JP4575756B2 - 荷電粒子照射野形成装置 - Google Patents
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Description
上記拡大ブラッグピーク形成器は、
上記荷電粒子ビームが通過する厚みを有する円板に、その中心近傍から周方向に周期的に扇状の穴が形成され、上記荷電粒子ビームの照射方向に、上記円板の中心を合わせて積層された同一形状の層板と、
上記円板の軸を中心として周方向に上記層板それぞれを独立に回転させるとともに回転量を調節する第1の回転機構と、
を備えたものである。
上記拡大ブラッグピーク形成器は、
上記荷電粒子ビームが通過する厚みを有する円板に、その中心近傍から周方向に扇状の穴が形成され、上記荷電粒子ビームの照射方向に、上記円板の中心を合わせて積層された同一形状の層板と、
上記円板の軸を中心として周方向に上記層板それぞれを独立に回転させるとともに回転量を調節する第1の回転機構と、
上記積層された層板を、上記層板の中心を回転軸として回転する第2の回転機構と、
を備えたものである。
図1は、この発明に係る荷電粒子照射野形成装置に用いられる拡大ブラッグピーク形成器の実施の形態1を示す図であり、(a)は断面図、(b)は平面図である。
図5は、この発明に係る荷電粒子照射野形成装置に用いられる拡大ブラッグピーク形成器の実施の形態2を示す断面図である。
図6は、この発明に係る荷電粒子照射野形成装置に用いられる拡大ブラッグピーク形成器の実施の形態3を示す断面図(a)及び平面図(b)である。
図7は、この発明に係る荷電粒子照射野形成装置に用いられる拡大ブラッグピーク形成器の実施の形態4を示す断面図(a)及び平面図(b)である。
図8は、この発明に係る荷電粒子照射野形成装置に用いられる拡大ブラッグピーク形成器の実施の形態5を示す断面図(a)及び平面図(b)である。
図9は、この発明に係る荷電粒子照射野形成装置に用いられる拡大ブラッグピーク形成器の実施の形態6を示す断面図(a)及び平面図(b)である。
図10は、この発明に係る荷電粒子照射野形成装置に用いられる拡大ブラッグピーク形成器の実施の形態7を示す断面図(a)及び平面図(b)である。
図11は、この発明に係る荷電粒子照射野形成装置に用いられる拡大ブラッグピーク形成器の実施の形態8を示す断面図(a)及び平面図(b)である。
4b 雄ねじ、4c ばね、4d ピン、5 穴、7 合成されたブラッグピーク、
8 ブラッグピーク、9 第1の回転機構、9a 組み合わせ部分、9b ギア部。
Claims (6)
- 加速器で加速された荷電粒子ビームを照射対象に照射するものであり、上記荷電粒子ビームによって形成されるブラッグピークの線量カーブのピーク形状を拡大する拡大ブラッグピーク形成器を備えた荷電粒子照射野形成装置において、
上記拡大ブラッグピーク形成器は、
上記荷電粒子ビームが通過する厚みを有する円板に、その中心近傍から周方向に周期的に扇状の穴が形成され、上記荷電粒子ビームの照射方向に、上記円板の中心を合わせて積層された同一形状の層板と、
上記円板の軸を中心として周方向に上記層板それぞれを独立に回転させるとともに回転量を調節する第1の回転機構と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子照射野形成装置。 - 上記積層された層板全体を、上記層板の中心を回転軸として回転する第2の回転機構を備えたことを特徴とする請求項1記載の荷電粒子照射野形成装置。
- 加速器で加速された荷電粒子ビームを照射対象に照射するものであり、上記荷電粒子ビームによって形成されるブラッグピークの線量カーブのピーク形状を拡大する拡大ブラッグピーク形成器を備えた荷電粒子照射野形成装置において、
上記拡大ブラッグピーク形成器は、
上記荷電粒子ビームが通過する厚みを有する円板に、その中心近傍から周方向に扇状の穴が形成され、上記荷電粒子ビームの照射方向に、上記円板の中心を合わせて積層された同一形状の層板と、
上記円板の軸を中心として周方向に上記層板それぞれを独立に回転させるとともに回転量を調節する第1の回転機構と、
上記積層された層板全体を、上記層板の中心を回転軸として回転する第2の回転機構と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子照射野形成装置。 - 上記扇状の穴の周方向における開き角度が、径方向の外側に向かうにつれて大きくなっており、上記第2の回転機構の回転軸と上記荷電粒子ビームの中心軸との距離を相対的に可変とする機構が設けられていることを特徴とする請求項2または3に記載の荷電粒子照射野形成装置。
- 上記積層された同一形状の層板それぞれの厚さが同一であることを特徴とする請求項1または3のいずれかに記載の荷電粒子照射野形成装置。
- 上記積層された同一形状の層板それぞれが同一材料であることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の荷電粒子照射野形成装置。
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JPS59193439U (ja) * | 1983-06-10 | 1984-12-22 | 株式会社 日立メデイコ | 治療用放射線装置 |
JPH10314324A (ja) * | 1997-05-22 | 1998-12-02 | Hitachi Ltd | 荷電粒子線照射野形成装置およびそのリッジフィルタ |
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