatus for inspecting bumps formed on a substrate. The bump inspection apparatus determines whether or not the shape of the bump is correct with respect to an image representing a bump included in an object image obtained by the imaging unit and the object image obtained by the imaging unit, and among the images representing the bump , A shape detection unit that detects an image having a correct bump shape, and an inspection that sets an area including at least an image detected by the shape detection unit as a non-inspection area and other areas as inspection areas among object image areas By comparing the object image and the master image for the inspection region set by the region setting unit, the master image storage unit that stores the master image serving as the reference for inspection, and the inspection region setting unit, the bumps are formed with a predetermined accuracy. And a comparison inspection unit for inspecting whether or not it is formed.
また、第2の発明においては、検査領域設定部は、形状検出部によって検出された画像の領域およびその周囲の領域を非検査領域として設定してもよい。 In the second invention, the inspection region setting unit may set the region of the image detected by the shape detection unit and the surrounding region as a non-inspection region.
また、第3の発明においては、バンプ検査装置は、マスター画像のうちで比較検査部による比較の対象とする領域を表すデータを記憶する検査領域記憶部をさらに備えていてもよい。このとき、比較検査部は、検査領域設定部によって設定される検査領域であってかつ検査領域記憶部に記憶されているデータによって表される領域についてマスター画像とオブジェクト画像とを比較する。 In the third invention, the bump inspection apparatus may further include an inspection region storage unit that stores data representing a region to be compared by the comparison inspection unit in the master image. At this time, the comparison inspection unit compares the master image and the object image for the region that is the inspection region set by the inspection region setting unit and is represented by the data stored in the inspection region storage unit.
また、第4の発明においては、検査領域記憶部に記憶されているデータは、基板に形成されるべきバンプに対応する領域を表すものであってもよい。このとき、マスター画像は、基板に形成されるべきバンプの画像から一部が欠落した画像を有する。 In the fourth aspect of the invention, the data stored in the inspection area storage unit may represent an area corresponding to a bump to be formed on the substrate. At this time, the master image has an image in which a part is missing from the image of the bump to be formed on the substrate.
また、第5の発明は、基板に形成されたバンプを検査するためのバンプ検査方法である。バンプ検査方法には、基板を撮像する撮像ステップと、撮像ステップによって得られたオブジェクト画像に含まれるバンプを表す画像につき、当該バンプの形状が正しいか否かを判定し、バンプを表す画像のうち、正しいバンプの形状を有する画像を検出する形状検出ステップと、オブジェクト画像の領域のうち、形状検出ステップにおいて検出された画像を少なくとも含む領域を非検査領域とし、その他の領域を検査領域として設定する検査領域設定ステップと、検査領域設定ステップにおいて設定された検査領域についてオブジェクト画像とマスター画像とを比較することによって、バンプが所定の精度で形成されているか否かを検査する比較検査ステップとが含まれる。 The fifth invention is a bump inspection method for inspecting bumps formed on a substrate. In the bump inspection method, an imaging step for imaging a substrate, and an image representing a bump included in an object image obtained by the imaging step, it is determined whether or not the shape of the bump is correct. A shape detection step for detecting an image having a correct bump shape, and a region including at least the image detected in the shape detection step among the regions of the object image is set as a non-inspection region, and the other regions are set as inspection regions. An inspection area setting step and a comparison inspection step for inspecting whether or not the bump is formed with a predetermined accuracy by comparing the object image and the master image for the inspection area set in the inspection area setting step are included. It is.
上記第1および第5の発明によれば、正しい形状のバンプ画像を予め検出し、検出したバンプ画像の領域を非検査領域に設定する。そして、検査領域についてオブジェクト画像とマスター画像との比較検査を行うことによって、形状が正しくないバンプおよび位置ずれが許容量を超えているバンプを欠陥として検出することができる。ここで、バンプの形状に関する許容範囲は、正しい形状のバンプ画像を検出する処理において決まり、バンプの位置ずれに関する許容範囲は、非検査領域を設定する処理において決まる。したがって、本発明によれば、バンプの形状および位置に関するそれぞれの許容範囲をそれぞれ独立して適切に設定することができるので、バンプの位置および形状に関して欠陥の有無を正確に判断することができる。また、本発明によれば、比較検査の方法として従来の方法を適用することができるので、特別な比較検査アルゴリズムを用いることなく欠陥の有無を正確に判断することができる。 According to the first and fifth aspects of the invention, a bump image having a correct shape is detected in advance, and the detected bump image area is set as a non-inspection area. Then, by performing a comparative inspection between the object image and the master image for the inspection region, it is possible to detect a bump having an incorrect shape and a bump having a positional deviation exceeding an allowable amount as a defect. Here, the allowable range related to the shape of the bump is determined in the process of detecting a bump image having a correct shape, and the allowable range related to the positional deviation of the bump is determined in the process of setting the non-inspection area. Therefore, according to the present invention, the permissible ranges relating to the shape and position of the bumps can be set independently and appropriately, so that the presence or absence of defects can be accurately determined with respect to the position and shape of the bumps. Further, according to the present invention, since a conventional method can be applied as a comparison inspection method, it is possible to accurately determine the presence or absence of a defect without using a special comparison inspection algorithm.
