JP4566248B2 - Vertical coil spring probe - Google Patents

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Description

本発明は、半導体デバイスの電気的諸特性を測定するのに使用される垂直コイルスプリングプローブに関する。   The present invention relates to a vertical coil spring probe used to measure electrical characteristics of a semiconductor device.

この種の垂直コイルスプリングプローブは、半導体デバイスの電極に接触する接触ピンと、接触ピンの後端部分である案内子が挿入される筒体とを備えており、この筒体は、接触ピンの鍔部に連結される下側筒部と、上側筒部と、下側筒部と上側筒部との間のコイル状のスプリング部とを有している(特許文献1参照)。   This type of vertical coil spring probe includes a contact pin that contacts an electrode of a semiconductor device and a cylindrical body into which a guide element that is a rear end portion of the contact pin is inserted. A lower cylindrical portion connected to the upper portion, an upper cylindrical portion, and a coiled spring portion between the lower cylindrical portion and the upper cylindrical portion (see Patent Document 1).

前記筒体はレーザー加工や機械加工されることにより、導電性を有する筒の中間部から前記スプリング部が作成される。   The cylindrical body is laser processed or machined to create the spring portion from an intermediate portion of the conductive cylinder.

特許第4031007号公報Japanese Patent No. 4031007

ところが、前記垂直コイルスプリングプローブは微細なものであるから、前記レーザー加工や機械加工により前記筒体を作成するには高度な加工技術が必要となる。即ち、技術者のレベルによりその精度にバラツキが生じ且つコスト高になるため、量産化に適さないという問題があった。   However, since the vertical coil spring probe is fine, a high processing technique is required to produce the cylindrical body by the laser processing or machining. That is, the accuracy varies depending on the level of the engineer, and the cost is high, which is not suitable for mass production.

本発明は、上記事情に鑑みて創案されたものであって、その目的とするところは量産化に適した垂直コイルスプリングプローブを提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a vertical coil spring probe suitable for mass production.

上記課題を解決するために、本発明の垂直コイルスプリングプローブは、ベース部、ベース部の下面に設けられた接触子及びベース部の上面に設けられた直線状の案内子を有する接触ピンと、ベース部の上面上に設置され且つ接触ピンの案内子が挿入されるコイルスプリングとを備えており、コイルスプリングは、内周面が案内子の上端部と摺動する上側座巻き部と、この上側座巻き部の下端部に連続する弾性変形部とを有しており、上側座巻き部は、その内周面が平坦面となっており、上端部が先鋭化されていて、案内子は、円柱状の本体部と、この本体部の外周面に設けられたリング状のフランジと、前記本体部に連設された円柱状の上端部とを有し、当該フランジは接触ピンのベース部から間隔をあけて配置されており、前記本体部の外径が前記上端部の外径よりも小さくなっていて、前記上端部の中心軸と前記本体部の中心軸が同一直線上にある。 In order to solve the above problems, a vertical coil spring probe according to the present invention includes a base part, a contact pin provided on a lower surface of the base part, a contact pin having a linear guide provided on the upper surface of the base part, and a base A coil spring that is installed on the upper surface of the part and into which the guide of the contact pin is inserted. The coil spring includes an upper end winding part whose inner peripheral surface slides on the upper end of the guide, The upper end winding part has a flat inner surface, the upper end part is sharpened, and the guide element has an elastic deformation part continuous with the lower end part of the end winding part. A cylindrical main body, a ring-shaped flange provided on the outer peripheral surface of the main body, and a cylindrical upper end connected to the main body , the flange extending from the base of the contact pin They are arranged at intervals, of the body portion Diameter They become smaller than the outer diameter of the upper portion, a central axis of said body portion and the central axis of the upper portion is collinear.

このような垂直コイルスプリングプローブによる場合、コイルスプリングが線材を巻き回すだけで高精度且つ容易に作成することができることから、量産化に適している。しかも、コイルスプリングの上側座巻き部の内周面が平坦面となっていることから、案内子の上端部が上側座巻き部内を摺動する際に、案内子の上端部と上側座巻き部の内周面との摺動面積が増大し、両者の電気的な接続が安定する。よって、プローブ全体の電気抵抗値を小さくすることができる。また、上側座巻き部の上端部が先鋭化されていると、プローブユニットの電極に接触する際に、当該電極上の酸化膜を容易に突き破ることが可能になる。よって、上側座巻き部と前記電極との電気的な接続を安定させることができる。   Such a vertical coil spring probe is suitable for mass production because the coil spring can be easily created with high accuracy simply by winding a wire. Moreover, since the inner peripheral surface of the upper end winding portion of the coil spring is a flat surface, when the upper end portion of the guide slides in the upper end winding portion, the upper end portion of the guide and the upper end winding portion The sliding area with the inner peripheral surface increases, and the electrical connection between them is stabilized. Therefore, the electrical resistance value of the entire probe can be reduced. Further, when the upper end of the upper end winding portion is sharpened, it is possible to easily break through the oxide film on the electrode when contacting the electrode of the probe unit. Therefore, the electrical connection between the upper end winding portion and the electrode can be stabilized.

前記コイルスプリングは断面視略矩形状の線材が巻き回された構成となっていることが好ましい。このように断面視略矩形状の線材を用いると、当該線材を巻き回して上側座巻き部を作成するだけで、当該上側座巻き部の内周面を平坦面とすることができる。従って、上側座巻き部の内周面の後加工が不要になるため、量産化に更に適している。   The coil spring preferably has a configuration in which a wire having a substantially rectangular shape in cross section is wound. In this way, when a wire rod having a substantially rectangular shape in cross section is used, the inner peripheral surface of the upper seat winding portion can be made flat only by winding the wire rod and creating the upper end winding portion. Therefore, post-processing of the inner peripheral surface of the upper end winding portion is not necessary, which is more suitable for mass production.

