JP4569366B2 - 接続装置 - Google Patents
接続装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4569366B2 JP4569366B2 JP2005126914A JP2005126914A JP4569366B2 JP 4569366 B2 JP4569366 B2 JP 4569366B2 JP 2005126914 A JP2005126914 A JP 2005126914A JP 2005126914 A JP2005126914 A JP 2005126914A JP 4569366 B2 JP4569366 B2 JP 4569366B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- base portion
- contact pressure
- pressure spring
- contact
- spring portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Description
本実施形態では、接続装置として、回路基板間の電気的接続に利用可能なコネクタを例示する。
本実施形態において接続装置として例示するコネクタAの基本構成は実施形態1と略同じであって、図6に示すように、ベース部11の前面上で各コンタクト部13それぞれに電気的に接続された金属配線14をベース部11の周部まで延長している点が相違する。なお、実施形態1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
本実施形態において接続装置として例示するコネクタAの基本構成は実施形態1と略同じであって、図7に示すように、ベース部11の後面の各凹所11aの開口面積が徐々に小さくなる形状となっている点、各コンタクト部13とベース部11の後面の各外部接続電極17とがスリット11bの内面および凹所11aの内面に沿って形成された接続配線18を介して電気的に接続されている点などが相違する。なお、実施形態1と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
本実施形態において接続装置として例示するコネクタAの基本構成は実施形態3と略同じであって、図8に示すように、ベース部11の前面上で各コンタクト部13それぞれに電気的に接続された金属配線14をベース部11の周部まで延長している点が相違するだけである。なお、実施形態3と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
本実施形態において接続装置として例示するコネクタAの基本構成は実施形態4と略同じであって、図9に示すように、接圧ばね部12の厚み寸法が中心側の端部からベース部11側の端部に近づくにつれて単調に増加している点が相違するだけである。なお、実施形態4と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
本実施形態において接続装置として例示するコネクタAの基本構成は実施形態2と略同じであって、図10に示すように、ベース部11の各区画ごとに2つのスパイラル状のスリット11b,11bが互いに入り組む形で形成されており、スパイラル状の接圧ばね部12が2重構造になっている点が相違する。なお、実施形態2と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
本実施形態において接続装置として例示するコネクタAの基本構成は実施形態2と略同じであって、図11に示すように、接圧ばね部12が、ベース部11側の端部よりも中心側の端部の方が前方に位置するようなスパイラル状の形状に形成されている点が相違する。なお、実施形態2と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
本実施形態において接続装置として例示するコネクタAの基本構成は実施形態2と略同じであって、図12に示すように、接圧ばね部12における幅方向の両側面12b,12bそれぞれと後面12cとの間に面取り部12d,12dが形成されている点が相違するだけである。なお、実施形態2と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
本実施形態において接続装置として例示するコネクタAの基本構成は実施形態2と略同じであって、図13に示すように、ベース部11の各区画において凹所11aの内部空間(つまり、接圧ばね部12の後面側の空間)およびスリット11bの内部空間に弾性材料(例えば、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂など)が充填されており、ベース部11の各区画において接圧ばね部12以外の部分が上記弾性材料からなる弾性体部19となっている点が相違するだけである。なお、実施形態2と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
図16に示す本実施形態の接続装置としてのコネクタAの基本構成は実施形態2と略同じであって、ベース部11および接圧ばね部12の基礎となる第2の半導体基板10として、図17(a)に示すように、シリコン基板からなる支持基板10aと、支持基板10a上のシリコン酸化膜からなる絶縁層(埋込酸化膜)10bと、絶縁層10b上のシリコン層10cとを有するSOI基板を用い、当該SOI基板を加工することによりベース部11および接圧ばね部12を形成している点が相違する。ここにおいて、ベース部11は、SOI基板の支持基板10a、絶縁層10b、シリコン層10cそれぞれを利用して形成してあるのに対して、接圧ばね部12は、SOI基板におけるシリコン層10cを利用して形成してあり、ベース部11よりも薄肉となっている。ただし、SOI基板は、シリコン層10cの厚み寸法を接圧ばね部12の厚み寸法に設定してある。なお、実施形態2と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
