JP4534664B2

JP4534664B2 - 磁気記憶装置の製造方法

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Publication number: JP4534664B2
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Inventors: 忠之木村
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Priority date: 2004-08-24
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Publication date: 2010-09-01
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Description

本発明は、磁気記憶装置の製造方法であって、特に磁気記憶装置の反強磁性体層を形成する白金マンガン(ＰｔＭｎ)膜からなる金属膜のエッチング方法を用いた磁気記憶装置の製造方法に関する。

一般的な磁気記憶装置であるＭＲＡＭ（Magnetic Random Access Memory）デバイスの断面構造は、スイッチング素子にＭＯＳトランジスタを用い、立体的に直交する書き込みワード線とビット線との間にトンネル型の磁気抵抗効果素子（Tunnel Magnetic Resistance(ＴＭＲ））素子が配置されて構成されている。

ＭＲＡＭデバイスは、上記ＴＭＲ素子により「１」および「０」情報を記憶する記憶装置であり、ＴＭＲ素子は、２つの強磁性体からなる磁性層の間に薄い絶縁層を挟んだ構造となっている。このＴＭＲ素子における２つの磁性層の磁化方向は、所与の時間で２つの安定した方向のうち１つをとる。これら２つの安定した方向、すなわち、平行及び逆平行は論理値「０」及び「１」をそれぞれ表すものとなる。平行とは２つの磁性層の磁化方向が同一の方向になる場合であり、逆平行とは２つの磁性層の磁化方向が逆向きの方向になる場合である。一般には一方の磁性層(磁化固定層)の磁化方向を固定し、片方の磁性層（磁化自由層）の磁化方向を変えることにより記憶情報を変化させている。選択されたメモリセルの磁化方向は、選択されたメモリセルで交差する書き込みワード線及びビット線に電流を供給することにより変更することができる。該電流はその結合時に選択されたメモリセルの磁化方向を平行から逆平行へ又はその逆に切り替えることができる磁界を生成する。

また、上述した磁化固定層の下層には、外部磁界により磁化方向が変化しないようにするために、反強磁性体層が設けられており、磁化固定層の強磁性体層と反強磁性体層との間に生じる交換結合現象により磁化固定層の磁化方向を固定している。反強磁性体層としては、ＰｔＭｎ膜等の反強磁性を有する金属膜が用いられている。この反強磁性体層は、例えば電流供給線と兼用されており、スイッチング素子として用いるＭＯＳトランジスタに接続されるワード線と接続されている。このため、反強磁性体層はワード線上を含む層間絶縁膜上に形成されるが、ＰｔＭｎ膜は絶縁膜との密着性が悪いため、通常タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）などを主成分とする絶縁膜との密着性のよい金属含有膜を密着層として層間絶縁膜上に形成した後、ＰｔＭｎ膜を形成している。

ここで、従来の磁気記憶装置の製造方法における反強磁性体層とＴＭＲ素子の形成について、図４〜図５の製造工程断面図を用いて説明する。まず、図４（ａ）に示すように、基板(図示省略)上に設けられたワード線および書き込みワード線等（図示省略）を覆う第１絶縁膜１１を形成する。次に、第１絶縁膜１１上にＴａ膜からなる密着層１２を形成した後、ＰｔＭｎ膜からなる反強磁性体層１３を形成する。その後、反強磁性体層１３上に磁化固定層１４ａ、トンネル絶縁層１４ｂ、磁化自由層１４ｃをこの順に積層する。次に、この磁化自由層１４ｃ上に、窒化チタンからなるキャップ膜１５を形成した後、キャップ膜１５上にハードマスクとなる酸化シリコン（ＳｉＯ₂）膜１６を成膜する。その後、ＳｉＯ₂膜１６上にレジストを塗布し、通常のリソグラフィ技術によりレジストパターンＲを形成する。

次に、図４（ｂ）に示すように、レジストパターンＲ(前記図４（ａ）参照)をマスクに用いて、ＳｉＯ₂膜１６をパターンニングすることで、ハードマスク１６'を形成した後、レジストパターンＲを除去する。

