JP4509721B2 - 半導体装置 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 41
- 230000032683 aging Effects 0.000 claims description 201
- 230000001629 suppression Effects 0.000 claims description 20
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 33
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 17
- 230000008859 change Effects 0.000 description 14
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 10
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- LPQOADBMXVRBNX-UHFFFAOYSA-N ac1ldcw0 Chemical compound Cl.C1CN(C)CCN1C1=C(F)C=C2C(=O)C(C(O)=O)=CN3CCSC1=C32 LPQOADBMXVRBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010893 electron trap Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 2
- 238000003483 aging Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000003915 cell function Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 230000016507 interphase Effects 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
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- H10B69/00—Erasable-and-programmable ROM [EPROM] devices not provided for in groups H10B41/00 - H10B63/00, e.g. ultraviolet erasable-and-programmable ROM [UVEPROM] devices
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C13/00—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00
- G11C13/0002—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements
- G11C13/0004—Digital stores characterised by the use of storage elements not covered by groups G11C11/00, G11C23/00, or G11C25/00 using resistive RAM [RRAM] elements comprising amorphous/crystalline phase transition cells
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
- H01L29/78—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate
- H01L29/788—Field effect transistors with field effect produced by an insulated gate with floating gate
- H01L29/7881—Programmable transistors with only two possible levels of programmation
- H01L29/7883—Programmable transistors with only two possible levels of programmation charging by tunnelling of carriers, e.g. Fowler-Nordheim tunnelling
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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Description
図6は、本発明の第1の実施形態に係わる半導体装置を示す回路構成図である。
図13〜図15を用いて、本発明の第2の実施形態を説明する。この3つの図の違いは、昇圧回路42或いは制圧回路44の有無であり、基本的には第1の実施形態で説明したものと同様なので、ここではそのうちの一つ、図13について説明する。なお、図14、図15についても以下の説明とほぼ同様に説明でき、昇圧回路及び制圧回路の有無を変更するだけで良い。
図18〜図20を用いて、本発明の第3の実施形態を説明する。本実施形態では、エージングデバイス3つで構成されていることが特徴である。図18〜20は、制圧回路54或いは昇圧回路52の有無の違いのみであり、第2の実施形態と同様に、図18のみを用いて説明をする。
以上、第1から第3の実施形態のパルス波形をまとめると、図22のようになる。図22の(a)は一重パルス波形、(b)は二重パルス波形、(c)は三重パルス波形である。上述した内容から容易に類推できるように、一重パルスは、1個のエージングデバイスのみを使った場合に限らず、2個のエージングデバイスを使用した場合でも二重パルスの2つの周期が等しくなれば実現可能である。また、二重パルスは、2つのエージングデバイスを用いた場合のみならず、3つのエージングデバイスを用いた場合の3つの周期のうち2つの周期が等しくなったとき実現できる。このように、N重パルスを構成するには、少なくともN個のエージングデバイスを用いなければならない。
デジタル回路では入力の立ち上がりや立下り(エッジ)でデータを取り込むことが非常に有用で、入力パルスのエッジを用いてトリガーを引くエッジトリガー型の回路が広く用いられている。ラッチ回路もその一種であり、立下りで回路の状態を遷移させている。このようなラッチ回路は他の組み合わせ回路と共に複数利用され、それぞれの間でデータをやり取りしている。ここでエッジとエッジの間隔が狭いと回路はレーシングと呼ばれる誤動作を起こしやすくなる。本実施形態のパルスブロックによりエッジ間隔を制御することでレーシングを抑制することが出来る。
図27を用いて、本発明の第6の実施形態を説明する。この実施形態は、3つの機能ブロックと一つのパルスブロックから構成されている。まず、機能ブロック91及び機能ブロック92が接続され、パルスブロック81は、その接続に対して、クランプ型に接続している。そして機能ブロック93は、パルスブロック81に接続している。即ち、パルスブロック81の出力側に機能ブロック91,92が接続され、パルスブロック81の入力側に機能ブロック93が接続されている。
