JPH1159004A - Film forming printing block and film forming method using the film forming printing block - Google Patents

Film forming printing block and film forming method using the film forming printing block

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JPH1159004A
JPH1159004A JP22689197A JP22689197A JPH1159004A JP H1159004 A JPH1159004 A JP H1159004A JP 22689197 A JP22689197 A JP 22689197A JP 22689197 A JP22689197 A JP 22689197A JP H1159004 A JPH1159004 A JP H1159004A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film forming printing block on which the thickness of a formed film is not thick on edges and also provide a film forming method using the film forming printing block. SOLUTION: A plurality of protruded sections 36 are formed on one face of a film forming printing block 1, while a first area 4 on which protruded sections 36 are formed in the given density and a second area 5, on which protruded sections are formed in the density lower than the given density and formed on the edges of the first area 4, are formed on the other face. In a film forming method, a liquid is introduced between the protruded sections of the film forming printing block 1, and the film forming printing block 1 is pressed on a matter to be printed to form a film.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば表面に供給
された配向液を押し付けて一定の膜厚で薄膜を形成する
薄膜形成用印刷版及びこの薄膜形成用印刷版を用いた薄
膜形成方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printing plate for forming a thin film, for example, by pressing an alignment liquid supplied to the surface to form a thin film with a constant thickness, and a method for forming a thin film using the printing plate for forming a thin film. .

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、液晶パネルの製造工程において、
ガラス基板上に配向膜を形成する手法としては、表面に
複数の凸部が形成された薄膜形成用印刷版を用いてガラ
ス基板上に配向膜を形成することが公知となっている。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a process of manufacturing a liquid crystal panel,
As a method for forming an alignment film on a glass substrate, it is known to form an alignment film on a glass substrate using a printing plate for forming a thin film having a plurality of projections formed on the surface.

【0003】そして、配向膜等の薄膜が形成された一対
のガラス基板は、約5〜10μm程度の間隔を介して配
向膜等形成面を突き合わせて周囲にシール剤が塗布され
て接着される。そして、これら一対のガラス基板の間隙
には、液晶が注入され、液晶パネルを完成させる。
[0003] A pair of glass substrates on which a thin film such as an alignment film is formed are bonded to each other with a sealing agent applied to the periphery of the pair of glass substrates with the surfaces on which the alignment film or the like is formed at intervals of about 5 to 10 µm. Then, a liquid crystal is injected into a gap between the pair of glass substrates to complete a liquid crystal panel.

【0004】上述のように薄膜形成用印刷版を用いて配
向膜を形成する手法においては、円柱状の印刷機版胴に
薄膜形成用印刷版を取り付けて行う。すなわち、配向膜
を形成する際には、この円柱状の印刷機版胴に取り付け
られた薄膜形成用印刷版に配向液を供給し、この印刷機
版胴の長軸を中心として回転させることにより、薄膜形
成用印刷版をガラス基板に押し付ける。
In the method of forming an alignment film using a printing plate for forming a thin film as described above, the printing plate for forming a thin film is mounted on a cylindrical printing plate cylinder. That is, when forming an alignment film, an alignment liquid is supplied to a printing plate for thin film formation attached to the cylindrical printing plate cylinder, and the printing liquid is rotated about the long axis of the printing plate cylinder. Then, the printing plate for forming a thin film is pressed against a glass substrate.

【0005】すなわち、この手法においては、薄膜形成
用印刷版の表面に形成された複数の凸部間に設けられて
いる凹部に配向液が滞留しており、この配向液が薄膜形
成用印刷版がガラス基板に押し付けられることでガラス
基板上に転写する。このとき、ガラス基板は、薄膜形成
用印刷版との所定の押し付け圧力を保持して送られるこ
とで表面に膜厚が一定の配向膜が転写されることとな
る。
In other words, in this method, the alignment liquid stays in a recess provided between a plurality of projections formed on the surface of the printing plate for forming a thin film. Is transferred onto the glass substrate by being pressed against the glass substrate. At this time, the glass substrate is sent while maintaining a predetermined pressing pressure against the printing plate for forming a thin film, so that an alignment film having a constant thickness is transferred to the surface.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような配向膜を形成する手法においては、印刷機版胴
を所定の回転速度、所定の押し付け圧力で薄膜形成用印
刷版に滞留している配向液を転写しているために、ガラ
ス基板に転写された配向膜に不良が生じてしまう。
However, in the method of forming an alignment film as described above, in the method of forming the alignment film, the printing plate cylinder is held at a predetermined rotation speed and a predetermined pressing pressure on the printing plate for forming a thin film. Since the liquid is transferred, a defect occurs in the alignment film transferred to the glass substrate.