次いで、図４（ｃ）に示すように、このハードマスク１６'を用いたドライエッチングにより、キャップ膜１５、磁化自由層１４ｃ、トンネル絶縁層１４ｂおよび磁化固定層１４ａをパターンニングする。これにより、磁化固定層１４ａと磁化自由層１４ｃとでトンネル絶縁層１４ｂを挟持してなるＴＭＲ素子１４が形成されるとともに、ＴＭＲ素子１４上がキャップ膜１５で覆われた状態となる。

続いて、図４（ｄ）に示すように、ハードマスク１６'、キャップ膜１５およびＴＭＲ素子１４を覆う状態で、反強磁性体層１３上に第２絶縁膜１７を形成する。その後、第２絶縁膜１７上にレジストを塗布し、通常のリソグラフィ技術により、レジストパターンＲ’を形成する。

その後、図５（ｅ）に示すように、レジストパターンＲ’（前記図４（ｄ）参照）をマスクに用いたドライエッチングにより、第２絶縁膜１７をパクーンニングする。この第２絶縁膜１７は、後述する反強磁性体層１３および密着層１２をパターンニングするためのハードマスクとして機能する。その後、レジストパターンＲ'を除去する。

続いて、図５（ｆ）に示すように、パターンニングされた第２絶縁膜１７をマスクに用いたドライエッチングにより、ＰｔＭｎ膜からなる反強磁性体層１３とＴａ膜からなる密着層１２とをパターンニングする。このエッチング条件の一例としては、ＩＣＰ（Inductive Coupled Plasma)型エッチング装置を用いて行うこととし、エッチングガスにはアルゴン（Ａｒ）ガス(流量:９０ｃｍ³/ｍｉｎ)を用い、ソースパワーを１４００Ｗ、バイアスパワーを２００Ｗ、エッチング雰囲気の圧力を０．６７Ｐａ、基板温度を２２５℃に設定する。なお、ここでのガス流量は、標準状態における体積流量を示すものとする。

このエッチングの終点判定は、発光分光分析装置によりＭｎの発光の波長４０３ｎｍを用いて、発光スペクトルが落ちきったところを終点として、１００％のオーバーエッチングをかけることとする。これにより、密着層１２と密着層１２上に設けられた反強磁性体層１３との積層膜からなる電流供給線が形成される。

次に、パターンニングされた第２絶縁膜１７と反強磁性体層１３、密着層１２とを覆う状態で第１絶縁膜１１上に第３絶縁膜１８を形成した後、化学的機械的研磨(Chemical Mechanical Polishing（ＣＭＰ））法により、キャップ膜１５の表面が露出するまで研磨する。その後、キャップ膜１５上および第２絶縁膜１７上を含む第３絶縁膜１８上にビット線となる配線層１９を形成する。

また、上述した製造方法において、図５（f）を用いて説明した反強磁性体層１３と密着層１２のパターンニング工程において、エッチングガスに塩素ガスを用いたパルスバイアスによるドライエッチングによりＰｔＭｎ膜からなる反強磁性体層１３をパターンニングする方法が報告されている（例えば、非特許文献１参照）。

秋季応用物理学会予稿集,３１Ａ−ＺＫ−１，２００３年

しかし、図４〜図５を用いて説明したような製造方法では、図５（ｆ）に示すように、ドライエッチングによりＰｔＭｎ膜からなる反強磁性体層１３をパターンニングする際に、Ａｒガスを用いたイオンエッチングを行うことから、ハードマスクとなる第２絶縁膜１７から露出された反強磁性体層１３の表面からスパッタリングにより金属粒子Ｍがたたき出される。このため、この金属粒子Ｍにより処理雰囲気内が汚染され易く、金属粒子Ｍが第２絶縁膜１７の側壁に堆積し易い。この側壁に堆積された金属粒子Ｍは１００％のオーバーエッチングをかけた場合であっても除去されずに残存する。これにより、このパターンニングによる加工形状を制御し難く、微細加工が困難であるという問題がある。

また、その後の工程で、図５（ｇ）に示すように、第１絶縁膜１１上に第３絶縁膜１８を形成し、ＣＭＰ法により、キャップ膜１５の表面が露出するまで第３絶縁膜１８を除去した後、キャップ膜１５上および第２絶縁膜１７上を含む第３絶縁膜１８上に配線層１９を形成した場合に、第２絶縁膜１７の側壁に堆積された金属粒子Ｍにより、反強磁性体層１３と配線層１９とがショートしてしまう。したがって、磁気記憶装置に動作不良が生じ、磁気記憶装置の歩留まりが低下するという問題がある。

また、反強磁性体層１３のドライエッチング工程において、エッチングガスに塩素ガスを用いたパルスバイアスによるドライエッチングを行う場合には、パルスによる負イオンの効果により化学反応が進行するため、側壁への反応性生物が形成されにくい。しかし、パルス電源の使用は装置とのマッチングや信頼性などの課題があり、量産適用には十分な検討が必要であるという問題があり、ケミストリーの変更のような簡便な方法が要求されていた。

上述したような課題を解決するために、本発明の磁気記憶装置の製造方法に係る金属膜のエッチング方法によれば、ドライエッチングにより白金（Ｐｔ）およびマンガン（Ｍｎ）を含む金属膜をパターンニングするエッチング方法であって、この金属膜のドライエッチングに用いるエッチングガスは、ハロゲンと水素と窒素とを含むことを特徴としている。

このような金属膜のエッチング方法によれば、エッチングガスにハロゲンと水素と窒素とが含まれることにより、Ｐｔはハロゲン化された白金酸アンモニウムとなり、ＭｎはＭｎのハロゲン化合物となる。これらの反応生成物は沸点が比較的低いため、処理雰囲気内から確実に除去される。このため、従来のように、Ａｒ等のイオンエッチングにより上記金属膜をエッチングする場合と比較して、金属膜のスパッタリングにより生じる金属粒子が処理雰囲気内に残存することが防止される。これにより、金属粒子による処理雰囲気内の汚染が防止されるとともに、金属粒子が金属膜およびその周辺の構成物に付着することが防止される。

また、本発明の磁気記憶装置の製造方法は、スイッチング素子が形成されている基板上に、第１絶縁膜を形成する工程と、第１絶縁膜上にＰｔＭｎ膜からなる反強磁性体層を形成する工程と、反強磁性体層上に、磁化固定層、トンネル絶縁層及び磁化自由層が積層された積層膜を形成する工程と、磁化自由層上にキャップ膜を形成する工程と、キャップ膜上にハードマスクを形成する工程と、ハードマスク上に第１レジストパターンを形成する工程と、第１レジストパターンをマスクにしてハードマスクによるハードマスクパターンを形成する工程と、第１レジストパターンを除去する工程と、ハードマスクパターンをマスクにしてキャップ膜及び積層膜をパターンニングし、磁気抵抗効果素子を形成する工程と、ハードマスクパターン、キャップ膜及び磁気抵抗効果素子上に第２絶縁膜を形成する工程と、第２絶縁膜上に第２レジストパターンを形成する工程と、第２レジストパターンをマスクにして第２絶縁膜による第２絶縁膜パターンを形成する工程と、第２レジストパターンを除去する工程と、第２絶縁膜パターンをマスクにして、ドライエッチングにより、反強磁性体層をパターンニングする工程と、第２絶縁膜パターン及び反強磁性体層を覆って第３絶縁膜を形成する工程と、キャップ膜表面が露出するまで第３絶縁膜を研磨除去する工程と、キャップ膜上及び第２絶縁膜上を含む第３絶縁膜上に配線層を形成する工程と、を有し、ドライエッチングは、ＩＣＰ（Inductive Coupled Plasma）型エッチング装置を用いて、エッチングガスとしてハロゲンと水素と窒素とを含有するガスを使用し、エッチング時の基板温度を６０℃以上３００℃以下とし、ドライエッチングの終点判定を発光分光分析装置によりＭｎの発光スペクトルが落ちきったところを終点とするオーバーエッチングを行う。

このような磁気記憶装置の製造方法によれば、白金およびマンガンを含む反強磁性体層をハロゲンと水素と窒素とを含むエッチングガスを用いてドライエッチングすることにより、Ｐｔはハロゲン化された白金酸アンモニウムとなり、ＭｎはＭｎのハロゲン化合物となる。これらの化合物は沸点が比較的低いため、処理雰囲気内から確実に除去される。このため、従来のように、Ａｒ等のイオンエッチングにより上記金属膜をエッチングする場合と比較して、金属膜のスパッタリングにより生じる金属粒子が処理雰囲気内に残存することが防止される。これにより、金属粒子による処理雰囲気内の汚染が防止されるとともに、金属粒子が反強磁性体層およびその周辺の構成物に付着することが防止される。

以上、説明したように、本発明の磁気記憶装置の製造方法によれば、金属粒子による処理雰囲気内の汚染が防止されるとともに、金属粒子が反強磁性体層およびその周辺の構成物に付着することが防止されることから、反強磁性体層の加工形状の制御が容易になり、反強磁性体層の微細加工が可能となる。また、金属粒子の付着による反強磁性体層と配線層とのショートを防止できることから、磁気記憶装置の動作不良を防止し、磁気記憶装置の歩留まりを向上させることができる。

本発明の磁気記憶装置の製造方法に係る実施の形態を説明する。その前に、電流磁界による磁化反転を利用して情報を記憶する磁気記憶装置(ＭＲＡＭデバイス)の一例を、図１の概略構成断面図により説明する。なお、背景技術で説明した構成と同様の構成には同一の番号を付して説明することとする。

図１に示すように、半導体基板(例えばｐ型半導体基板)２１には、スイッチング素子２２として、例えばＭＯＳトランジスタが形成されている。このスイッチング素子２２は、上記半導体基板２１上にゲート絶縁膜２３を介してゲート電極２４が形成されゲート電極２４の両側における半導体基板には拡散層領域(例えばＮ⁺拡散層領域)２５、２６が形成された構成となっている。上記スイッチング素子２２は、ｎ型またはｐ型電界効果トランジスタの他に、ダイオード、バイポーラトランジスタ等の各種スイッチング素子を用いることも可能である。

上記スイッチング素子２２の拡散層領域（ソース領域）２５にはコンタクト（例えばタングステンプラグ）２７を介して接地線２８が接続され、拡散層領域（ドレイン領域）２６にはコンタクト（例えばタングステンプラグ）２９を介してワード線３０が接続されている。また、このワード線３０と同一層の配線として、書き込みワード線３１が形成されている。さらに、上記半導体基板２１上に形成されたスイッチング素子２２、コンタクト２７、２９、接地線２８、ワード線３０および書き込みワード線３１は、適宜第１絶縁膜１１により被覆されている。

そして、この第１絶縁膜１１には、上記ワード線３０に接続する開口部３３が設けられている。さらに、第１絶縁膜１１上には、書き込みワード線３１の上方から開口部３３にかけて、例えば電流供給線としても兼用される密着層１２と反強磁性体層１３がこの順に積層状態で設けられていることとする。

この密着層１２は例えば５ｎｍ〜１０ｎｍの膜厚で設けられており、絶縁膜との密着性に優れた材料で形成される。密着層１２としては、Ｔａ、Ｔｉ、タングステン（Ｗ）のいずれかを主成分とする金属含有膜からなり、例えばＴａ膜、Ｔｉ膜、Ｗ膜で形成されていてもよく、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗから選択されてなる合金で形成されていてもよい。また、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗの窒化物を用いてもよい。ここでは、密着層１２が例えばＴａ膜で形成されることとする。

また、反強磁性体層１３は例えば３０ｎｍ〜６０ｎｍの膜厚で設けられており、ＰｔおよびＭｎの両方を含むものであればよく、ＰｔＭｎ以外に、鉄マンガン（ＦｅＭｎ）、ニッケルマンガン（ＮｉＭｎ）、イリジウムマンガン（ＩｒＭｎ）、ロジウムマンガン（ＲｈＭｎ）等が含まれていてもよい。ここでは、反強磁性体層１３がＰｔＭｎ膜で形成されることとする。ＰｔＭｎ膜のＰｔの含有率は、反強磁性体層１３として形成される場合に、２０％以上８０％以下が通例である。

また、この反強磁性体層１３上で、かつ書き込みワード線３１の上方には、強磁性体層からなる磁化固定層１４ａ、トンネル絶縁層１４ｂおよび磁化が比較的容易に回転する磁化自由層１４ｃが順に積層されたＴＭＲ素子１４が形成されており、ＴＭＲ素子１４上には窒化チタン（ＴｉＮ）からなる導電性のキャップ膜１５が設けられている。