なお、本発明は上述した各実施形態に限定されるのではない。実施形態では、エージングデバイスとして2層ゲート構成の不揮発性メモリセルを用いたが、必ずしもこれに限らず、電荷等の蓄積から一定時間経過後にオン又はオフとなるような素子であれば用いることができる。
図33は、本発明の第7の実施形態に係わる半導体装置を示す回路構成図である。
11…アンテナ
12…MPU
13…スイッチ
14…機能ブロック
20…μバッテリー
21…MPU
22…センスアンプ
23…アンテナ
24…機能ブロック
30…基本単位
31…エージングデバイス
32…昇圧回路
33…スイッチ素子
34…制圧回路
Claims (15)
- ソースが入力端に接続され、第1の寿命τ1でオンし、第2の寿命τ2(>τ1)でオフする第1のエージングデバイスと、
ソースが前記入力端に接続され、ゲートが第1のエージングデバイスのドレインに接続され、ドレインが第1のエージングデバイスのゲートに接続され、第3の寿命τ3でオンし、第4の寿命τ4(>τ3)でオフする第2のエージングデバイスと、
第1のエージングデバイスのドレインと出力端との間に挿入され、第1のエージングデバイスがオンの時にオンし、第2のエージングデバイスがオンの時にオフする第1のスイッチ素子と、
第2のエージングデバイスのドレインと前記出力端との間に挿入され、第2のエージングデバイスがオンの時にオンし、第1のエージングデバイスがオンの時にオフする第2のスイッチ素子と、
を具備してなることを特徴とする半導体装置。 - 第1及び第2のスイッチ素子は、ゲートがドレインに接続されたMOSトランジスタであることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 第1のスイッチ素子はゲートが第1のエージングデバイスのゲートに接続されたMOSトランジスタであり、第2のスイッチ素子はゲートが第2のエージングデバイスのゲートに接続されたMOSトランジスタであることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 第1のエージングデバイスのドレインと第2のエージングデバイスのゲートとの間に第1の昇圧回路又は第1の制圧回路が挿入され、第2のエージングデバイスのドレインと第1のエージングデバイスのゲートとの間に第2の昇圧回路又は第2の制圧回路が挿入されていることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 第1のエージングデバイスは、第1の寿命τ1を持つノーマリオン型のエージングデバイスと第2の寿命τ2を持つノーマリオフ型のエージングデバイスとを直列接続したものであり、第2のエージングデバイスは、第3の寿命τ3を持つノーマリオン型のエージングデバイスと第4の寿命τ4を持つノーマリオフ型のエージングデバイスとを直列接続したものであることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
- 前記ノーマリオン型の各エージングデバイスはそれぞれ複数のセルを並列接続させたものであり、前記ノーマリオフ型の各エージングデバイスはそれぞれ複数のセルを並列接続させたものであることを特徴とする請求項5記載の半導体装置。
- 電源側と電子機器側との間に挿入され、電荷を注入してから所定の寿命が経過するとオンするエージングデバイスからなり、
前記エージングデバイスのソースは前記電源側に接続され、前記エージングデバイスのドレインは前記電子機器側に接続され、前記エージングデバイスのゲートはドレインに接続されていることを特徴とする半導体装置。 - 前記ゲートとドレインとの間に昇圧回路又は制圧回路が挿入されていることを特徴とする請求項7記載の半導体装置。
- ソースが入力端に共通接続され、第1の寿命τ1でオンし、第2の寿命τ2(>τ1)でオフするN個のエージングデバイスと、各々のエージングデバイスのドレインと出力端との間にそれぞれ挿入され、接続されたエージングデバイスがオンの時にオンし、他のエージングデバイスがオンの時にオフするスイッチ素子とを具備してなり、
1からN−1までの自然数iに対して第iのエージングデバイスのドレインが第i+1のエージングデバイスのゲートに接続され、第Nのエージングデバイスのドレインが第1のエージングデバイスのゲートに接続されてなることを特徴とする半導体装置。 - 第iのエージングデバイスのドレインと第i+1のエージングデバイスのゲートとの間に第iの昇圧回路又は制圧回路がそれぞれ挿入され、第Nのエージングデバイスのドレインと第1のエージングデバイスのゲートとの間に第Nの昇圧回路又は制圧回路が挿入されていることを特徴とする請求項9記載の半導体装置。
- 第1の寿命τ1と第2の寿命τ2は、前記エージングデバイス毎に異なることを特徴とする請求項9又は10記載の半導体装置。
- 前記エージングデバイスは、浮遊ゲートと制御ゲートを備えた2層ゲート構成のMOSFETであり、前記寿命は、前記浮遊ゲートへの電荷注入直後から前記エージングデバイスのオン・オフ状態が変化するまでの経過時間で定義されるものあることを特徴とする請求項1,7又は9記載の半導体装置。
- 請求項1〜12の何れかに記載の半導体装置の出力端に第1の機能ブロックを接続し、入力端に第2の機能ブロックを接続してなり、第2の機能ブロックが電力源を含むことを特徴とする半導体装置。
- 請求項1〜12の何れかに記載の半導体装置の出力端に第1の機能ブロック及び第2の機能ブロックを接続し、前記半導体装置の入力端に電力源を含む第3の機能ブロックを接続してなることを特徴とする半導体装置。
- 請求項1〜12の何れかに記載の半導体装置をN個用い、
第1の半導体装置の出力端に第1及び第2の機能ブロックが接続され、第1の半導体装置の入力端に第3の機能ブロックが接続され、
2からNまでの自然数iに対して、第iの半導体装置の出力端に第i−1の半導体装置の入力端が接続され、第iの半導体装置の入力端に第i+2の機能ブロックが接続されてなる、ことを特徴とする半導体システム。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004282058A JP4509721B2 (ja) | 2004-09-28 | 2004-09-28 | 半導体装置 |
US11/154,628 US7456480B2 (en) | 2004-09-28 | 2005-06-17 | Semiconductor device |
CNB2005101071753A CN100388495C (zh) | 2004-09-28 | 2005-09-28 | 半导体器件 |
US12/262,230 US20090058501A1 (en) | 2004-09-28 | 2008-10-31 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004282058A JP4509721B2 (ja) | 2004-09-28 | 2004-09-28 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006100388A JP2006100388A (ja) | 2006-04-13 |
JP4509721B2 true JP4509721B2 (ja) | 2010-07-21 |
Family
ID=36205680