【0007】すなわち、上述したような配向膜を形成す
る手法では、薄膜形成用印刷版が傾けられたときに略中
心部に滞留している配向液が縁部に向かって流れる。こ
のように縁部に配向液が流れると、薄膜形成用印刷版の
縁部には、滞留する配向液の量が多くなり液溜まりが生
じてしまう。したがって、このような薄膜形成用印刷版
に滞留した配向液が転写されたガラス基板上には、図1
9に示すように、縁部50において配向膜51の膜厚が
厚い部分が生じてしまう。また、上述したような配向膜
51の形成方法では、縁部50において局所的に配向液
の塊が生じてしまう。
In other words, in the method of forming an alignment film as described above, when the printing plate for forming a thin film is tilted, the alignment liquid staying substantially at the center flows toward the edge. When the alignment liquid flows to the edge in this manner, the amount of the alignment liquid that remains at the edge of the printing plate for forming a thin film increases, and a liquid pool is generated. Therefore, on the glass substrate to which the alignment liquid retained on such a thin film forming printing plate has been transferred, FIG.
As shown in FIG. 9, a portion where the thickness of the alignment film 51 is large at the edge portion 50 occurs. Further, in the method of forming the alignment film 51 as described above, a lump of the alignment liquid is locally generated at the edge portion 50.

【0008】この図19によれば、上述したような手法
により形成された配向膜51は、約80nm程度の形成
しようとしても、縁部50において約120nm〜約1
50nmの厚さで形成されるものと推測される。
According to FIG. 19, the alignment film 51 formed by the above-described method has a thickness of about 120 nm to about 1 nm at the edge 50 even if it is about 80 nm.
It is presumed to be formed with a thickness of 50 nm.

【0009】このように形成された配向膜51の縁部5
0において膜厚が厚くなってしまうと、一対のガラス基
板を対向させてシール剤で接着する際において、シール
剤の接着力が弱くなってしまい、不良率が高くなってし
まう。
The edge 5 of the alignment film 51 thus formed
If the film thickness is too large at 0, when the pair of glass substrates are opposed to each other and bonded with a sealant, the adhesive strength of the sealant is weakened, and the defective rate is increased.

【0010】さらに、形成された配向膜51の縁部50
に配向液の塊が生じてしまうと、製造されたガラス基板
の不良率がさらに大きくなってしまう。この配向膜51
の膜厚不均一による不良率は、例えば図20に示すよう
に、不良率の半分程度に相当し、約0.23%となる。
Further, an edge 50 of the formed alignment film 51 is formed.
If a lump of alignment liquid is generated in the glass substrate, the defective rate of the manufactured glass substrate is further increased. This alignment film 51
The defect rate due to non-uniform film thickness corresponds to about half of the defect rate, for example, as shown in FIG. 20, and is about 0.23%.

【0011】そこで、本発明は、上述したような実情に
鑑みて提案されたものであり、形成した薄膜の縁部にお
いても膜厚が厚くなるようなことがない薄膜形成用印刷
版及びこの薄膜形成用印刷版を用いた薄膜形成方法を提
供することを目的とする。
Accordingly, the present invention has been proposed in view of the above-mentioned circumstances, and a printing plate for forming a thin film in which the film thickness does not increase even at the edge of the formed thin film, and this thin film An object of the present invention is to provide a method for forming a thin film using a printing plate for forming.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決する本
発明にかかる薄膜形成用印刷版は、一方の面に複数の凸
部が形成されてなり、上記一方の面には所定の密度で凸
部が形成された第1の領域と、所定の密度よりも低密度
で凸部が形成され第1の領域の縁部に形成された第2の
領域とを有することを特徴とするものである。
A printing plate for forming a thin film according to the present invention for solving the above-mentioned problems has a plurality of projections formed on one surface, and the one surface has a predetermined density. It has a first region in which a convex portion is formed, and a second region in which a convex portion is formed at a density lower than a predetermined density and is formed at an edge of the first region. is there.

【0013】このように構成された薄膜形成用印刷版
は、第1の領域よりも第2の領域に形成されている凸部
の密度が低いので、凸部間に液体を供給して第1の領域
に滞留した液体が第2の領域に対して流れ込んでも縁部
において液体が多量に滞留するようなことがない。
In the printing plate for forming a thin film thus configured, since the density of the convex portions formed in the second region is lower than that in the first region, a liquid is supplied between the convex portions to form the first plate. Even if the liquid retained in the area flows into the second area, a large amount of liquid does not remain at the edge.

【0014】また、本発明に係る薄膜形成方法は、一方
の面に複数の凸部が形成されてなり、所定の密度で凸部
が形成された第1の領域と、所定の密度よりも低密度で
凸部が形成され第1の領域の縁部に形成された第2の領
域とを有する薄膜形成用印刷版に塗布液を供給し、薄膜
形成用印刷版を上記塗布液が塗布される被塗布物に対し
て押し付けることを特徴とする。
Further, the thin film forming method according to the present invention is characterized in that a plurality of convex portions are formed on one surface, and a first region in which the convex portions are formed at a predetermined density, and a first region having a lower density than the predetermined density. A coating liquid is supplied to a printing plate for forming a thin film having a convex portion formed at a density and a second region formed at an edge of the first region, and the coating liquid is applied to the printing plate for forming a thin film. It is characterized by pressing against an object to be coated.

【0015】このような薄膜形成方法は、塗布液を薄膜
形成用印刷版に供給して被塗布物に押し付ける際に、第
1の領域の凸部間に滞留した塗布液が第2の領域に対し
て流れ込んでも塗布液が液体に多量に滞留することがな
く、形成された薄膜の縁部の膜厚が中心部と比較して厚
くなるようなことがない。
According to such a thin film forming method, when the coating liquid is supplied to the printing plate for forming a thin film and pressed against an object to be coated, the coating liquid retained between the convex portions of the first area is applied to the second area. On the other hand, even when the coating liquid flows, the coating liquid does not stay in the liquid in a large amount, and the thickness of the edge portion of the formed thin film does not become larger than that of the center portion.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る薄膜形成用印
刷版及びこの薄膜形成用印刷版を用いた薄膜形成方法に
ついて図面を参照しながら説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a printing plate for forming a thin film according to the present invention and a method for forming a thin film using the printing plate for forming a thin film will be described with reference to the drawings.

【0017】この薄膜形成用印刷版1は、図1に示すよ
うに、ベースフィルム2と、このベールフィルム2上に
形成された樹脂部3とからなる。
As shown in FIG. 1, the printing plate 1 for forming a thin film includes a base film 2 and a resin portion 3 formed on the veil film 2.

【0018】ベースフィルム2は、厚さが約100μm
〜約200μm程度のポリエステルフィルムであり、一
方の面に光反応性を有する接着剤が塗布されている。こ
のベースフィルム2は、光が照射されることにより、接
着性が向上する性質を有する。
The base film 2 has a thickness of about 100 μm
A polyester film having a thickness of about 200 μm, and a photoreactive adhesive is applied to one surface. The base film 2 has a property of improving adhesiveness when irradiated with light.

【0019】樹脂部3は、このベールフィルム2上に形
成される感光性樹脂である。この樹脂部は、紫外線が照
射されることにより反応し、紫外線が照射された部分の
みが光化学的に液体から硬化して固体となる。なお、こ
の樹脂部3としては、例えばAPRレジンが使用可能で
ある。
The resin portion 3 is a photosensitive resin formed on the veil film 2. The resin portion reacts when irradiated with ultraviolet light, and only the portion irradiated with ultraviolet light is photochemically cured from a liquid to become a solid. In addition, as this resin part 3, for example, APR resin can be used.