上記磁化固定層１４ａ、磁化自由層１４ｃには、例えばコバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、コバルト鉄（ＣｏＦｏ）、ニッケル鉄（ＮｉＦｅ）、コバルトニッケル（ＣｏＮｉ）、コバルト鉄ニッケル（ＣｏＦｅＮｉ）、ホウ化コバルト鉄（ＣｏＦｅＢ）、ホウ化ニッケル鉄（ＮｉＦｅＢ）、ホウ化コバルトニッケル（ＣｏＮｉＢ）、ホウ化コバルト鉄ニッケル（ＣｏＦｅＮｉＢ）等の強磁性体から選択される１種または複数種を用いることができる。

この磁化固定層１４ａは、上記反強磁性体層１３と接する状態に形成されることで、磁化固定層１４ａと反強磁性体層１３との層間に働く交換相互作用により、強い一方向の磁気異方性を有している。すなわち、磁化固定層１４ａは反強磁性体層３１との交換結合によって磁化の方向が固定された状態となる。

上記トンネル絶縁層１４ｂには、例えば酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化シリコン、窒化アルミニウム、窒化マグネシウム、窒化シリコン、酸窒化アルミニウム、酸窒化マグネシウム、酸窒化シリコン等の絶縁薄膜を用いることができる。上記トンネル絶縁層１４ｂは、上記磁化固定層１４ａと上記磁化自由層１４ｃとの磁気的結合を切るとともに、トンネル電流を流すための機能を有する。

上記第１絶縁膜１１上には、ＴＭＲ素子１４およびキャップ膜１５の側壁を覆う状態で設けられる第２絶縁膜(図示省略）と、この第２絶縁膜で側壁を覆われたキャップ膜１５とＴＭＲ素子１４および反強磁性体層１３、密着層１２を覆う第３絶縁膜１８が設けられている。この第３絶縁膜１８の表面は平坦化され、キャップ膜１５の表面が露出されている。この第３絶縁膜１８上には、上記ＴＭＲ素子１４の磁化自由層１４ｃにキャップ膜１５を介して接続するもので、上記書き込みワード線３１と上記ＴＭＲ素子１４を間にして交差する配線層(ビット線)１９が設けられている。上述したように磁気記憶装置１が構成されている。

次に、磁気記憶装置１の製造方法における反強磁性体層１３のエッチング方法について、図２〜図３の製造工程断面図によって詳細に説明する。なお、背景技術で説明したものと同様の構成については、同一の番号を付して説明する。

まず、図２（ａ）に示すように、ここでの図示は省略するが、半導体基板（図示省略）上に形成されたスイッチング素子、接地線、ワード線、書き込みワード線等を覆う第１絶縁膜１１上に、第１絶縁膜１１との密着性の高い例えばＴａ膜からなる密着層１２を形成した後、ＰｔＭｎ膜からなる反強磁性体層１３を形成する。この密着層１２と反強磁性体層１３とは図１を用いて説明したように、ワード線と接続される電流供給線を兼ねることとする。なお、ここでは第１絶縁膜１１上に密着層１２を介して反強磁性体層１３を形成することとしたが、反強磁性体層１３と第１絶縁膜１１との密着性に問題がなければ、密着層１２は特に形成しなくてもよい。

次に、反強磁性体層１３上に、磁化固定層１４ａ、トンネル絶縁層１４ｂ、磁化自由層１４ｃがこの順に積層された積層膜を形成する。次に、磁化自由層１４ｃ上に、ＴｉＮからなるキャップ膜１５を形成した後、ハードマスクとなるＳｉＯ₂膜１６を成膜する。その後、ＳｉＯ₂膜１６上に、レジストを塗布し、通常のリソグラフィ技術によりレジストパターンＲを形成する。

次に、図２（ｂ）に示すように、レジストパターンＲ（前記図２（ａ）参照）をマスクとして、ＳｉＯ₂膜１６（前記図２（ａ）参照）をパターンニングすることで、ハードマスク１６'を形成した後、レジストパターンＲを除去する。

次いで、図２（ｃ）に示すように、このハードマスク１６’を用いて、キャップ膜１５、磁化自由層１４ｃ、トンネル絶縁層１４ｂおよび磁化固定層１４ａをパターンニングする。これにより、磁化固定層１４ａと磁化自由層１４ｃとでトンネル絶縁層１４ｂを挟持してなるＴＭＲ素子１４が形成され、その上層にキャップ膜１５が設けられた状態となる。

続いて、図２（ｄ）に示すように、ハードマスク１６'、キャップ膜１５およびＴＭＲ
素子１４を覆う状態で、反強磁性体層１３上に第２絶縁膜１７を形成する。その後、第２絶縁膜１７上にレジストを塗布し、通常のリソグラフィ技術により、レジストパターンＲ’を形成する。

その後、図３（ｅ）に示すように、レジストパターンＲ'（前記図２（ｄ）参照）をマスクに用いたエッチングにより、第２絶縁膜１７をパターンニングする。この第２絶縁膜１７は、後述する反強磁性体層１３および密着層１２をパターンニングするためのハードマスクとして機能する。その後、レジストパターンＲ'を除去する。

続いて、図３（ｆ）に示すように、パターンニングされた第２絶縁膜１７をマスクに用いたドライエッチングにより、ＰｔＭｎ膜からなる反強磁性体層１３とＴａ膜からなる密着層１２とをパターンニングする。

ここで、このパターンニングは、エッチングガスとして、ハロゲンと水素と窒素を含有するガスを用いたドライエッチングにより行うこととする。これにより、Ｐｔはハロゲン化された白金酸アンモニウムとなり除去されるとともに、Ｍｎはハロゲン化合物となって除去される。さらに、Ｔａもハロゲン化合物となり除去される。

上記エッチングガス中に含まれるハロゲンとしては、フッ素（Ｆ）、塩素（Ｃｌ）、臭素（Ｂｒ）、ヨウ素（Ｉ）が挙げられる。この中でもＦは、Ｍｎと反応した場合に沸点の比較的低い四フッ化マンガン（ＭｎＦ₄）を生成する。また、ＣｌまたはＢｒはＰｔと反応した場合に、比較的沸点の低いテトラクロロ白金酸アンモニウム（(ＮＨ₄)₂ＰｔＣｌ₄）またはヘキサブロモ白金酸アンモニウム（(ＮＨ₄)₂ＰｔＢｒ₆）を生成する。これにより、エッチングガス中のハロゲンとしては、Ｆを含むとともに、ＣｌおよびＢｒのどちらか一方を含むことが好ましい。

エッチングガスに含まれるハロゲン、水素、窒素は、これらの元素を含むガスをそれぞれ供給してもよく、また、上記元素のうちの２種または３種が組み合わされた化合物のガスを供給してもよい。

また、ここでは、上述したエッチングガスに、Ａｒまたはネオン（Ｎｅ）などの希ガスを添加することとする。これにより、希ガスのイオンによりＰｔＭｎ膜がスパッタリングされ、スパッタリングされた金属粒子が上述したようなハロゲンと水素と窒素を含有するガスと反応することで、エッチングレートを高めることが可能となるため、好ましい。ただし、エッチングレートに問題がなければ、希ガスは特に添加しなくてもよい。

このエッチング条件の一例としては、ＩＣＰ型エッチング装置を用いて行うこととし、エッチングガスには臭化水素ガス（ＨＢｒ）〔流量:４０ｃｍ³/ｍｉｎ〕と窒素ガス（Ｎ₂）〔流量:２０ｃｍ³/ｍｉｎ〕と三フツ化メタンガス（ＣＨＦ₃）〔流量:５ｃｍ³/ｍｉｎ〕とＡｒ〔流量:８０ｃｍ³/ｍｉｎ〕を用い、ソースパワーを１４００Ｗ、バイアスパワーを５００Ｗ、エッチング雰囲気の圧力を０．６７Ｐａ、基板温度を２２５℃に設定する。

尚、ここでは、ハロゲン（Ｆ,Ｃｌ,Ｂｒ,Ｉ）と水素（Ｈ）と窒素（Ｎ）を含むガスとして、臭化水素ガス（ＨＢｒ）、窒素ガス（Ｎ₂）、三フッ化メタンガス（ＣＨＦ₃）)との混合ガスを用いることとしたが、ガスの組み合わせばこれに限定されるものではない。例えばハロゲン含有ガスとしては、三フッ化窒素（ＮＦ₃）、六フッ化硫黄（ＳＦ₆）、フロロカーボンガス（ＣＦ系ガス）を用いてもよく、また、水素（Ｈ）と窒素（Ｎ）を含むガスとして、アンモニア（ＮＨ₃）を用いてもよい。上記ガスは適宜組み合わせて用いられることとする。

また、このエッチングの際の基板温度は６０℃以上３００℃以下の範囲内で行うことが好ましい。６０℃以上で行うことにより、上述したエッチングガスとＰｔＭｎ膜との反応が促進されるため好ましく、３００℃以下で行うことにより、上述した磁化固定層１４ａおよび磁化自由層１４ｃの変質が防止され、磁化特性の劣化が防止されるため、好ましい。

このエッチングの終点判定は、発光分光分析装置によりＭｎの発光の波長４０３ｎｍを用いて、発光スペクトルが落ちきったところを終点として、６０％のオーバーエッチングを掛けることとする。以上のようにエッチング工程を行うことにより、第２絶縁膜１７の側壁にＰｔまたはＭｎが堆積されることが防止されるとともに、密着層１２と密着層１２上に形成される反強磁性体層１３とからなる電流供給線が形成される。

この後の工程は、パターンニングされた第２絶縁膜１７と反強磁性体層１３、密着層１２とを覆う状態で第３絶縁膜１８を形成した後、ＣＭＰ法により、キャップ膜１５の表面が露出するまで第３絶縁膜１８を研磨して除去する。その後、キャップ層１５上および第２絶縁膜１７上を含む第３絶縁膜１８上にビット線となる配線層１９を形成する。

このようなＰｔＭｎ膜からなる反強磁性体層１３のエッチング方法およびこれを用いた磁気記憶装置の製造方法によれば、ＦとＢｒとからなるハロゲンと、Ｈと、Ｎとを含むエッチングガスを用いたドライエッチングにより加工することで、比較的沸点の低い四フッ化マンガン（ＭｎＦ₄）およびヘキサブロモ白金酸アンモニウム（(ＮＨ₄)₂ＰｔＢｒ₆）が生成されて、処理雰囲気内から除去される。これにより、従来のように、Ａｒ等のイオンエッチングにより上記金属膜をエッチングする場合と比較して、金属膜のスパッタリングにより生じる金属粒子が処理雰囲気内に残存することが防止される。これにより、金属粒子による処理雰囲気内の汚染が防止されるとともに、金属粒子が第２絶縁膜１７の側壁に堆積することが防止される。したがって、反強磁性体層１３の加工形状の制御が容易になり、反強磁性体層１３の微細加工が可能となる。また、金属粒子の付着による反強磁性体層１３と配線層１９とのショートを防止できることから、磁気記憶装置の動作不良を防止し、磁気記憶装置の歩留まりを向上させることができる。

なお、上述した実施形態では、密着層１２と反強磁性体層１３との積層膜で電流供給線が形成される例について説明したが、電流供給線を反強磁性体層１３以外の導電層で形成し、この導電層上に形成する反強磁性体層１３を磁化固定層１４ａの下層のみに形成する場合であっても、本発明は適用可能である。この場合には、図２（ａ）を用いて説明した工程において、第１絶縁膜１１上に、電流供給線を構成する導電層（図示省略）を介して反強磁性体層１３を形成する。なお、この場合には、反強磁性体層１３は導電層上に設けられるため、密着層１２を形成しなくてもよい。その後、図２（ｃ）を用いて説明したドライエッチングによる磁化自由層１４ｃ、トンネル絶縁層１４ｂ、磁化固定層１４ａのパターンニング工程において、反強磁性体層１３もパターンニングする。このドライエッチングは、図３（ｆ）を用いて説明した反強磁性体層１３をエッチングする工程と同様の条件で行われることとし、エッチングガスは、ハロゲンと水素と窒素を含むこととする。続いて、図２（ｄ）を用いて説明した第２絶縁膜１７の形成工程では、ハードマスク１６'、キャップ膜１５、ＴＭＲ素子１４および反強磁性体層１３を覆う状態で、上記導電層上に第２絶縁膜１７を形成する。そして、この第２絶縁膜１７をパターニングした後、図３（ｆ）を用いて説明した工程において、パターンニングされた第２絶縁膜１７をマスクに用いて導電層をパターンニングすることで電流供給線を形成してもよい。