前記コイルスプリングは、メッキ加工された前記線材が巻き回された構成となっていることが好ましい。前記線材を巻き回してコイルスプリングを作成した後にメッキ加工しようとすると、コイルスプリングが微細であることから、コイルスプリング内部にメッキ液が侵入せず、コイルスプリングの内周面にメッキされない部分が生じる可能性があるが、前述の通り、前記線材をメッキ加工した後に、巻き回すようにすれば、コイルスプリング全体を均一にメッキすることができる。   The coil spring preferably has a configuration in which the plated wire is wound. If an attempt is made to perform plating after winding the wire to create a coil spring, the coil spring is fine, so that the plating solution does not enter the coil spring, and there is a portion that is not plated on the inner peripheral surface of the coil spring. Although there is a possibility, as described above, if the wire rod is wound after being plated, the entire coil spring can be uniformly plated.

本発明の別の垂直コイルスプリングプローブは、ベース部、ベース部の下面に設けられた接触子及びベース部の上面に設けられた直線状の案内子を有する接触ピンと、ベース部の上面上に設置され且つ接触ピンの案内子が挿入されるコイルスプリングとを備えており、コイルスプリングは、内周面が案内子の上端部と摺動する上側座巻き部と、この上側座巻き部の下端部に連続する弾性変形部とを有しており、上側座巻き部は、その内周面が平坦面となっており、上端部が先鋭化されていて、案内子は、前記上端部とベース部との間の円柱状の本体部の外径が上端部の外径よりも小さくなっていて、しかも前記上端部は円柱状であり、前記上端部の中心軸と前記本体部の中心軸が同一直線上にある。この場合、案内子の上端部以外の部分がコイルスプリングの内周面に接触しない。即ち、案内子のコイルスプリングとの摺動面積を低減することができるので、コイルスプリング圧縮時における案内子のコイルスプリング内の往路移動と、コイルスプリング復元時における案内子のコイルスプリング内の復路移動との荷重ヒステリシスを低減することができる。 Another vertical coil spring probe according to the present invention is provided on a base portion, a contact pin provided on a lower surface of the base portion, a contact pin having a linear guide provided on an upper surface of the base portion, and an upper surface of the base portion. And a coil spring into which the guide pin of the contact pin is inserted. The upper end winding portion has a flat inner peripheral surface, the upper end portion is sharpened, and the guide element includes the upper end portion and the base portion. The outer diameter of the cylindrical main body between the upper end and the upper end is cylindrical, and the central axis of the upper end and the central axis of the main body are the same. It is on a straight line. In this case, portions other than the upper end of the guide do not contact the inner peripheral surface of the coil spring. That is, since the sliding area of the guide with the coil spring can be reduced, the forward movement of the guide in the coil spring when the coil spring is compressed and the return of the guide in the coil spring when the coil spring is restored. And the load hysteresis can be reduced.

以下、本発明の実施の形態に係る垂直コイルスプリングプローブについて図面を参照しつつ説明する。図1は本発明の実施の形態に係る垂直コイルスプリングプローブの概略的斜視図、図2は同プローブの概略的分解斜視図、図3は同プローブの概略的断面図である。   Hereinafter, a vertical coil spring probe according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 is a schematic perspective view of a vertical coil spring probe according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic exploded perspective view of the probe, and FIG. 3 is a schematic sectional view of the probe.

図1乃至図3に示す垂直コイルスプリングプローブAは、接触ピン100Aと、この接触ピン100Aに取り付けられるコイルスプリング200Aとを備えている。以下、各部について詳しく説明する。   The vertical coil spring probe A shown in FIGS. 1 to 3 includes a contact pin 100A and a coil spring 200A attached to the contact pin 100A. Hereinafter, each part will be described in detail.

接触ピン100Aは、円柱状の接触子110Aと、接触子110Aよりも外径が大きい円柱状の案内子120Aと、下面に接触子110Aが、上面に案内子120Aが各々設けられたベース部130Aとが一体的に構成されたものである。この接触ピン100Aは白金合金やベリリウム銅等の導電性を有する円柱体の外周面を切削加工することにより各部が作成される。   The contact pin 100A includes a cylindrical contact 110A, a cylindrical guide 120A having an outer diameter larger than that of the contact 110A, a contact 110A on the lower surface, and a base portion 130A provided with the guide 120A on the upper surface. Are integrally configured. Each part of the contact pin 100A is created by cutting the outer peripheral surface of a cylindrical body having conductivity such as platinum alloy or beryllium copper.

接触子110Aは先端部が先鋭化されている。これにより、接触子110Aの先端部を後述する半導体デバイス10の導電パッド11との所定の接触圧を確保すると共に、導電パッド11上の酸化膜を容易に突き破ることができるようにしている。   The contact 110A has a sharpened tip. Thus, a predetermined contact pressure is secured at the tip of the contact 110A with the conductive pad 11 of the semiconductor device 10 described later, and the oxide film on the conductive pad 11 can be easily broken through.

ベース部130Aはコイルスプリング200Aの外径と略同じ外径を有する円板状の部位である。このベース部130A上にコイルスプリング200Aの下側座巻き部220Aが設置される。   The base portion 130A is a disk-shaped portion having an outer diameter substantially the same as the outer diameter of the coil spring 200A. A lower end winding portion 220A of the coil spring 200A is installed on the base portion 130A.

案内子120Aは、外径がコイルスプリング200Aの内径よりも若干小さい円柱状の接続部121A(上端部)と、この接続部121Aの下側の部分であり且つ当該接続部121Aよりも外径が小さい円柱状の本体部122Aと、この本体部122Aの外周面に設けられたフランジ部123Aとを有している。   The guide 120A is a cylindrical connecting portion 121A (upper end portion) whose outer diameter is slightly smaller than the inner diameter of the coil spring 200A, and a lower portion of the connecting portion 121A and has an outer diameter larger than that of the connecting portion 121A. It has a small cylindrical main body portion 122A and a flange portion 123A provided on the outer peripheral surface of the main body portion 122A.

本体部122Aはコイルスプリング200Aの下側座巻き部220A及び弾性変形部230Aに間隙を有して挿入される。これにより、案内子120Aとコイルスプリング200Aとの摺動面積を低減している。また、本体部122Aは弾性変形部230Aの伸縮方向をガイドするガイド棒となっている。   The main body 122A is inserted into the lower end winding portion 220A and the elastic deformation portion 230A of the coil spring 200A with a gap. As a result, the sliding area between the guide 120A and the coil spring 200A is reduced. The main body 122A is a guide bar that guides the expansion / contraction direction of the elastic deformation portion 230A.

フランジ部123Aはコイルスプリング200Aの内径よりも若干大きい外径を有するリング体である。このフランジ部123Aは、本体部122Aがコイルスプリング200Aの下側座巻き部220A及び弾性変形部230Aに挿入される際に、当該下側座巻き部220Aに押し込まれる。   The flange portion 123A is a ring body having an outer diameter slightly larger than the inner diameter of the coil spring 200A. The flange portion 123A is pushed into the lower end winding portion 220A when the main body portion 122A is inserted into the lower end winding portion 220A and the elastic deformation portion 230A of the coil spring 200A.

接続部121Aはコイルスプリング200Aの上側座巻き部210A内に上下に摺動自在に挿入される。この接続部121Aが上側座巻き部210Aの内周面211A上を摺動することにより、接続部121Aと上側座巻き部210Aとの安定した電気的接続が確保される。また、接続部121Aは、コイルスプリング200Aの弾性変形部230Aが伸縮する際に上側座巻き部210A内を上下方向に摺動する。   The connecting portion 121A is slidably inserted vertically into the upper end winding portion 210A of the coil spring 200A. When this connecting portion 121A slides on the inner peripheral surface 211A of the upper end winding portion 210A, a stable electrical connection between the connecting portion 121A and the upper end winding portion 210A is ensured. The connecting portion 121A slides in the up and down direction within the upper end winding portion 210A when the elastic deformation portion 230A of the coil spring 200A expands and contracts.

接続部121Aの長さ寸法と本体部122Aの長さ寸法とを合わせた寸法(即ち、案内子120Aの長さ寸法)は、接触子110Aが後述する半導体デバイス10の電極11に圧接し、弾性変形部230Aが圧縮された状態のコイルスプリング200Aの長さ寸法よりも短くなっている。即ち、弾性変形部230Aが圧縮した状態で、接続部121Aがコイルスプリング200Aから上方に突出しないようにしている。   The dimension obtained by combining the length dimension of the connecting portion 121A and the length dimension of the main body portion 122A (that is, the length dimension of the guide element 120A) is such that the contact element 110A presses against the electrode 11 of the semiconductor device 10 described later, and is elastic. It is shorter than the length dimension of the coil spring 200A in a state where the deforming portion 230A is compressed. That is, the connecting portion 121A is prevented from protruding upward from the coil spring 200A in a state where the elastic deformation portion 230A is compressed.

コイルスプリング200Aは、ニッケル金(Ni+Au)メッキ加工された断面視略矩形状の線材(例えば、ステンレス、ピアノ線、アモルファス合金等)を巻き回して作成されたものである。このコイルスプリング200Aは、上側座巻き部210Aと、下側座巻き部220Aと、上側座巻き部210Aと下側座巻き部220Aとの間に設けられた弾性変形部230Aとを有している。   The coil spring 200A is formed by winding a wire rod (for example, stainless steel, piano wire, amorphous alloy, etc.) having a substantially rectangular shape in cross-sectional view plated with nickel gold (Ni + Au). This coil spring 200A has an upper end winding portion 210A, a lower end winding portion 220A, and an elastic deformation portion 230A provided between the upper end winding portion 210A and the lower end winding portion 220A. .

下側座巻き部220Aは接触ピン100Aの本体部122Aが挿入されると共に、フランジ部123Aが押し込まれる。この下側座巻き部220Aのフランジ部対向部はカシメられ、フランジ部123Aに固着される。このようにコイルスプリング200Aを容易に接触ピン100Aに取り付けることができる。   The lower end winding portion 220A is inserted with the main body portion 122A of the contact pin 100A and the flange portion 123A. The flange portion facing portion of the lower end winding portion 220A is crimped and fixed to the flange portion 123A. Thus, the coil spring 200A can be easily attached to the contact pin 100A.

弾性変形部230Aは接触ピン100Aの本体部122Aに沿って伸縮可能なコイル部である。   The elastic deformation portion 230A is a coil portion that can be expanded and contracted along the main body portion 122A of the contact pin 100A.

上側座巻き部210Aの内周面211Aは、前記線材の第1面が上下に連なることにより平坦面を形成している。これにより、上側座巻き部210Aの内周面211Aと接触ピン100Aの接続部121Aの外周面との摺動面積の増大を図っている。   The inner peripheral surface 211A of the upper end winding portion 210A forms a flat surface by connecting the first surface of the wire material vertically. Thus, the sliding area between the inner peripheral surface 211A of the upper end winding portion 210A and the outer peripheral surface of the connection portion 121A of the contact pin 100A is increased.

また、上側座巻き部210Aの上端部の外周面は上方に向けて漸次低減するテーパ面となっており、先鋭化されている。これにより、上側座巻き部210Aが後述するプローブユニットBの接続基板400の接続パッド420上の酸化膜を容易に突き破ることができるようになっている。   The outer peripheral surface of the upper end portion of the upper end winding portion 210A is a tapered surface that gradually decreases upward, and is sharpened. Accordingly, the upper end winding portion 210A can easily break through the oxide film on the connection pad 420 of the connection substrate 400 of the probe unit B described later.

このような構成の垂直コイルスプリングプローブAは次のように組み立てられる。まず、断面視略矩形状の線材をニッケル金(Ni+Au)メッキ加工する。その後、前記線材を図示しない棒材に当該線材の第1面が上下に連なるように巻き回し、下側座巻き部220Aを作成する。そして、前記線材をコイル間隔を空けて前記棒材に巻き回し、弾性変形部230Aを作成する。その後、前記線材を当該線材の第1面が上下に連なるように前記棒材に巻き回し、上側座巻き部210Aを作成する。これにより、上側座巻き部210Aの内周面211Aが平坦面となる。   The vertical coil spring probe A having such a configuration is assembled as follows. First, nickel wire (Ni + Au) plating is performed on a wire having a substantially rectangular shape in cross section. Then, the said wire is wound around the rod which is not illustrated so that the 1st surface of the said wire may be continued up and down, and the lower seat winding part 220A is created. Then, the wire rod is wound around the rod member at a coil interval to create an elastic deformation portion 230A. Then, the said wire is wound around the said rod so that the 1st surface of the said wire may be continued up and down, and 210 A of upper end winding parts are created. Thereby, the inner peripheral surface 211A of the upper end winding portion 210A becomes a flat surface.

このように作成されたコイルスプリング200Aに、接触ピン100Aの案内子120Aを下側座巻き部220A側から挿入し、当該下側座巻き部220Aをベース部130上に設置させる。このとき、案内子120Aのフランジ部123Aを下側座巻き部220A内に押し込む。   The guide spring 120A of the contact pin 100A is inserted into the coil spring 200A created in this way from the lower end winding portion 220A side, and the lower end winding portion 220A is installed on the base portion 130. At this time, the flange portion 123A of the guide 120A is pushed into the lower end winding portion 220A.

このように案内子120Aをコイルスプリング200A内に挿入することにより、本体部122Aが下側座巻き部220A及び弾性変形部230A内に間隙を有して挿入されると共に、接続部121Aが上側座巻き部210A内に挿入される。   Thus, by inserting the guide 120A into the coil spring 200A, the main body 122A is inserted into the lower seat winding portion 220A and the elastic deformation portion 230A with a gap, and the connection portion 121A is inserted into the upper seat. It is inserted into the winding part 210A.

その後、下側座巻き部220Aをフランジ部123Aと共にカシメる。これにより、コイルスプリング200Aが案内子120Aに固着される。   Thereafter, the lower end winding portion 220A is crimped together with the flange portion 123A. Thereby, the coil spring 200A is fixed to the guide 120A.

このように組み立てられた垂直コイルスプリングプローブAはプローブユニットBに組み込まれる。以下、プローブユニットBについて図面を参照しつつ説明する。図4はプローブユニットの概略的断面図、図5は同ユニットの垂直コイルスプリングプローブの上端部を示す概略的断面図であって、(a)が断面視略円形のコイルスプリングを用いた場合の図、(b)が断面視略矩形状のコイルスプリングを用いた場合の図である。   The vertical coil spring probe A assembled in this way is assembled into the probe unit B. Hereinafter, the probe unit B will be described with reference to the drawings. 4 is a schematic cross-sectional view of the probe unit, and FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing the upper end of the vertical coil spring probe of the unit, where (a) is a coil spring having a substantially circular cross-sectional view. FIG. 4B is a diagram when a coil spring having a substantially rectangular shape in cross section is used.

プローブユニットBは、半導体デバイス10の複数の導電パッド11に各々接触可能な複数の垂直コイルスプリングプローブAと、垂直コイルスプリングプローブAを収納保持するケーシング300と、このケーシング300の上方に配置される接続基板400とを備えている。以下、詳しく説明する。   The probe unit B is disposed above the casing 300, a plurality of vertical coil spring probes A that can contact the plurality of conductive pads 11 of the semiconductor device 10, a casing 300 that stores and holds the vertical coil spring probes A, and the like. And a connection board 400. This will be described in detail below.

ケーシング300は、上側ガイド板310と、下側ガイド板320と、上側ガイド板310と下側ガイド板320との間に設けられたスペーサ330とを有している。   The casing 300 includes an upper guide plate 310, a lower guide plate 320, and a spacer 330 provided between the upper guide plate 310 and the lower guide plate 320.

下側ガイド板320には、半導体デバイス10の複数の導電パッド11の位置に各々対応した箇所に複数の円形の下側ガイド孔321が設けられている。この下側ガイド孔321の径は垂直コイルスプリングプローブAの接触子110Aの外径よりも大きく、ベース部130Aの外径よりも小さくなっている。従って、下側ガイド孔321には垂直コイルスプリングプローブAの接触子110Aが上下動可能に挿入される。   The lower guide plate 320 is provided with a plurality of circular lower guide holes 321 at locations corresponding to the positions of the plurality of conductive pads 11 of the semiconductor device 10. The diameter of the lower guide hole 321 is larger than the outer diameter of the contact 110A of the vertical coil spring probe A and smaller than the outer diameter of the base portion 130A. Accordingly, the contact 110A of the vertical coil spring probe A is inserted into the lower guide hole 321 so as to be movable up and down.

また、下側ガイド板320の下側ガイド孔321の縁部上には垂直コイルスプリングプローブAの接触子110Aのベース部130Aが載置される。   Further, the base portion 130 </ b> A of the contact 110 </ b> A of the vertical coil spring probe A is placed on the edge portion of the lower guide hole 321 of the lower guide plate 320.

上側ガイド板310には、垂直コイルスプリングプローブAの上側座巻き部210Aの外径よりも径が大きい複数の上側ガイド孔311が設けられている。上側ガイド孔311は下側ガイド孔321と各々同心円状に配置される。この上側ガイド孔311には垂直コイルスプリングプローブAの上側座巻き部210Aが各々挿入される。なお、上側ガイド板310は図示しない支持手段を介して接続基板400に取り付けられる。   The upper guide plate 310 is provided with a plurality of upper guide holes 311 having a diameter larger than the outer diameter of the upper end winding portion 210A of the vertical coil spring probe A. The upper guide hole 311 is arranged concentrically with the lower guide hole 321. The upper end winding portions 210A of the vertical coil spring probe A are inserted into the upper guide holes 311 respectively. The upper guide plate 310 is attached to the connection substrate 400 via a support means (not shown).

接続基板400は、その上下面に各々設けられた複数の接続パッド410、420と、この接続パッド410、420を各々接続する複数の内部配線430とを有している。接続パッド420には垂直コイルスプリングプローブAの上側座巻き部210Aが各々接触する。これにより、垂直コイルスプリングプローブAが接続基板400と下側ガイド板320の下側ガイド孔321の縁部との間で保持され、コイルスプリング200Aの弾性変形部230Aが圧縮状態で保持される。なお、接続パッド410には、図示しない測定装置が接続される。   The connection substrate 400 includes a plurality of connection pads 410 and 420 provided on the upper and lower surfaces thereof, and a plurality of internal wirings 430 that connect the connection pads 410 and 420, respectively. The upper end winding portions 210A of the vertical coil spring probe A are in contact with the connection pads 420, respectively. Accordingly, the vertical coil spring probe A is held between the connection substrate 400 and the edge of the lower guide hole 321 of the lower guide plate 320, and the elastic deformation portion 230A of the coil spring 200A is held in a compressed state. Note that a measuring device (not shown) is connected to the connection pad 410.

このような構成のプローブユニットBは次のように組み立てられる。まず、ケーシング300の上側ガイド孔321に上方から垂直コイルスプリングプローブAを各々挿入する。そして、ケーシング300の下側ガイド孔311に垂直コイルスプリングプローブAの接触子110Aを各々挿入する。すると、垂直コイルスプリングプローブAのベース部130の下面が下側ガイド板320の下側ガイド孔311の縁部に各々当接する。   The probe unit B having such a configuration is assembled as follows. First, the vertical coil spring probes A are inserted into the upper guide holes 321 of the casing 300 from above. Then, the contacts 110A of the vertical coil spring probe A are inserted into the lower guide holes 311 of the casing 300, respectively. Then, the lower surface of the base portion 130 of the vertical coil spring probe A comes into contact with the edge portion of the lower guide hole 311 of the lower guide plate 320.

その後、接続基板400の接続パッド420を垂直コイルスプリングプローブAの上側座巻き部210Aに各々接触させる。この状態で、接続基板400をケーシング300に近接させる。これにより、垂直コイルスプリングプローブAのコイルスプリング200Aの弾性変形部230Aが接続基板400とベース部130Aの間で圧縮される。   Thereafter, the connection pads 420 of the connection substrate 400 are brought into contact with the upper end winding portions 210A of the vertical coil spring probe A, respectively. In this state, the connection substrate 400 is brought close to the casing 300. As a result, the elastic deformation portion 230A of the coil spring 200A of the vertical coil spring probe A is compressed between the connection substrate 400 and the base portion 130A.

この状態で、ケーシング300の上側ガイド板310を支持手段を介して接続基板400に取り付ける。   In this state, the upper guide plate 310 of the casing 300 is attached to the connection substrate 400 via the support means.

このように組み立てられたプローブユニットBは前記測定装置のプローバに取り付けられ、半導体デバイス10の電気的諸特性を測定する測定テストに使用される。以下、その測定工程について説明すると共に、プローブユニットBの各部の動作について説明する。   The probe unit B assembled in this way is attached to the prober of the measurement apparatus and used for a measurement test for measuring electrical characteristics of the semiconductor device 10. The measurement process will be described below, and the operation of each part of the probe unit B will be described.

まず、前記プローバを動作させる。すると、半導体デバイス10が測定位置に順次搬送される。半導体デバイス10が前記測定位置に位置すると、プローブユニットBを半導体デバイス10に相対的に近接させ、プローブユニットBの複数の垂直コイルスプリングプローブAの接触子110Aを半導体デバイス10の複数の導電パッド11に各々接触させる。すると、垂直コイルスプリングプローブAの弾性変形部230Aの付勢力により、接触子110Aが半導体デバイス10の導電パッド11に各々圧接する。   First, the prober is operated. Then, the semiconductor device 10 is sequentially conveyed to the measurement position. When the semiconductor device 10 is located at the measurement position, the probe unit B is brought relatively close to the semiconductor device 10, and the contacts 110 </ b> A of the plurality of vertical coil spring probes A of the probe unit B are connected to the plurality of conductive pads 11 of the semiconductor device 10. In contact with each other. Then, the contacts 110 </ b> A are pressed against the conductive pads 11 of the semiconductor device 10 by the urging force of the elastic deformation portion 230 </ b> A of the vertical coil spring probe A.

その後、プローブユニットBを半導体デバイス10に相対的に近接させると、接触子110Aが導電パッド11に各々押圧される。これにより、接触ピン100Aが上方に移動し、コイルスプリング200Aの弾性変形部230Aが接触ピン100Aのベース部130と接続基板400との間で各々圧縮される。このとき、接触子110Aが導電パッド11上で各々微細移動し、当該導電パッド11上の酸化膜を除去する。また、上側座巻き部210Aの上端部が接続基板400の接続パッド420に圧接し、当該接続パッド420上の酸化膜を突き破る。更に、接触ピン100Aの接続部121Aがコイルスプリング200Aの上側座巻き部210A内を上方に各々摺動する。   Thereafter, when the probe unit B is brought relatively close to the semiconductor device 10, the contacts 110 </ b> A are pressed against the conductive pads 11. As a result, the contact pin 100A moves upward, and the elastic deformation portion 230A of the coil spring 200A is compressed between the base portion 130 of the contact pin 100A and the connection substrate 400, respectively. At this time, the contacts 110A move finely on the conductive pad 11, and the oxide film on the conductive pad 11 is removed. Further, the upper end portion of the upper end winding portion 210A comes into pressure contact with the connection pad 420 of the connection substrate 400, and breaks through the oxide film on the connection pad 420. Further, the connecting portion 121A of the contact pin 100A slides upward in the upper end winding portion 210A of the coil spring 200A.

上側座巻き部210Aの内周面211Aが平坦面となっているため、接続部121Aの外周面との摺動面積が増大する。よって、両者の安定した接触が確保され、垂直コイルスプリングプローブAの電気抵抗が低減する。よって、半導体デバイス10の電極11から発せられた信号が接触ピン100A、上側座巻き部210A、接続基板400を通じて上記測定装置に安定的に送られ、当該測定装置により半導体デバイス10の測定テストが行われる。   Since the inner peripheral surface 211A of the upper end winding portion 210A is a flat surface, the sliding area with the outer peripheral surface of the connecting portion 121A increases. Therefore, the stable contact of both is ensured and the electrical resistance of the vertical coil spring probe A is reduced. Therefore, a signal emitted from the electrode 11 of the semiconductor device 10 is stably sent to the measurement apparatus through the contact pin 100A, the upper end winding part 210A, and the connection substrate 400, and the measurement test of the semiconductor device 10 is performed by the measurement apparatus. Is called.

その後、プローブユニットBを半導体デバイス10に相対的に離反させると、コイルスプリング200Aの弾性変形部230Aが各々復元し、その付勢力により接触ピン100Aが下方に各々移動する。このとき、接触ピン100Aの接続部121Aがコイルスプリング200Aの上側座巻き部210A内を下方に各々摺動する。そして、接触ピン100Aのベース部130が下側ガイド板320の下側ガイド孔311の縁部に各々当接する。   Thereafter, when the probe unit B is moved away from the semiconductor device 10, the elastic deformation portions 230 </ b> A of the coil spring 200 </ b> A are restored, and the contact pins 100 </ b> A are moved downward by the biasing force. At this time, the connecting portion 121A of the contact pin 100A slides downward in the upper end winding portion 210A of the coil spring 200A. Then, the base portion 130 of the contact pin 100 </ b> A comes into contact with the edge portion of the lower guide hole 311 of the lower guide plate 320.

以上のような垂直コイルスプリングプローブAによる場合、上記線材を巻き回すだけでコイルスプリング200Aを高精度且つ簡単に作成することができるので、量産化に適している。   In the case of the vertical coil spring probe A as described above, the coil spring 200A can be easily created with high accuracy simply by winding the wire, and thus is suitable for mass production.

また、図5(a)に示すように、断面視略円形の線材を巻き回して作成されたコイルスプリング(以下、断面円形コイルスプリング)を用いた場合、上側座巻き部の内周面は凸凹面であり、その各凸部(即ち、線材の各頂部)が接続部121Aの外周面に接触するだけであるから、前記上側座巻き部と接続部121Aの摺動面積が小さくなり、プローブ全体の電気抵抗値が大きくなる。よって、上記測定テストに使用することができない。また、断面視略円形の線材を用いると、前記上側座巻き部の上端部にテーパ面を形成することも困難である。   In addition, as shown in FIG. 5A, when a coil spring (hereinafter referred to as a circular coil spring) created by winding a wire having a substantially circular cross-sectional view is used, the inner peripheral surface of the upper end winding portion is uneven. Since each convex portion (that is, each top portion of the wire) is in contact with the outer peripheral surface of the connecting portion 121A, the sliding area between the upper end winding portion and the connecting portion 121A is reduced, and the entire probe The electrical resistance value increases. Therefore, it cannot be used for the measurement test. If a wire rod having a substantially circular cross section is used, it is difficult to form a tapered surface at the upper end of the upper end winding portion.

この点、垂直コイルスプリングプローブAは、図5(b)に示すように、コイルスプリング200Aの上側座巻き部210Aの内周面211Aが断面視略矩形状の線材をその第1面が上下に並ぶように巻き回すことにより平坦化されていることから、上側座巻き部210Aの内周面211Aと接続部121Aの外周面との摺動面積が増大し、プローブ全体の電気抵抗値が小さくなる。よって、測定するための信号が減衰する等の不具合を防止することができるので、上述とおり上記測定テストに使用することができる。また、断面視略矩形状の線材を用いると、上側座巻き部210Aの上端部にテーパ面を形成することも容易である。   In this respect, as shown in FIG. 5B, in the vertical coil spring probe A, the inner peripheral surface 211A of the upper end winding portion 210A of the coil spring 200A is a wire having a substantially rectangular shape in cross section, and the first surface is vertically oriented. Since it is flattened by winding it in line, the sliding area between the inner peripheral surface 211A of the upper end winding portion 210A and the outer peripheral surface of the connecting portion 121A increases, and the electrical resistance value of the entire probe decreases. . Therefore, it is possible to prevent a problem such as attenuation of a signal for measurement, so that the measurement test can be used as described above. In addition, when a wire having a substantially rectangular shape in cross section is used, it is easy to form a tapered surface at the upper end of the upper end winding portion 210A.