上記第2の発明によれば、位置ずれに関する許容範囲を広くすることができる。一般的には、バンプの位置ずれに関する許容範囲は大きくとっても問題ないことが多いので、位置ずれに関する許容範囲を広くすることによって、実情に則した検査を行うことができる。 According to the second aspect of the invention, it is possible to widen the allowable range related to the positional deviation. In general, there is often no problem even if the allowable range related to the positional deviation of the bump is large. Therefore, the inspection according to the actual situation can be performed by widening the allowable range related to the positional deviation.
上記第3の発明によれば、マスター画像についても比較検査の対象とする領域を設定することで、比較検査の対象とする領域を自由に設定することができる。 According to the third aspect of the present invention, it is possible to freely set the region to be subjected to the comparative inspection by setting the region to be subjected to the comparative inspection for the master image.
上記第4の発明によれば、撮像時における基板の反射によってオブジェクト画像が正確に取得できなかった場合、比較検査の結果が欠陥となる。したがって、基板に形成されるべきバンプ(理想的なバンプ)の領域のみを比較検査の対象とする場合でも、正確に取得できなかったオブジェクト画像に対して的確な検査結果を得ることができる。さらに、理想的なバンプの領域のみについて比較検査を行えばよいので、比較検査の処理量を低減することができる。 According to the fourth aspect, when the object image cannot be accurately acquired due to the reflection of the substrate at the time of imaging, the result of the comparative inspection becomes a defect. Therefore, even when only the region of the bump (ideal bump) to be formed on the substrate is the target of the comparative inspection, an accurate inspection result can be obtained for the object image that could not be acquired accurately. Furthermore, since it is only necessary to perform the comparative inspection only on the ideal bump region, the processing amount of the comparative inspection can be reduced.
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係るバンプ検査装置の構成を示すブロック図である。バンプ検査装置は、ステージ1、CCD(Charged Coupled Device)カメラ2、および画像処理装置3を備えている。バンプ検査装置1は、基板Sにバンプが正しく形成されているか否かを検査するためのものである。
(First embodiment)
FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a bump inspection apparatus according to the first embodiment of the present invention. The bump inspection apparatus includes a stage 1, a CCD (Charged Coupled Device) camera 2, and an image processing apparatus 3. The bump inspection apparatus 1 is for inspecting whether or not bumps are correctly formed on the substrate S.
図1において、ステージ1は、検査対象である基板Sをその上面に載置する。基板Sには、例えば円錐状のバンプが形成されている。基板Sに形成されるバンプは、一般的には、直径が100〜50μm、高さが100μm程度の大きさである。CCDカメラ2は、基板Sを撮像する撮像手段の一例であり、ステージ1に載置された基板Sを上方から撮像する。撮像された画像データ(デジタルデータ)は、後述する比較検査処理に用いられる。本実施形態では、CCDカメラ2によって得られた画像をオブジェクト画像と呼び、オブジェクト画像を表すデータをオブジェクト画像データと呼ぶ。なお、基板Sの全面を一度に撮像することができない場合、CCDカメラ2および/またはステージ1を移動させることによって撮像位置を変えて基板Sの全面を撮像するようにしてもよい。CCDカメラ2は、撮像した基板Sのオブジェクト画像データを画像処理装置3に出力する。画像処理装置3は、CCDカメラ2から出力されたオブジェクト画像を用いて、基板Sにバンプが正しく形成されているか否か(バンプが所定の精度で形成されているか否か)を検査し、検査結果を出力する。 In FIG. 1, a stage 1 places a substrate S to be inspected on its upper surface. For example, conical bumps are formed on the substrate S. The bumps formed on the substrate S are generally about 100 to 50 μm in diameter and about 100 μm in height. The CCD camera 2 is an example of an imaging unit that images the substrate S, and images the substrate S placed on the stage 1 from above. The captured image data (digital data) is used for a comparison inspection process to be described later. In this embodiment, an image obtained by the CCD camera 2 is called an object image, and data representing the object image is called object image data. If the entire surface of the substrate S cannot be imaged at once, the entire surface of the substrate S may be imaged by moving the CCD camera 2 and / or the stage 1 to change the imaging position. The CCD camera 2 outputs the captured object image data of the substrate S to the image processing device 3. The image processing apparatus 3 uses the object image output from the CCD camera 2 to inspect whether or not the bump is correctly formed on the substrate S (whether or not the bump is formed with a predetermined accuracy). Output the result.
