JP4498502B2 - Manufacturing method of substrate covered with thin plate and manufacturing apparatus thereof - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学フィルム等を貼り合せた基板に接着剤を介して薄いガラス等の別の基板やフィルムを貼合せ、薄板で被覆された基板を製造する製造方法及びその製造装置に関するものである。
【0002】
【従来技術】
電子部品や光学部品の製造において、種々の機能を付与した基板の表面に薄板ガラスを被覆したものを使用している。従来、薄板で被覆された基板を製造するには、例えば、基板と薄板とを接着剤を介して重ねた後、平面性の高い一対の板で挟み、接着剤層の厚みが所定の厚みになるまで加圧し、その後、接着剤を硬化させていた。しかし、この方法では、重ねた基板と薄板との間からはみ出した接着剤が基板や薄板の接着とは関係のない面に回り込むため、加圧に使用する平面性の高い板を再利用するのに支障を生じるだけでなく、接着剤層の厚みの制御の精度が不十分であり、部品が大型になるほど、各部分の加圧を一定圧に保つことも難しかった。さらに、加圧板により加圧されているため、密着度が高まっていて加圧板と複合基板との剥離も容易ではない等の不利があった。
【0003】
それに対し、基板をスピンナーの真空チャック上に装着し、液状の接着剤を滴下し、その上に薄板ガラスを重ねてエアー吹き付けにより加圧して接着剤を全面に行き渡らせ、その後、スピンナーを回転させて余剰の接着剤を飛散させて、両者を密着させ、真空チャックより取り外す方法が考えられた。(特開昭55−68040号公報)
【0004】
この方法は、それまでの技術の欠点をかなり解消はしたが、この方法で製造する複合基板は欠陥を内蔵していることが分かった。それは、薄板ガラスで被覆した表面の平面性が悪い点である。
その理由は、基板が研磨したものでない限り、肉厚のばらつきがあって平面性が不十分であり、この上に、あるいはこの上に加工されてできた他の層上に薄板ガラス等を貼り合わせると、下の基板の厚みムラが、ほぼそのままに最表面である薄板の表面の凹凸となるためである。
【0005】
また、上記の方法では、基板上に接着剤を滴下後、薄板ガラスを重ね合わせ時に、薄板ガラスや基板と接着剤との間に気泡が混入しやすく、その気泡による厚みムラが、最表面の薄板の表面の凹凸を生じたりして、高精度の部品が得られない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
したがって、本発明における課題は、厚みのムラが避けられない基板に薄板を貼り合わせる際の製品に生じる、薄板表面の凹凸を可能な限り解消した、薄板で被覆された基板の製造方法及びその製造装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明では上記課題を解決するために、薄板を直接エアチャックで固定すると撓んだり、破損したりするため、平面性を高めた定盤をまずエアチャック等で固定し、この定盤上に薄板を密着させることにより、定盤に接触した側の薄板の平面性を確保しておき、薄板の反対側には接着剤を介して、基板を置き、前記の薄板を上部のチャックを下に下ろして、接着剤層を加圧しながら、チャック上部と下部とを1軸で回転させ、接着剤の余剰の部分を除去することにより、従来行われている方法の致命的な欠陥を解消したものである。
【0008】
すなわち、請求項1の発明は、回転塗布機の被塗布体固定用チャック上部に平面性を高めた平坦面を有する定盤を前記平坦面側を下側にして固定する工程、前記定盤の平坦面側に被覆用の薄板を密着させる工程、被塗布体固定用チャック下部に基板を置く工程、前記基板上に接着剤の液体を滴下する工程、及び接着剤と薄板が接触するまで、前記被塗布体固定台の上部を下ろし、下部との距離を縮める工程、上部と下部とを一軸で回転させ、上部チャックにより接着剤層を加圧しながら、接着剤の余剰の部分を除去する工程とをこの記載順に行うことを特徴とする、この記載する順に行うことを特徴とする、薄板で被覆された基板の製造方法に関するものである。
【0009】
また、請求項2の発明は、請求項1において、接着剤が硬化性であり、被塗布体固定用チャックを回転させて接着剤の余剰部分を除去する工程を行った後、接着剤の硬化工程を行う基板の製造方法に関するものである。
請求項3の発明は、請求項2において、接着剤が電離放射線硬化性であり、硬化工程を電離放射線照射によって行う基板の製造方法に関するものである。
【0010】
また、請求項4の発明は、請求項1において、前記の被塗布体固定用チャック上部をチャック下部とは別の軸により、2軸により同期させて回転することによって接着剤の余剰の部分を除去する基板の製造方法に関するものである。
さらに、請求項5の発明は、請求項1において、接着剤の層の厚みを計測するための非接触式光センサによって所望膜厚になるように、被転写体固定用チャックの回転数と、及びチャック上部、チャック下部間の距離を調整する基板の製造方法に関するものである。
【0011】
請求項6の発明は、請求項1〜5のいずれかに記載する製造方法を用いた製造装置において、請求項1に記載の被塗布体固定用チャック上部に、定盤と被覆用の薄板を密着、固定させ、被塗布体固定用チャック下部に基板を静置して、前記基板上に接着剤の液体を滴下する、貼り合わせステージ部と、接着剤と薄板が接触するまで、前記被塗布体固定台の上部を下ろし、下部との距離を縮める下降部と、チャック上部と下部とを軸で回転させる回転部と、回転終了後、貼合せた基板と薄板間の接着剤の硬化工程を行うための電離放射線照射部とを設けたことを特徴とする、薄板で被覆された基板の製造装置に関するものである。
【0012】
【発明の実施の形態】
次に、本発明を実施の形態を挙げて更に詳細に説明する。
図1〜図5は、本発明の薄板で被覆された基板の製造方法及び製造装置を説明するための要部の断面図である。
本発明では、接着剤の塗布に、スピンナーと通称する回転塗布機を使用することが好ましい。スピンナーは回転軸の一端に真空吸引のできるエアチャックを有していて、被塗布体を固定しておく。塗布液は、別の加圧タンクに溜めておき、電磁弁の開閉時間の調整により一定量の塗料を吐出させて被塗布体上に滴下し、滴下後、回転軸を高速回転することにより、遠心力で滴下された塗料を被塗布体表面に広げるもので、比較的電子部品等の製造においてレジストの塗布等によく使用されているものである。
本発明においては、このようなスピンナーを単に接着剤の塗布のみに利用するものではなく、薄板の貼り合わせ及び接着剤の厚みの制御(厚みの制御は後記するが、チャック上部と下部との距離を調整することでも行う。)にも使用する。
【0013】
まず、図1に示すように、回転塗布機に設置されている、被塗布体固定用のアルミニウム製等のエアチャック上部5に定盤4を固定する。定盤4の固定は、機械的に行なう等、真空吸引以外の手段で固定しても構わない。定盤4の表側の面すなわち、エアチャックで固定したのとは反対側の面は、平面性を高めた平坦面である事が望ましく、フラットネスが0.5μm以下のもので、材質は例えば、石英ガラスのものを使用する。このように平面性を高めると、次に説明する薄板3の密着工程で、定盤4と薄板3が隙間無しに接するので、真空吸引を続けるような操作を伴なうこと無く、密着が保たれる。
【0014】
つまり、定盤4の平面性は、貼り合わせ後の製品の表面の平面性を作りだす事と、密着により薄板を固定することで、薄板が定盤4以外に何も接触することがないため、回転時に薄板へ余計な応力がかからず、安定した回転が得られるという2つの役割を果たす。従来のエアチャックも平面性を全く考慮していない訳ではないが、真空吸引のための開口部があるため、その部分で被塗布体が開口部内に吸引され、全体的に上側に凸の変形があり得る。本発明では、この点、エアチャックで剛性の高い定盤を固定し、真空吸引のための開口のない定盤の表面を利用する。
【0015】
定盤4の大きさは薄板3の大きさに匹敵するものであるが、定盤4は、図1に示すように、薄板3よりもひとまわり小さい方が、滴下された接着剤が、回転塗布機の回転により振り切られて飛び散り、薄板の周囲の裏面の定盤側に回り込み定盤に付着して、洗浄の必要を生じる等の煩雑さが生じないので、好ましい。逆に、定盤4があまり小さいと、薄板3を密着させる能力が減り、定盤からはみ出した部分の薄板3は、規制するものがないため、カールを生じたりすることで、基板と薄板が部分的に貼り付いてしまい、平面性が低下する恐れがあるからである。その意味で、定盤4の大きさは、被塗布体の基板の60〜90%程度が好ましい。また、定盤4は、エアチャック等の固定手段により撓むことがないよう、十分厚い方がよい。一例として、65mm×65mm、厚み100μmの薄板ガラスを置くための定盤4は、53mm×53mm、厚み6mmである。因みに、基板の大きさは、65mm×65mm、厚み1.1mmである。
【0016】
上記の固定された定盤4に薄板3を接触させて密着する際には、エアブロウを適用する等の手段を行う。この密着により、定盤4の表面は高度の平面性が保たれているために、ここに密着した薄板3は、薄板3自身に多少の撓みがあっても定盤4により矯正され、薄板3の上面(図示)、即ち、定盤4に接している面が、定盤4のもつ平面性をもつようになる。
【0017】
図2はエアチャック下部2に基板1を置き、その置かれた基板1の上に接着剤6を滴下した様子を示すものである。液状の接着剤6をディスペンサー等を使用して滴下する際、貼り合わせに十分かつ過剰でない量になるよう、吐出条件を設定しておき、気泡が混入しないよう注意して行う。
図3は、上記の図1に示したエアチャック上部5に定盤4を固定し、該定盤4に被覆用の薄板が密着されたものが、図2に示すエアチャック下部2に置かれた基板1の上に滴下された接着剤6と、薄板3とを重ねて置いた様子を示すものである。重ねる定盤4とエアチャック上部5の重量や、接着剤6の吐出量にもよるが、接着剤が多少広がって、図3に示すような状態になる。
【0018】
続いて、スピンナーを高速回転させると、接着剤が薄板と基板の間の周囲まで行き渡り、それに伴って接着剤の厚みが減少し、余った接着剤が周囲よりはみ出すので、余剰の接着剤を遠心力により振り切る。このとき、接着剤の粘度、経過時間に対する回転数(=回転数/分)、および回転時間を調整する事により、接着剤の厚みの制御を行なうことができる。また、エアチャック上部5を下降させて、エアチャック上部5とエアチャック下部2との間の距離を調整することで、接着剤層6の厚さを制御する。
以上の工程により、薄板と基板が接着剤により積層される。図4は、積層された状態を示す。
【0019】
接着剤の種類によっては、その後、回転を停止させるか、あるいは所定の時間内、高速回転させた後に、回転数を落として低回転数で回転させたまま、接着剤が熱硬化性のものであれば、ヒーターまたは温風等で加熱し、接着剤が電離放射線硬化性のものであれば、電離放射線(例えば、電子線や紫外線)を照射して、接着剤を硬化させる。この後の工程で、基板と薄板が一体になったものを定盤から剥がす必要があるため、接着剤としては電離放射線硬化性のものを使用し、電離放射線照射により十分硬化させておく事が望ましい。
硬化の後、貼り合わせた製品をエアブロウまたはプラスチック製のへラのようなセパレーターを用いて定盤4と薄板面とを剥離する。エアブロウやセパレーターによる剥離を容易にする意味で、定盤4の上の面の周囲を面取り部を形成して幅の狭い斜面を周囲に形成しておくと、剥離するための応力がかかりやすくて良い。このようにして剥離して得られた、薄板3で被覆された基板1の積層状態を図5に示す。
【0020】
次に、本発明の薄板で被覆された基板の製造装置は、図6(a)に示すように被塗布体固定用チャック上部5に、定盤4と被覆用の薄板3を密着、固定させ、被塗布体固定用チャック下部2に基板1を静置し、前記基板1上に接着剤6の液体を滴下する、貼り合わせステージ部7を有する。また、接着剤6と薄板3が接触するまで、前記被塗布体固定台の上部5を下ろし、下部2との距離を縮める下降部8と、チャック上部5と下部2とを軸12で回転させる回転部9を有する。また、図6(b)に示すように回転終了後、貼合せた基板1と薄板3間の接着剤6の硬化工程を行うための電離放射線照射部10とを設けた構成となっている。
【0021】
また、接着剤の層の厚みを計測するために、非接触式光センサ15をエアチャック上部5の一部の開口部よりセンシングして、接着剤層6が所望膜厚になるように、被転写体固定用チャックの回転数と、及びチャック上部、チャック下部間の距離を調整することが好ましい。
また、エアチャック上部5と下部2を1軸12で回転させるだけではなく、上部5の回転は軸12により、また下部2の回転は軸13により各軸を中心に別々の軸で互いに同期させて回転させることが接着剤層のより精度の高い膜厚の制御を行うことができる。
【0022】
本発明の製造方法により実施した例を以下に示す。本方法においては、接着剤の塗布に、スピンナーと通称する図6(a)に示すような上部チャック5が上下し、上部及び下部間の距離が可変する一体で回転する回転塗布機を使用する。スピンナーの上部チャック5は回転軸の一端に真空吸引のできるエアチャックを有する。薄板ガラス(AF45:ショット社製、熱膨張係数45×10-7/℃、厚さ100μm140mm□)を平坦性をする定盤(AL硝子の研磨処理品:旭硝子社製、熱膨張係数37×10-7/℃、厚さ6.35mm、140mm□、平坦性0.5μm以下)に何も介さずに真空密着状態で貼り付け、薄板側を下にして、それをエアチャック5に固定する。平坦性を有する定盤への密着は双方共、洗浄済のものを使用し、貼付け時に、異物等の混入を防ぐためクリーンルーム内の清浄度の高いクリーンベンチ内で行う。貼り付きが悪い場合には揮発性の有機溶媒を適量、介しても良い。この定盤は薄板ガラスの反りを防止するため薄板硝子よりも面積をほぼ同じにするのが良い。
【0023】
次に、チャック下部2の上に機能性フィルム層を上にして基板1を載せる。この時、回転時に飛ばないよう基板は端面を支持ピン14で支持されている。或いは、真空吸引で吸着しても良いが、基板が薄い場合は変形する可能性があり。応力がかからない状態で載せるのが望ましい。
接着剤を基板1の上に気泡を混入させないように注意しながらスポイトやディスペンサー等を用いて一定量滴下する。接着剤は温調管理されているため接着剤の粘度を一定に保つことができる。
滴下後は、接着剤と薄板硝子の表面とが触れるまで、上下チャック間距離を狭め、と同時に回転させながら、さらにチヤツク間距離を狭めることにより、加圧に加えて基板と薄板ガラス間から不要な接着剤を飛ばす。接着剤層の厚みは上下チャック間距離、チャックの回転数、回転時間等を変えることで制御することができる。また、上部チャック5の一部に開口部を設け、そこから定盤を通して非接触のレーザ変位センサ(キーエンス製LT8100)15にて接着剤層の厚みを計測し、所望膜厚になった時点で回転を終了することも可能である。
【0024】
単に、基板と薄板を積層した場合には、ガラス基板と薄板からはみ出た接着剤が裏回りし、定盤に付着したりするが、はみ出た接着剤をスピンで飛ばしてしまうため、裏回りがなく仕上がりが綺麗となるのみならず、定盤の再利用が可能である。
所望の膜厚となったら、硝子間のUV接着剤が未だ硬化していないため、基板等に蝕れずに、続けてUV照射(100mW/cm2)を行う。UV照射装置10により、照射は、低速でチャックを定回転させながらガラス端面から行う。或いは、上部の材質を平面性をもつ透明なもので作製することで、上方から照射することも可能である。
UV照射により接着剤を硬化後は、定盤と貼り合わせた基板とを、エアブロウや、セパレータなどの道具を用いて容易に引き離すことができる。
【0025】
【発明の効果】
請求項1の発明によれば、定盤の平面性が薄板の平面性を矯正するため、表面の平面性が高い薄板で被覆された基板が製造できる。
請求項2の発明によれば、請求項1の発明の効果に加え、接着剤が硬化されているので、貼り合わせによって表面に形成された平面性が安定に維持できる。
請求項3の発明によれば、請求項2の発明の効果に加え、接着剤が電離放射線の照射によりごく短時間で硬化するため、薄板の平面性の矯正により、応力が生じたとしても、硬化が完了しているために、元に戻ることがない。
【0026】
請求項4の発明によれば、被転写体固定用チャック上部と下部を別の軸で互いに同期させて回転させることが接着剤層のより精度の高い膜厚の制御を行うことができる。
請求項5の発明によれば、非接触式光センサを用いて接着剤層の厚みを非常に正確に計測でき、また被転写体固定用チャックの回転数と、及びチャック上部、チャック下部間の距離を調整することで、均一で平滑な接着剤層、それはすなわち、表面の平面性が高い薄板で被覆された基板が得られることである。
【0027】
請求項6発明によれば、請求項1〜5のいずれかの発明の効果に加え、以下に挙げるような効果が発揮できる。
(1)基板と薄板を貼り合わせる際に、余剰の接着剤をチャック台を回転させることで、チャック周辺部に飛ばすことができ、基板や定盤等を余剰の接着剤で汚すことがない。
(2)ガラス基板上の機能性フィルムが多面化等で、基板が大版化した場合でも実現が容易で装置がさほど大きくならない。
(3)本製造装置は、接着剤温度を一定とする加熱冷却装置により接着剤の粘性を一定管理することができ、接着剤滴下時に滴下量を吐出時間により制御することで滴下時に混入し易い気泡の発生がなく安定した滴下が実現できる。
(4)チャック回転中に接着剤層の膜厚測定が可能であるため、所望の膜厚を再現良く確保することができる。
(5)上下のチャックの平行度が得られているため、再現性良く、貼り合わせた基板と薄板ガラスの平行度が得られる。
(6)本製造装置は、クリーンルーム等で使用する場合、装置の上方にはヘパフィルタを取り付けてあるため、人手による製造に比ベ、製造中、製品への異物混入が軽減する。
(7)接着剤硬化時に、UV照射量を積算光量でモニタすることで、UVランプの劣化の影響なく製品への安定した照射量が確保できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】エアチャック上部に定盤と薄板を固定した状態を示す断面図である。
【図2】エアチャック下部に基板を置き、基板上に接着剤を滴下した状態を示す断面図である。
【図3】エアチャック上部に固定された定盤と薄板が、エアチャック下部に置かれた基板上の滴下された接着剤と、重ねて、接着剤が多少広がった状態を示す断面図である。
【図4】エアチャック上下で挟み込んで加圧し、さらにチャックとともに回転し、薄板と基板が積層した状態を示す断面図である。
【図5】本発明の製造方法によって得られる製品の断面図である。
【図6】本発明の製造装置の概略を説明する図である。
【符号の説明】
1 基板
2 チャック下部
3 薄板
4 定盤
5 チャック上部
6 接着剤(層)
7 貼合せステージ部
8 下降部
9 回転部
10 電離放射線照射部
11 上部下部チャック位置合わせ用の軸
12、13 軸
14 支持ピン
