JP4575756B2 - 荷電粒子照射野形成装置 - Google Patents
荷電粒子照射野形成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4575756B2 JP4575756B2 JP2004339855A JP2004339855A JP4575756B2 JP 4575756 B2 JP4575756 B2 JP 4575756B2 JP 2004339855 A JP2004339855 A JP 2004339855A JP 2004339855 A JP2004339855 A JP 2004339855A JP 4575756 B2 JP4575756 B2 JP 4575756B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- charged particle
- bragg peak
- particle beam
- irradiation field
- layer plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 89
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 6
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 6
- 206010028980 Neoplasm Diseases 0.000 description 4
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- 201000011510 cancer Diseases 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
- G21K1/04—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using variable diaphragms, shutters, choppers
- G21K1/043—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using variable diaphragms, shutters, choppers changing time structure of beams by mechanical means, e.g. choppers, spinning filter wheels
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Radiation-Therapy Devices (AREA)
Description
上記拡大ブラッグピーク形成器は、
上記荷電粒子ビームが通過する厚みを有する円板に、その中心近傍から周方向に周期的に扇状の穴が形成され、上記荷電粒子ビームの照射方向に、上記円板の中心を合わせて積層された同一形状の層板と、
上記円板の軸を中心として周方向に上記層板それぞれを独立に回転させるとともに回転量を調節する第1の回転機構と、
を備えたものである。
上記拡大ブラッグピーク形成器は、
上記荷電粒子ビームが通過する厚みを有する円板に、その中心近傍から周方向に扇状の穴が形成され、上記荷電粒子ビームの照射方向に、上記円板の中心を合わせて積層された同一形状の層板と、
上記円板の軸を中心として周方向に上記層板それぞれを独立に回転させるとともに回転量を調節する第1の回転機構と、
上記積層された層板を、上記層板の中心を回転軸として回転する第2の回転機構と、
を備えたものである。
図1は、この発明に係る荷電粒子照射野形成装置に用いられる拡大ブラッグピーク形成器の実施の形態1を示す図であり、(a)は断面図、(b)は平面図である。
図5は、この発明に係る荷電粒子照射野形成装置に用いられる拡大ブラッグピーク形成器の実施の形態2を示す断面図である。
図6は、この発明に係る荷電粒子照射野形成装置に用いられる拡大ブラッグピーク形成器の実施の形態3を示す断面図(a)及び平面図(b)である。
図7は、この発明に係る荷電粒子照射野形成装置に用いられる拡大ブラッグピーク形成器の実施の形態4を示す断面図(a)及び平面図(b)である。
図8は、この発明に係る荷電粒子照射野形成装置に用いられる拡大ブラッグピーク形成器の実施の形態5を示す断面図(a)及び平面図(b)である。
図9は、この発明に係る荷電粒子照射野形成装置に用いられる拡大ブラッグピーク形成器の実施の形態6を示す断面図(a)及び平面図(b)である。
図10は、この発明に係る荷電粒子照射野形成装置に用いられる拡大ブラッグピーク形成器の実施の形態7を示す断面図(a)及び平面図(b)である。
図11は、この発明に係る荷電粒子照射野形成装置に用いられる拡大ブラッグピーク形成器の実施の形態8を示す断面図(a)及び平面図(b)である。
4b 雄ねじ、4c ばね、4d ピン、5 穴、7 合成されたブラッグピーク、
8 ブラッグピーク、9 第1の回転機構、9a 組み合わせ部分、9b ギア部。
Claims (6)
- 加速器で加速された荷電粒子ビームを照射対象に照射するものであり、上記荷電粒子ビームによって形成されるブラッグピークの線量カーブのピーク形状を拡大する拡大ブラッグピーク形成器を備えた荷電粒子照射野形成装置において、
上記拡大ブラッグピーク形成器は、
上記荷電粒子ビームが通過する厚みを有する円板に、その中心近傍から周方向に周期的に扇状の穴が形成され、上記荷電粒子ビームの照射方向に、上記円板の中心を合わせて積層された同一形状の層板と、
上記円板の軸を中心として周方向に上記層板それぞれを独立に回転させるとともに回転量を調節する第1の回転機構と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子照射野形成装置。 - 上記積層された層板全体を、上記層板の中心を回転軸として回転する第2の回転機構を備えたことを特徴とする請求項1記載の荷電粒子照射野形成装置。
- 加速器で加速された荷電粒子ビームを照射対象に照射するものであり、上記荷電粒子ビームによって形成されるブラッグピークの線量カーブのピーク形状を拡大する拡大ブラッグピーク形成器を備えた荷電粒子照射野形成装置において、
上記拡大ブラッグピーク形成器は、
上記荷電粒子ビームが通過する厚みを有する円板に、その中心近傍から周方向に扇状の穴が形成され、上記荷電粒子ビームの照射方向に、上記円板の中心を合わせて積層された同一形状の層板と、
上記円板の軸を中心として周方向に上記層板それぞれを独立に回転させるとともに回転量を調節する第1の回転機構と、
上記積層された層板全体を、上記層板の中心を回転軸として回転する第2の回転機構と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子照射野形成装置。 - 上記扇状の穴の周方向における開き角度が、径方向の外側に向かうにつれて大きくなっており、上記第2の回転機構の回転軸と上記荷電粒子ビームの中心軸との距離を相対的に可変とする機構が設けられていることを特徴とする請求項2または3に記載の荷電粒子照射野形成装置。
- 上記積層された同一形状の層板それぞれの厚さが同一であることを特徴とする請求項1または3のいずれかに記載の荷電粒子照射野形成装置。
- 上記積層された同一形状の層板それぞれが同一材料であることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の荷電粒子照射野形成装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004339855A JP4575756B2 (ja) | 2004-11-25 | 2004-11-25 | 荷電粒子照射野形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004339855A JP4575756B2 (ja) | 2004-11-25 | 2004-11-25 | 荷電粒子照射野形成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006141910A JP2006141910A (ja) | 2006-06-08 |
JP4575756B2 true JP4575756B2 (ja) | 2010-11-04 |
Family
ID=36622232
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004339855A Expired - Fee Related JP4575756B2 (ja) | 2004-11-25 | 2004-11-25 | 荷電粒子照射野形成装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4575756B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4206414B2 (ja) | 2006-07-07 | 2009-01-14 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子ビーム出射装置及び荷電粒子ビーム出射方法 |
JP6184313B2 (ja) * | 2013-12-18 | 2017-08-23 | 株式会社日立製作所 | 粒子線治療システムおよびリッジフィルタならびにリッジフィルタの製造方法 |
KR101772324B1 (ko) * | 2016-04-18 | 2017-08-28 | 고려대학교 산학협력단 | 가변형 핀홀 콜리메이터 및 이를 이용한 방사선 영상 장치 |
DE102021103037B3 (de) | 2021-02-09 | 2022-03-31 | Bruker Axs Gmbh | Verstellbarer segmentierter Kollimator |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53126886A (en) * | 1977-04-11 | 1978-11-06 | Ohio Nuclear | Variable collimator |
JPS59193439U (ja) * | 1983-06-10 | 1984-12-22 | 株式会社 日立メデイコ | 治療用放射線装置 |
JPH10314324A (ja) * | 1997-05-22 | 1998-12-02 | Hitachi Ltd | 荷電粒子線照射野形成装置およびそのリッジフィルタ |
JP2003057397A (ja) * | 2001-08-17 | 2003-02-26 | Mitsubishi Electric Corp | ビーム電流減衰器 |
-
2004
- 2004-11-25 JP JP2004339855A patent/JP4575756B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS53126886A (en) * | 1977-04-11 | 1978-11-06 | Ohio Nuclear | Variable collimator |
JPS59193439U (ja) * | 1983-06-10 | 1984-12-22 | 株式会社 日立メデイコ | 治療用放射線装置 |
JPH10314324A (ja) * | 1997-05-22 | 1998-12-02 | Hitachi Ltd | 荷電粒子線照射野形成装置およびそのリッジフィルタ |
JP2003057397A (ja) * | 2001-08-17 | 2003-02-26 | Mitsubishi Electric Corp | ビーム電流減衰器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006141910A (ja) | 2006-06-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4072359B2 (ja) | 荷電粒子ビーム照射装置 | |
WO2020048646A1 (de) | Wechseln zwischen zonenspezifischen bestrahlungsstrategien bei der generativen fertigung | |
JP5444296B2 (ja) | 連続的なフライス加工プロセスにおいてベベルギヤの歯システムを切削するための方法 | |
JP4575756B2 (ja) | 荷電粒子照射野形成装置 | |
JP2018526536A (ja) | 複合加工方法を用いたシャドウマスクの製造方法及びこれにより製造されたシャドウマスク | |
DE102005059545A1 (de) | CMP Kissen, das eine überlappende abgestufte Rillenanordnung aufweist | |
KR20180012388A (ko) | 복합 가공 방법을 이용한 섀도우 마스크의 제조방법 및 이에 의해 제조된 섀도우 마스크 | |
WO2006034598A1 (de) | Verfahren zur herstellung magnetronbeschichteter substrate und magnetronsputterquelle | |
CN107000076A (zh) | 用于去屑加工的刀具和切削刀片 | |
JP3698860B2 (ja) | 荷電粒子照射装置およびそのビーム制御方法 | |
RU2013150097A (ru) | Бур | |
CN110755762B (zh) | 射线加速器治疗头多叶准直器及肿瘤放射治疗设备 | |
JP6184313B2 (ja) | 粒子線治療システムおよびリッジフィルタならびにリッジフィルタの製造方法 | |
WO2018154719A1 (ja) | 積層造形方法及び積層造形装置 | |
JP2006000220A (ja) | マルチリーフコリメータ | |
EP2764937A2 (de) | Innenfräser | |
WO2001040869A2 (en) | Mask design and method for controlled profile fabrication | |
CN110027211A (zh) | 用于操作添加式地制造三维物体的设备的方法 | |
US20240131361A1 (en) | Ridge filter and method for designing same in a pbs treatment system | |
JP5793737B1 (ja) | 蒸着装置 | |
US7468784B2 (en) | Method and device for forming optical or magnetic memory media or a template for the same | |
JPH10314324A (ja) | 荷電粒子線照射野形成装置およびそのリッジフィルタ | |
WO2020085194A1 (ja) | 傾斜状構造体およびその製造方法 | |
CN211097110U (zh) | 射线加速器治疗头多叶准直器及肿瘤放射治疗设备 | |
JP6660761B2 (ja) | 粒子線治療システムおよびリッジフィルタならびにリッジフィルタの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070330 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100202 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100325 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100413 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100520 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20100720 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100817 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100820 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4575756 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130827 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |