JP4552830B2 - 高周波加熱装置 - Google Patents
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Description
図4は、本発明の第1の実施の形態における高周波加熱装置の構成図を示すものである。
説明する。往路11のスイングステップ6の65℃は復路11のスイングステップ6では49℃となり、温度上昇が降下しているので、往路11のスイングステップ5が70℃になっても、上記記載の制御装置7の停止条件を満足しないので、制御装置7は高周波発生装置5を停止させず、調理を終了せず、調理の出来がオーバーとなってしまう。ステッピングモーター内部のギアの遊びが原因による位置ズレは、往路と復路では位置ずれが発生するが、各往路間及び各復路間では位置ずれは発生しない。そこで、往路と復路の情報を区別して、制御装置7を制御すれば、問題はなくなる。制御装置7の停止条件を、往路の場合、前往路のスイングの検出温度と比較して、0K以上温度上昇し、復路の場合は、前復路のスイングの検出温度と比較して0K以上温度上昇し、かつ70℃以上という条件にすれば、今回の図1の場合でも、復路11と復路10の各スイングステップ間で比較するので、検出温度は0K以上温度上昇しているので、復路11のスイングステップ5の70℃で、制御装置7は高周波発生装置5を停止させ、調理を終了する。
2 被加熱物
3 赤外線センサー
4 赤外線センサースイング手段
5 高周波発生装置
7 制御装置
Claims (1)
- 被加熱物を収納する加熱室と、前記加熱室に高周波電波を放射する高周波発生装置と、前記被加熱物の表面温度を非接触で検出する赤外線センサーと、前記赤外線センサーを一つの回転軸の回りで往復スイングさせて前記被加熱物の表面温度を走査検出する赤外線センサースイング手段と、前記赤外線センサーにより検出される前記被加熱物の表面温度に基づいて高周波発生装置を制御する制御装置とを備え、
前記制御装置は、前記赤外線センサースイング手段により前記赤外線センサーを往復スイングさせ前記被加熱物の表面温度を検出するものであって、
今回の往路スイングで検出した表面温度と前往路スイングで検出した表面温度とを比較して所定の温度上昇値でありかつ表面温度が所定の温度以上であるか、または、
今回の復路スイングで検出した表面温度と前復路スイングで検出した表面温度とを比較して所定の温度上昇値でありかつ表面温度が所定の温度以上であれば、前記制御装置は前記高周波発生装置を停止することを特徴とした高周波加熱装置。
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