15 非接触式光センサ[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a manufacturing method and a manufacturing apparatus for manufacturing a substrate covered with a thin plate by bonding another substrate such as thin glass or a film to the substrate bonded with an optical film or the like via an adhesive. .
[0002]
[Prior art]
In the manufacture of electronic components and optical components, a substrate with various functions coated with thin glass is used. Conventionally, in order to manufacture a substrate coated with a thin plate, for example, after the substrate and the thin plate are overlapped with an adhesive, the substrate is sandwiched between a pair of flat plates, and the thickness of the adhesive layer is set to a predetermined thickness. The adhesive was cured until it was. However, with this method, the adhesive that protrudes between the stacked substrate and thin plate goes around the surface that is not related to the adhesion of the substrate or thin plate, so the plate with high flatness used for pressurization is reused. In addition to causing problems, the accuracy of controlling the thickness of the adhesive layer is insufficient, and the larger the parts, the more difficult it is to keep the pressure at each part constant. Further, since the pressure is applied by the pressure plate, there is a disadvantage that the degree of adhesion is increased and the pressure plate and the composite substrate are not easily separated.
[0003]
On the other hand, the substrate is mounted on a vacuum chuck of a spinner, a liquid adhesive is dropped, a thin glass sheet is overlaid thereon, and the adhesive is spread over the entire surface by air blowing, and then the spinner is rotated. Then, a method was considered in which excess adhesive was scattered to bring them into close contact and removed from the vacuum chuck. (Japanese Patent Laid-Open No. 55-68040)
[0004]
Although this method has substantially eliminated the drawbacks of the prior art, it has been found that the composite substrate produced by this method has built-in defects. That is the poor flatness of the surface covered with thin glass.
The reason is that, unless the substrate is polished, the thickness varies and the flatness is insufficient, and a thin glass sheet or the like is pasted on this or another layer formed on this. When combined, the thickness unevenness of the lower substrate becomes unevenness on the surface of the thin plate which is the outermost surface almost as it is.
[0005]
In the above method, after the adhesive is dropped on the substrate, bubbles are likely to be mixed between the thin glass or the substrate and the adhesive when the thin glass is laminated, and the thickness unevenness due to the bubbles is caused on the outermost surface. High precision parts cannot be obtained due to unevenness of the surface of the thin plate.
[0006]
[Problems to be solved by the invention]
Therefore, the problem in the present invention is that a method for producing a substrate covered with a thin plate, in which unevenness on the surface of the thin plate, which occurs in a product when a thin plate is bonded to a substrate in which unevenness in thickness is unavoidable, is eliminated as much as possible, and its production To provide an apparatus.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In the present invention, in order to solve the above-mentioned problem, if a thin plate is directly fixed with an air chuck, it is bent or damaged. Therefore, a surface plate with improved flatness is first fixed with an air chuck or the like, and the surface plate is placed on the surface plate. By attaching the thin plate, the flatness of the thin plate on the side in contact with the surface plate is secured, and the substrate is placed on the opposite side of the thin plate with an adhesive, and the thin plate is placed with the upper chuck down. Lowering the adhesive layer and rotating the upper and lower chucks around one axis to remove the excess part of the adhesive, eliminating the fatal defects of the conventional method It is.
[0008]
That is, the invention of claim 1 is a step of fixing a platen having a flat surface with improved flatness on the upper part of the chuck for fixing the object to be coated of the spin coater with the flat surface side facing down, The step of closely attaching a coating thin plate to the flat surface side, the step of placing a substrate under the chuck for fixing the object to be coated, the step of dripping the adhesive liquid onto the substrate, and until the adhesive and the thin plate come into contact with each other, A step of lowering the upper part of the substrate fixing base and reducing the distance from the lower part, a step of rotating the upper part and the lower part uniaxially, removing an excess part of the adhesive while pressing the adhesive layer with the upper chuck; and The present invention relates to a method for manufacturing a substrate covered with a thin plate, which is performed in the order of description.
[0009]
Further, the invention of
The invention of
[0010]
According to a fourth aspect of the present invention, in the first aspect, the upper part of the chuck for fixing the object to be coated is rotated in synchronization with the two axes by an axis different from the lower part of the chuck, thereby removing an excess portion of the adhesive. The present invention relates to a method for manufacturing a substrate to be removed.
Further, the invention of
[0011]
A sixth aspect of the present invention is the manufacturing apparatus using the manufacturing method according to any one of the first to fifth aspects, wherein the surface plate and the coating thin plate are provided on the upper part of the chuck for fixing the object to be coated according to the first aspect. Adhering, fixing, and placing the substrate under the chuck for fixing the object to be coated, and dropping the adhesive liquid onto the substrate, until the bonding stage part and the adhesive and the thin plate are in contact with each other A lowering part that lowers the upper part of the body fixing base and shortens the distance from the lower part, a rotating part that rotates the upper part and lower part of the chuck around the axis, and a hardening process of the adhesive between the bonded substrate and the thin plate after the rotation is completed. The present invention relates to an apparatus for manufacturing a substrate covered with a thin plate, characterized in that an ionizing radiation irradiation unit is provided.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Next, the present invention will be described in more detail with reference to embodiments.
FIG. 1 to FIG. 5 are cross-sectional views of main parts for explaining a method and apparatus for producing a substrate covered with a thin plate of the present invention.
In the present invention, it is preferable to use a spin coater called a spinner for applying the adhesive. The spinner has an air chuck capable of vacuum suction at one end of the rotating shaft, and fixes the object to be coated. The coating liquid is stored in a separate pressurized tank, and a fixed amount of paint is discharged by adjusting the opening / closing time of the solenoid valve and dropped onto the coated body.After dropping, the rotating shaft is rotated at a high speed, It spreads paint applied by centrifugal force on the surface of an object to be coated, and is relatively often used for resist coating in the production of electronic parts and the like.