図1に示すように、画像処理装置3は、2値化処理部31、オブジェクト画像記憶部32、形状検出部33、バンプ位置記憶部34、検査領域設定部35、比較検査部36、マスター画像記憶部37、および検査領域画像記憶部38を備えている。画像処理装置3は典型的にはパーソナルコンピュータによって構成され、画像処理装置における処理は、画像処理装置3に格納された所定のプログラムが実行されることによって行われる。なお、画像処理装置における処理は、その一部または全部が専用の処理回路によって行われてもよい。
As shown in FIG. 1, the image processing apparatus 3 includes a
2値化処理部31は、CCDカメラ2から出力されたオブジェクト画像データに対して2値化処理を行う。すなわち、2値化処理部31は、オブジェクト画像を、各画素が2値で表現される2値画像に変換する。変換後のオブジェクト画像データにおいては、バンプが存在する位置が“1”、バンプが存在しない位置が“0”で表現される。オブジェクト画像記憶部32は、2値化処理部31による変換後に得られるオブジェクト画像データを記憶する。バンプ位置記憶部34は、基板Sに形成されるべき各バンプの位置を示すデータ(バンプ位置データ)を記憶する。このバンプ位置データは、例えば検査者によって予め作成されてバンプ位置記憶部34に記憶される。なお、バンプ位置データは、各バンプの位置を特定することができるものであればどのようなものであってもよく、例えば、各バンプの中心位置を表す座標データでもよいし、画像データでもよい。例えば、後述するマスター画像データをバンプ位置データとして用いてもよい。
The
形状検出部33は、オブジェクト画像に含まれるバンプ画像(バンプを表す画像)のうち、正しいバンプの形状を有するバンプ画像を検出する。本実施形態においてはバンプは円錐形状であるので、正しく形成されたバンプはオブジェクト画像において円形領域として表される。つまり、本実施形態においては、形状検出部33は、バンプ画像のうち、外形が円形の画像を検出する。形状検出部33は、検出したバンプ画像の領域(オブジェクト画像上における領域)を示すデータを検査領域設定部35へ出力する。なお、正しい形状でないバンプ画像の領域は、検査領域設定部35へは通知されない。
The
検査領域設定部35は、オブジェクト画像に対して、比較検査の対象とする検査領域と、比較検査の対象としない非検査領域とを設定する。具体的には、検査領域設定部35は、正しい形状のバンプ画像の領域を拡散する処理(拡散処理)を行うことによって、検査領域および非検査領域を示す画像を生成する。より具体的には、検査領域設定部35は、正しい形状のバンプ画像の領域を所定範囲だけ広げた領域を非検査領域とする画像を表す画像データを生成する。本実施形態では、この画像を第2検査領域画像と呼び、第2検査領域画像を表す画像データを第2検査領域画像データと呼ぶ。第2検査領域画像データは、オブジェクト画像データと同様、各画素が2値で表現されたデータである。例えば、第2検査領域画像においては、非検査領域が“0”、検査領域が“1”で表現される。
The inspection
一方、マスター画像記憶部37は、マスター画像データを記憶する。マスター画像データとは、比較検査処理において基準となる基板の画像(マスター画像)を表すデータである。マスター画像は、理想的にバンプが形成された基板の画像である。マスター画像データは、良品を撮像することによって得られた画像データであってもよいし、CADデータから作成された画像データであってもよい。マスター画像データは、オブジェクト画像データと同様、各画素が2値で表現されたデータである。マスター画像データにおいては、オブジェクト画像データと同様、バンプが存在する位置が“1”、バンプが存在しない位置が“0”で表現される。また、検査領域画像記憶部38は、第1検査領域画像を表す画像データ(第1検査領域画像データ)を記憶する。第1検査領域画像データは、マスター画像における領域うち、比較検査の対象とする領域を指定する画像データである。第1検査領域画像データは、第2検査領域画像データと同様、各画素が2値で表現されたデータであり、非検査領域が“0”、検査領域が“1”で表現される。
On the other hand, the master
比較検査部36は、上記オブジェクト画像および上記マスター画像を用いて基板Sに対する比較検査処理を行う。すなわち、比較検査部36は、オブジェクト画像とマスター画像とのパターンマッチングを行い、両者に含まれるバンプ画像の相違点を検出する。比較検査部36は、検出された相違点に基づいて、各バンプが所定の精度で基板に形成されているか否かを判断する。例えば、バンプ画像の相違点の数が、予め定められた所定数よりも少ない場合、バンプが所定の精度で基板に形成されていると判断され、当該所定数以上である場合、バンプが所定の精度で基板に形成されていないと判断される。
The
なお、本実施形態においては、比較検査部36は、オブジェクト画像およびマスター画像を単に用いるのではなく、第1および第2検査領域画像を用いて各画像(オブジェクト画像およびマスター画像)をマスクしてから比較検査処理を行う。具体的には、マスター画像の検査領域は第1検査領域画像によって規定され、オブジェクト画像の検査領域は第2検査領域画像によって規定される。すなわち、マスター画像は、第1検査領域画像において検査領域とされる領域のみが比較検査の対象となる。また、オブジェクト画像は、第1検査領域画像において検査領域とされる領域のみが比較検査処理の対象となる。その結果、比較検査処理の対象となる領域は、第1検査領域画像と第2検査領域画像との両方において検査領域とされる領域のみとなる。
In the present embodiment, the
以下、本実施形態に係るバンプ検査装置の動作を説明する。なお、以下では、第1〜第4バンプという4つのバンプが基板に形成されているか否かを検査する場合を例にとって説明する。図2は、正しく形成された基板の例を示す図である。図2に示すように、正しく作成された基板には、第1〜第4バンプ41〜44が形成される。 The operation of the bump inspection apparatus according to this embodiment will be described below. In the following description, an example of inspecting whether or not four bumps, that is, first to fourth bumps are formed on a substrate will be described. FIG. 2 is a diagram showing an example of a correctly formed substrate. As shown in FIG. 2, the 1st-4th bumps 41-44 are formed in the board | substrate produced correctly.
図3は、バンプ検査装置の画像処理装置3における処理の流れを示すフローチャートである。なお、図3に示す処理の前に、CCDカメラ2はステージ1に載置された基板Sの画像を撮像しておく。まずステップS1において、オブジェクト画像が取得される。具体的には、ステージ1上に載置された基板Sを撮像することによって得られるオブジェクト画像データがCCDカメラ2から2値化処理部31に取得される。2値化処理部31に取得されたオブジェクト画像データは、各画素が2値で表現される画像データに変換される。変換後のオブジェクト画像データは、オブジェクト画像記憶部32に記憶される。
FIG. 3 is a flowchart showing the flow of processing in the image processing apparatus 3 of the bump inspection apparatus. Prior to the processing shown in FIG. 3, the CCD camera 2 captures an image of the substrate S placed on the stage 1. First, in step S1, an object image is acquired. Specifically, object image data obtained by imaging the substrate S placed on the stage 1 is acquired from the CCD camera 2 to the
図4は、ステップS1によって得られたオブジェクト画像を示す図である。図4に示すオブジェクト画像には、第1バンプを表すバンプ画像46、第2バンプを表すバンプ画像47、第3バンプを表すバンプ画像48、第4バンプを表すバンプ画像49が含まれる。図4のオブジェクト画像から、基板Sにおいては、第1バンプはほぼ正常に形成され、第2バンプは形状は正しいものの位置がややずれて形成され、第3バンプは欠けた形状に形成され、第4バンプは形状は正しいものの位置がかなりずれて形成されたことがわかる。また、本実施形態では、第1バンプおよび第2バンプが正常と判断され、第3バンプおよび第4バンプが欠陥と判断されることを目標とする。すなわち、第2バンプのようにやや位置がずれたものは許容し、第3バンプのように形状が正しくないものや、第4バンプのように大きく位置がずれたものは欠陥と判断する。
FIG. 4 is a diagram showing the object image obtained in step S1. The object image shown in FIG. 4 includes a
続くステップS2においては、オブジェクト画像を用いて、基板Sに形成された各バンプのうちで正しい形状のバンプが検出される。具体的には、形状検出部33は、オブジェクト画像に含まれている各バンプ画像について、正しい形状(ここでは、円形)であるか否かを判定する。形状検出部33による判定処理は、例えば次のように行われる。すなわち、まず、バンプ位置記憶部34に記憶されているバンプ位置データに基づいて、各バンプが形成されるべき位置(バンプが形成される理想的な位置)を特定する。次に、特定した位置に存在するバンプ画像の形状が円形であるか否かを判定する。円形であるか否かの判定は、予め定められた複数の方向についてバンプ画像の領域の直径を算出し、算出した直径の各値が所定範囲内にあるか否かによって行う。すなわち、算出した直径の各値が所定範囲内にある場合には円形であると判定し、算出した直径の各値が所定範囲内にない場合には円形でないと判定する。当該所定範囲を示す値は検査者が自由に設定することができることが好ましい。この値を変化させることによって、検査者は、バンプの形状に関する許容量を変化させることができる。なお、円形であるか否かの判定は、バンプ位置データにより示される位置を含む領域のそれぞれについて行われる。図4の例で言えば、第1〜第4バンプを表す各バンプ画像について当該判定が行われる。また、形状検出部33は、正しい形状であると判定されたバンプ画像を表すデータを検査領域設定部35へ渡す。このデータはどのような形態であってもよいが、本実施形態では、画像データであるとする。具体的には、オブジェクト画像データに含まれる各バンプ画像のうち、正しい形状であると判定されたバンプ画像のみを含む画像データとする。
In the subsequent step S2, a bump having a correct shape is detected among the bumps formed on the substrate S using the object image. Specifically, the
ステップS3においては、ステップS2で検出されたバンプ画像の領域を非検査領域とするマスクが作成される。具体的には、検査領域設定部35は、まず、形状検出部33から受け取った画像データに含まれる各バンプ画像の中心の位置を特定する。次に、特定した位置を中心とする円領域を非検査領域とし、その他の領域を検査領域とするマスクを表す画像を作成する。
In step S3, a mask is created in which the area of the bump image detected in step S2 is a non-inspection area. Specifically, the inspection
続くステップS4においては、ステップS3で作成された画像の非検査領域を拡散することによって上記第2検査領域画像が作成される。すなわち、検査領域設定部35は、ステップS3で作成された画像データの非検査領域の直径を所定長さだけ大きくする。これによって、第2検査領域画像が作成されたこととなる。
なお、非検査領域を拡散する拡散量(上記所定長さ)は、予め決められているものとする。この拡散量は、バンプの位置ずれに関する許容量を表す指標となる。したがって、拡散量の値は検査者によって変更可能とされることが好ましい。図5は、第2検査領域画像を示す図である。図5では、図3に示すオブジェクト画像から得られる第2検査領域画像を示す。図5においては斜線領域が検査領域である。なお、図5における点線は、正しい形状であると判定されたバンプ画像の領域、すなわち、ステップS3において設定された非検査領域を示す。図5に示すように、図3に示すオブジェクト画像が得られた場合、第1バンプ、第2バンプ、および第4バンプを表すバンプ画像の領域およびその周辺の領域が非検査領域となる。
In subsequent step S4, the second inspection region image is created by diffusing the non-inspection region of the image created in step S3. That is, the inspection
Note that the diffusion amount (the predetermined length) for diffusing the non-inspection region is determined in advance. This diffusion amount serves as an index representing an allowable amount related to the positional deviation of the bump. Therefore, it is preferable that the value of the diffusion amount can be changed by the inspector. FIG. 5 is a diagram illustrating a second inspection region image. FIG. 5 shows a second inspection region image obtained from the object image shown in FIG. In FIG. 5, the shaded area is the inspection area. Note that the dotted line in FIG. 5 indicates the area of the bump image determined to have the correct shape, that is, the non-inspection area set in step S3. As shown in FIG. 5, when the object image shown in FIG. 3 is obtained, the area of the bump image representing the first bump, the second bump, and the fourth bump and the surrounding area are non-inspection areas.