また、電流供給線を密着層１２と反強磁性体層１３と磁化固定層１４ａの３層からなる積層膜で形成してもよい。この場合には、図２（ｃ）を用いて説明した工程において、ハードマスク１６’を用いて、キャップ膜１５、磁化自由層１４ｃ、トンネル絶縁層１４ｂをパターンニングする。続いて、図２（ｄ）を用いて説明した第２絶縁膜１７の形成工程では、ハードマスク１６'、キャップ膜１５、磁化自由層１４ｃおよびトンネル絶縁層１４ｂを覆う状態で、磁化固定層１４ａ上に第２絶縁膜１７を形成する。そして、この第２絶縁膜１７をパターニングした後、図３（ｆ）を用いて説明した工程において、磁化固定層１４ａ、反強磁性体層１３および密着層１２をパターンニングすることで電流供給線およびＴＭＲ素子１４を形成してもよい。この工程でのドライエッチングは、第１実施形態と同様の条件で行われることとし、エッチングガスは、ハロゲンと水素と窒素を含むこととする。

本発明の磁気記憶装置の製造方法に係る実施形態を説明するための断面図である。本発明の磁気記憶装置の製造方法に係る実施形態を説明するための製造工程断面図（その１）である。本発明の磁気記憶装置の製造方法に係る実施形態を説明するための製造工程断面図(その２)である。従来の金属膜のエッチング方法および磁気記憶装置の製造方法に係る実施形態を説明するための製造工程断面図(その１)である。従来の金属膜のエッチング方法および磁気記憶装置の製造方法に係る実施形態を説明するための製造工程断面図(その２)である。

符号の説明

１２…密着層、１３…反強磁性体層、１４…磁気抵抗効果素子（ＴＭＲ素子）、１４ａ…磁化固定層、１４ｂ…トンネル絶縁層、１４ｃ…磁化自由層、１９…配線層

Claims

スイッチング素子が形成されている基板上に、第１絶縁膜を形成する工程と、
前記第１絶縁膜上にＰｔＭｎ膜からなる反強磁性体層を形成する工程と、
前記反強磁性体層上に、磁化固定層、トンネル絶縁層及び磁化自由層が積層された積層膜を形成する工程と、
前記磁化自由層上にキャップ膜を形成する工程と、
前記キャップ膜上にハードマスクを形成する工程と、
前記ハードマスク上に第１レジストパターンを形成する工程と、
前記第１レジストパターンをマスクにして前記ハードマスクによるハードマスクパターンを形成する工程と、
前記第１レジストパターンを除去する工程と、
前記ハードマスクパターンをマスクにして前記キャップ膜及び前記積層膜をパターンニングし、磁気抵抗効果素子を形成する工程と、
前記ハードマスクパターン、前記キャップ膜及び前記磁気抵抗効果素子上に第２絶縁膜を形成する工程と、
前記第２絶縁膜上に第２レジストパターンを形成する工程と、
前記第２レジストパターンをマスクにして前記第２絶縁膜による第２絶縁膜パターンを形成する工程と、
前記第２レジストパターンを除去する工程と、
前記第２絶縁膜パターンをマスクにして、ドライエッチングにより、前記反強磁性体層をパターンニングする工程と、
前記第２絶縁膜パターン及び前記反強磁性体層を覆って第３絶縁膜を形成する工程と、
前記キャップ膜表面が露出するまで前記第３絶縁膜を研磨除去する工程と、
前記キャップ膜上及び前記第２絶縁膜上を含む前記第３絶縁膜上に配線層を形成する工程と、を有し、
前記ドライエッチングは、ＩＣＰ（Inductive Coupled Plasma）型エッチング装置を用いて、エッチングガスとしてハロゲンと水素と窒素とを含有するガスを使用し、エッチング時の前記基板温度を６０℃以上３００℃以下とし、前記ドライエッチングの終点判定を発光分光分析装置によりＭｎの発光スペクトルが落ちきったところを終点とするオーバーエッチングを行う
磁気記憶装置の製造方法。
前記半導体基体と前記反強磁性体層との間に、密着層を形成する請求項１に記載の磁気記録装置の製造方法。
前記第２絶縁膜パターンをマスクにして、前記ドライエッチングにより、反強磁性体層と共に前記密着層をパターンニングする請求項２に記載の磁気記録装置の製造方法。
前記エッチングガスは希ガスを含む請求項１に記載の磁気記録装置の製造方法。
前記エッチングガスとして、ハロゲン、水素、窒素のそれぞれの元素を含む化合物のガスを用いる請求項１に記載の磁気記録装置の製造方法。