In the present invention, such a spinner is not merely used for the application of an adhesive, but the bonding of thin plates and the control of the thickness of the adhesive (thickness control will be described later, but the distance between the upper part and the lower part of the chuck). It is also used by adjusting.
[0013]
First, as shown in FIG. 1, the
[0014]
In other words, because the flatness of the
[0015]
Although the size of the
[0016]
When the
[0017]
FIG. 2 shows a state in which the substrate 1 is placed on the
FIG. 3 shows a state in which a
[0018]
Subsequently, when the spinner is rotated at a high speed, the adhesive spreads to the periphery between the thin plate and the substrate, and the thickness of the adhesive decreases accordingly, and the excess adhesive protrudes from the surroundings. Shake off by force. At this time, the thickness of the adhesive can be controlled by adjusting the viscosity of the adhesive, the rotational speed with respect to the elapsed time (= rotational speed / minute), and the rotational time. Further, the thickness of the
Through the above steps, the thin plate and the substrate are laminated with the adhesive. FIG. 4 shows a stacked state.
[0019]
Depending on the type of adhesive, after that, the rotation is stopped, or after high speed rotation within a predetermined time, the rotation speed is reduced and the adhesive is thermosetting while rotating at a low speed. If there is, it is heated with a heater or hot air, and if the adhesive is ionizing radiation curable, the adhesive is cured by irradiating with ionizing radiation (for example, an electron beam or ultraviolet rays). In the subsequent process, it is necessary to peel off the integrated substrate and thin plate from the surface plate, so use an ionizing radiation curable adhesive as the adhesive and cure it sufficiently by irradiation with ionizing radiation. desirable.
After curing, the
[0020]
Next, in the apparatus for manufacturing a substrate coated with a thin plate of the present invention, as shown in FIG. 6A, the
[0021]
Further, in order to measure the thickness of the adhesive layer, the non-contact
Further, not only the air chuck
[0022]
The example implemented by the manufacturing method of this invention is shown below. In this method, a spin coater, which is commonly called a spinner, moves up and down as shown in FIG. 6A, and rotates integrally with a variable distance between the upper and lower portions. . The
[0023]
Next, the substrate 1 is placed on the chuck
A predetermined amount of the adhesive is dropped on the substrate 1 using a dropper or a dispenser while taking care not to allow air bubbles to enter the substrate 1. Since the temperature of the adhesive is controlled, the viscosity of the adhesive can be kept constant.
After dripping, the distance between the upper and lower chucks is reduced until the adhesive comes in contact with the surface of the thin glass, and at the same time, the distance between the chucks is further reduced while rotating. Skip the glue. The thickness of the adhesive layer can be controlled by changing the distance between the upper and lower chucks, the number of rotations of the chuck, the rotation time, and the like. In addition, an opening is provided in a part of the
[0024]
If the substrate and the thin plate are simply laminated, the adhesive that protrudes from the glass substrate and the thin plate will turn around and adhere to the surface plate. Not only is the finish beautiful, but the surface plate can be reused.
When the desired film thickness is obtained, the UV adhesive between the glasses has not yet been cured, so that UV irradiation (100 mW / cm 2 ) is continuously performed without being eroded by the substrate or the like. Irradiation is performed by the
After the adhesive is cured by UV irradiation, the base plate and the bonded substrate can be easily separated using a tool such as an air blower or a separator.
[0025]
【The invention's effect】
According to the invention of claim 1, since the flatness of the surface plate corrects the flatness of the thin plate, a substrate coated with a thin plate having a high surface flatness can be produced.
According to the invention of
According to the invention of
[0026]
According to the fourth aspect of the present invention, it is possible to control the thickness of the adhesive layer with higher accuracy by rotating the upper and lower parts of the chuck for fixing the transfer body in synchronism with each other by another shaft.
According to the invention of
[0027]
According to the invention of
(1) When the substrate and the thin plate are bonded together, the excess adhesive can be blown to the periphery of the chuck by rotating the chuck base, and the substrate and the surface plate are not soiled with the excess adhesive.
(2) Even when the functional film on the glass substrate is multifaceted, etc., and the substrate is enlarged, it is easy to realize and the apparatus is not so large.
(3) This manufacturing apparatus can control the viscosity of the adhesive by a heating / cooling device that keeps the adhesive temperature constant, and is easy to be mixed at the time of dropping by controlling the dropping amount by the discharge time when dropping the adhesive. There is no generation of bubbles and stable dripping can be realized.