ステップS5においては、オブジェクト画像とマスター画像との比較検査が行われる。ステップS5の処理は、オブジェクト画像記憶部32に記憶されているオブジェクト画像データと、検査領域設定部35によって生成される第2検査領域画像データと、マスター画像記憶部37に記憶されているマスター画像データと、検査領域画像記憶部38に記憶されている第1検査領域画像データとを用いて行われる。図6は、本実施形態において用いられるマスター画像を示す図である。また、図7は、本実施形態において用いられる第1検査領域画像を示す図である。図6に示すように、本実施形態では、正しく形成された場合の各バンプ(理想的なバンプ)を表すバンプ画像がマスター画像として用いられる。また、図7に示すように、本実施形態における第1検査領域画像データは、全面を検査領域とする画像データである。以下、ステップS5における比較検査部36の処理の詳細を説明する。
In step S5, a comparison inspection between the object image and the master image is performed. In step S5, the object image data stored in the object
比較検査部36は、まず、オブジェクト画像およびマスター画像について比較検査を行う領域を決定する。具体的には、オブジェクト画像における比較検査の対象となる領域は、第2検査領域画像によって規定される。すなわち、オブジェクト画像のうち、第2検査領域画像において検査領域とされる領域が比較検査の対象となる。図4および図5を例にとって説明すると、図4に示す第1、第2および第4バンプを表すバンプ画像の領域およびその周辺の領域は、比較検査の対象とならない。一方、マスター画像における比較検査の対象となる領域は、第1検査領域画像によって規定される。本実施形態では、第1検査領域画像においてはその全面が検査領域であるので(図7参照)、マスター画像の全面が比較検査の対象となる。
The
比較検査を行う領域を決定すると、比較検査部36は、オブジェクト画像およびマスター画像について検査領域内のバンプ画像の位置を合わせる処理を行う。位置合わせ処理においては、例えば、比較検査の対象となる全領域においてオブジェクト画像とマスター画像との相違点の量(面積、すなわち画素数)が最小となるように位置が決定される。相違点とは、オブジェクト画像とマスター画像とで値(0または1)が異なる画素である。位置合わせ処理の後、比較検査部36は、オブジェクト画像とマスター画像との比較検査を行う。なお、オブジェクト画像およびマスター画像のいずれか一方のみについて比較検査の対象となっている領域については、比較検査は行われない。つまり、比較検査部36は、第1検査領域画像と第2検査領域画像との両方において検査領域とされる領域について比較検査を行う。図8は、比較検査が行われる領域を説明するための図である。なお、図8では、オブジェクト画像に含まれるバンプ画像とマスター画像に含まれるバンプ画像とを重ねて記載している。図8においては、点線の内側の領域以外の領域が比較検査の対象となる。したがって、図4に示すオブジェクト画像が得られた場合には、バンプ画像46とバンプ画像51とについては比較検査が行われない。また、バンプ画像47とバンプ画像52とについては比較検査が行われない。また、バンプ画像49とバンプ画像54については、バンプ画像49が非検査領域内に存在するものの、バンプ画像54の一部が非検査領域の外側に存在するので、当該一部について比較検査が行われる。
When the region to be subjected to the comparative inspection is determined, the
比較検査においては、比較検査部36は、1つのバンプを表すバンプ画像毎に検査結果を出力する。具体的には、各バンプについてオブジェクト画像とマスター画像との相違点が検出され、相違点の数が予め定められた所定数よりも少ない場合、そのバンプは正常であると判断され、当該所定数以上である場合、そのバンプは欠陥であると判断される。図8を例にとって説明すると、バンプ画像48および53について比較検査を行うことによって第3バンプに関する検査結果が得られる。ここでは、バンプ画像48は円形の一部が欠けた形状であり、欠けた部分がある分、欠けていない場合に比べて相違点の数が多くなる。したがって、第3バンプについての検査結果は「欠陥」となるものとする。換言すれば、上記所定数は、形状検出部33によって正しい形状でないと判断されるバンプ画像を欠陥と判断するような値に設定される。
In the comparative inspection, the
また、図8において、点線の外側にあるバンプ画像54の領域は、全て相違点と判断される。したがって、相違点の数は上記所定数を超えると考えられるので、第4バンプについての検査結果は「欠陥」となる。このように、マスター画像に含まれるバンプ画像の位置が、第2検査領域画像における非検査領域の範囲内を越えている場合、そのバンプ画像に対応するバンプは欠陥と判断される。したがって、バンプの位置ずれに関する許容量は、第2検査領域画像の非検査領域の範囲よって決まる、すなわち、上記拡散量によって決まる。例えば、拡散量を大きく設定すれば、第2検査領域画像における非検査領域の範囲が大きくなるので、バンプの位置ずれに関する許容量が大きくなる。逆に、拡散量を小さく設定すれば、第2検査領域画像における非検査領域の範囲が小さくなるので、バンプの位置ずれに関する許容量が小さくなる。
Further, in FIG. 8, the areas of the
なお、ステップS5における比較検査の具体的な方法は、オブジェクト画像とマスター画像との相違点に基づく方法であればよく、従来の比較検査アルゴリズムを適用することができる。 The specific method of the comparison inspection in step S5 may be a method based on the difference between the object image and the master image, and a conventional comparison inspection algorithm can be applied.
また、比較検査部は、比較検査の対象とならなかったバンプを「正常」と判断するものとする。図8において、第1および第2バンプは比較検査の対象とならないので、第1および第2バンプについての検査結果は「正常」となる。 In addition, the comparison inspection unit determines that a bump that has not been subjected to the comparison inspection is “normal”. In FIG. 8, since the first and second bumps are not subjected to the comparative inspection, the inspection result for the first and second bumps is “normal”.
なお、本実施形態では、比較検査の結果が画像として表示装置(図示しない)に表示されるものとする。例えば、比較検査部36は、オブジェクト画像とマスター画像とを重ね合わせた画像を表示装置に表示するようにしてもよい。このとき、正常と判断されるバンプと、欠陥と判断されるバンプとで色を変えるようにすれば、正常であるバンプと欠陥であるバンプとを区別して表示することができる。また、オブジェクト画像とマスター画像とを重ね合わせた画像のうち、上記第2検査領域画像の検査領域内のみを表示するようにしてもよい。このとき、正常なバンプは非検査領域内に存在するので表示されず、欠陥であるバンプのみが表示されることとなる。これによっても、正常であるバンプと欠陥であるバンプとを区別して表示することができる。なお、比較検査の結果の提示方法は、各バンプについて正常または欠陥を作業者に提示する方法であればどのような方法であってもよいが、欠陥か否かを作業者に最終判断させる場合には、上記のように画像として表示する方法が好ましい。
In the present embodiment, it is assumed that the result of the comparative inspection is displayed as an image on a display device (not shown). For example, the
以上のように、本実施形態によれば、バンプ検査装置は、まず、バンプの形状を識別する処理を行う(上記ステップS2)。この処理によって、形状に関して正常と判断されるバンプ(例えば上記第1および第2バンプ)が検出される。その後、バンプ検査装置は、オブジェクト画像とマスター画像との比較検査を行い(上記ステップS5)、正しい形状に形成されていないバンプ、および、位置が許容できない程度にずれて形成されているバンプが検出される。このように、バンプの形状に関する判断と、位置に関する判断とを別個に行うことによって、形状に関する判断のしきい値と位置に関する判断のしきい値とを別個にすることができる。具体的には、ステップS2における所定範囲を示す値を変化させることで、バンプの形状に関する許容値を変化させることができる。また、ステップS4における所定長さの値を変化させることで、バンプの位置に関する許容値を変化させることができる。本実施形態によれば、形状および位置に関してしきい値をそれぞれ適切に設定することができるので、バンプの位置および形状に関して欠陥の有無を正確に判断することができる。 As described above, according to the present embodiment, the bump inspection apparatus first performs a process of identifying the shape of the bump (step S2). By this process, bumps that are determined to be normal with respect to the shape (for example, the first and second bumps) are detected. After that, the bump inspection device performs a comparison inspection between the object image and the master image (step S5), and detects a bump that is not formed in a correct shape and a bump that is formed with an unacceptable position. Is done. As described above, the determination regarding the shape of the bump and the determination regarding the position are performed separately, whereby the determination threshold regarding the shape and the determination threshold regarding the position can be made different. Specifically, the allowable value related to the shape of the bump can be changed by changing the value indicating the predetermined range in step S2. Further, by changing the value of the predetermined length in step S4, the allowable value related to the bump position can be changed. According to the present embodiment, the threshold values can be appropriately set with respect to the shape and position, so that the presence or absence of a defect can be accurately determined with respect to the position and shape of the bump.
(第2の実施形態)
以下、本発明の第2の実施形態に係るバンプ検査装置について説明する。第2の実施形態においては、上記第1検査領域画像およびマスター画像の内容が第1の実施形態と異なる他は、第1の実施形態と同様である。すなわち、バンプ検査装置の基本的な構成(図1)および動作(図3)は第1の実施形態ど同じである。なお、以下の説明において、見本となる基板の位置および形状(図2)および取得されるオブジェクト画像(図4)は、第1の実施形態と同じであるとする。
(Second Embodiment)
A bump inspection apparatus according to the second embodiment of the present invention will be described below. The second embodiment is the same as the first embodiment except that the contents of the first inspection region image and the master image are different from those of the first embodiment. That is, the basic configuration (FIG. 1) and operation (FIG. 3) of the bump inspection apparatus are the same as in the first embodiment. In the following description, it is assumed that the position and shape of the sample substrate (FIG. 2) and the acquired object image (FIG. 4) are the same as those in the first embodiment.
図9は、第2の実施形態において用いられる第1検査領域画像を示す図である。図9に示すように、第2の実施形態においては、バンプが形成されるべき領域(バンプが形成される理想的な領域)のみを検査領域とする。したがって、比較検査処理を最小限に抑えることができ、画像処理装置3の処理負担を軽減するとともに処理を短時間で行うことができる。 FIG. 9 is a diagram illustrating a first inspection region image used in the second embodiment. As shown in FIG. 9, in the second embodiment, only the region where the bump is to be formed (ideal region where the bump is formed) is set as the inspection region. Therefore, the comparison inspection process can be minimized, the processing load on the image processing apparatus 3 can be reduced, and the process can be performed in a short time.
ここで、上記第1の実施形態においては、マスター画像に含まれるバンプ画像は、理想的なバンプそのものを表すものであった。つまり、第1の実施形態におけるマスター画像は、図9に示す検査領域と同じ領域を表すものであった。ここで、第2の実施形態において第1の実施形態と同じマスター画像を用いると、バンプの検査が正確に行えないおそれがある。以下、図10を用いて詳細を説明する。 Here, in the first embodiment, the bump image included in the master image represents an ideal bump itself. That is, the master image in the first embodiment represents the same area as the inspection area shown in FIG. Here, if the same master image as that of the first embodiment is used in the second embodiment, there is a possibility that the inspection of the bumps cannot be performed accurately. Details will be described below with reference to FIG.
図10は、オブジェクト画像がうまく撮像することができなかった場合における仮想的な比較検査を説明するための図である。CCDカメラ2によって基板Sを撮像する際、基板Sに形成された銅パターン等が反射することによって、バンプのパターンがうまく撮像できない場合がある。この場合、具体的にはオブジェクト画像データは、全面が“1(バンプが形成されていることを意味する)”となってしまう(図10(a))。このようなオブジェクト画像は、比較検査において欠陥であると判断されるべきである。 FIG. 10 is a diagram for explaining virtual comparison inspection in the case where an object image cannot be captured well. When the substrate S is imaged by the CCD camera 2, the bump pattern may not be successfully imaged due to reflection of a copper pattern or the like formed on the substrate S. In this case, specifically, the entire object image data is “1 (means that bumps are formed)” (FIG. 10A). Such an object image should be determined to be defective in the comparative inspection.
しかし、このようなオブジェクト画像について、上述した第1検査領域画像およびマスター画像を用いて比較検査を行うと、欠陥が検出できない。すなわち、全面が“1”であるオブジェクト画像について上記ステップS2の処理を行うと、正しい形状のバンプ画像は検出されないので、第2検査領域画像においては全面が検査領域となる(図10(b))。一方、第1検査領域画像は、バンプが形成される理想的な領域を検査領域とする(図10(e))ので、比較検査処理の対象となる領域は、第1検査領域画像の全ての検査領域となる。ここで、オブジェクト画像は全面が“1”であるので、第1検査領域画像の検査領域については、オブジェクト画像の各画素の値は全て“1”である。また、マスター画像は、第1検査領域画像の検査領域については、オブジェクト画像の各画素の値は全て“1”である(図10(d))。したがって、第1検査領域画像の検査領域については、オブジェクト画像とマスター画像との間に相違点はなく(図10(c))、その結果、各バンプは正常であると判断されてしまう。 However, when such an object image is subjected to a comparative inspection using the above-described first inspection area image and master image, a defect cannot be detected. That is, if the process of step S2 is performed on the object image whose entire surface is “1”, a correct-shaped bump image is not detected, and therefore the entire surface is the inspection region in the second inspection region image (FIG. 10B). ). On the other hand, the first inspection area image has an ideal area where bumps are formed as the inspection area (FIG. 10E), and therefore, the area to be subjected to the comparison inspection process is the entire area of the first inspection area image. It becomes an inspection area. Here, since the entire surface of the object image is “1”, the value of each pixel of the object image is “1” for the inspection region of the first inspection region image. In the master image, the values of the pixels of the object image are all “1” for the inspection region of the first inspection region image (FIG. 10D). Therefore, regarding the inspection area of the first inspection area image, there is no difference between the object image and the master image (FIG. 10C), and as a result, each bump is determined to be normal.
そこで、第2の実施形態では、理想的なバンプを表すバンプ画像の一部を欠落させた画像をマスター画像として用いる。図11は、第2の実施形態において用いるマスター画像を示す図である。図11に示すように、第2の実施形態におけるマスター画像においては、理想的なバンプを表すバンプ画像の中心部分が欠落している。なお、欠落部分の形状および大きさはどのようなものであってもよい。ただし、理想的なバンプを表すバンプ画像とそのバンプ画像の一部が欠落したマスター画像とを比較検査すれば欠陥と判定されるように、欠落部分を設定する必要がある。つまり、理想的なバンプを表すバンプ画像とマスター画像とでは比較検査の結果が欠陥となる程度の相違点が生じるように欠落部分を設定する必要がある。 Therefore, in the second embodiment, an image obtained by deleting a part of a bump image representing an ideal bump is used as a master image. FIG. 11 is a diagram illustrating a master image used in the second embodiment. As shown in FIG. 11, in the master image in the second embodiment, the central portion of the bump image representing an ideal bump is missing. Note that the shape and size of the missing portion may be any. However, it is necessary to set a missing portion so that a defect image can be determined as a defect if a bump image representing an ideal bump is compared with a master image in which a part of the bump image is missing. In other words, it is necessary to set a missing portion so that a difference between the bump image representing an ideal bump and the master image causes a difference in the result of the comparison inspection.
以上のようにマスター画像に欠落部分を設定することによって、もし図10(a)に示すようなオブジェクト画像について比較検査を行う場合には、上記中心部分についてオブジェクト画像とマスター画像とに相違点が生じる。その結果、比較検査処理において各バンプは欠陥であると判断される。したがって、第2の実施形態では、マスター画像に欠落部分を設定することによって、反射等によってオブジェクト画像が正しく撮像できなかった場合でも欠陥を正しく判断することができる。 As described above, by setting the missing part in the master image, if a comparison inspection is performed for the object image as shown in FIG. 10A, there is a difference between the object image and the master image for the central part. Arise. As a result, each bump is determined to be defective in the comparison inspection process. Therefore, in the second embodiment, by setting a missing portion in the master image, it is possible to correctly determine the defect even when the object image cannot be correctly captured due to reflection or the like.
なお、上記第2の実施形態において、正しく形成されたバンプについては、それを表すバンプ画像およびその周辺の領域が第2検査領域画像において非検査領域となるので、比較検査が行われない。その結果、当該バンプは正常であると判断されるので、マスター画像に欠落部分を設定しても問題はない。 In the second embodiment, a properly formed bump is not subjected to comparative inspection because a bump image representing the bump and its surrounding area are non-inspection areas in the second inspection area image. As a result, since the bump is determined to be normal, there is no problem even if a missing portion is set in the master image.
本発明は、基板に形成されたバンプの位置および形状に関して欠陥の有無を正確に判断すること等を目的として利用することが可能である。 The present invention can be used for the purpose of accurately determining the presence or absence of defects with respect to the position and shape of bumps formed on a substrate.
1 ステージ
2 CCDカメラ
3 画像処理装置
31 2値化処理部
32 オブジェクト画像記憶部
33 形状検出部
34 バンプ位置記憶部
35 検査領域設定部
36 比較検査部
37 マスター画像記憶部
38 検査領域画像記憶部
41〜44 バンプ
46〜47,51〜54 バンプ画像
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Stage 2 CCD camera 3
Claims (5)
前記基板を撮像する撮像部と、
前記撮像部によって得られたオブジェクト画像に含まれるバンプを表す画像につき、当該バンプの形状が正しいか否かを判定し、前記バンプを表す画像のうち、正しいバンプの形状を有する画像を検出する形状検出部と、
前記オブジェクト画像の領域のうち、前記形状検出部によって検出された画像を少なくとも含む領域を非検査領域とし、その他の領域を検査領域として設定する検査領域設定部と、
検査の基準となるマスター画像を記憶するマスター画像記憶部と、
前記検査領域設定部によって設定された検査領域について前記オブジェクト画像と前記マスター画像とを比較することによって、バンプが所定の精度で形成されているか否かを検査する比較検査部とを備える、バンプ検査装置。 A bump inspection apparatus for inspecting bumps formed on a substrate,
An imaging unit for imaging the substrate;
A shape for determining whether or not the shape of the bump is correct for an image representing a bump included in the object image obtained by the imaging unit, and detecting an image having a correct bump shape among the images representing the bump A detection unit;
An inspection area setting unit that sets an area including at least the image detected by the shape detection unit as a non-inspection area and other areas as inspection areas among the area of the object image;
A master image storage unit for storing a master image serving as an inspection reference;
A bump inspection comprising: a comparison inspection unit that inspects whether or not a bump is formed with a predetermined accuracy by comparing the object image and the master image for the inspection region set by the inspection region setting unit. apparatus.
前記比較検査部は、前記検査領域設定部によって設定される検査領域であってかつ前記検査領域記憶部に記憶されているデータによって表される領域について前記マスター画像とオブジェクト画像とを比較する、請求項1に記載のバンプ検査装置。 An inspection region storage unit that stores data representing a region to be compared by the comparison inspection unit in the master image;
The comparison inspection unit compares the master image and the object image for an area that is an inspection area set by the inspection area setting unit and represented by data stored in the inspection area storage unit. The bump inspection apparatus according to Item 1.
前記マスター画像は、基板に形成されるべきバンプの画像から一部が欠落した画像を有する、請求項3に記載のバンプ検査装置。 The data stored in the inspection area storage unit represents an area corresponding to a bump to be formed on the substrate,
The bump inspection apparatus according to claim 3, wherein the master image has an image in which a part of the image of the bump to be formed on the substrate is missing.
前記基板を撮像する撮像ステップと、
前記撮像ステップによって得られたオブジェクト画像に含まれるバンプを表す画像につき、当該バンプの形状が正しいか否かを判定し、前記バンプを表す画像のうち、正しいバンプの形状を有する画像を検出する形状検出ステップと、
前記オブジェクト画像の領域のうち、前記形状検出ステップにおいて検出された画像を少なくとも含む領域を非検査領域とし、その他の領域を検査領域として設定する検査領域設定ステップと、
前記検査領域設定ステップにおいて設定された検査領域について前記オブジェクト画像と前記マスター画像とを比較することによって、バンプが所定の精度で形成されているか否かを検査する比較検査ステップとを含む、バンプ検査方法。 A bump inspection method for inspecting a bump formed on a substrate,
An imaging step of imaging the substrate;
A shape for determining whether or not the shape of the bump is correct with respect to the image representing the bump included in the object image obtained by the imaging step, and detecting an image having the correct bump shape from the image representing the bump A detection step;
An inspection area setting step of setting an area including at least the image detected in the shape detection step as a non-inspection area and another area as an inspection area among the object image areas;
A bump inspection including a comparison inspection step of inspecting whether or not the bump is formed with a predetermined accuracy by comparing the object image and the master image with respect to the inspection region set in the inspection region setting step. Method.
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