JP4558293B2 - Substrate processing equipment - Google Patents
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本発明は、半導体基板、液晶表示器のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、光ディスク用の基板などの基板（以下、単に「基板」と称する）を複数の処理部間にて循環搬送して該基板にフォトリソグラフィー等の所定の処理を行う基板処理装置に関する。 The present invention circulates and conveys a substrate (hereinafter simply referred to as “substrate”) such as a semiconductor substrate, a glass substrate for a liquid crystal display, a glass substrate for a photomask, and a substrate for an optical disk among a plurality of processing units. The present invention relates to a substrate processing apparatus for performing predetermined processing such as photolithography on the substrate.
周知のように、半導体や液晶ディスプレイなどの製品は、上記基板に対して洗浄、レジスト塗布、露光、現像、エッチング、層間絶縁膜の形成、熱処理、ダイシングなどの一連の諸処理を施すことにより製造されている。これらの諸処理のうち例えばレジスト塗布処理、現像処理およびそれらに付随する熱処理のそれぞれを行う処理ユニットを複数組み込み、搬送ロボットによってそれら各処理ユニット間で基板の循環搬送を行うことにより基板に一連のフォトリソグラフィー処理を施す基板処理装置がいわゆるコータ＆デベロッパとして広く用いられている。 As is well known, products such as semiconductors and liquid crystal displays are manufactured by performing a series of processes such as cleaning, resist coating, exposure, development, etching, interlayer insulation film formation, heat treatment, and dicing on the substrate. Has been. Among these various processes, for example, a plurality of processing units for performing resist coating processing, development processing, and heat treatment associated therewith are incorporated, and the substrate is circulated and transferred between the processing units by a transfer robot. A substrate processing apparatus that performs photolithography processing is widely used as a so-called coater and developer.
このような基板処理装置にはモータやシリンダ等の多数の動作機構が設けられており、その動作機構が故障したり消耗したりすると装置全体が停止することとなる。このため、従来より基板の処理枚数をカウントしたり処理時間を積算したりする機能を装置に設け、それよって動作機構の故障や消耗を予測するようにしていた（例えば、特許文献１参照）。そして、消耗品や故障が近いと考えられる部品は事前に交換するようにしていた。 Such a substrate processing apparatus is provided with a large number of operation mechanisms such as motors and cylinders, and the entire apparatus stops when the operation mechanism fails or is worn out. For this reason, conventionally, a function of counting the number of processed substrates or integrating the processing time is provided in the apparatus, thereby predicting a failure or wear of the operating mechanism (for example, see Patent Document 1). In addition, consumables and parts that are considered to be close to failure were exchanged in advance.
しかしながら、処理の積算時間や基板枚数に基づいた異常判定と実際の異常とでは一致しないことが多かった。すなわち、それほど使用していない動作機構であっても異常である場合もあれば、相当期間使用している動作機構であっても問題無い場合もある。これらの場合、無駄な部品交換を行うこととなったり、動作機構が突然停止してから修理するといった作業が突発的に発生し、コスト上昇や装置稼働率低下の問題が生じることとなっていた。 However, there are many cases where the abnormality determination based on the integrated processing time and the number of substrates does not match the actual abnormality. That is, even an operating mechanism that has not been used so much may be abnormal, or an operating mechanism that has been used for a considerable period may have no problem. In these cases, unnecessary parts are replaced, or work such as a sudden stoppage of the operation mechanism occurs suddenly, resulting in problems such as an increase in cost and a decrease in the operating rate of the apparatus. .
本発明は、上記課題に鑑みてなされれたものであり、動作機構の異常を確実に検知することができる基板処理装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of reliably detecting an abnormality in an operation mechanism.
上記課題を解決するため、請求項１の発明は、基板を複数の処理部間にて循環搬送して該基板に所定の処理を行う基板処理装置において、基板処理装置が有する動作機構の異常を検出するための診断モードの開始を受け付ける受付手段と、前記受付手段から診断モードの開始が入力されたときに、前記動作機構の可動限界点近傍での動作である診断用動作を行うように前記動作機構を制御する制御手段と、前記動作機構が前記診断用動作を行ったときの動作データを取得する取得手段と、前記取得手段が取得した動作データに基づいて前記動作機構の異常の有無を判定する判定手段と、を備える。 In order to solve the above-mentioned problems, the invention of claim 1 is directed to a substrate processing apparatus that performs a predetermined process on a substrate by circulating and transporting the substrate between a plurality of processing units. Receiving means for accepting the start of a diagnostic mode for detection, and when the start of the diagnostic mode is input from the accepting means , a diagnostic operation that is an operation in the vicinity of the movable limit point of the operating mechanism is performed. Control means for controlling the operation mechanism, acquisition means for acquiring operation data when the operation mechanism performs the diagnosis operation, and whether or not there is an abnormality in the operation mechanism based on the operation data acquired by the acquisition means Determination means for determining.
また、請求項２の発明は、請求項１の発明に係る基板処理装置において、前記判定手段に、前記取得手段が取得した動作データの最悪値が予め定められた所定範囲内に入っているか否かを判定させ、当該最悪値が所定範囲内であれば前記動作機構は正常と判断させ、当該最悪値が所定範囲外であれば前記動作機構は異常と判断させている。
The invention of
また、請求項３の発明は、請求項２の発明に係る基板処理装置において、前記動作機構を、基板の循環搬送を行う搬送ロボットのモータとしている。 According to a third aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus according to the second aspect of the present invention, the operation mechanism is a motor of a transfer robot that circulates and transfers a substrate .
また、請求項４の発明は、請求項３の発明に係る基板処理装置において、前記制御手段に、前記搬送ロボットに診断用動作として最高速にて動作を行わせ、前記判定手段に、前記搬送ロボットの最大搬送動作時間が所定時間以下であれば前記モータは正常と判断させ、当該最大搬送動作時間が所定時間を超えていれば前記モータは異常と判断させている。 According to a fourth aspect of the present invention, in the substrate processing apparatus according to the third aspect of the present invention, the control unit causes the transfer robot to operate at a maximum speed as a diagnostic operation, and the determination unit causes the transfer to occur. If the maximum transfer operation time of the robot is less than or equal to a predetermined time, the motor is determined to be normal, and if the maximum transfer operation time exceeds the predetermined time, the motor is determined to be abnormal .
請求項１の発明によれば、診断モードの開始が入力されたときに動作機構に診断用動作を行わせ、その動作機構が診断用動作を行ったときの動作データに基づいて該動作機構の異常の有無を判定しているため、通常の基板処理を行うだけでは判明しないような動作機構の異常をも確実に検知することができる。また、診断用動作を、動作機構の可動限界点近傍での動作としているため、定常動作では判明しないような動作機構の異常をも確実に検知することができる。 According to the first aspect of the present invention, when the start of the diagnosis mode is input, the operation mechanism performs a diagnosis operation, and based on the operation data when the operation mechanism performs the diagnosis operation, Since the presence / absence of abnormality is determined, it is possible to reliably detect an abnormality in the operating mechanism that cannot be found only by performing normal substrate processing. In addition, since the diagnosis operation is an operation in the vicinity of the movable limit point of the operation mechanism, it is possible to reliably detect an abnormality in the operation mechanism that cannot be found in the steady operation.
また、請求項３の発明によれば、動作機構を基板の循環搬送を行う搬送ロボットのモータとしており、通常の基板処理を行うだけでは判明しないモータの異常を確実に検知することができる。
According to the third aspect of the present invention, the operation mechanism is a motor of a transfer robot that circulates and transfers a substrate, and it is possible to reliably detect an abnormality of the motor that cannot be found only by performing normal substrate processing.
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態について詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
図１は、本実施形態の基板処理装置の平面図である。また、図２は基板処理装置の液処理部の正面図であり、図３は熱処理部の正面図であり、図４は基板載置部の周辺構成を示す図である。なお、図１から図４にはそれらの方向関係を明確にするためＺ軸方向を鉛直方向とし、ＸＹ平面を水平面とするＸＹＺ直交座標系を付している。 FIG. 1 is a plan view of the substrate processing apparatus of the present embodiment. 2 is a front view of the liquid processing unit of the substrate processing apparatus, FIG. 3 is a front view of the heat treatment unit, and FIG. 4 is a diagram showing a peripheral configuration of the substrate mounting unit. 1 to 4 have an XYZ orthogonal coordinate system in which the Z-axis direction is the vertical direction and the XY plane is the horizontal plane in order to clarify the directional relationship.
本実施形態の基板処理装置は、半導体ウェハ等の基板に反射防止膜やフォトレジスト膜を塗布形成するとともに、パターン露光後の基板に現像処理を行う装置である。なお、本発明に係る基板処理装置の処理対象となる基板は半導体ウェハに限定されるものではなく、液晶表示器用のガラス基板等であっても良い。また、本発明に係る基板処理装置の処理内容は塗布膜形成や現像処理に限定されるものではなく、エッチング処理や洗浄処理であっても良い。 The substrate processing apparatus of this embodiment is an apparatus that applies an antireflection film or a photoresist film to a substrate such as a semiconductor wafer and performs development processing on the substrate after pattern exposure. In addition, the board | substrate used as the process target of the substrate processing apparatus which concerns on this invention is not limited to a semiconductor wafer, The glass substrate for liquid crystal displays etc. may be sufficient. Further, the processing content of the substrate processing apparatus according to the present invention is not limited to coating film formation and development processing, but may be etching processing or cleaning processing.
本実施形態の基板処理装置は、インデクサブロック１、バークブロック２、レジスト塗布ブロック３、現像処理ブロック４およびインターフェイスブロック５の５つの処理ブロックを並設して構成されている。インターフェイスブロック５には本基板処理装置とは別体の外部装置である露光装置（ステッパ）が接続配置されている。
The substrate processing apparatus of the present embodiment is configured by arranging five processing blocks of an indexer block 1, a
インデクサブロック１は、複数のキャリアＣ（本実施形態では４個）を並べて載置する載置台１１と、各キャリアＣから未処理の基板Ｗを取り出すとともに、各キャリアＣに処理済みの基板Ｗを収納する基板移載機構１２とを備えている。基板移載機構１２は、載置台１１に沿って（Ｙ方向に沿って）水平移動可能な可動台１２ａを備えており、この可動台１２ａに基板Ｗを水平姿勢で保持する保持アーム１２ｂが搭載されている。保持アーム１２ｂは、可動台１２ａ上を昇降（Ｚ方向）移動、水平面内の旋回移動、および旋回半径方向に進退移動可能に構成されている。これにより、基板移載機構１２は、保持アーム１２ｂを各キャリアＣにアクセスさせて未処理の基板Ｗの取り出しおよび処理済みの基板Ｗの収納を行うことができる。なお、キャリアＣの形態としては、基板Ｗを密閉空間に収納するＦＯＵＰ(front opening unified pod)の他に、ＳＭＩＦ(Standard Mechanical Inter Face)ポッドや収納基板Ｗを外気に曝すＯＣ(open cassette)であっても良い。
The indexer block 1 takes a mounting table 11 on which a plurality of carriers C (four in this embodiment) are placed side by side, and takes out an unprocessed substrate W from each carrier C and also transfers a processed substrate W to each carrier C. A
インデクサブロック１に隣接してバークブロック２が設けられている。インデクサブロック１とバークブロック２との間には、雰囲気遮断用の隔壁１３が設けられている。この隔壁１３にインデクサブロック１とバークブロック２との間で基板Ｗの受け渡しを行うために基板Ｗを載置する２つの基板載置部ＰＡＳＳ１，ＰＡＳＳ２が上下に積層して設けられている。
A
上側の基板載置部ＰＡＳＳ１は、インデクサブロック１からバークブロック２へ基板Ｗを搬送するために使用される。基板載置部ＰＡＳＳ１は３本の支持ピンを備えており、インデクサブロック１の基板移載機構１２はキャリアＣから取り出した未処理の基板Ｗを基板載置部ＰＡＳＳ１の３本の支持ピン上に載置する。そして、基板載置部ＰＡＳＳ１に載置された基板Ｗを後述するバークブロック２の搬送ロボットＴＲ１が受け取る。一方、下側の基板載置部ＰＡＳＳ２は、バークブロック２からインデクサブロック１へ基板Ｗを搬送するために使用される。基板載置部ＰＡＳＳ２も３本の支持ピンを備えており、バークブロック２の搬送ロボットＴＲ１は処理済みの基板Ｗを基板載置部ＰＡＳＳ２の３本の支持ピン上に載置する。そして、基板載置部ＰＡＳＳ２に載置された基板Ｗを基板移載機構１２が受け取ってキャリアＣに収納する。なお、後述する基板載置部ＰＡＳＳ３〜ＰＡＳＳ１０の構成も基板載置部ＰＡＳＳ１，ＰＡＳＳ２と同じである。
The upper substrate platform PASS1 is used to transport the substrate W from the indexer block 1 to the
基板載置部ＰＡＳＳ１，ＰＡＳＳ２は、隔壁１３の一部に部分的に貫通して設けられている。また、基板載置部ＰＡＳＳ１，ＰＡＳＳ２には、基板Ｗの有無を検出する光学式のセンサ（図示省略）が設けられており、各センサの検出信号に基づいて基板移載機構１２やバークブロック２の搬送ロボットＴＲ１が、基板載置部ＰＡＳＳ１，ＰＡＳＳ２に対して基板Ｗを受け渡しできる状態にあるか否かを判断する。
The substrate platforms PASS <b> 1 and PASS <b> 2 are provided so as to partially penetrate a part of the
次に、バークブロック２について説明する。バークブロック２は、露光時に発生する定在波やハレーションを減少させるために、フォトレジスト膜の下地に反射防止膜を塗布形成するための処理ブロックである。バークブロック２は、基板Ｗの表面に反射防止膜を塗布形成するための下地塗布処理部ＢＲＣと、反射防止膜の塗布形成に付随する熱処理を行う２つの熱処理タワー２１，２１と、下地塗布処理部ＢＲＣおよび熱処理タワー２１，２１に対して基板Ｗの受け渡しを行う搬送ロボットＴＲ１とを備える。
Next, the
バークブロック２においては、搬送ロボットＴＲ１を挟んで下地塗布処理部ＢＲＣと熱処理タワー２１，２１とが対向して配置されている。具体的には、下地塗布処理部ＢＲＣが装置正面側に、２つの熱処理タワー２１，２１が装置背面側に、それぞれ位置している。また、熱処理タワー２１，２１の正面側には図示しない熱隔壁を設けている。下地塗布処理部ＢＲＣと熱処理タワー２１，２１とを隔てて配置するとともに熱隔壁を設けることにより、熱処理タワー２１，２１から下地塗布処理部ＢＲＣに熱的影響を与えることを回避しているのである。
In the
下地塗布処理部ＢＲＣは、図２に示すように、同様の構成を備えた３つの塗布処理ユニットＢＲＣ１，ＢＲＣ２，ＢＲＣ３を下から順に積層配置して構成されている。なお、３つの塗布処理ユニットＢＲＣ１，ＢＲＣ２，ＢＲＣ３を特に区別しない場合はこれらを総称して下地塗布処理部ＢＲＣとする。各塗布処理ユニットＢＲＣ１，ＢＲＣ２，ＢＲＣ３は、基板Ｗを略水平姿勢で吸着保持して略水平面内にて回転させるスピンチャック２２、このスピンチャック２２上に保持された基板Ｗ上に反射防止膜用の塗布液を吐出する塗布ノズル２３、スピンチャック２２を回転駆動させるスピンモータ（図示省略）およびスピンチャック２２上に保持された基板Ｗの周囲を囲繞するカップ（図示省略）等を備えている。
As shown in FIG. 2, the base coating processing unit BRC is configured by stacking and arranging three coating processing units BRC1, BRC2, and BRC3 having the same configuration in order from the bottom. If the three coating processing units BRC1, BRC2, and BRC3 are not particularly distinguished, these are collectively referred to as a base coating processing unit BRC. Each of the coating processing units BRC1, BRC2, and BRC3 includes a
図３に示すように、インデクサブロック１に近い側の熱処理タワー２１には、基板Ｗを所定の温度にまで加熱する６個のホットプレートＨＰ１〜ＨＰ６と、加熱された基板Ｗを冷却して所定の温度にまで降温するとともに基板Ｗを当該所定の温度に維持するクールプレートＣＰ１〜ＣＰ３とが設けられている。この熱処理タワー２１には、下から順にクールプレートＣＰ１〜ＣＰ３、ホットプレートＨＰ１〜ＨＰ６が積層配置されている。一方、インデクサブロック１から遠い側の熱処理タワー２１には、レジスト膜と基板Ｗとの密着性を向上させるためにＨＭＤＳ（ヘキサメチルジシラザン）の蒸気雰囲気で基板Ｗを熱処理する３個の密着強化処理部ＡＨＬ１〜ＡＨＬ３が下から順に積層配置されている。なお、図３において「×」印で示した箇所には配管配線部や、予備の空きスペースが割り当てられている。
As shown in FIG. 3, in the
このように塗布処理ユニットＢＲＣ１〜ＢＲＣ３や熱処理ユニット（ホットプレートＨＰ１〜ＨＰ６、クールプレートＣＰ１〜ＣＰ３、密着強化処理部ＡＨＬ１〜ＡＨＬ３）を多段に積層配置することにより、基板処理装置の占有スペースを小さくしてフットプリントを削減することができる。また、２つの熱処理タワー２１，２１を並設することによって、熱処理ユニットのメンテナンスが容易になるとともに、熱処理ユニットに必要なダクト配管や給電設備をあまり高い位置にまで引き延ばす必要がなくなるという利点がある。 As described above, the coating processing units BRC1 to BRC3 and the heat treatment units (hot plates HP1 to HP6, cool plates CP1 to CP3, adhesion strengthening processing units AHL1 to AHL3) are stacked in multiple stages to reduce the space occupied by the substrate processing apparatus. And footprint can be reduced. Further, by arranging two heat treatment towers 21 and 21 in parallel, there is an advantage that maintenance of the heat treatment unit is facilitated and duct piping and power supply equipment necessary for the heat treatment unit need not be extended to a very high position. .
図５は、搬送ロボットＴＲ１を説明するための図である。図５（ａ）は搬送ロボットＴＲ１の平面図であり、（ｂ）は搬送ロボットＴＲ１の正面図である。搬送ロボットＴＲ１は、基板Ｗを略水平姿勢で保持する２個の保持アーム６ａ，６ｂを上下に近接させて備えている。保持アーム６ａ，６ｂは、先端部が平面視で「Ｃ」字形状になっており、この「Ｃ」字形状のアームの内側から内方に突き出た複数本のピン７で基板Ｗの周縁を下方から支持するようになっている。
FIG. 5 is a diagram for explaining the transfer robot TR1. FIG. 5A is a plan view of the transfer robot TR1, and FIG. 5B is a front view of the transfer robot TR1. The transfer robot TR1 includes two holding
搬送ロボットＴＲ１の基台８は装置基台（装置フレーム）に対して固定設置されている。この基台８上に、ガイド軸９ｃが立設されるとともに、螺軸９ａが回転可能に立設支持されている。また、基台８には螺軸９ａを回転駆動するモータ９ｂが固定設置されている。そして、螺軸９ａには昇降台１０ａが螺合されるとともに、昇降台１０ａはガイド軸９ｃに対して摺動自在とされている。このような構成により、モータ９ｂが螺軸９ａを回転駆動することにより、昇降台１０ａがガイド軸９ｃに案内されて鉛直方向（Ｚ方向）に昇降移動するようになっている。
The base 8 of the transfer robot TR1 is fixedly installed on the apparatus base (apparatus frame). On the base 8, a
また、昇降台１０ａ上にアーム基台１０ｂが鉛直方向に沿った軸心周りに旋回可能に搭載されている。昇降台１０ａには、アーム基台１０ｂを旋回駆動するモータ１０ｃが内蔵されている。そして、このアーム基台１０ｂ上に上述した２個の保持アーム６ａ，６ｂが上下に配設されている。各保持アーム６ａ，６ｂは、アーム基台１０ｂに装備されたスライド駆動機構（図示省略）によって、それぞれ独立して水平方向（アーム基台１０ｂの旋回半径方向）に進退移動可能に構成されている。
Further, an
このような構成によって、図５（ａ）に示すように、搬送ロボットＴＲ１は２個の保持アーム６ａ，６ｂをそれぞれ個別に基板載置部ＰＡＳＳ１，ＰＡＳＳ２、熱処理タワー２１に設けられた熱処理ユニット、下地塗布処理部ＢＲＣに設けられた塗布処理ユニットおよび後述する基板載置部ＰＡＳＳ３，ＰＡＳＳ４に対してアクセスさせて、それらとの間で基板Ｗの授受を行うことができる。
With such a configuration, as shown in FIG. 5A, the transfer robot TR1 includes two holding
次に、レジスト塗布ブロック３について説明する。バークブロック２と現像処理ブロック４との間に挟み込まれるようにしてレジスト塗布ブロック３が設けられている。このレジスト塗布ブロック３とバークブロック２との間にも、雰囲気遮断用の隔壁２５が設けられている。この隔壁２５にバークブロック２とレジスト塗布ブロック３との間で基板Ｗの受け渡しを行うために基板Ｗを載置する２つの基板載置部ＰＡＳＳ３，ＰＡＳＳ４が上下に積層して設けられている。基板載置部ＰＡＳＳ３，ＰＡＳＳ４は、上述した基板載置部ＰＡＳＳ１，ＰＡＳＳ２と同様の構成を備えている。
Next, the resist
上側の基板載置部ＰＡＳＳ３は、バークブロック２からレジスト塗布ブロック３へ基板Ｗを搬送するために使用される。すなわち、バークブロック２の搬送ロボットＴＲ１が基板載置部ＰＡＳＳ３に載置した基板Ｗをレジスト塗布ブロック３の搬送ロボットＴＲ２が受け取る。一方、下側の基板載置部ＰＡＳＳ４は、レジスト塗布ブロック３からバークブロック２へ基板Ｗを搬送するために使用される。すなわち、レジスト塗布ブロック３の搬送ロボットＴＲ２が基板載置部ＰＡＳＳ４に載置した基板Ｗをバークブロック２の搬送ロボットＴＲ１が受け取る。
The upper substrate platform PASS3 is used to transport the substrate W from the
基板載置部ＰＡＳＳ３，ＰＡＳＳ４は、隔壁２５の一部に部分的に貫通して設けられている。また、基板載置部ＰＡＳＳ３，ＰＡＳＳ４には、基板Ｗの有無を検出する光学式のセンサ（図示省略）が設けられており、各センサの検出信号に基づいて搬送ロボットＴＲ１，ＴＲ２が基板載置部ＰＡＳＳ３，ＰＡＳＳ４に対して基板Ｗを受け渡しできる状態にあるか否かを判断する。さらに、基板載置部ＰＡＳＳ３，ＰＡＳＳ４の下側には、基板Ｗを大まかに冷却するための水冷式の２つのクールプレートＷＣＰが隔壁２５を貫通して上下に設けられている。
The substrate platforms PASS3 and PASS4 are provided partially through a part of the
レジスト塗布ブロック３は、バークブロック２にて反射防止膜が塗布形成された基板Ｗ上にフォトレジスト膜を塗布形成するための処理ブロックである。なお、本実施形態では、フォトレジストとして化学増幅型レジストを用いている。レジスト塗布ブロック３は、下地塗布された反射防止膜の上にフォトレジスト膜を塗布形成するレジスト塗布処理部ＳＣと、レジスト塗布処理に付随する熱処理を行う２つの熱処理タワー３１，３１と、レジスト塗布処理部ＳＣおよび熱処理タワー３１，３１に対して基板Ｗの受け渡しを行う搬送ロボットＴＲ２とを備える。
The resist
レジスト塗布ブロック３においては、搬送ロボットＴＲ２を挟んでレジスト塗布処理部ＳＣと熱処理タワー３１，３１とが対向して配置されている。具体的には、レジスト塗布処理部ＳＣが装置正面側に、２つの熱処理タワー３１，３１が装置背面側に、それぞれ位置している。また、熱処理タワー３１，３１の正面側には図示しない熱隔壁を設けている。レジスト塗布処理部ＳＣと熱処理タワー３１，３１とを隔てて配置するとともに熱隔壁を設けることにより、熱処理タワー３１，３１からレジスト塗布処理部ＳＣに熱的影響を与えることを回避しているのである。
In the resist
レジスト塗布処理部ＳＣは、図２に示すように、同様の構成を備えた３つの塗布処理ユニットＳＣ１，ＳＣ２，ＳＣ３を下から順に積層配置して構成されている。なお、３つの塗布処理ユニットＳＣ１，ＳＣ２，ＳＣ３を特に区別しない場合はこれらを総称してレジスト塗布処理部ＳＣとする。各塗布処理ユニットＳＣ１，ＳＣ２，ＳＣ３は、基板Ｗを略水平姿勢で吸着保持して略水平面内にて回転させるスピンチャック３２、このスピンチャック３２上に保持された基板Ｗ上にフォトレジストを吐出する塗布ノズル３３、スピンチャック３２を回転駆動させるスピンモータ（図示省略）およびスピンチャック３２上に保持された基板Ｗの周囲を囲繞するカップ（図示省略）等を備えている。
As shown in FIG. 2, the resist coating processing section SC is configured by stacking and arranging three coating processing units SC1, SC2, SC3 having the same configuration in order from the bottom. If the three coating processing units SC1, SC2, and SC3 are not particularly distinguished, they are collectively referred to as a resist coating processing unit SC. Each of the coating processing units SC1, SC2, SC3 discharges the photoresist onto the
図３に示すように、インデクサブロック１に近い側の熱処理タワー３１には、基板Ｗを所定の温度にまで加熱する６個の加熱部ＰＨＰ１〜ＰＨＰ６が下から順に積層配置されている。一方、インデクサブロック１から遠い側の熱処理タワー３１には、加熱された基板Ｗを冷却して所定の温度にまで降温するとともに基板Ｗを当該所定の温度に維持するクールプレートＣＰ４〜ＣＰ９が下から順に積層配置されている。
As shown in FIG. 3, in the
各加熱部ＰＨＰ１〜ＰＨＰ６は、基板Ｗを載置して加熱処理を行う通常のホットプレートの他に、そのホットプレートと隔てられた上方位置に基板Ｗを載置しておく基板仮置部と、該ホットプレートと基板仮置部との間で基板Ｗを搬送するローカル搬送機構３４（図１参照）とを備えた熱処理ユニットである。ローカル搬送機構３４は、昇降移動および進退移動が可能に構成されるとともに、冷却水を循環させることによって搬送過程の基板Ｗを冷却する機構を備えている。
Each of the heating units PHP1 to PHP6 includes a substrate temporary placement unit that places the substrate W on an upper position separated from the hot plate, in addition to a normal hot plate that places the substrate W and performs heat treatment. The heat treatment unit includes a local transport mechanism 34 (see FIG. 1) for transporting the substrate W between the hot plate and the temporary substrate placement unit. The
ローカル搬送機構３４は、上記ホットプレートおよび基板仮置部を挟んで搬送ロボットＴＲ２とは反対側、すなわち装置背面側に設置されている。そして、基板仮置部は搬送ロボットＴＲ２側およびローカル搬送機構３４側の双方に対して開口している一方、ホットプレートはローカル搬送機構３４側のみ開口し、搬送ロボットＴＲ２側には閉塞している。従って、基板仮置部に対しては搬送ロボットＴＲ２およびローカル搬送機構３４の双方がアクセスできるが、ホットプレートに対してはローカル搬送機構３４のみがアクセス可能である。
The
このような構成を備える各加熱部ＰＨＰ１〜ＰＨＰ６に基板Ｗを搬入するときには、まず搬送ロボットＴＲ２が基板仮置部に基板Ｗを載置する。そして、ローカル搬送機構３４が基板仮置部から基板Ｗを受け取ってホットプレートまで搬送し、該基板Ｗに加熱処理が施される。ホットプレートでの加熱処理が終了した基板Ｗは、ローカル搬送機構３４によって取り出されて基板仮置部まで搬送される。このときに、ローカル搬送機構３４が備える冷却機能によって基板Ｗが冷却される。その後、基板仮置部まで搬送された熱処理後の基板Ｗが搬送ロボットＴＲ２によって取り出される。
When the substrate W is carried into each of the heating units PHP1 to PHP6 having such a configuration, the transport robot TR2 first places the substrate W on the temporary substrate placement unit. Then, the
このように、加熱部ＰＨＰ１〜ＰＨＰ６においては、搬送ロボットＴＲ２が常温の基板仮置部に対して基板Ｗの受け渡しを行うだけで、ホットプレートに対する基板Ｗの受け渡しを行わないため、搬送ロボットＴＲ２の温度上昇を抑制することができる。また、ホットプレートはローカル搬送機構３４側のみ開口しているため、ホットプレートから漏出した熱雰囲気によって搬送ロボットＴＲ２やレジスト塗布処理部ＳＣが悪影響を受けることが防止される。なお、クールプレートＣＰ４〜ＣＰ９に対しては搬送ロボットＴＲ２が直接基板Ｗの受け渡しを行う。
In this way, in the heating units PHP1 to PHP6, the transfer robot TR2 only transfers the substrate W to the substrate temporary placement unit at room temperature, and does not transfer the substrate W to the hot plate. Temperature rise can be suppressed. Further, since the hot plate is opened only on the
搬送ロボットＴＲ２の構成は、搬送ロボットＴＲ１と全く同じである。よって、搬送ロボットＴＲ２は２個の保持アームをそれぞれ個別に基板載置部ＰＡＳＳ３，ＰＡＳＳ４、熱処理タワー３１に設けられた熱処理ユニット、レジスト塗布処理部ＳＣに設けられた塗布処理ユニットおよび後述する基板載置部ＰＡＳＳ５，ＰＡＳＳ６に対してアクセスさせて、それらとの間で基板Ｗの授受を行うことができる。
The configuration of the transfer robot TR2 is exactly the same as that of the transfer robot TR1. Therefore, the transfer robot TR2 has two holding arms individually for the substrate platforms PASS3 and PASS4, a heat treatment unit provided in the
次に、現像処理ブロック４について説明する。レジスト塗布ブロック３とインターフェイスブロック５との間に挟み込まれるようにして現像処理ブロック４が設けられている。レジスト塗布ブロック３と現像処理ブロック４との間にも、雰囲気遮断用の隔壁３５が設けられている。この隔壁３５にレジスト塗布ブロック３と現像処理ブロック４との間で基板Ｗの受け渡しを行うために基板Ｗを載置する２つの基板載置部ＰＡＳＳ５，ＰＡＳＳ６が上下に積層して設けられている。基板載置部ＰＡＳＳ５，ＰＡＳＳ６は、上述した基板載置部ＰＡＳＳ１，ＰＡＳＳ２と同様の構成を備えている。
Next, the
上側の基板載置部ＰＡＳＳ５は、レジスト塗布ブロック３から現像処理ブロック４へ基板Ｗを搬送するために使用される。すなわち、レジスト塗布ブロック３の搬送ロボットＴＲ２が基板載置部ＰＡＳＳ５に載置した基板Ｗを現像処理ブロック４の搬送ロボットＴＲ３が受け取る。一方、下側の基板載置部ＰＡＳＳ６は、現像処理ブロック４からレジスト塗布ブロック３へ基板Ｗを搬送するために使用される。すなわち、現像処理ブロック４の搬送ロボットＴＲ３が基板載置部ＰＡＳＳ６に載置した基板Ｗをレジスト塗布ブロック３の搬送ロボットＴＲ２が受け取る。
The upper substrate platform PASS5 is used for transporting the substrate W from the resist
基板載置部ＰＡＳＳ５，ＰＡＳＳ６は、隔壁３５の一部に部分的に貫通して設けられている。また、基板載置部ＰＡＳＳ５，ＰＡＳＳ６には、基板Ｗの有無を検出する光学式のセンサ（図示省略）が設けられており、各センサの検出信号に基づいて搬送ロボットＴＲ２，ＴＲ３が基板載置部ＰＡＳＳ５，ＰＡＳＳ６に対して基板Ｗを受け渡しできる状態にあるか否かを判断する。さらに、基板載置部ＰＡＳＳ５，ＰＡＳＳ６の下側には、基板Ｗを大まかに冷却するための水冷式の２つのクールプレートＷＣＰが隔壁３５を貫通して上下に設けられている。
The substrate platforms PASS5 and PASS6 are provided so as to partially penetrate a part of the
現像処理ブロック４は、露光された基板Ｗに対して現像処理を行うための処理ブロックである。現像処理ブロック４は、パターンが露光された基板Ｗに対して現像液を供給して現像処理を行う現像処理部ＳＤと、現像処理に付随する熱処理を行う２つの熱処理タワー４１，４２と、現像処理部ＳＤおよび熱処理タワー４１，４２に対して基板Ｗの受け渡しを行う搬送ロボットＴＲ３とを備える。なお、搬送ロボットＴＲ３は、上述した搬送ロボットＴＲ１，ＴＲ２と全く同じ構成を有する。
The
現像処理部ＳＤは、図２に示すように、同様の構成を備えた５つの現像処理ユニットＳＤ１，ＳＤ２，ＳＤ３，ＳＤ４，ＳＤ５を下から順に積層配置して構成されている。なお、５つの現像処理ユニットＳＤ１〜ＳＤ５を特に区別しない場合はこれらを総称して現像処理部ＳＤとする。各現像処理ユニットＳＤ１〜ＳＤ５は、基板Ｗを略水平姿勢で吸着保持して略水平面内にて回転させるスピンチャック４３、このスピンチャック４３上に保持された基板Ｗ上に現像液を供給するノズル４４、スピンチャック４３を回転駆動させるスピンモータ（図示省略）およびスピンチャック４３上に保持された基板Ｗの周囲を囲繞するカップ（図示省略）等を備えている。
As shown in FIG. 2, the development processing unit SD is configured by stacking five development processing units SD1, SD2, SD3, SD4, and SD5 having the same configuration in order from the bottom. Note that the five development processing units SD1 to SD5 are collectively referred to as the development processing unit SD unless particularly distinguished. Each of the development processing units SD1 to SD5 includes a
図３に示すように、インデクサブロック１に近い側の熱処理タワー４１には、基板Ｗを所定の温度にまで加熱する５個のホットプレートＨＰ７〜ＨＰ１１と、加熱された基板Ｗを冷却して所定の温度にまで降温するとともに基板Ｗを当該所定の温度に維持するクールプレートＣＰ１０〜ＣＰ１２とが設けられている。この熱処理タワー４１には、下から順にクールプレートＣＰ１０〜ＣＰ１２、ホットプレートＨＰ７〜ＨＰ１１が積層配置されている。一方、インデクサブロック１から遠い側の熱処理タワー４２には、６個の加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２とクールプレートＣＰ１３とが積層配置されている。各加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２は、上述した加熱部ＰＨＰ１〜ＰＨＰ６と同様に、基板仮置部およびローカル搬送機構を備えた熱処理ユニットである。但し、各加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２の基板仮置部はインターフェイスブロック５の搬送ロボットＴＲ４の側には開口しているが、現像処理ブロック４の搬送ロボットＴＲ３の側には閉塞している。つまり、加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２に対してはインターフェイスブロック５の搬送ロボットＴＲ４はアクセス可能であるが、現像処理ブロック４の搬送ロボットＴＲ３はアクセス不可である。なお、熱処理タワー４１に組み込まれた熱処理ユニットに対しては現像処理ブロック４の搬送ロボットＴＲ３がアクセスする。
As shown in FIG. 3, in the
また、熱処理タワー４２には、現像処理ブロック４と、これに隣接するインターフェイスブロック５との間で基板Ｗの受け渡しを行うための２つの基板載置部ＰＡＳＳ７，ＰＡＳＳ８が上下に近接して組み込まれている。上側の基板載置部ＰＡＳＳ７は、現像処理ブロック４からインターフェイスブロック５へ基板Ｗを搬送するために使用される。すなわち、現像処理ブロック４の搬送ロボットＴＲ３が基板載置部ＰＡＳＳ７に載置した基板Ｗをインターフェイスブロック５の搬送ロボットＴＲ４が受け取る。一方、下側の基板載置部ＰＡＳＳ８は、インターフェイスブロック５から現像処理ブロック４へ基板Ｗを搬送するために使用される。すなわち、インターフェイスブロック５の搬送ロボットＴＲ４が基板載置部ＰＡＳＳ８に載置した基板Ｗを現像処理ブロック４の搬送ロボットＴＲ３が受け取る。なお、基板載置部ＰＡＳＳ７，ＰＡＳＳ８は、現像処理ブロック４の搬送ロボットＴＲ３およびインターフェイスブロック５の搬送ロボットＴＲ４の両側に対して開口している。
Further, in the
次に、インターフェイスブロック５について説明する。インターフェイスブロック５は、現像処理ブロック４に隣接して設けられ、本基板処理装置とは別体の外部装置である露光装置に対して基板Ｗの受け渡しを行うブロックである。本実施形態のインターフェイスブロック５には、露光装置との間で基板Ｗの受け渡しを行うための搬送機構５５の他に、フォトレジスト膜が形成された基板Ｗの周縁部を露光する２つのエッジ露光部ＥＥＷと、現像処理ブロック４内に配設された加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２およびエッジ露光部ＥＥＷに対して基板Ｗを受け渡しする搬送ロボットＴＲ４とを備えている。
Next, the
エッジ露光部ＥＥＷは、図２に示すように、基板Ｗを略水平姿勢で吸着保持して略水平面内にて回転させるスピンチャック５６や、このスピンチャック５６に保持された基板Ｗの周縁に光を照射して露光する光照射器５７などを備えている。２つのエッジ露光部ＥＥＷは、インターフェイスブロック５の中央部に上下に積層配置されている。このエッジ露光部ＥＥＷと現像処理ブロック４の熱処理タワー４２とに隣接して配置されている搬送ロボットＴＲ４は上述した搬送ロボットＴＲ１〜ＴＲ３と同様の構成を備えている。
The edge exposure unit EEW, as shown in FIG. 2, applies light to the
また、図２に示すように、２つのエッジ露光部ＥＥＷの下側には基板戻し用のリターンバッファＲＢＦが設けられ、さらにその下側には２つの基板載置部ＰＡＳＳ９，ＰＡＳＳ１０が上下に積層して設けられている。リターンバッファＲＢＦは、何らかの障害によって現像処理ブロック４が基板Ｗの現像処理を行うことができない場合に、現像処理ブロック４の加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２で露光後の加熱処理を行った後に、その基板Ｗを一時的に収納保管しておくものである。このリターンバッファＲＢＦは、複数枚の基板Ｗを多段に収納できる収納棚によって構成されている。また、上側の基板載置部ＰＡＳＳ９は搬送ロボットＴＲ４から搬送機構５５に基板Ｗを渡すために使用するものであり、下側の基板載置部ＰＡＳＳ１０は搬送機構５５から搬送ロボットＴＲ４に基板Ｗを渡すために使用するものである。なお、リターンバッファＲＢＦに対しては搬送ロボットＴＲ４がアクセスを行う。
Further, as shown in FIG. 2, a return buffer RBF for returning the substrate is provided below the two edge exposure units EEW, and two substrate platforms PASS9 and PASS10 are stacked on the lower side. Is provided. When the
搬送機構５５は、図２に示すように、Ｙ方向に水平移動可能な可動台５５ａを備え、この可動台５５ａ上に基板Ｗを保持する保持アーム５５ｂを搭載している。保持アーム５５ｂは、可動台５５ａに対して昇降移動、旋回動作および旋回半径方向への進退移動が可能に構成されている。このような構成によって、搬送機構５５は、露光装置との間で基板Ｗの受け渡しを行うとともに、基板載置部ＰＡＳＳ９，ＰＡＳＳ１０に対する基板Ｗの受け渡しと、基板送り用のセンドバッファＳＢＦに対する基板Ｗの収納および取り出しを行う。センドバッファＳＢＦは、露光装置が基板Ｗの受け入れをできないときに、露光処理前の基板Ｗを一時的に収納保管するもので、複数枚の基板Ｗを多段に収納できる収納棚によって構成されている。
As shown in FIG. 2, the
以上のインデクサブロック１、バークブロック２、レジスト塗布ブロック３、現像処理ブロック４およびインターフェイスブロック５には常に清浄空気がダウンフローとして供給されており、各ブロック内でパーティクルの巻き上がりや気流によるプロセスへの悪影響を回避している。また、各ブロック内は装置の外部環境に対して若干陽圧に保たれ、外部環境からのパーティクルや汚染物質の進入などを防いでいる。
The indexer block 1, the
また、上述したインデクサブロック１、バークブロック２、レジスト塗布ブロック３、現像処理ブロック４およびインターフェイスブロック５は、本実施形態の基板処理装置を機構的に分割した単位である。各ブロックは、各々個別のブロック用フレーム（枠体）に組み付けられ、各ブロック用フレームを連結して基板処理装置が構成されている。
The indexer block 1, the
一方、本実施形態では、基板搬送に係る搬送制御単位を機械的に分割したブロックとは別に構成している。本明細書では、このような基板搬送に係る搬送制御単位を「セル」と称する。１つのセルは、基板に所定の処理を行う複数の処理部とそれら複数の処理部に対して基板の循環搬送を行う搬送ロボットとを含んで構成されている。そして、上述した各基板載置部が、セル内に基板Ｗを受け入れるための入口基板載置部またはセルから基板Ｗを払い出すための出口基板載置部として機能する。そして、セル間の基板Ｗの受け渡しも基板載置部を介して行われる。なお、本明細書では熱処理ユニットや塗布・現像処理ユニットの他に単に基板Ｗを載置するだけの基板載置部等も搬送対象部という意味において「処理部」に含め、また、基板移載機構１２や搬送機構５５も搬送ロボットに含める。
On the other hand, in the present embodiment, the transport control unit for transporting the substrate is configured separately from the block that is mechanically divided. In the present specification, such a transport control unit for transporting a substrate is referred to as a “cell”. One cell includes a plurality of processing units that perform predetermined processing on the substrate and a transfer robot that circulates and transfers the substrate to the plurality of processing units. Each of the substrate placement units described above functions as an entrance substrate placement unit for receiving the substrate W in the cell or an exit substrate placement unit for delivering the substrate W from the cell. And delivery of the board | substrate W between cells is also performed via a board | substrate mounting part. In this specification, in addition to the heat treatment unit and the coating / development processing unit, a substrate placement unit that simply places the substrate W is also included in the “processing unit” in the sense of the transfer target unit, and the substrate transfer The
本実施形態の基板処理装置には、インデクサセル、バークセル、レジスト塗布セル、現像処理セル、露光後ベークセルおよびインターフェイスセルの６つのセルが含まれている。インデクサセルは、載置台１１と基板移載機構１２とを含み、結果的に機械的に分割した単位であるインデクサブロック１と同じ構成となっている。また、バークセルは、下地塗布処理部ＢＲＣと２つの熱処理タワー２１，２１と搬送ロボットＴＲ１とを含む。このバークセルも、結果として機械的に分割した単位であるバークブロック２と同じ構成になっている。さらに、レジスト塗布セルは、レジスト塗布処理部ＳＣと２つの熱処理タワー３１，３１と搬送ロボットＴＲ２とを含む。このレジスト塗布セルも、結果として機械的に分割した単位であるレジスト塗布ブロック３と同じ構成になっている。
The substrate processing apparatus of the present embodiment includes six cells: an indexer cell, a bark cell, a resist coating cell, a development processing cell, a post-exposure bake cell, and an interface cell. The indexer cell includes a mounting table 11 and a
一方、現像処理セルは、現像処理部ＳＤと熱処理タワー４１と搬送ロボットＴＲ３とを含む。上述したように、搬送ロボットＴＲ３は熱処理タワー４２の加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２に対してアクセスすることができず、現像処理セルに熱処理タワー４２は含まれない。この点において、現像処理セルは機械的に分割した単位である現像処理ブロック４と異なる。
On the other hand, the development processing cell includes a development processing unit SD, a
また、露光後ベークセルは、現像処理ブロック４に位置する熱処理タワー４２と、インターフェイスブロック５に位置するエッジ露光部ＥＥＷと搬送ロボットＴＲ４とを含む。すなわち、露光後ベークセルは、機械的に分割した単位である現像処理ブロック４とインターフェイスブロック５とにまたがるものである。このように露光後加熱処理を行う加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２と搬送ロボットＴＲ４とを含んで１つのセルを構成しているので、露光後の基板Ｗを速やかに加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２に搬入して熱処理を行うことができる。このような構成は、パターンの露光を行った後なるべく速やかに加熱処理を行う必要のある化学増幅型レジストを使用した場合に好適である。
The post-exposure bake cell includes a
なお、熱処理タワー４２に含まれる基板載置部ＰＡＳＳ７，ＰＡＳＳ８は現像処理セルの搬送ロボットＴＲ３と露光後ベークセルの搬送ロボットＴＲ４との間の基板Ｗの受け渡しのために介在する。
The substrate platforms PASS7 and PASS8 included in the
インターフェイスセルは、外部装置である露光装置に対して基板Ｗの受け渡しを行う搬送機構５５を含んで構成されている。このインターフェイスセルは、搬送ロボットＴＲ４やエッジ露光部ＥＥＷを含まない点で、機械的に分割した単位であるインターフェイスブロック５とは異なる構成となっている。なお、エッジ露光部ＥＥＷの下方に設けられた基板載置部ＰＡＳＳ９，ＰＡＳＳ１０は露光後ベークセルの搬送ロボットＴＲ４とインターフェイスセルの搬送機構５５との間の基板Ｗの受け渡しのために介在する。
The interface cell includes a
次に、本実施形態の基板処理装置の制御機構について説明する。図６は、制御機構の概略を示すブロック図である。同図に示すように、本実施形態の基板処理装置は、メインコントローラＭＣ、セルコントローラＣＣ、ユニットコントローラの３階層からなる制御階層を備えている。メインコントローラＭＣ、セルコントローラＣＣ、ユニットコントローラのハードウェアとしての構成は一般的なコンピュータと同様である。すなわち、各コントローラは、各種演算処理を行うＣＰＵ、基本プログラムを記憶する読み出し専用のメモリであるＲＯＭ、各種情報を記憶する読み書き自在のメモリであるＲＡＭおよび制御用アプリケーションやデータなどを記憶しておく磁気ディスク等を備えている。 Next, the control mechanism of the substrate processing apparatus of this embodiment will be described. FIG. 6 is a block diagram showing an outline of the control mechanism. As shown in the figure, the substrate processing apparatus of the present embodiment includes a control hierarchy including three levels of a main controller MC, a cell controller CC, and a unit controller. The hardware configuration of the main controller MC, cell controller CC, and unit controller is the same as that of a general computer. That is, each controller stores a CPU that performs various arithmetic processes, a ROM that is a read-only memory that stores basic programs, a RAM that is a readable and writable memory that stores various information, and control applications and data. A magnetic disk or the like is provided.
第１階層のメインコントローラＭＣは、基板処理装置全体に１つ設けられており、装置全体の管理、メインパネルＭＰの管理およびセルコントローラＣＣの管理を主に担当する。メインパネルＭＰは、メインコントローラＭＣのディスプレイとして機能するものである。また、メインコントローラＭＣに対してはキーボードＫＢから種々のコマンドを入力することができる。なお、メインパネルＭＰをタッチパネルにて構成し、メインパネルＭＰからメインコントローラＭＣに入力作業を行うようにしても良い。このメインパネルＭＰまたはキーボードＫＢによって診断モードの開始を受け付けるのであるが、これについては後述する。 One main controller MC in the first hierarchy is provided for the entire substrate processing apparatus, and is mainly responsible for management of the entire apparatus, management of the main panel MP, and management of the cell controller CC. The main panel MP functions as a display for the main controller MC. Various commands can be input to the main controller MC from the keyboard KB. The main panel MP may be configured by a touch panel, and input work may be performed from the main panel MP to the main controller MC. The start of the diagnostic mode is accepted by the main panel MP or the keyboard KB, which will be described later.
第２階層のセルコントローラＣＣは、６つのセル（インデクサセル、バークセル、レジスト塗布セル、現像処理セル、露光後ベークセルおよびインターフェイスセル）のそれぞれに対して個別に設けられている。各セルコントローラＣＣは、対応するセル内の基板搬送管理およびユニット管理を主に担当する。具体的には、各セルのセルコントローラＣＣは、所定の基板載置部に基板Ｗを置いたという情報を、隣のセルのセルコントローラＣＣに送り、その基板Ｗを受け取ったセルのセルコントローラＣＣは、当該基板載置部から基板Ｗを受け取ったという情報を元のセルのセルコントローラＣＣに返すという情報の送受信を行う。このような情報の送受信はメインコントローラＭＣを介して行われる。そして、各セルコントローラＣＣはセル内に基板Ｗが搬入された旨の情報を搬送ロボットコントローラＴＣに与え、該搬送ロボットコントローラＴＣが搬送ロボットを制御してセル内で基板Ｗを所定の手順（フローレシピ）に従って循環搬送させる。なお、搬送ロボットコントローラＴＣは、セルコントローラＣＣ上で所定のアプリケーションが動作することによって実現される制御部である。 The second-level cell controller CC is individually provided for each of the six cells (indexer cell, bark cell, resist coating cell, development processing cell, post-exposure bake cell, and interface cell). Each cell controller CC is mainly in charge of substrate transport management and unit management in the corresponding cell. Specifically, the cell controller CC of each cell sends information that the substrate W has been placed on a predetermined substrate placement unit to the cell controller CC of the adjacent cell, and the cell controller CC of the cell that has received the substrate W. Transmits / receives information that information indicating that the substrate W has been received from the substrate platform is returned to the cell controller CC of the original cell. Such transmission / reception of information is performed via the main controller MC. Each cell controller CC gives information to the transfer robot controller TC that the substrate W has been loaded into the cell, and the transfer robot controller TC controls the transfer robot to transfer the substrate W in the cell according to a predetermined procedure (flow). Circulate and convey according to recipe. The transfer robot controller TC is a control unit realized by a predetermined application operating on the cell controller CC.
また、第３階層のユニットコントローラとしては、例えばスピンコントローラやベークコントローラが設けられている。スピンコントローラは、セルコントローラＣＣの指示に従ってセル内に配置されたスピンユニット（塗布処理ユニットおよび現像処理ユニット）を直接制御するものである。具体的には、スピンコントローラは、例えばスピンユニットのスピンモータを制御して基板Ｗの回転数を調整する。また、ベークコントローラは、セルコントローラＣＣの指示に従ってセル内に配置された熱処理ユニット（ホットプレート、クールプレート、加熱部等）を直接制御するものである。具体的には、ベークコントローラは、例えばホットプレートに内蔵されたヒータを制御してプレート温度等を調整する。 In addition, as the unit controller of the third hierarchy, for example, a spin controller or a bake controller is provided. The spin controller directly controls spin units (coating processing unit and development processing unit) arranged in the cell in accordance with instructions from the cell controller CC. Specifically, the spin controller adjusts the rotation speed of the substrate W by controlling a spin motor of the spin unit, for example. Further, the bake controller directly controls the heat treatment units (hot plate, cool plate, heating unit, etc.) arranged in the cell in accordance with instructions from the cell controller CC. Specifically, the bake controller adjusts the plate temperature and the like by controlling, for example, a heater built in the hot plate.
このように本実施形態では、３階層の制御階層とすることによって各コントローラの制御負荷を軽減している。また、各セルコントローラＣＣは、隣接するセル内での搬送スケジュールを考慮することなく、それぞれのセル内だけの基板搬送スケジュールを管理しているため、各セルコントローラＣＣの搬送制御の負担が軽くなる。その結果、基板処理装置のスループットを向上させることができるのである。 As described above, in this embodiment, the control load of each controller is reduced by adopting a three-level control hierarchy. In addition, each cell controller CC manages the substrate transfer schedule only in each cell without considering the transfer schedule in the adjacent cell, so the burden of transfer control on each cell controller CC is reduced. . As a result, the throughput of the substrate processing apparatus can be improved.
次に、本実施形態の基板処理装置の動作について説明する。ここでは、まず、基板処理装置における基板Ｗの循環搬送の手順について簡単に説明する。まず、インデクサセル（インデクサブロック１）の基板移載機構１２が所定のキャリアＣから未処理の基板Ｗを取り出し、上側の基板載置部ＰＡＳＳ１に載置する。基板載置部ＰＡＳＳ１に未処理の基板Ｗが載置されると、バークセルの搬送ロボットＴＲ１が保持アーム６ａ，６ｂのうちの一方を使用してその基板Ｗを受け取る。そして、搬送ロボットＴＲ１は受け取った未処理の基板Ｗを密着強化処理部ＡＨＬ１〜ＡＨＬ３のいずれかに搬送する。密着強化処理の終了した基板Ｗは搬送ロボットＴＲ１によって取り出され、クールプレートＣＰ１〜ＣＰ３のいずれかに搬送されて冷却される。冷却後の基板Ｗは搬送ロボットＴＲ１によって塗布処理ユニットＢＲＣ１〜ＢＲＣ３のいずれかに搬送され、反射防止膜用の塗布液が回転塗布される。
Next, the operation of the substrate processing apparatus of this embodiment will be described. Here, first, a procedure for circulating and transporting the substrate W in the substrate processing apparatus will be briefly described. First, the
塗布処理が終了した後、基板Ｗは搬送ロボットＴＲ１によってホットプレートＨＰ１〜ＨＰ６のいずれかに搬送される。ホットプレートにて基板Ｗが加熱されることによって、塗布液が乾燥されて基板Ｗ上に下地の反射防止膜が形成される。その後、搬送ロボットＴＲ１によってホットプレートから取り出された基板Ｗは再びクールプレートＣＰ１〜ＣＰ３のいずれかに搬送されて冷却される。なお、このときにクールプレートＷＣＰによって基板Ｗを冷却するようにしても良い。冷却後の基板Ｗは搬送ロボットＴＲ１によって基板載置部ＰＡＳＳ３に載置される。 After the coating process is completed, the substrate W is transferred to one of the hot plates HP1 to HP6 by the transfer robot TR1. When the substrate W is heated by the hot plate, the coating liquid is dried and a base antireflection film is formed on the substrate W. Thereafter, the substrate W taken out from the hot plate by the transfer robot TR1 is transferred again to any one of the cool plates CP1 to CP3 and cooled. At this time, the substrate W may be cooled by the cool plate WCP. The cooled substrate W is placed on the substrate platform PASS3 by the transport robot TR1.
反射防止膜が形成された基板Ｗが基板載置部ＰＡＳＳ３に載置されると、レジスト塗布セルの搬送ロボットＴＲ２がその基板Ｗを受け取って塗布処理ユニットＳＣ１〜ＳＣ３のいずれかに搬送する。塗布処理ユニットＳＣ１〜ＳＣ３では、基板Ｗにフォトレジストが回転塗布される。なお、レジスト塗布処理には精密な基板温調が要求されるため、基板Ｗを塗布処理ユニットＳＣ１〜ＳＣ３に搬送する直前にクールプレートＣＰ４〜ＣＰ９のいずれかに搬送するようにしても良い。 When the substrate W on which the antireflection film is formed is placed on the substrate platform PASS3, the transfer robot TR2 of the resist coating cell receives the substrate W and transports it to one of the coating processing units SC1 to SC3. In the coating processing units SC1 to SC3, a photoresist is spin-coated on the substrate W. In addition, since precise substrate temperature control is required for the resist coating process, the substrate W may be transported to any one of the cool plates CP4 to CP9 immediately before the substrate W is transported to the coating processing units SC1 to SC3.
レジスト塗布処理が終了した後、基板Ｗは搬送ロボットＴＲ２によって加熱部ＰＨＰ１〜ＰＨＰ６のいずれかに搬送される。加熱部ＰＨＰ１〜ＰＨＰ６にて基板Ｗが加熱処理されることにより、フォトレジスト中の溶媒成分が除去されて基板Ｗ上にレジスト膜が形成される。その後、搬送ロボットＴＲ２によって加熱部ＰＨＰ１〜ＰＨＰ６から取り出された基板ＷはクールプレートＣＰ４〜ＣＰ９のいずれかに搬送されて冷却される。冷却後の基板Ｗは搬送ロボットＴＲ２によって基板載置部ＰＡＳＳ５に載置される。 After the resist coating process is completed, the substrate W is transferred to one of the heating units PHP1 to PHP6 by the transfer robot TR2. When the substrate W is heated by the heating units PHP1 to PHP6, the solvent component in the photoresist is removed, and a resist film is formed on the substrate W. Thereafter, the substrate W taken out from the heating units PHP1 to PHP6 by the transport robot TR2 is transported to one of the cool plates CP4 to CP9 and cooled. The cooled substrate W is placed on the substrate platform PASS5 by the transport robot TR2.
レジスト膜が形成された基板Ｗが基板載置部ＰＡＳＳ５に載置されると、現像処理セルの搬送ロボットＴＲ３がその基板Ｗを受け取ってそのまま基板載置部ＰＡＳＳ７に載置する。そして、基板載置部ＰＡＳＳ７に載置された基板Ｗは露光後ベークセルの搬送ロボットＴＲ４によって受け取られ、エッジ露光部ＥＥＷに搬入される。エッジ露光部ＥＥＷにおいては、基板Ｗの周縁部の露光処理が行われる。エッジ露光処理が終了した基板Ｗは搬送ロボットＴＲ４によって基板載置部ＰＡＳＳ９に載置される。そして、基板載置部ＰＡＳＳ９に載置された基板Ｗはインターフェイスセルの搬送機構５５によって受け取られ、装置外の露光装置に搬入され、パターン露光処理に供される。
When the substrate W on which the resist film is formed is placed on the substrate platform PASS5, the transfer robot TR3 of the development processing cell receives the substrate W and places it on the substrate platform PASS7 as it is. Then, the substrate W placed on the substrate platform PASS7 is received by the post-exposure bake cell transport robot TR4 and carried into the edge exposure unit EEW. In the edge exposure unit EEW, exposure processing of the peripheral portion of the substrate W is performed. The substrate W that has undergone the edge exposure process is placed on the substrate platform PASS9 by the transport robot TR4. The substrate W placed on the substrate platform PASS9 is received by the interface
パターン露光処理が終了した基板Ｗは再びインターフェイスセルに戻され、搬送機構５５によって基板載置部ＰＡＳＳ１０に載置される。露光後の基板Ｗが基板載置部ＰＡＳＳ１０に載置されると、露光後ベークセルの搬送ロボットＴＲ４がその基板Ｗを受け取って加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２のいずれかに搬送する。加熱部ＰＨＰ７〜ＰＨＰ１２では、露光時の光化学反応によって生じた生成物をレジスト膜内に均一に拡散させるための加熱処理(Post Exposure Bake)が行われる。露光後加熱処理が終了した基板Ｗは搬送ロボットＴＲ４によって取り出され、クールプレートＣＰ１３に搬送されて冷却される。冷却後の基板Ｗは搬送ロボットＴＲ４によって基板載置部ＰＡＳＳ８に載置される。
The substrate W that has been subjected to the pattern exposure processing is returned to the interface cell again, and is placed on the substrate platform PASS10 by the
基板載置部ＰＡＳＳ８に基板Ｗが載置されると、現像処理セルの搬送ロボットＴＲ３がその基板Ｗを受け取って現像処理ユニットＳＤ１〜ＳＤ５のいずれかに搬送する。現像処理ユニットＳＤ１〜ＳＤ５では、基板Ｗに現像液を供給して現像処理を進行させる。やがて現像処理が終了した後、基板Ｗは搬送ロボットＴＲ３によってホットプレートＨＰ７〜ＨＰ１１のいずれかに搬送され、さらにその後クールプレートＣＰ１０〜ＣＰ１２のいずれかに搬送される。 When the substrate W is placed on the substrate platform PASS8, the transport robot TR3 of the development processing cell receives the substrate W and transports it to one of the development processing units SD1 to SD5. In the developing units SD1 to SD5, a developing solution is supplied to the substrate W to advance the developing process. After the development process is finished, the substrate W is transferred to one of the hot plates HP7 to HP11 by the transfer robot TR3, and then transferred to one of the cool plates CP10 to CP12.
その後、基板Ｗは搬送ロボットＴＲ３によって基板載置部ＰＡＳＳ６に載置される。基板載置部ＰＡＳＳ６に載置された基板Ｗは、レジスト塗布セルの搬送ロボットＴＲ２によってそのまま基板載置部ＰＡＳＳ４に載置される。さらに、基板載置部ＰＡＳＳ４に載置された基板Ｗは、バークセルの搬送ロボットＴＲ１によってそのまま基板載置部ＰＡＳＳ２に載置される。基板載置部ＰＡＳＳ２に載置された処理済みの基板Ｗはインデクサセルの基板移載機構１２によって所定のキャリアＣに収納される。このようにして一連のフォトリソグラフィー処理が完了する。
Thereafter, the substrate W is placed on the substrate platform PASS6 by the transport robot TR3. The substrate W placed on the substrate platform PASS6 is placed on the substrate platform PASS4 as it is by the transfer robot TR2 of the resist coating cell. Further, the substrate W placed on the substrate platform PASS4 is placed on the substrate platform PASS2 as it is by the transfer robot TR1 of Barxel. The processed substrate W placed on the substrate platform PASS2 is stored in a predetermined carrier C by the
以上のような一連の処理は基板処理装置を通常処理モードとしているときに実行されるものであるが、本実施形態の基板処理装置には通常処理モードの他に動作機構の異常を検出するための診断モードを設けている。すなわち、上記基板処理装置にはモータ、シリンダ、アクチュエータ、吐出ポンプ、ヒータ等の多数の動作機構が設けられている。このような動作機構は、わずかな異常が生じていたとしても通常処理モードでは問題なく動作することもある。診断モードはそのような動作機構のわずかな異常をも検出するための特別なモードである。以下、診断モードでの処理について説明する。 The series of processes as described above are executed when the substrate processing apparatus is in the normal processing mode. However, the substrate processing apparatus according to the present embodiment detects an abnormality in the operation mechanism in addition to the normal processing mode. A diagnostic mode is provided. That is, the substrate processing apparatus is provided with a number of operation mechanisms such as a motor, a cylinder, an actuator, a discharge pump, and a heater. Such an operating mechanism may operate without any problem in the normal processing mode even if a slight abnormality occurs. The diagnostic mode is a special mode for detecting even a slight abnormality of such an operating mechanism. Hereinafter, processing in the diagnosis mode will be described.
一般に、基板処理装置には定期的に或いは必要に応じてメンテナンスが行われる。診断モードの実行はそのようなメンテナンス時に行うことが好ましい。診断モードへの移行は、オペレータがメインパネルＭＰまたはキーボードＫＢから診断モードの開始を入力することによりなされる。診断モードの開始を入力する際には、基板処理装置に設けられた全動作機構を対象としても良いし、特定のセルを対象としても良いし、特定の処理部や搬送ロボットのみを対象としても良い。ここでは、バークセル（バークブロック２）の搬送ロボットＴＲ１を対象として診断モードの開始が入力されたものとする。なお、診断モードが実行されているときに上述の如き通常の基板処理が行われないことは勿論である。 Generally, maintenance is performed on a substrate processing apparatus periodically or as necessary. The diagnosis mode is preferably executed during such maintenance. The transition to the diagnostic mode is made when the operator inputs the start of the diagnostic mode from the main panel MP or the keyboard KB. When inputting the start of the diagnosis mode, all operation mechanisms provided in the substrate processing apparatus may be targeted, a specific cell may be targeted, or only a specific processing unit or a transfer robot may be targeted. good. Here, it is assumed that the start of the diagnosis mode is input for the transfer robot TR1 of the bark cell (bark block 2). Of course, the normal substrate processing as described above is not performed when the diagnosis mode is executed.
メインパネルＭＰまたはキーボードＫＢから診断モードの開始が入力されると、診断モードの実行指示がメインコントローラＭＣからバークセルのセルコントローラＣＣに伝達される。そのセルコントローラＣＣは搬送ロボットコントローラＴＣに診断モード実行の指示を与え、その指示を受け取った搬送ロボットコントローラＴＣが診断用動作を行うように搬送ロボットＴＲ１を制御する。より具体的には、診断用動作として最下位置から最上位置までの最も移動距離の長い動作を最高速にて搬送ロボットＴＲ１に行わせる。また、これと併せて、アーム基台１０ｂを最高速で旋回させるとともに、保持アーム６ａ，６ｂを最高速にて進退移動させる。搬送ロボットコントローラＴＣは、このような過酷な診断用動作を数回繰り返して搬送ロボットＴＲ１に行わせる。そして、搬送ロボットコントローラＴＣは搬送ロボットＴＲ１が上記診断用動作を行ったときの動作データを取得する。動作データとしては、例えばモータ９ｂ，１０ｃの電流値、保持アーム６ａ，６ｂの位置ズレ、搬送動作時間、搬送ロボットＴＲ１の振動数等がある。
When the start of the diagnostic mode is input from the main panel MP or the keyboard KB, an instruction to execute the diagnostic mode is transmitted from the main controller MC to the cell controller CC of the bark cell. The cell controller CC gives an instruction to execute the diagnosis mode to the transfer robot controller TC, and controls the transfer robot TR1 so that the transfer robot controller TC that receives the instruction performs a diagnosis operation. More specifically, the operation with the longest moving distance from the lowest position to the highest position is performed by the transfer robot TR1 at the highest speed as a diagnostic operation. At the same time, the
このようにして取得された動作データは、搬送ロボットコントローラＴＣからセルコントローラＣＣを介してメインコントローラＭＣに送信される。動作データを受け取ったメインコントローラＭＣは、その動作データに基づいて搬送ロボットＴＲ１の動作機構の異常の有無を判定する。具体的には、各動作データの最悪値が予め定められた所定範囲内に入っているか否かを判定し、最悪値が所定範囲内であれば正常と判断し、所定範囲外であれば異常と判断する。例えば、数回の診断用動作を繰り返したときの最大搬送動作時間が予め定められた所定時間以下であれば搬送ロボットＴＲ１の搬送動作機構は正常と判断され、所定時間を超えていれば異常と判断される。 The operation data acquired in this way is transmitted from the transfer robot controller TC to the main controller MC via the cell controller CC. The main controller MC that has received the operation data determines whether there is an abnormality in the operation mechanism of the transport robot TR1 based on the operation data. Specifically, it is determined whether or not the worst value of each operation data is within a predetermined range. If the worst value is within the predetermined range, it is determined to be normal, and if it is out of the predetermined range, an abnormality is detected. Judge. For example, if the maximum transfer operation time when the diagnosis operation is repeated several times is equal to or less than a predetermined time, the transfer operation mechanism of the transfer robot TR1 is determined to be normal, and if the predetermined time is exceeded, an abnormality is determined. To be judged.
搬送ロボットＴＲ１の動作機構が異常と判断されたときには、その旨の警告がメインパネルＭＰ等から発報される。そして、異常と判断された動作機構について、オペレータが修理や部品交換等の必要な処置を行うのである。 When it is determined that the operation mechanism of the transfer robot TR1 is abnormal, a warning to that effect is issued from the main panel MP or the like. Then, the operator performs necessary measures such as repair and replacement of the operating mechanism determined to be abnormal.
以上においては、バークセルの搬送ロボットＴＲ１を対象として診断モードを実行していたが、バークセル全体を対象として診断モードを実行するようにしても良い。この場合は診断モードの実行指示を受けたバークセルのセルコントローラＣＣが搬送ロボットコントローラＴＣの他に各ユニットコントローラ（スピンコントローラやベークコントローラ）にも診断モードの指示を与え、その指示を受け取ったユニットコントローラが診断用動作を行うように各処理部を制御する。例えば、スピンコントローラが塗布処理ユニットＢＲＣ１〜ＢＲＣ３を制御して、塗布処理ユニットＢＲＣ１〜ＢＲＣ３に診断用動作としてスピンモータの停止と最高速回転とを繰り返し行わせたり、塗布ノズル２３からの塗布液吐出と停止とを繰り返し行わせたりする。また、ベークコントローラが熱処理ユニットを制御して、熱処理ユニットに診断用動作として最大値までの昇温と最小値までの降温とを繰り返し行わせたり、真空圧までの減圧と大気圧までの復圧とを繰り返し行わせたりする。
In the above description, the diagnosis mode is executed for the bark cell transfer robot TR1, but the diagnosis mode may be executed for the entire bark cell. In this case, the cell controller CC of the bark cell that received the instruction to execute the diagnostic mode gives the instruction of the diagnostic mode to each unit controller (spin controller and bake controller) in addition to the transfer robot controller TC, and the unit controller that has received the instruction Controls each processing unit to perform a diagnostic operation. For example, the spin controller controls the coating processing units BRC1 to BRC3 to cause the coating processing units BRC1 to BRC3 to repeatedly stop and rotate the spin motor as diagnostic operations, or to discharge the coating liquid from the
そして、ユニットコントローラは各処理部がこのような診断用動作を行ったときの動作データを取得する。例えば、スピンコントローラは、動作データとしてスピンモータの回転数やトルク、塗布液の吐出流量、塗布液ポンプのパルス等を取得する。また、ベークコントローラは、動作データとしてプレート温度やその温調が安定するまでの時間、圧力値やその圧に到達するまでの時間等を取得する。このようにして取得された動作データに基づいて、上記と同様に、メインコントローラＭＣが各処理部の動作機構の異常の有無を判定する。このときの判定手法も上記と同様であり、各動作データの最悪値が予め定められた所定範囲内に入っているか否かが判定され、最悪値が所定範囲内であれば正常と判断され、所定範囲外であれば異常と判断される。 Then, the unit controller acquires operation data when each processing unit performs such a diagnosis operation. For example, the spin controller acquires the rotation speed and torque of the spin motor, the discharge flow rate of the coating liquid, the pulse of the coating liquid pump, and the like as operation data. In addition, the bake controller obtains the time until the plate temperature and its temperature control are stabilized, the pressure value, the time until the pressure is reached, and the like as operation data. Based on the operation data acquired in this manner, the main controller MC determines whether or not there is an abnormality in the operation mechanism of each processing unit, as described above. The determination method at this time is also the same as described above, and it is determined whether or not the worst value of each operation data is within a predetermined range, and if the worst value is within the predetermined range, it is determined to be normal, If it is outside the predetermined range, it is determined as abnormal.
上述の如き診断モードを基板処理装置全体を対象として実行しても良いことは勿論である。そのときの処理内容も上述と同様のものとなる。すなわち、メインパネルＭＰ等から診断モードの開始が入力されると、診断モードの実行指示がメインコントローラＭＣから各セルのセルコントローラＣＣに伝達され、各セルコントローラＣＣが対応するセルの搬送ロボットコントローラＴＣや各ユニットコントローラに診断モードの指示を与える。そして、各セルに設けられた搬送ロボットや処理部の動作機構の診断用動作が行われ、そのときに取得された動作データに基づいて動作機構の異常判定がなされるのである。 Of course, the diagnostic mode as described above may be executed for the entire substrate processing apparatus. The processing contents at that time are also the same as described above. That is, when the start of the diagnostic mode is input from the main panel MP or the like, an instruction to execute the diagnostic mode is transmitted from the main controller MC to the cell controller CC of each cell, and each cell controller CC receives the transport robot controller TC of the corresponding cell. Also give diagnostic mode instructions to each unit controller. Then, the operation for diagnosis of the operation mechanism of the transfer robot and the processing unit provided in each cell is performed, and the abnormality of the operation mechanism is determined based on the operation data acquired at that time.
以上の内容を集約すると、本実施形態の基板処理装置には装置が有する動作機構の異常の有無を検出するための診断モードが通常の基板処理を行う通常処理モードとは別に設けられている。そして、メインパネルＭＰ等から診断モードの開始が入力されると、搬送ロボットコントローラＴＣや各ユニットコントローラがそれぞれ搬送ロボットや各処理部の動作機構を制御して該動作機構に診断用動作を行わせる。動作機構が診断用動作を行ったときの動作データは搬送ロボットコントローラＴＣや各ユニットコントローラによって取得され、その動作データに基づいてメインコントローラＭＣが動作機構の異常の有無を判定する。 Summarizing the above contents, the substrate processing apparatus of this embodiment is provided with a diagnostic mode for detecting the presence or absence of abnormality of the operation mechanism of the apparatus, separately from the normal processing mode for performing normal substrate processing. When the start of the diagnostic mode is input from the main panel MP or the like, the transfer robot controller TC and each unit controller control the operation mechanism of the transfer robot and each processing unit to cause the operation mechanism to perform a diagnosis operation. . The operation data when the operation mechanism performs the diagnosis operation is acquired by the transport robot controller TC and each unit controller, and the main controller MC determines whether the operation mechanism is abnormal based on the operation data.
診断モード時の診断用動作は各動作機構にとって相当に負荷の大きな過酷なものであり、通常処理モードでは行われないようなものである。すなわち、診断モード時には動作機構の可動限界点近傍での動作が診断用動作として実行され、通常このような可動限界点近傍での診断用動作は基板Ｗを所定の処理手順に従って処理しているときの通常処理モードでの動作機構の定常動作とは異なる範囲での動作である。このような過酷な診断用動作を行わせることによって通常処理モードでは判明しないような動作機構の異常をも確実に検知することができるのである。 The diagnostic operation in the diagnostic mode is a severe load with a considerable load for each operation mechanism, and is not performed in the normal processing mode. That is, in the diagnosis mode, an operation in the vicinity of the movable limit point of the operation mechanism is executed as a diagnostic operation. Usually, such a diagnostic operation in the vicinity of the movable limit point is performed when the substrate W is processed according to a predetermined processing procedure. This is an operation in a range different from the steady operation of the operation mechanism in the normal processing mode. By performing such a severe diagnosis operation, it is possible to reliably detect an abnormality in the operation mechanism that cannot be found in the normal processing mode.
また、基板Ｗを所定の処理手順に従って処理しているときの通常処理モードでは過酷な診断用動作を実行することができないため、上述の如き動作データを取得することはできない。そこで、本実施形態の基板処理装置には通常処理モードとは異なる特別な診断モードを設け、その診断モードに移行することによって動作機構に過酷な診断用動作を行わせて動作データを取得し、動作機構の異常を確実に検知するようにしているのである。 In addition, since the severe diagnostic operation cannot be executed in the normal processing mode when the substrate W is processed according to a predetermined processing procedure, the operation data as described above cannot be acquired. Therefore, the substrate processing apparatus of the present embodiment is provided with a special diagnostic mode different from the normal processing mode, and by moving to the diagnostic mode, the operation mechanism performs a severe diagnostic operation to acquire operation data, The abnormality of the operation mechanism is surely detected.
このような診断モードでの過酷な診断用動作によって動作機構の異常の有無を判定することは基板処理装置に設けられた各種動作機構に対して有効であるが、特に各セルにて基板Ｗの循環搬送を行う搬送ロボットのモータの診断には有効である。 It is effective for various operation mechanisms provided in the substrate processing apparatus to determine the presence / absence of an abnormality of the operation mechanism by a severe diagnosis operation in such a diagnosis mode. This is effective for diagnosing the motor of a transfer robot that performs circulating transfer.
以上、本発明の実施の形態について説明したが、この発明は上記の例に限定されるものではない。例えば、上記実施形態においては取得された動作データに基づいてメインコントローラＭＣが動作機構の異常の有無を判定するようにしていたが、各ユニットコントローラやセルコントローラＣＣが動作データに基づいて動作機構の異常の有無を判定するようにしても良い。また、上記基板処理装置をデータ収集専用のサーバに接続し、そのデータ収集専用サーバが基板処理装置から送信された動作データに基づいて動作機構の異常の有無を判定するようにしても良い。 While the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above examples. For example, in the above-described embodiment, the main controller MC determines whether or not there is an abnormality in the operation mechanism based on the acquired operation data. However, each unit controller or cell controller CC determines whether the operation mechanism is in accordance with the operation data. You may make it determine the presence or absence of abnormality. Further, the substrate processing apparatus may be connected to a server dedicated to data collection, and the data collection dedicated server may determine whether the operation mechanism is abnormal based on operation data transmitted from the substrate processing apparatus.
また、動作機構としては上述した例に限定されるものではなく、基板処理装置内にて何らかの動作を行う全ての機構が含まれる。そして、動作機構の種類に応じて取得する動作データの内容も任意のものとすることができる。 Further, the operation mechanism is not limited to the above-described example, and includes all mechanisms that perform some operation in the substrate processing apparatus. The content of the operation data acquired according to the type of the operation mechanism can be arbitrary.
また、本発明に係る基板処理装置の構成は図１から図４に示したような形態に限定されるものではなく、複数の処理部に対して搬送ロボットによって基板Ｗを循環搬送することによって該基板Ｗに所定の処理を行うような形態であれば種々の変形が可能である。 The configuration of the substrate processing apparatus according to the present invention is not limited to the configuration shown in FIGS. 1 to 4, and the substrate W is circulated and transferred by a transfer robot to a plurality of processing units. Various modifications are possible as long as predetermined processing is performed on the substrate W.
１ インデクサブロック
２ バークブロック
３ レジスト塗布ブロック
４ 現像処理ブロック
５ インターフェイスブロック
１２ 基板移載機構
２１，３１，４１，４２ 熱処理タワー
５５ 搬送機構
ＡＨＬ１〜ＡＨＬ３ 密着強化処理部
ＢＲＣ１〜ＢＲＣ３，ＳＣ１〜ＳＣ３ 塗布処理ユニット
Ｃ キャリア
ＣＣ セルコントローラ
ＣＰ１〜ＣＰ１３ クールプレート
ＨＰ１〜ＨＰ１１ ホットプレート
ＭＣ メインコントローラ
ＭＰ メインパネル
ＰＡＳＳ１〜ＰＡＳＳ１０ 基板載置部
ＰＨＰ１〜ＰＨＰ１２ 加熱部
ＳＤ１〜ＳＤ５ 現像処理ユニット
ＴＣ 搬送ロボットコントローラ
ＴＲ１〜ＴＲ４ 搬送ロボット
Ｗ 基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (4)
基板処理装置が有する動作機構の異常を検出するための診断モードの開始を受け付ける受付手段と、
前記受付手段から診断モードの開始が入力されたときに、前記動作機構の可動限界点近傍での動作である診断用動作を行うように前記動作機構を制御する制御手段と、
前記動作機構が前記診断用動作を行ったときの動作データを取得する取得手段と、
前記取得手段が取得した動作データに基づいて前記動作機構の異常の有無を判定する判定手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。 A substrate processing apparatus for performing a predetermined process on a substrate by circulating and transporting the substrate between a plurality of processing units,
Accepting means for accepting the start of a diagnostic mode for detecting an abnormality in an operation mechanism of the substrate processing apparatus;
Control means for controlling the operating mechanism to perform a diagnostic operation that is an operation in the vicinity of a movable limit point of the operating mechanism when a start of a diagnostic mode is input from the receiving means;
Acquisition means for acquiring operation data when the operation mechanism performs the operation for diagnosis;
Determination means for determining presence or absence of abnormality of the operation mechanism based on the operation data acquired by the acquisition means;
A substrate processing apparatus comprising:
前記判定手段は、前記取得手段が取得した動作データの最悪値が予め定められた所定範囲内に入っているか否かを判定し、当該最悪値が所定範囲内であれば前記動作機構は正常と判断し、当該最悪値が所定範囲外であれば前記動作機構は異常と判断することを特徴とする基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 1,
The determination means determines whether or not the worst value of the operation data acquired by the acquisition means is within a predetermined range, and if the worst value is within the predetermined range, the operation mechanism is normal. If the worst value is outside the predetermined range, the operation mechanism is determined to be abnormal .
前記動作機構は、基板の循環搬送を行う搬送ロボットのモータであることを特徴とする基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 2 ,
The substrate processing apparatus , wherein the operation mechanism is a motor of a transfer robot that circulates and transfers a substrate.
前記制御手段は、前記搬送ロボットに診断用動作として最高速にて動作を行わせ、
前記判定手段は、前記搬送ロボットの最大搬送動作時間が所定時間以下であれば前記モータは正常と判断し、当該最大搬送動作時間が所定時間を超えていれば前記モータは異常と判断することを特徴とする基板処理装置。 The substrate processing apparatus according to claim 3 , wherein
The control means causes the transfer robot to operate at a maximum speed as a diagnostic operation,
The determination means determines that the motor is normal if the maximum transfer operation time of the transfer robot is a predetermined time or less, and determines that the motor is abnormal if the maximum transfer operation time exceeds a predetermined time. A substrate processing apparatus.
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