(4) Since the film thickness of the adhesive layer can be measured during chuck rotation, a desired film thickness can be ensured with good reproducibility.
(5) Since the parallelism of the upper and lower chucks is obtained, the parallelism between the bonded substrate and the thin glass can be obtained with good reproducibility.
(6) When this manufacturing apparatus is used in a clean room or the like, a hepa filter is attached above the apparatus, so that contamination of the product during production is reduced compared to manual manufacturing.
(7) When the adhesive is cured, by monitoring the UV irradiation amount with the integrated light amount, it is possible to ensure a stable irradiation amount to the product without being affected by the deterioration of the UV lamp.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a state where a surface plate and a thin plate are fixed to an upper portion of an air chuck.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state where a substrate is placed under the air chuck and an adhesive is dropped on the substrate.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state in which the surface plate and the thin plate fixed on the upper part of the air chuck overlap with the adhesive dropped on the substrate placed on the lower part of the air chuck, and the adhesive is spread a little. .
FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in which a thin plate and a substrate are stacked by being sandwiched and pressurized between the upper and lower air chucks and further rotated together with the chuck.
FIG. 5 is a cross-sectional view of a product obtained by the manufacturing method of the present invention.
FIG. 6 is a diagram for explaining the outline of the production apparatus of the present invention.
[Explanation of symbols]
1
7
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Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50155243A (en) * | 1974-06-05 | 1975-12-15 | ||
JPS6327577A (en) * | 1986-07-21 | 1988-02-05 | Ushio Inc | Photo-bonding process and apparatus therefor |
JPH01273243A (en) * | 1988-04-25 | 1989-11-01 | Mitsubishi Kasei Corp | Method of sticking optical disk |
JPH0520714A (en) * | 1991-07-15 | 1993-01-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method and apparatus for producing optical disk |
JPH0917039A (en) * | 1995-06-30 | 1997-01-17 | Global Mach Kk | Production of optical disk and apparatus for production therefor |
JPH1140663A (en) * | 1997-07-16 | 1999-02-12 | Sony Corp | Method for forming multilayered wiring |
JP2000160107A (en) * | 1998-11-30 | 2000-06-13 | Dainippon Printing Co Ltd | Production of substrate covered with thin plate |
JP2000221869A (en) * | 1999-01-28 | 2000-08-11 | Dainippon Printing Co Ltd | Production of hologram molding |
JP2000513654A (en) * | 1997-04-30 | 2000-10-17 | ステアーグ ハマテヒ アクチエンゲゼルシャフト | Method and apparatus for bonding two substrates |
JP4422249B2 (en) * | 1999-09-28 | 2010-02-24 | 大日本印刷株式会社 | Manufacturing method of substrate covered with thin plate and manufacturing apparatus thereof |
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Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50155243A (en) * | 1974-06-05 | 1975-12-15 | ||
JPS6327577A (en) * | 1986-07-21 | 1988-02-05 | Ushio Inc | Photo-bonding process and apparatus therefor |
JPH01273243A (en) * | 1988-04-25 | 1989-11-01 | Mitsubishi Kasei Corp | Method of sticking optical disk |
JPH0520714A (en) * | 1991-07-15 | 1993-01-29 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Method and apparatus for producing optical disk |
JPH0917039A (en) * | 1995-06-30 | 1997-01-17 | Global Mach Kk | Production of optical disk and apparatus for production therefor |
JP2000513654A (en) * | 1997-04-30 | 2000-10-17 | ステアーグ ハマテヒ アクチエンゲゼルシャフト | Method and apparatus for bonding two substrates |
JPH1140663A (en) * | 1997-07-16 | 1999-02-12 | Sony Corp | Method for forming multilayered wiring |
JP2000160107A (en) * | 1998-11-30 | 2000-06-13 | Dainippon Printing Co Ltd | Production of substrate covered with thin plate |
JP2000221869A (en) * | 1999-01-28 | 2000-08-11 | Dainippon Printing Co Ltd | Production of hologram molding |
JP4422249B2 (en) * | 1999-09-28 | 2010-02-24 | 大日本印刷株式会社 | Manufacturing method of substrate covered with thin plate and manufacturing apparatus thereof |
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