本実施形態において接続装置として例示するコネクタAの基本構成は実施形態10と略同じであって、図18に示すように、ベース部11の各区画において接圧ばね部12の後方に位置して接続端子23とコンタクト部13との接続状態における接圧を増大させる薄板状(ダイヤフラム状)の板ばね部15を有し、板ばね部15がベース部11および各接圧ばね部12とともに上記第2の半導体基板10を用いて形成されてベース部11に連続している点などが相違する。ここにおいて、ベース部11の各区画において接圧ばね部12と板ばね部15との間には、スリット11bに連通する中空部11fが形成されており、ベース部11の後面には、各区画に対応する部位それぞれに各板ばね部15それぞれに達する深さの凹所11eが形成されており、板ばね部15は接圧ばね部12に比べて撓みにくくなっている。なお、実施形態10と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
本実施形態において接続装置として例示するコネクタAの基本構成は実施形態1と略同じであって、実施形態1では接圧ばね部12の全長に亘ってコンタクト部13となる金属膜が積層されていたのに対して、図20に示すように、ベース部11における各区画の中央部でのみ接圧ばね部12にコンタクト部13となる金属膜が積層され(図20(a)においてハッチングを施した部位はコンタクト部13を示している)、当該コンタクト部13と貫通配線16とを電気的に接続する拡散層配線11dが形成されている点が相違するだけである。なお、他の実施形態においても、ベース部11における各区画の中央部でのみ接圧ばね部12にコンタクト部13となる金属膜を積層し、拡散層配線11dを適宜設けるようにしてもよい。
本実施形態において接続装置として例示するコネクタAの基本構成は実施形態6と略同じであって、図21に示すように、ベース部11の各区画ごとに4つのスパイラル状のスリット11bが形成されており、接圧ばね部12が4重のスパイラル状の形成に形成されている点などが相違する。ただし、接圧ばね部12は、ベース部11の前面に平行な面内におけるベース部11との各連結部位が上記区画の中心に対して回転対称となるように形成されている。なお、実施形態6と同様の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
11a 凹所
11b スリット
12 接圧ばね部
13 コンタクト部
14 金属配線
16 貫通配線
17 外部接続電極
Claims (9)
- 半導体基板を用いて形成され相手側部材の複数の接続端子それぞれに対応する複数の区画が設けられたベース部と、ベース部の各区画においてベース部の厚み方向に変位可能なスパイラル状の接圧ばね部と、ベース部の一表面である前面側で接圧ばね部に積層された導電性材料よりなる導電層からなり接続端子に弾接するコンタクト部とを備え、接圧ばね部は、前記半導体基板を用いて形成されベース部に連続していることを特徴とする接続装置。
- 前記ベース部は、前記各コンタクト部それぞれと電気的に接続され前記厚み方向に貫通した複数の貫通配線が形成されてなることを特徴とする請求項1記載の接続装置。
- 前記ベース部の後面において前記各区画それぞれに対応する部位に前記接圧ばね部の後面に達する深さの凹所が形成されるとともに、前記ベース部の前面側において前記接圧ばね部と前記ベース部との間に凹所に連通するスパイラル状のスリットが形成され、前記各コンタクト部がスリットの内面および凹所の内面に沿って形成された接続配線を介して前記ベース部の後面の外部接続電極と電気的に接続されていることを特徴とする請求項1記載の接続装置。
- 前記接圧ばね部は、前記ベース部の前面側に設けられ、前記ベース部側の端部よりも中心側の端部の方が前方に位置するようなスパイラル状の形状に形成されてなることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の接続装置。
- 前記接圧ばね部は、幅方向の両側面それぞれと後面との間に面取り部が形成されてなることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の接続装置。
- 前記ベース部の前記各区画において前記接圧ばね部の後面側の空間に弾性材料が充填されてなることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の接続装置。
- 前記ベース部の前記各区画において前記接圧ばね部の後方に位置して前記接続端子と前記コンタクト部との接続状態における接圧を増大させる薄板状の板ばね部を有し、板ばね部は、前記半導体基板を用いて形成され前記ベース部に連続していることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれかに記載の接続装置。
- 前記半導体基板として、第1の半導体層と第2の半導体層との間に第1の半導体層および第2の半導体層それぞれの深さ方向へのエッチング時にエッチングストッパとして機能することが可能なエッチングストッパ機能層を有し、且つ、第1の半導体層の厚みが前記接圧ばね部の厚み寸法に対応する厚さに設定された半導体基板を用いてなることを特徴とする請求項1ないし請求項7のいずれかに記載の接続装置。
- 前記ベース部の前記各区画において前記接圧ばね部が少なくとも3重のスパイラル状の形状であり、前記接圧ばね部は、前記ベース部の前面に平行な面内における前記ベース部との各連結部位が前記区画の中心に対して回転対称となるように形成されてなることを特徴とする請求項1ないし請求項8のいずれかに記載の接続装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005126914A JP4569366B2 (ja) | 2005-04-25 | 2005-04-25 | 接続装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005126914A JP4569366B2 (ja) | 2005-04-25 | 2005-04-25 | 接続装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006302841A JP2006302841A (ja) | 2006-11-02 |
JP4569366B2 true JP4569366B2 (ja) | 2010-10-27 |
Family
ID=37470873
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005126914A Expired - Fee Related JP4569366B2 (ja) | 2005-04-25 | 2005-04-25 | 接続装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4569366B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111329758B (zh) * | 2020-03-03 | 2023-03-24 | 江苏省肿瘤防治研究所(江苏省肿瘤医院) | 一种肿瘤科静脉注射混合配药装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0778645A (ja) * | 1993-09-09 | 1995-03-20 | Japan Aviation Electron Ind Ltd | 電気接続用コネクタ |
JP2000067972A (ja) * | 1998-08-17 | 2000-03-03 | Dai Ichi Denshi Kogyo Kk | 電気コネクタ |
JP2002175859A (ja) * | 2000-09-26 | 2002-06-21 | Yukihiro Hirai | スパイラルコンタクタ、これを用いた半導体検査装置及び電子部品 |
-
2005
- 2005-04-25 JP JP2005126914A patent/JP4569366B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0778645A (ja) * | 1993-09-09 | 1995-03-20 | Japan Aviation Electron Ind Ltd | 電気接続用コネクタ |
JP2000067972A (ja) * | 1998-08-17 | 2000-03-03 | Dai Ichi Denshi Kogyo Kk | 電気コネクタ |
JP2002175859A (ja) * | 2000-09-26 | 2002-06-21 | Yukihiro Hirai | スパイラルコンタクタ、これを用いた半導体検査装置及び電子部品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006302841A (ja) | 2006-11-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7049693B2 (en) | Electrical contact array for substrate assemblies | |
TWI517326B (zh) | 具有引線之基板 | |
KR101003027B1 (ko) | 암 커넥터, 그에 끼워 맞춰지는 수 커넥터, 이들이 끼워 맞춰져 이루어진 전기 접속구조, 이들을 이용한 전기·전자 부품 및, 반도체 패키지 소켓 또는 반도체 검사용 소켓 | |
US7972149B2 (en) | Board with connection terminals | |
US7855429B2 (en) | Electronic circuit device having silicon substrate | |
CN110692128B (zh) | 半导体装置及半导体装置的制造方法 | |
US9052341B2 (en) | Probe card and manufacturing method thereof | |
JP5379065B2 (ja) | プローブカード及びその製造方法 | |
JP4569366B2 (ja) | 接続装置 | |
KR100912467B1 (ko) | 커넥터용 연결핀 및 핀형 커넥터 | |
US9476913B2 (en) | Probe card | |
JP4613713B2 (ja) | 接続装置 | |
JP4866025B2 (ja) | 接続装置 | |
US9470718B2 (en) | Probe card | |
JP4779504B2 (ja) | 接続装置 | |
JP4697245B2 (ja) | 基板間接続コネクタ | |
JP2007005250A (ja) | 接続装置 | |
KR101766256B1 (ko) | 복수의 소켓 팁이 결합된 테스트 소켓 모듈 및 테스트 소켓 모듈의 조립 방법 | |
US6361327B1 (en) | Micromachined silicon beam interconnect | |
KR101005767B1 (ko) | 전기적 접속을 위한 핀 | |
JP4172470B2 (ja) | コネクタおよび雌側コネクタの製造方法 | |
TW202244509A (zh) | 探針和探針的製造方法 | |
JP2006302642A (ja) | 接点モジュール及びその製造方法、ならびに前記接点モジュールを用いた接点付き部材及びその製造方法 | |
JP2008027773A (ja) | Icソケットおよびその製造方法 | |
JP2007095749A (ja) | インターポーザ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080115 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100308 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100316 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20100708 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100713 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100726 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130820 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130820 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |