JP4540500B2 - Wiring board - Google Patents

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Description

本発明は、電子部品を搭載するための電子部品収納用パッケージや混成集積回路基板等に用いられる配線基板に関する。   The present invention relates to an electronic component storage package for mounting an electronic component, a wiring substrate used for a hybrid integrated circuit substrate, and the like.

従来、例えば半導体素子等の電子部品を収容する電子部品収納用パッケージや混成集積回路基板等に使用される配線基板は、酸化アルミニウム質焼結体等のセラミック材料や、エポキシ樹脂等の樹脂材料、樹脂材料とセラミック材料との複合材料等の電気絶縁材料から成り、上面の中央部に電子部品が搭載される搭載部を有する絶縁基体と、タングステン,モリブデン等の高融点金属粉末から成り、絶縁基体の上面に形成された配線導体とを具備した構造である。   Conventionally, for example, a wiring substrate used for an electronic component storage package or a hybrid integrated circuit substrate for storing an electronic component such as a semiconductor element, a ceramic material such as an aluminum oxide sintered body, a resin material such as an epoxy resin, An insulating substrate made of an electrically insulating material such as a composite material of a resin material and a ceramic material, and having a mounting portion on which an electronic component is mounted at the center of the upper surface, and a high melting point metal powder such as tungsten or molybdenum. And a wiring conductor formed on the upper surface.

そして、電子部品を搭載部に搭載するとともに、電子部品の電極を配線導体に半田やボンディングワイヤ等の導電性接続材を介して電気的に接続し、必要に応じて蓋体や封止用樹脂等で電子部品を気密封止することによって電子装置となる。   Then, the electronic component is mounted on the mounting portion, and the electrode of the electronic component is electrically connected to the wiring conductor via a conductive connecting material such as solder or bonding wire, and a lid or a sealing resin as necessary. Thus, an electronic device is obtained by hermetically sealing the electronic component.

この場合、配線導体の露出表面には、ニッケルや金等の金属めっき層が被着され、導電性接続材の接続を容易かつ強固なものとしている。   In this case, a metal plating layer such as nickel or gold is deposited on the exposed surface of the wiring conductor to make the connection of the conductive connecting material easy and strong.

このような配線基板は、セラミックグリーンシート積層法等によって製作される。例えば、絶縁基体が酸化アルミニウム質焼結体からなる場合、酸化アルミニウム,酸化珪素,酸化マグネシウム,酸化カルシウム等のセラミック原料粉末に適当な有機バインダ,溶剤等を添加混合して泥漿状となすとともに、これをドクターブレード法を採用してシート状とすることによってセラミックグリーンシートを作製する。その後、セラミックグリーンシートに配線導体となる金属ペーストを所定パターンに印刷塗布し、還元雰囲気中にて約1600℃の高温で焼成することによって製作される。   Such a wiring board is manufactured by a ceramic green sheet lamination method or the like. For example, when the insulating substrate is made of an aluminum oxide sintered body, an appropriate organic binder, solvent, etc. are added to and mixed with ceramic raw material powder such as aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, calcium oxide, etc. A ceramic green sheet is produced by adopting a doctor blade method to form a sheet. Thereafter, a metal paste serving as a wiring conductor is printed on a ceramic green sheet in a predetermined pattern and fired at a high temperature of about 1600 ° C. in a reducing atmosphere.

なお、配線導体のうち導電性接続材が接続される部位以外の部位は、半田等の導電性接続材が流れ過ぎるのを防止するために、絶縁基体と同様の絶縁材料等から成る絶縁層で被覆されている。
特開2002−16179号公報 特開2001−77499号公報
Note that parts of the wiring conductor other than the part to which the conductive connecting material is connected are insulating layers made of an insulating material similar to the insulating base in order to prevent the conductive connecting material such as solder from flowing too much. It is covered.
Japanese Patent Laid-Open No. 2002-16179 JP 2001-77499 A

しかしながら、上記従来の配線基板においては、配線導体において、絶縁層で被覆されている部分と絶縁層から露出している部分とがある。露出している部分には金属めっき層が被着されるため、絶縁層で被覆された部分よりも線幅が太くなる。   However, in the conventional wiring board, there are a portion of the wiring conductor covered with the insulating layer and a portion exposed from the insulating layer. Since the exposed portion is coated with a metal plating layer, the line width is larger than that of the portion covered with the insulating layer.

近時、電子部品の微細化に伴い、配線基板にも小型化、高密度化が求められ、隣り合う配線導体の間の間隔が狭くなってきており、金属めっき層が被着することにより線幅が太くなった露出部分において、配線導体同士が電気的に短絡してしまうという問題が発生するようになってきた。この問題に対応するためには、配線導体の線幅を金属めっき層のはみだした幅の分だけ個々の配線導体の両側それぞれにおいて差し引いて、線幅を狭く設定しなければならなくなってきた。   Recently, with the miniaturization of electronic components, wiring boards are also required to be miniaturized and densified, and the spacing between adjacent wiring conductors has become narrower, so that the metal plating layer is deposited and the wire is deposited. There has been a problem that the wiring conductors are electrically short-circuited in the exposed portion having a large width. In order to deal with this problem, the line width has to be set narrow by subtracting the line width of the wiring conductor by the width of the metal plating layer on each side of each wiring conductor.

しかしながら、配線導体の線幅を狭く設定すると、配線導体の電気抵抗が高くなり、電子部品の電気的作動(電気信号の授受、信号の発振等)に問題を起こという問題が発生してしまう。特に、近時の電子部品の高機能化、多機能化に伴い、配線導体の高い電気抵抗に起因する上記の作動不良等の不具合が顕著なものとなってきている。
However, if the line width of the wiring conductor narrowly set, the higher the electrical resistance of the wiring conductors (exchange of electrical signals, the signal oscillating etc.) electrical operation of the electronic component problem that you to put the problem occurs End up. In particular, with the recent increase in functionality and multifunction of electronic components, problems such as the above-described malfunctions due to the high electrical resistance of wiring conductors have become prominent.

本発明は、上記従来の技術における問題点に鑑みて完成されたものであり、その目的は、配線導体の一部が露出し、他の部分が絶縁層で被覆された配線基板において、配線導体同士が電気的に短絡することが効果的に防止されるとともに、配線導体の電気抵抗が高くなることがなく、電気的な特性に優れた配線基板を提供することにある。   The present invention has been completed in view of the above problems in the prior art, and an object of the present invention is to provide a wiring conductor in which a part of the wiring conductor is exposed and the other part is covered with an insulating layer. An object of the present invention is to provide a wiring board that is effectively prevented from being electrically short-circuited with each other and that has excellent electrical characteristics without increasing the electrical resistance of the wiring conductor.

本発明の配線基板は、上面に電子部品の搭載部を有する絶縁基体と、該絶縁基体の上面に形成されて前記電子部品の電極が電気的に接続される配線導体と、前記配線導体の前記電子部品が電気的に接続される部位が露出するように前記配線導体を覆う絶縁層とを具備しており、前記配線導体は、露出している部位の幅が前記絶縁層で覆われている部位の幅よりも狭く、かつ前記露出している部位に金属めっき層が被着されていることを特徴とするものである。   The wiring board of the present invention includes an insulating base having an electronic component mounting portion on an upper surface, a wiring conductor formed on the upper surface of the insulating base and electrically connected to the electrodes of the electronic component, and the wiring conductor And an insulating layer covering the wiring conductor so that a portion to which the electronic component is electrically connected is exposed, and the width of the exposed portion of the wiring conductor is covered with the insulating layer. It is narrower than the width of the portion, and a metal plating layer is deposited on the exposed portion.

さらに、本発明の配線基板は、前記金属めっき層は、前記配線導体の前記絶縁層で覆われた部位の幅と同じ幅で被着されていることを特徴とするものである。   Furthermore, the wiring board of the present invention is characterized in that the metal plating layer is deposited with the same width as that of the portion covered with the insulating layer of the wiring conductor.

本発明の配線基板は、上面に電子部品の搭載部を有する絶縁基体と、絶縁基体の上面に形成されて電子部品の電極が電気的に接続される配線導体と、配線導体の電子部品が電気的に接続される部位が露出するように配線導体を覆う絶縁層とを具備しており、配線導体は、露出している部位の幅が絶縁層で覆われている部位の幅よりも狭く、かつ露出している部位に金属めっき層が被着されていることから、配線導体の露出している部位において金属めっき層の分だけ線幅が広くなったとしても、隣り合う配線導体の間に十分な間隔を確保することができ、配線導体同士の間で電気的な短絡が生じることを効果的に防止することができる。   The wiring board of the present invention includes an insulating base having an electronic component mounting portion on the upper surface, a wiring conductor formed on the upper surface of the insulating base and electrically connected to the electrode of the electronic component, and the electronic component of the wiring conductor being electrically connected. And an insulating layer that covers the wiring conductor so that the portion to be connected is exposed, and the wiring conductor is narrower than the width of the portion covered with the insulating layer, In addition, since the metal plating layer is applied to the exposed part, even if the line width is widened by the metal plating layer in the exposed part of the wiring conductor, it is between the adjacent wiring conductors. A sufficient interval can be ensured, and an electrical short circuit between the wiring conductors can be effectively prevented.

また、配線導体の幅が狭い露出している部位においては、金属めっき層が被着されるため、また金属めっき層として例えば低抵抗の金等を用いることができるため、電気抵抗を低く抑えることができる。また、配線導体のうち絶縁層で被覆されている部分においては、その表面に金属めっき層が被着されて線幅が広くなることがないため、配線導体の幅を大きく設定でき、低抵抗とすることができる。その結果、絶縁基体の上面に形成された配線導体の全長にわたって低抵抗とすることができ、配線基板としての電気的な特性(導通抵抗)を良好なものとすることができる。   In addition, in the exposed part where the width of the wiring conductor is narrow, a metal plating layer is deposited, and since, for example, low resistance gold can be used as the metal plating layer, electric resistance is kept low. Can do. In addition, in the portion of the wiring conductor covered with the insulating layer, the metal plating layer is not deposited on the surface and the line width does not increase, so the width of the wiring conductor can be set large, and the low resistance. can do. As a result, the resistance can be reduced over the entire length of the wiring conductor formed on the upper surface of the insulating base, and the electrical characteristics (conduction resistance) as the wiring board can be improved.

また、配線導体の電子部品の電極が接続される露出部分には金属めっき層が被着されているため、導電性接続材の接続性(半田の濡れ性やボンディングワイヤのボンディング性等)を良好とすることができる。   In addition, the exposed part of the wiring conductor to which the electrode of the electronic component is connected is coated with a metal plating layer, so the conductive connection material has good connectivity (solder wettability, bonding wire bonding, etc.) It can be.

さらに、本発明の配線基板によれば、金属めっき層を、配線導体の絶縁層で覆われた部位の幅と同じ幅で被着させることにより、隣り合う配線導体同士が電気的に短絡すること、および配線導体の電気抵抗が高くなること等の不具合を効果的に防止することができるとともに、絶縁基体の上面において配線導体の全長にわたって線幅を同じとして電気抵抗を揃えることができ、より一層電気的な特性に優れた配線基板となる。   Furthermore, according to the wiring board of the present invention, adjacent metal conductors are electrically short-circuited by depositing the metal plating layer with the same width as that of the portion covered with the insulating layer of the wiring conductor. In addition, it is possible to effectively prevent problems such as an increase in the electric resistance of the wiring conductor and to make the electric resistance uniform with the same line width over the entire length of the wiring conductor on the upper surface of the insulating base. The wiring board has excellent electrical characteristics.

(実施形態1)
まず、請求項1および請求項2に記載の配線基板について図1に基づき説明する。
(Embodiment 1)
First, the wiring board according to claim 1 and claim 2 will be described with reference to FIG.

図1は、本発明の実施形態1にかかる配線基板の一例を示す平面図である。図1において、1は絶縁基体、2は配線導体、3は絶縁層である。これら絶縁基体1、配線導体2、絶縁層3により、電子部品(図示せず)を搭載する配線基板9が基本的に構成される。   FIG. 1 is a plan view showing an example of a wiring board according to Embodiment 1 of the present invention. In FIG. 1, 1 is an insulating substrate, 2 is a wiring conductor, and 3 is an insulating layer. The insulating substrate 1, the wiring conductor 2, and the insulating layer 3 basically constitute a wiring substrate 9 on which electronic components (not shown) are mounted.

絶縁基体1は、酸化アルミニウム質焼結体(アルミナセラミックス),窒化アルミニウム質焼結体,ムライト質焼結体,窒化珪素質焼結体,炭化珪素質焼結体,ガラスセラミックス焼結体等の電気絶縁材料から成り、上面の中央部に電子部品を搭載する搭載部1aを有している。   The insulating substrate 1 includes an aluminum oxide sintered body (alumina ceramic), an aluminum nitride sintered body, a mullite sintered body, a silicon nitride sintered body, a silicon carbide sintered body, a glass ceramic sintered body, and the like. It is made of an electrically insulating material and has a mounting portion 1a for mounting an electronic component at the center of the upper surface.

絶縁基体1は、例えば酸化アルミニウム質焼結体から成る場合、以下のようにして作製される。まず、酸化アルミニウム,酸化珪素,酸化カルシウム,酸化マグネシウム等の原料粉末に適当な有機バインダ,溶剤を添加混合して泥漿状のセラミックスラリーを作製し、このセラミックスラリーをドクターブレード法やカレンダーロール法等のシート成形技術を採用しシート状となすことによってセラミックグリーンシート(セラミック生シート)を得る。しかる後、セラミックグリーンシートを所定の順に上下に積層して生セラミック成形体と成す。この生セラミック成形体を還元雰囲気中で約1600℃の高温で焼成することによって、絶縁基体1が製作される。   When the insulating base 1 is made of, for example, an aluminum oxide sintered body, it is manufactured as follows. First, an appropriate organic binder and solvent are added to and mixed with raw material powders such as aluminum oxide, silicon oxide, calcium oxide, and magnesium oxide to produce a slurry ceramic slurry. A ceramic green sheet (ceramic green sheet) is obtained by adopting the sheet forming technique of the above and forming a sheet. Thereafter, ceramic green sheets are laminated in the predetermined order in the vertical direction to form a green ceramic molded body. The green ceramic body is fired at a high temperature of about 1600 ° C. in a reducing atmosphere, whereby the insulating substrate 1 is manufactured.

この絶縁基体1の上面には配線導体2が形成されている。配線導体2は、搭載部1aに搭載される電子部品の電極(図示せず)が電気的に接続される。配線導体2は、一部が絶縁基体1の上面の外周部や側面、下面等の搭載部1a外の表面に導出されており、接続された電子部品の電極を外部に導出する導電路として機能する。つまり、配線導体2のうち搭載部1aに電子部品の電極(図示せず)を半田やボンディングワイヤ等の導電性接続材(図示せず)を介して電気的に接続するとともに、配線導体2のうち搭載部1a外の表面に導出された部分を半田等を介して外部の電気回路に電気的に接続することにより、電子部品の電極が外部の電気回路と電気的に接続される。   A wiring conductor 2 is formed on the upper surface of the insulating substrate 1. The wiring conductor 2 is electrically connected to an electrode (not shown) of an electronic component mounted on the mounting portion 1a. A part of the wiring conductor 2 is led out to the surface outside the mounting portion 1a such as the outer peripheral portion, the side surface, and the lower surface of the upper surface of the insulating base 1, and functions as a conductive path for leading the electrode of the connected electronic component to the outside. To do. That is, an electrode (not shown) of an electronic component is electrically connected to the mounting portion 1a of the wiring conductor 2 via a conductive connecting material (not shown) such as solder or a bonding wire, and the wiring conductor 2 Of these, the part led out to the surface outside the mounting portion 1a is electrically connected to an external electric circuit via solder or the like, whereby the electrodes of the electronic component are electrically connected to the external electric circuit.

配線導体2は、タングステン,モリブデン,マンガン,銅,銀,パラジウム,金等の金属材料から成り、例えばタングステンから成る場合、タングステン粉末に適当な有機バインダ,溶剤を添加混合して得た金属ペーストを、絶縁基体1となるセラミックグリーンシートの上面に予めスクリーン印刷法等により所定パターンに印刷塗布しておくことによって形成される。   The wiring conductor 2 is made of a metal material such as tungsten, molybdenum, manganese, copper, silver, palladium, or gold. For example, in the case of tungsten, a metal paste obtained by adding and mixing an appropriate organic binder and solvent to tungsten powder. In addition, it is formed by previously printing and applying a predetermined pattern on the upper surface of the ceramic green sheet to be the insulating substrate 1 by a screen printing method or the like.

なお、配線導体2は、絶縁基体1の上面以外の表面や絶縁基体1の内部に延在させてもよい。   The wiring conductor 2 may extend on the surface other than the upper surface of the insulating base 1 or inside the insulating base 1.

また、配線導体2は、電子部品の電極が接続される部位が露出するようにして絶縁層3で覆われている。これにより、配線導体2の露出した部分に電子部品を確実、強固に電気的に接続することができる。またこの場合、例えば、半田等の導電性接続材で電子部品の電極を配線導体2に接続するとしても、絶縁層3により導電性接続材の不要な流れを抑えることができるため、少量かつ十分な量の導電性接続材で電子部品を配線導体2に接続することができる。   Further, the wiring conductor 2 is covered with an insulating layer 3 so that a portion to which an electrode of an electronic component is connected is exposed. Thereby, an electronic component can be reliably and firmly electrically connected to the exposed part of the wiring conductor 2. In this case, for example, even if the electrode of the electronic component is connected to the wiring conductor 2 with a conductive connecting material such as solder, an unnecessary flow of the conductive connecting material can be suppressed by the insulating layer 3. The electronic component can be connected to the wiring conductor 2 with a sufficient amount of the conductive connecting material.

金属めっき層4は、配線導体2の酸化腐食を防止したり、半田等の接続材の接続を容易かつ確実なものとしたりする機能をなす。金属めっき層4は、ニッケルや金,銅,コバルト,白金,パラジウム等の金属またはその合金から成り、また、例えばニッケル−リン等、ニッケル−ホウ素等の金属以外の成分を含有する金属または合金も含むものである。   The metal plating layer 4 functions to prevent oxidative corrosion of the wiring conductor 2 and to make connection of a connecting material such as solder easy and reliable. The metal plating layer 4 is made of a metal such as nickel, gold, copper, cobalt, platinum, palladium, or an alloy thereof, and is also a metal or alloy containing a component other than a metal such as nickel-phosphorus, nickel-boron, etc. Is included.

金属めっき層4は、電解めっき法や無電解めっき法等のめっき法により被着、形成することができ、例えば、シアン化金化合物にクエン酸カリウム等の有機酸(塩)類やリン酸カリウム等のリン酸塩類等の添加物を添加した電解金めっき浴に配線基板を浸漬し、めっき用治具等を介して配線導体2に所定のめっき用の電流を供給することにより配線導体2の露出部分に被着される。   The metal plating layer 4 can be deposited and formed by a plating method such as an electrolytic plating method or an electroless plating method. For example, an organic acid (salt) such as potassium citrate or potassium phosphate is added to a gold cyanide compound. The wiring substrate 2 is immersed in an electrolytic gold plating bath to which additives such as phosphates are added, and a predetermined plating current is supplied to the wiring conductor 2 via a plating jig or the like. It is applied to the exposed part.

本発明の配線基板9において、配線導体2は、露出している部位の幅が絶縁層4で覆われている部位の幅よりも狭く、かつ露出している部位に金属めっき層4が被着されている。この構成により、配線導体2の露出している部位において金属めっき層4の分だけ線幅が広くなったとしても、隣り合う配線導体2の間に十分な間隔を確保することができ、配線導体2同士の間で電気的な短絡が生じることを効果的に防止することができる。また、配線導体2の幅が狭い露出している部位では、金属めっき層4が被着されるため、また金属めっき層4として例えば低抵抗の金等を用いることができるため、電気抵抗を低く抑えることができる。また、配線導体2のうち絶縁層3で被覆されている部分では、その表面に金属めっき層4が被着されて線幅が広くなることがないため、配線導体2の幅を大きく設定でき、低抵抗とすることができる。その結果、絶縁基体1の上面に形成された配線導体2の全長にわたって低抵抗とすることができ、配線基板9としての電気的な特性(導通抵抗)を良好なものとすることができる。   In the wiring board 9 of the present invention, the width of the exposed portion of the wiring conductor 2 is narrower than the width of the portion covered with the insulating layer 4, and the metal plating layer 4 is deposited on the exposed portion. Has been. With this configuration, even when the line width is increased by the metal plating layer 4 in the exposed portion of the wiring conductor 2, a sufficient space can be secured between the adjacent wiring conductors 2, and the wiring conductor It is possible to effectively prevent an electrical short circuit between the two. Further, since the metal plating layer 4 is deposited on the exposed portion where the width of the wiring conductor 2 is narrow, and, for example, low resistance gold can be used as the metal plating layer 4, the electric resistance is lowered. Can be suppressed. In addition, in the portion of the wiring conductor 2 that is covered with the insulating layer 3, the metal plating layer 4 is not deposited on the surface of the wiring conductor 2 and the line width does not increase, so the width of the wiring conductor 2 can be set large. Low resistance can be achieved. As a result, the resistance can be reduced over the entire length of the wiring conductor 2 formed on the upper surface of the insulating base 1, and the electrical characteristics (conduction resistance) as the wiring substrate 9 can be improved.

また、上述のように、配線導体2の電子部品の電極が接続される露出部分には金属めっき層4が被着されているため、導電性接続材の接続性(半田の濡れ性やボンディングワイヤのボンディング性等)を良好とすることができる。   Further, as described above, since the metal plating layer 4 is deposited on the exposed portion of the wiring conductor 2 where the electrodes of the electronic components are connected, the connectivity of the conductive connecting material (solder wettability and bonding wire) And the like can be improved.

なお、配線導体2の露出部分に導電性接続材を強固に接続する上では、金属めっき層4の厚さは3μm以上が好ましい。この場合、例えば、厚さ2μm以上のニッケルめっき層と、厚さ1μm以上の金めっき層とを順次被着させる。   In order to firmly connect the conductive connecting material to the exposed portion of the wiring conductor 2, the thickness of the metal plating layer 4 is preferably 3 μm or more. In this case, for example, a nickel plating layer having a thickness of 2 μm or more and a gold plating layer having a thickness of 1 μm or more are sequentially deposited.

絶縁層3は、絶縁基体1を形成する絶縁材料と同様の材料(酸化アルミニウム質焼結体等のセラミック材料や、エポキシ樹脂等の樹脂材料、樹脂材料とセラミック材料との複合材料等の電気絶縁材料)によりから形成される。   The insulating layer 3 is made of the same material as the insulating material forming the insulating substrate 1 (electrical insulation such as ceramic material such as aluminum oxide sintered body, resin material such as epoxy resin, composite material of resin material and ceramic material, etc. Material).

絶縁層3は、例えば、酸化アルミニウム質焼結体から成る場合、酸化アルミニウム,酸化珪素,酸化カルシウム,酸化マグネシウム等の原料粉末に適当な有機バインダ,溶剤を添加混合してセラミックペーストを作製し、このセラミックペーストを、絶縁基体1となるセラミックグリーンシートおよびその上面に印刷された金属ペーストを覆うように印刷塗布しておくことにより形成される。   For example, when the insulating layer 3 is made of an aluminum oxide sintered body, an appropriate organic binder and solvent are added to and mixed with raw material powders such as aluminum oxide, silicon oxide, calcium oxide, and magnesium oxide to produce a ceramic paste, The ceramic paste is formed by printing and coating so as to cover the ceramic green sheet to be the insulating substrate 1 and the metal paste printed on the upper surface thereof.

絶縁層3は、配線導体2を確実に被覆するためには、その厚さを10μm以上とすることが好ましい。また、例えばセラミック材料から成る場合、絶縁基体1に対する接合の強度を確保することも考慮して、10〜40μmの範囲とすることがより好ましい。   The insulating layer 3 preferably has a thickness of 10 μm or more in order to reliably cover the wiring conductor 2. For example, when it consists of a ceramic material, it is more preferable to set it as the range of 10-40 micrometers considering also ensuring the joining strength with respect to the insulation base | substrate 1. FIG.

また、絶縁層3は、配線導体2だけでなく、上述したように配線導体2の周囲の絶縁基体1の上面にかけて連続して覆うように形成されることが好ましい。この場合、絶縁層3を配線導体2および絶縁基体1の上面に強固に接合させることができる。また、例えば、絶縁層3となるセラミックペーストの印刷塗布がより容易になり生産性を向上させることもできる。また、絶縁層3は、図1に示すように、配線導体2の露出させる必要がある部位を除いて、絶縁基体1の上面の全面を覆うようにして形成してもよい。   The insulating layer 3 is preferably formed so as to cover not only the wiring conductor 2 but also the upper surface of the insulating base 1 around the wiring conductor 2 as described above. In this case, the insulating layer 3 can be firmly bonded to the upper surfaces of the wiring conductor 2 and the insulating base 1. In addition, for example, it is easier to print and apply a ceramic paste to be the insulating layer 3, and productivity can be improved. Further, as shown in FIG. 1, the insulating layer 3 may be formed so as to cover the entire upper surface of the insulating substrate 1 except for a portion where the wiring conductor 2 needs to be exposed.

また、本発明の配線基板9は、金属めっき層4は、配線導体2の絶縁層3で覆われた部位の幅と同じ幅で被着されていることが好ましい。これにより、隣り合う配線導体2同士が電気的に短絡すること、および配線導体2の電気抵抗が高くなること等の不具合を効果的に防止することができるとともに、絶縁基体1の上面において配線導体2の全長にわたって線幅を同じとして電気抵抗を揃えることができ、より一層電気的な特性に優れた配線基板9とすることができる。   In the wiring board 9 of the present invention, the metal plating layer 4 is preferably applied with the same width as that of the portion covered with the insulating layer 3 of the wiring conductor 2. Accordingly, it is possible to effectively prevent problems such as an electrical short circuit between the adjacent wiring conductors 2 and an increase in the electrical resistance of the wiring conductor 2, and a wiring conductor on the upper surface of the insulating base 1. The electric resistance can be made uniform with the same line width over the entire length of 2, and the wiring board 9 can be further improved in electrical characteristics.

に、本発明の配線基板について図2に基づいて説明する。なお、先に述べた実施形態1と共通する構成については同一の参照符を付し、重複する説明を省略するものとする。
In the following, the wiring board of the present invention will be described with reference to FIG. In addition, about the structure which is common in Embodiment 1 described previously, the same referential mark is attached | subjected and the overlapping description shall be abbreviate | omitted.

図2は、本発明の配線基板の参考例を示す平面図である。
Figure 2 is a plan view showing a reference example of wiring substrate of the present invention.

同図に示す配線基板は、絶縁基体1、配線導体2および絶縁層3が、実施形態1のものと同様の材料、同様の製法により形成される。   In the wiring substrate shown in the figure, the insulating base 1, the wiring conductor 2, and the insulating layer 3 are formed by the same material and the same manufacturing method as those of the first embodiment.

この2において、配線導体2は、絶縁層3で覆われている部位の厚みを、露出している部位の厚みよりも厚くしており、配線導体2の露出している部位には金属めっき層4が被着されている。
In FIG. 2, the wiring conductor 2 has a portion covered with the insulating layer 3 having a thickness larger than that of the exposed portion, and the exposed portion of the wiring conductor 2 is metal-plated. Layer 4 is deposited.

この金属めっき層4も、先に述べた実施形態1と同様の金属材料から成り、同様の方法により被着・形成される。   This metal plating layer 4 is also made of the same metal material as that of the first embodiment described above, and is deposited and formed by the same method.

本形態の配線基板によれば、配線導体2は、絶縁層3で覆われている部位の厚みが、露出している部位の厚みよりも厚く、かつ露出している部位に金属めっき層4が被着されており、金属めっき層4の形成に伴い隣接する配線導体同士が短絡しないように配線導体2の幅を部分的に狭くしたとしても、その分を厚みで補い、絶縁層3で被覆されている部分において電気抵抗が高くなるのを有効に防止することができるようになっている。   According to the wiring board of this embodiment, the wiring conductor 2 is thicker in the portion covered with the insulating layer 3 than the exposed portion, and the metal plating layer 4 is exposed in the exposed portion. Even if the width of the wiring conductor 2 is partially narrowed so that adjacent wiring conductors are not short-circuited with the formation of the metal plating layer 4, the thickness is compensated by the thickness, and the insulating layer 3 covers it. Thus, it is possible to effectively prevent the electrical resistance from being increased in the portion that is provided.

また、この場合も、配線導体2の厚みが薄い、露出している部位においては、金属めっき層4が被着され、また金属めっき層4として例えば低抵抗の金等を用いることができるため、電気抵抗を低く抑えることができる。   Also in this case, the metal conductor 4 is deposited on the exposed portion where the thickness of the wiring conductor 2 is thin, and the metal plating layer 4 can be made of, for example, low resistance gold. Electrical resistance can be kept low.

これにより、絶縁基体1の上面に形成された配線導体2の全長にわたって低抵抗とすることができ、配線基板9としての電気的な特性(導通抵抗)を良好なものとすることができる。   Thereby, it can be set as low resistance over the full length of the wiring conductor 2 formed in the upper surface of the insulation base | substrate 1, and the electrical characteristic (conducting resistance) as the wiring board 9 can be made favorable.

なお、配線導体2の厚みを、絶縁層3で覆われている部位で、露出している部分の厚みより厚くするには、金属ペーストを、絶縁基体1となるセラミックグリーンシートの上面にスクリーン印刷法等により所定パターンに印刷塗布する際に、露出している部分の配線導体2となるスクリーンと、絶縁層3で覆われる部位となる配線導体2となるスクリーンを分けて作成し、絶縁層3で覆われる部位となる配線導体2となるスクリーンの膜厚を厚くしておくことによって形成される。   In addition, in order to make the thickness of the wiring conductor 2 thicker than the thickness of the exposed portion at the portion covered with the insulating layer 3, a metal paste is screen printed on the upper surface of the ceramic green sheet to be the insulating base 1. When printing and applying to a predetermined pattern by a method or the like, the screen that becomes the exposed portion of the wiring conductor 2 and the screen that becomes the portion of the wiring conductor 2 that is covered with the insulating layer 3 are separately prepared, and the insulating layer 3 It is formed by increasing the film thickness of the screen that will be the wiring conductor 2 that is to be covered with.

この場合、絶縁層3は、配線導体2を確実に被覆するためには、その厚さを20μm以上とすることが好ましい。また、例えばセラミック材料から成る場合、絶縁基体1に対する接合の強度を確保することも考慮して、20〜50μmの範囲とすることがより好ましい。   In this case, the insulating layer 3 preferably has a thickness of 20 μm or more in order to reliably cover the wiring conductor 2. For example, when it is made of a ceramic material, it is more preferable that the thickness be in the range of 20 to 50 μm in consideration of securing the bonding strength to the insulating substrate 1.

なお、本発明は上述した実施形態1に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良等が可能である。
The present invention is not limited to the above-described first embodiment, and various modifications and improvements can be made without departing from the scope of the present invention.

例えば、上述した実施形態1において、絶縁層3で被覆されない露出している線幅の狭い部分の配線導体2端部を、絶縁層3が被覆する部分に少し延長させ、絶縁層3で被覆される線幅の広い部分に金属めっき層4を被着させて、配線導体2同士の間で電気的な短絡が生じることを確実に防止するようにしてもよい。   For example, in Embodiment 1 described above, the exposed end portion of the wiring conductor 2 with a narrow line width that is not covered with the insulating layer 3 is slightly extended to the portion covered with the insulating layer 3 and is covered with the insulating layer 3. Alternatively, the metal plating layer 4 may be deposited on a wide line width portion to reliably prevent an electrical short circuit between the wiring conductors 2.

また、配線導体2の露出部位は金属めっき層4が被着された分だけ、絶縁層3で被覆された部位よりも厚くなる場合があるため、その場合、金属めっき層4を含む配線導体2の露出部位の幅を、絶縁層3で被覆された部位よりも若干狭くするのがよい。そうすると、配線導体2の露出部位の金属めっき層4を含む断面積と、絶縁層3で被覆された部位の断面積とがより近似することとなり、配線導体2の露出部位の電気的特性(導通抵抗)と絶縁層3で被覆された部位の電気的特性(導通抵抗)とを実質的に同じにすることができる。また、配線導体2の露出部位同士の間隔が広がり、短絡が生じにくくなる。   Further, since the exposed portion of the wiring conductor 2 may be thicker than the portion covered with the insulating layer 3 by the amount of the metal plating layer 4 deposited, in that case, the wiring conductor 2 including the metal plating layer 4 is used. The width of the exposed portion is preferably slightly narrower than the portion covered with the insulating layer 3. Then, the cross-sectional area including the metal plating layer 4 at the exposed portion of the wiring conductor 2 and the cross-sectional area of the portion covered with the insulating layer 3 are more approximate, and the electrical characteristics (conductivity) of the exposed portion of the wiring conductor 2 Resistance) and the electrical characteristics (conduction resistance) of the portion covered with the insulating layer 3 can be made substantially the same. Moreover, the space | interval of the exposed parts of the wiring conductor 2 spreads, and it becomes difficult to produce a short circuit.

さらに、上述した2において、配線導体2の厚みが薄い部分と厚い部分との境界を、平面視して絶縁層3の縁辺と合致させる必要はなく、絶縁層側もしくは反対側に少しずれていても構わない。
Furthermore, in FIG. 2 described above, the boundary between the thin portion and the thick portion of the wiring conductor 2 does not have to coincide with the edge of the insulating layer 3 in plan view, and is slightly shifted to the insulating layer side or the opposite side. It doesn't matter.

またさらに、配線導体2の露出部位は金属めっき層4が被着された分だけ、絶縁層3で被覆された部位よりも幅広になる場合があるため、その場合、金属めっき層4を含む配線導体2の露出部位の厚みを、絶縁層3で被覆された部位よりも若干薄くするのがよい。そうすると、配線導体2の露出部位の金属めっき層4を含む断面積と、絶縁層3で被覆された部位の断面積とがより近似することとなり、配線導体2の露出部位の電気的特性(導通抵抗)と絶縁層3で被覆された部位の電気的特性(導通抵抗)とを実質的に同じにすることができる。   Furthermore, since the exposed portion of the wiring conductor 2 may be wider than the portion covered with the insulating layer 3 by the amount of the metal plating layer 4 deposited, in that case, the wiring including the metal plating layer 4 is included. The thickness of the exposed portion of the conductor 2 is preferably slightly smaller than the portion covered with the insulating layer 3. Then, the cross-sectional area including the metal plating layer 4 at the exposed portion of the wiring conductor 2 and the cross-sectional area of the portion covered with the insulating layer 3 are more approximate, and the electrical characteristics (conductivity) of the exposed portion of the wiring conductor 2 Resistance) and the electrical characteristics (conduction resistance) of the portion covered with the insulating layer 3 can be made substantially the same.

本発明の実施形態1にかかる配線基板の一例を示す平面図である。It is a top view which shows an example of the wiring board concerning Embodiment 1 of this invention. 本発明の配線基板の参考例を示す平面図である。 Reference Example of wiring substrate of the present invention is a plan view showing.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・絶縁基板
1a・・・搭載部
2・・・配線導体
3・・・絶縁層
4・・・金属めっき層
9・・・配線基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Insulating board 1a ... Mounting part 2 ... Wiring conductor 3 ... Insulating layer 4 ... Metal plating layer 9 ... Wiring board

Claims (2)

上面に電子部品の搭載部を有する絶縁基体と、該絶縁基体の上面に形成されて前記電子部品の電極が電気的に接続される配線導体と、前記配線導体の前記電子部品が電気的に接続される部位が露出するように前記配線導体を覆う絶縁層とを具備しており、前記配線導体は、露出している部位の幅が前記絶縁層で覆われている部位の幅よりも狭く、かつ前記露出している部位に金属めっき層が被着されていることを特徴とする配線基板。   An insulating base having an electronic component mounting portion on the upper surface, a wiring conductor formed on the upper surface of the insulating base and electrically connected to the electrode of the electronic component, and the electronic component of the wiring conductor being electrically connected An insulating layer covering the wiring conductor so that a portion to be exposed is exposed, the wiring conductor is narrower than the width of the portion covered by the insulating layer, the width of the exposed portion, The wiring board is characterized in that a metal plating layer is deposited on the exposed portion. 前記金属めっき層は、前記配線導体の前記絶縁層で覆われた部位の幅と同じ幅で被着されていることを特徴とする請求項1記載の配線基板。   The wiring board according to claim 1, wherein the metal plating layer is deposited with the same width as that of a portion covered with the insulating layer of the wiring conductor.
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