また、コイルスプリング200Aは、その断面が略矩形状であるため、当該断面の幅及び高さが断面円形コイルスプリングと同一であったとしても、当該断面円形コイルスプリングよりも断面面積が大きくなる。このため、コイルスプリング200Aは、スプリング自体の強度が断面円形コイルスプリングよりも強く、直線性が良いため、プローブ用のコイルスプリングとして適している。   Moreover, since the cross section of the coil spring 200A is substantially rectangular, even if the width and height of the cross section are the same as that of the circular coil spring, the cross sectional area is larger than that of the circular coil spring. For this reason, the coil spring 200A is suitable as a coil spring for a probe because the strength of the spring itself is stronger than that of a circular coil spring in cross section and has a good linearity.

更に、案内子120Aは、本体部122Aの外径が接続部121Aの外径よりも小さくなっており、コイルスプリング200Aの下側座巻き部220A及び弾性変形部230Aに間隙を有して挿入されている。即ち、案内子120Aとコイルスプリング200Aとの摺動面積が低減されている。このため、コイルスプリング200Aとして断面視略矩形状の線材を巻き回したものを用いたとしても、コイルスプリング200Aの圧縮時における案内子120Aのコイルスプリング200A内の往路移動と、コイルスプリング200Aの復元時における案内子120Aのコイルスプリング200Aの内の復路移動との荷重ヒステリシスを低減することができる。   Furthermore, the outer diameter of the main body portion 122A is smaller than the outer diameter of the connection portion 121A, and the guide 120A is inserted into the lower end winding portion 220A and the elastic deformation portion 230A of the coil spring 200A with a gap. ing. That is, the sliding area between the guide 120A and the coil spring 200A is reduced. For this reason, even if the coil spring 200A is formed by winding a wire having a substantially rectangular shape in cross section, the movement of the guide 120A in the coil spring 200A during the compression of the coil spring 200A and the restoration of the coil spring 200A It is possible to reduce the load hysteresis with the backward movement of the coil spring 200A of the guide 120A at the time.

このような垂直コイルスプリングプローブAについては、ベース部、ベース部の下面に設けられた接触子及びベース部の上面に設けられた直線状の案内子を有する接触ピンと、ベース部の上面上に設置され且つ接触ピンの案内子が挿入されるコイルスプリングとを備えており、コイルスプリングは、案内子の上端部に接触可能な上側座巻き部と、この上側座巻き部の下端部に連続する弾性変形部とを有しており、上側座巻き部の内周面が平坦面となっている限り任意に設計変更することが可能である。   Such a vertical coil spring probe A is installed on the base portion, a contact pin provided on the lower surface of the base portion, a contact pin having a linear guide provided on the upper surface of the base portion, and an upper surface of the base portion. And a coil spring into which the guide pin of the contact pin is inserted. The coil spring is capable of contacting an upper end portion of the guide member and an elastic member continuous with the lower end portion of the upper end turn portion. As long as the inner peripheral surface of the upper end winding portion is a flat surface, the design can be arbitrarily changed.

コイルスプリング200Aについては、上記実施例において断面視略矩形状の線材を巻き回して作成されたものを使用するとしたが、内周面が平坦面にされた上側座巻き部及びこの下側に連続する弾性変形部を有するコイルスプリングである限り任意に設計変更することが可能である。例えば、断面視略円形の線材を巻き回したコイルスプリングを用い、上側座巻き部の内周面を研磨等により平坦面とすることも可能である。   As for the coil spring 200 </ b> A, the coil spring 200 </ b> A that is formed by winding a wire material having a substantially rectangular shape in cross section in the above embodiment is used. As long as the coil spring has an elastically deforming portion, the design can be arbitrarily changed. For example, it is possible to use a coil spring in which a wire rod having a substantially circular cross-sectional view is wound, and to make the inner peripheral surface of the upper end winding portion a flat surface by polishing or the like.

また、コイルスプリング200Aを接触ピン100Aに取り付ける方法については上述したカシメ以外に周知の取付手段を用いることが可能である。例えば、コイルスプリング200Aの下端部を案内子120Aの下端部又はベース部130に接着するようにしても良いし、コイルスプリング200Aの下端部を接触ピン100Aのベース部130上に設けた凸部に嵌合させるようにしても構わない。なお、コイルスプリング200Aについては接触ピン100Aに取り付けなくてもよく、単にベース部130上に設置するようにしても構わない。   As for the method of attaching the coil spring 200A to the contact pin 100A, it is possible to use a well-known attachment means other than the caulking described above. For example, the lower end of the coil spring 200A may be bonded to the lower end of the guide 120A or the base 130, or the lower end of the coil spring 200A may be a convex portion provided on the base 130 of the contact pin 100A. You may make it fit. Note that the coil spring 200A may not be attached to the contact pin 100A, and may simply be installed on the base portion 130.

接触ピン100Aについては、ベース部、ベース部の下面に設けられた接触子及びベース部の上面に設けられた直線状の案内子を有する限り任意に設計変更することが可能である。   The design of the contact pin 100A can be arbitrarily changed as long as it has a base part, a contact provided on the lower surface of the base part, and a linear guide provided on the upper surface of the base part.

ベース部130については、コイルスプリング200Aが設置可能なものである限り任意に設計変更することが可能である。   The design of the base part 130 can be arbitrarily changed as long as the coil spring 200A can be installed.

接触子110Aは円柱状の部位に限定されることはない。例えば、略く字状やU字状に湾曲した形状のものや突起状のものであっても良い。   The contact 110A is not limited to a cylindrical portion. For example, it may have a substantially curved or U-shaped shape or a protruding shape.

なお、上記垂直コイルスプリングプローブの各部の形状、材質等については、同様の機能を実現し得る限り任意に設計変更することが可能である。同様に、プローブユニットについては、この垂直コイルスプリングプローブを備えるものである限りどのような構成のものであっても良い。   The shape, material, etc. of each part of the vertical coil spring probe can be arbitrarily changed as long as the same function can be realized. Similarly, the probe unit may have any configuration as long as it includes this vertical coil spring probe.

本発明の実施の形態に係る垂直コイルスプリングプローブの概略的斜視図である。1 is a schematic perspective view of a vertical coil spring probe according to an embodiment of the present invention. 同プローブの概略的分解斜視図である。It is a schematic exploded perspective view of the probe. 同プローブの概略的断面図である。It is a schematic sectional drawing of the probe. プローブユニットの概略的断面図である。It is a schematic sectional drawing of a probe unit. 同ユニットの垂直コイルスプリングプローブの上端部を示す概略的断面図であって、(a)が断面視略円形のコイルスプリングを用いた場合の図、(b)が断面視略矩形状のコイルスプリングを用いた場合の図である。It is a schematic sectional view showing an upper end portion of the vertical coil spring probe of the unit, (a) is a view when a coil spring having a substantially circular shape in cross section is used, (b) is a coil spring having a substantially rectangular shape in cross section. It is a figure at the time of using.

符号の説明Explanation of symbols

A 垂直コイルスプリングプローブ
100A 接触ピン
110A 接触子
120A 案内子
121A 接続部(上端部)
122A 本体部(上端部以外の部分)
130A ベース部
200A コイルスプリング
210A 上側座巻き部
211A 内周面
220A 下側座巻き部
230A 弾性変形部
A Vertical coil spring probe 100A Contact pin 110A Contact 120A Guide 121A Connection (upper end)
122A body (other than the top)
130A Base part 200A Coil spring 210A Upper end winding part 211A Inner peripheral surface 220A Lower side winding part 230A Elastic deformation part

Claims (4)

ベース部、ベース部の下面に設けられた接触子及びベース部の上面に設けられた直線状の案内子を有する接触ピンと、
ベース部の上面上に設置され且つ接触ピンの案内子が挿入されるコイルスプリングとを備えており、
コイルスプリングは、内周面が案内子の上端部と摺動する上側座巻き部と、この上側座巻き部の下端部に連続する弾性変形部とを有しており、
上側座巻き部は、その内周面が平坦面となっており、上端部が先鋭化されていて、
案内子は、円柱状の本体部と、この本体部の外周面に設けられたリング状のフランジと、前記本体部に連設された円柱状の上端部とを有し、当該フランジは接触ピンのベース部から間隔をあけて配置されており、
前記本体部の外径が前記上端部の外径よりも小さくなっていて、
前記上端部の中心軸と前記本体部の中心軸が同一直線上にあることを特徴とする垂直コイルスプリングプローブ。
A contact pin having a base, a contact provided on the lower surface of the base, and a linear guide provided on the upper surface of the base;
A coil spring that is installed on the upper surface of the base portion and into which a guide for the contact pin is inserted,
The coil spring has an upper end winding portion whose inner peripheral surface slides with the upper end portion of the guide, and an elastic deformation portion continuous to the lower end portion of the upper end winding portion,
The upper end winding part, the inner peripheral surface is a flat surface, the upper end is sharpened,
The guide has a cylindrical main body, a ring-shaped flange provided on the outer peripheral surface of the main body, and a cylindrical upper end connected to the main body. The flange is a contact pin. It is arranged at a distance from the base part of
The outer diameter of the main body is smaller than the outer diameter of the upper end,
The vertical coil spring probe according to claim 1, wherein a central axis of the upper end portion and a central axis of the main body portion are on the same straight line .
ベース部、ベース部の下面に設けられた接触子及びベース部の上面に設けられた直線状の案内子を有する接触ピンと、
ベース部の上面上に設置され且つ接触ピンの案内子が挿入されるコイルスプリングとを備えており、
コイルスプリングは、内周面が案内子の上端部と摺動する上側座巻き部と、この上側座巻き部の下端部に連続する弾性変形部とを有しており、
上側座巻き部は、その内周面が平坦面となっており、上端部が先鋭化されていて、
案内子は、前記上端部とベース部との間の円柱状の本体部の外径が上端部の外径よりも小さくなっていて、しかも前記上端部は円柱状であり、
前記上端部の中心軸と前記本体部の中心軸が同一直線上にあることを特徴とする垂直コイルスプリングプローブ。
A contact pin having a base, a contact provided on the lower surface of the base, and a linear guide provided on the upper surface of the base;
A coil spring that is installed on the upper surface of the base portion and into which a guide for the contact pin is inserted,
The coil spring has an upper end winding portion whose inner peripheral surface slides with the upper end portion of the guide, and an elastic deformation portion continuous to the lower end portion of the upper end winding portion,
The upper end winding part, the inner peripheral surface is a flat surface, the upper end is sharpened,
The guide element has an outer diameter of a cylindrical main body portion between the upper end portion and the base portion that is smaller than an outer diameter of the upper end portion, and the upper end portion is cylindrical.
The vertical coil spring probe according to claim 1, wherein a central axis of the upper end portion and a central axis of the main body portion are on the same straight line .
請求項1又は2記載の垂直コイルスプリングプローブにおいて、
コイルスプリングは断面視略矩形状の線材が巻き回された構成となっていることを特徴とする垂直コイルスプリングプローブ。
The vertical coil spring probe according to claim 1 or 2,
The vertical coil spring probe is characterized in that the coil spring has a configuration in which a wire rod having a substantially rectangular shape in section is wound.
請求項3記載の垂直コイルスプリングプローブにおいて、
コイルスプリングは、メッキ加工された前記線材が巻き回された構成となっていることを特徴とする垂直コイルスプリングプローブ。
The vertical coil spring probe according to claim 3,
The vertical coil spring probe is characterized in that the coil spring has a configuration in which the plated wire is wound.
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