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004282058A Expired - Fee Related JP4509721B2 (ja) | 2004-09-28 | 2004-09-28 | 半導体装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US7456480B2 (ja) |
JP (1) | JP4509721B2 (ja) |
CN (1) | CN100388495C (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4509721B2 (ja) | 2004-09-28 | 2010-07-21 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
JP4489000B2 (ja) * | 2005-10-12 | 2010-06-23 | 株式会社東芝 | 電子タイマー及びシステムlsi |
JP2008103675A (ja) * | 2006-09-22 | 2008-05-01 | Toshiba Corp | 半導体集積回路 |
JP4469877B2 (ja) | 2007-07-12 | 2010-06-02 | 株式会社東芝 | 電子装置 |
TWI445051B (zh) * | 2011-06-28 | 2014-07-11 | Univ Nat Chiao Tung | 半導體裝置及其操作方法與應用電路 |
US8963647B2 (en) * | 2013-02-20 | 2015-02-24 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Self-powered timer apparatus |
KR20150091895A (ko) * | 2014-02-04 | 2015-08-12 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 반도체 장치 및 그 동작방법 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004094922A (ja) * | 2002-07-08 | 2004-03-25 | Toshiba Corp | 有効期限付き機能利用装置 |
JP2004172404A (ja) * | 2002-11-20 | 2004-06-17 | Toshiba Corp | 半導体集積回路 |
JP2004326981A (ja) * | 2003-04-28 | 2004-11-18 | Toshiba Corp | 有効期限付き半導体記憶装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3251486B2 (ja) * | 1996-01-30 | 2002-01-28 | 三菱電機株式会社 | 回路遮断器およびそのテスト装置 |
JPH10189780A (ja) * | 1996-12-27 | 1998-07-21 | Sony Corp | 不揮発性半導体メモリ装置およびその製造方法 |
JP2000148310A (ja) * | 1998-11-04 | 2000-05-26 | Nec Yonezawa Ltd | 携帯用情報機器の選択型電源供給システム |
US7075284B2 (en) * | 2002-07-08 | 2006-07-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Time limit function utilization |
US6768286B2 (en) * | 2002-08-20 | 2004-07-27 | Lsi Logic Corporation | Battery charger system and method for providing detailed battery status and charging method information about multiple batteries |
JP3929887B2 (ja) * | 2002-12-25 | 2007-06-13 | 株式会社東芝 | 半導体集積回路、半導体集積回路モジュール、および、情報機器 |
JP4509721B2 (ja) | 2004-09-28 | 2010-07-21 | 株式会社東芝 | 半導体装置 |
US7170707B2 (en) * | 2004-11-09 | 2007-01-30 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Systems and methods for reducing power dissipation in a disk drive including an adjustable output voltage regulator |
JP4489000B2 (ja) * | 2005-10-12 | 2010-06-23 | 株式会社東芝 | 電子タイマー及びシステムlsi |
-
2004
- 2004-09-28 JP JP2004282058A patent/JP4509721B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-06-17 US US11/154,628 patent/US7456480B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-09-28 CN CNB2005101071753A patent/CN100388495C/zh not_active Expired - Fee Related
-
2008
- 2008-10-31 US US12/262,230 patent/US20090058501A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004094922A (ja) * | 2002-07-08 | 2004-03-25 | Toshiba Corp | 有効期限付き機能利用装置 |
JP2004172404A (ja) * | 2002-11-20 | 2004-06-17 | Toshiba Corp | 半導体集積回路 |
JP2004326981A (ja) * | 2003-04-28 | 2004-11-18 | Toshiba Corp | 有効期限付き半導体記憶装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN100388495C (zh) | 2008-05-14 |
US20060087360A1 (en) | 2006-04-27 |
JP2006100388A (ja) | 2006-04-13 |
CN1763953A (zh) | 2006-04-26 |
US20090058501A1 (en) | 2009-03-05 |
US7456480B2 (en) | 2008-11-25 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090825 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140514 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |