JP4539347B2 - フォトマスクケース - Google Patents
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Description
本発明は、上記問題点に鑑み考案されたもので、フォトマスクの搬送、保管に使用されるフォトマスクケース起因によるフォトマスクの曇りを確実に防止するフォトマスクケースを提供することを目的とする。
そのため、フォトマスクの再洗浄によるコスト増や、再洗浄による不良発生を防止することができ、フォトマスクの安定的な使用が可能となる。
フォトマスクの搬送、保管などに使用されるフォトマスクケースは、アクリル系樹脂を主成分とした熱可塑性樹脂を成型加工して作製されるのが一般的である。
このフォトマスクケースにフォトマスクを収納し、搬送、長期保存しているとフォトマスクケース起因による曇りが発生することは上記で述べたが、フォトマスクに微量硫酸残渣が無い状態でも、フォトマスクケースにフォトマスクを収納し、搬送、長期保存しているとフォトマスクケース起因による曇りが発生することが分かった。
本発明者らは、フォトマスク上の曇りの発生メカニズムを探索している途上で、フォトマスクケース中に、有機硫黄系物質、有機硫黄系物質及び揮発性有機物質がある量以上含まれていると、フォトマスクが高度に洗浄された状態でも、フォトマスクケース起因による曇りがフォトマスク上に発生することを突き止めた。
有機リン系物質としては、例えば、Tri phenyl phosphate、Phosphoric acid trimethyl ester等があげられる。
揮発性有機物質としては、例えば、2 propanoic acid、2 methyl methyl ester、cyclohexene
carboxylic ester、dodecyl acrylate、dodecanol、caprolactam、1 hexanol,2ethyl、
toluene stylene、phenol、butyl hydroxy toluene等が挙げられる。
フォトマスクケースの材料に有機硫黄系物質の総量が樹脂1g当たり5ng以上含まれていると、有機硫黄系物質の揮発成分がフォトマスク上に付着し、UV光(波長254nm)を長期間(4〜8週間)曝光することにより段階を経て硫酸へ変化し、ひいては硫酸アンモニウム等の析出異物となり、曇りを発生させてしまう。
フォトマスクケースの材料に有機リン系物質が樹脂1g当たり5ng以上含まれていると、有機リン系物質の揮発成分がフォトマスク上に付着し、UV光(波長254nm)を長期間(4〜8週間)曝光することにより段階を経てリン酸へ変化し、ひいてはリン酸アンモニウム等の析出異物となり、曇りを発生させてしまう。
フォトマスクケースの材料に有機リン系物質が樹脂1g当たり5ng以上含まれていると、有機リン系物質の揮発成分がフォトマスク上に付着し、UV光(波長254nm)を長期間(4〜8週間)曝光することにより段階を経てトルエンに変化し、ひいては有機系の析出異物となり、曇りを発生させてしまう。
次に、各フォトマスクケースサンプルに事前に十分焼き出しを行ったフォトマスクを収納し、UV光(波長254nm)を曝光した状態で8週間保存し、4週間後、8週間後のフォトマスク上の曇り発生を観察した。
さらに、曇りが発生したフォトマスクについては、曇り部をラマン分析し、曇り成分の特定を行った。
分析結果を表1に示す。
フォトマスクケースサンプルBでは、有機硫黄系物質の総量が樹脂1g当たり5ng検出されたが、露光保存試験ではフォトマスクに曇りの発生は確認されなかった。
発生した曇り部をラマン分析した結果硫酸アンモニウムが検出された。
フォトマスクケースサンプルDでは、有機硫黄系物質の総量が樹脂1g当たり73ng検出された。露光保存試験ではフォトマスクに曇りの発生が確認された。
発生した曇り部をラマン分析した結果硫酸アンモニウムが検出された。
フォトマスクケースサンプルFでは、有機リン系物質の総量が樹脂1g当たり4ng検出されたが、露光保存試験ではフォトマスクに曇りの発生は確認されなかった。
発生した曇り部をラマン分析した結果リン酸アンモニウムが検出された。
フォトマスクケースサンプルHでは、有機リン系物質の総量が樹脂1g当たり73ng検出された。露光保存試験ではフォトマスクに曇りの発生が確認された。
発生した曇り部をラマン分析した結果硫酸アンモニウムが検出された。
フォトマスクケースサンプルJでは、揮発性有機物質の総量が樹脂1g当たり98ng検出されたが、露光保存試験ではフォトマスクに曇りの発生は確認されなかった。
発生した曇り部をラマン分析した結果アモルファスカーボンが検出された。
フォトマスクケースサンプルHでは、揮発性有機物質の総量が樹脂1g当たり73ng検出された。露光保存試験ではフォトマスクに曇りの発生が確認された。
発生した曇り部をラマン分析した結果アモルファスカーボンが検出された。
また、フォトマスクケースの材料に含まれる有機硫黄系物質の総量が樹脂1g当たり5ng以上、有機リン系物質の総量が樹脂1g当たり5ng以上及び揮発性有機物質の総量が樹脂1g当たり100ng以上では、フォトマスクケースに収納したフォトマスクの露光保存試験では曇りの発生は認めら、それぞれ曇り成分が検出された。
2……トリフェニルフォスフェート
3……トルエン
4……スチレン
5……フェノール
6……ブチルヒドロキシトルエン
7……2−プロパノイックアシッド,2−メチルメチルエステル
8……シクロヘキセン,カーボキシリックエステル
9……ドデカノール
10……ドデシルアクリレート
Claims (3)
- フォトマスクの搬送、保管に使用するフォトマスクケースであって、前記フォトマスクケース作成時の材料に含まれる有機硫黄系物質の総量が樹脂1g当たり5ng以下になっていることを特徴とするフォトマスクケース。
- フォトマスクの搬送、保管に使用するフォトマスクケースであって、前記フォトマスクケース作成時の材料に含まれる有機リン系物質の総量が樹脂1g当たり5ng以下になっていることを特徴とするフォトマスクケース。
- フォトマスクの搬送、保管に使用するすべてのフォトマスクケースであって、前記フォトマスクケース作成時の材料に含まれる揮発性有機物質の総量が樹脂1g当たり100ng以下になっていることを特徴とするフォトマスクケース。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publication Number | Publication Date |
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JP (1) | JP4539347B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4853178B2 (ja) * | 2006-08-24 | 2012-01-11 | 大日本印刷株式会社 | 収納ケースの洗浄方法 |
JP5391689B2 (ja) * | 2008-12-26 | 2014-01-15 | 凸版印刷株式会社 | Haze発生予測基板及びhaze発生予測方法 |
JP2017097242A (ja) * | 2015-11-26 | 2017-06-01 | アルバック成膜株式会社 | ケース、フォトマスクブランクスの輸送方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003140325A (ja) * | 2001-11-06 | 2003-05-14 | Shin Etsu Chem Co Ltd | フォトマスクブランク又はフォトマスクの保管方法並びに運搬方法 |
JP2003140324A (ja) * | 2001-11-06 | 2003-05-14 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 基板収納容器 |
JP2004119566A (ja) * | 2002-09-25 | 2004-04-15 | Toppan Printing Co Ltd | マスクケース |
JP2004117635A (ja) * | 2002-09-25 | 2004-04-15 | Toppan Printing Co Ltd | マスクケース |
JP2005056991A (ja) * | 2003-08-01 | 2005-03-03 | Toppan Printing Co Ltd | マスクケース |
-
2005
- 2005-01-31 JP JP2005022885A patent/JP4539347B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003140325A (ja) * | 2001-11-06 | 2003-05-14 | Shin Etsu Chem Co Ltd | フォトマスクブランク又はフォトマスクの保管方法並びに運搬方法 |
JP2003140324A (ja) * | 2001-11-06 | 2003-05-14 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 基板収納容器 |
JP2004119566A (ja) * | 2002-09-25 | 2004-04-15 | Toppan Printing Co Ltd | マスクケース |
JP2004117635A (ja) * | 2002-09-25 | 2004-04-15 | Toppan Printing Co Ltd | マスクケース |
JP2005056991A (ja) * | 2003-08-01 | 2005-03-03 | Toppan Printing Co Ltd | マスクケース |
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---|---|
JP2006208924A (ja) | 2006-08-10 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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