【0020】この樹脂部3の表面3aには、図1に示す
ように複数の凸部3bが形成されることで、いわゆる
T.Y.(Tomomi Yamagata)パターンが構成されてい
る。すなわち、樹脂部3の表面3aには、略中心部に所
定の密度で凸部3bが形成された第1の領域4と、第1
の領域よりも高密度で凸部3bが形成された第2の領域
5とを有する。この第2の領域は、第1の領域の囲むよ
うに縁部に形成されている。凸部3bは、第1の領域4
に例えば平方インチ当たり400個形成され、第2の領
域5に例えば平方インチ当たり約200個形成されてい
る。
A plurality of protrusions 3b are formed on the surface 3a of the resin portion 3 as shown in FIG. Y. (Tomomi Yamagata) The pattern is composed. That is, the first region 4 in which the convex portion 3b is formed at a predetermined density at a substantially central portion on the surface 3a of the resin portion 3,
And the second region 5 in which the convex portions 3b are formed at a higher density than the region. The second region is formed at the edge so as to surround the first region. The convex portion 3b is provided in the first region 4
For example, 400 pieces per square inch are formed, and about 200 pieces per square inch are formed in the second region 5, for example.

【0021】また、これらの各凸部3bは、図2に示す
ように、長軸方向に対して約75度程度の角度を有して
配設されている。
Further, as shown in FIG. 2, each of the projections 3b is disposed at an angle of about 75 degrees with respect to the major axis direction.

【0022】この第2の領域5の幅t1は、約15μm
〜20μm程度に形成されている。また、図3に示すよ
うに、第1の領域4における各凸部3b間の深さt2
約20μm程度であり、第2の領域5における各凸部3
b間の深さt3は約30μm〜40μm程度である。
The width t 1 of the second region 5 is about 15 μm
It is formed to about 20 μm. As shown in FIG. 3, the depth t 2 between the projections 3 b in the first region 4 is about 20 μm, and each projection 3 b in the second region 5
depth t 3 of between b is about 30Myuemu~40myuemu.

【0023】なお、上述した第1の領域4及び第2の領
域5の平方インチ当たりの凸部3bの個数は、それぞれ
400個、200個の場合のみならず、第1の領域4の
平方インチ当たりの個数よりも第2の領域5の平方イン
チ当たりの個数が少なければ良い。
The number of protrusions 3b per square inch of the first region 4 and the second region 5 is not limited to 400 and 200, respectively, but also the square inch of the first region 4. It is only necessary that the number per square inch of the second region 5 be smaller than the number per unit.

【0024】この薄膜形成用印刷版1は、図4乃至図1
1に示すように製造される。すなわち、この薄膜形成用
印刷版1は、樹脂6を一定の厚さに成形する樹脂部成形
工程と、樹脂部成形工程で形成された樹脂6の一方の面
6aから露光するバック露光工程と、樹脂6の他方の面
6bから露光して凹凸面を形成する凹凸面形成工程と、
この凹凸面形成工程で露光された他方の面6bを洗浄す
る洗浄工程と、樹脂6に付着する水分を乾燥させる乾燥
工程と、露光することで樹脂6を硬化させる硬化工程
と、樹脂6の表面のべとつきをとる表面処理工程と、樹
脂6の表面のべとつきをとる空気中露光工程とを有す
る。
The printing plate 1 for forming a thin film is shown in FIGS.
It is manufactured as shown in FIG. That is, the printing plate 1 for forming a thin film includes a resin part molding step of molding the resin 6 to a constant thickness, a back exposure step of exposing from one surface 6a of the resin 6 formed in the resin part molding step, An uneven surface forming step of forming an uneven surface by exposing from the other surface 6b of the resin 6;
A cleaning step of cleaning the other surface 6b exposed in the uneven surface forming step, a drying step of drying moisture adhering to the resin 6, a curing step of curing the resin 6 by exposure, and a surface of the resin 6 It has a surface treatment step for tackiness and an air exposure step for tackiness on the surface of the resin 6.

【0025】樹脂部成形工程は、図4に示すように、ガ
ラス基板7上にネガフィルム8とガバーフィルム9とを
重ねて配設する。ここで、ネガフィルム8は、上述の凸
部3bとする部分に光を照射するように透明となされ、
それ以外の部分を光を透過しないようにしている。すな
わち、このネガフィルム8は、上述した第1の領域4と
第2の領域5とに対応したパターンが形成されているこ
ととなる。また、カバーフィルム9は、10μm〜20
μm程度の厚さで形成され、ネガフィルム8をガラス基
板7に密着させるとともに、ネガフィルム8及びガラス
基板7が樹脂6により汚れることを防ぐ機能を有してい
る。そして、このカバーフィルム9上に液体状の樹脂6
を形成するときには、ガバーフィルム9上に樹脂6を供
給し、パケット10を樹脂6上に配設した状態でベース
フィルム11をA方向に移動させることで樹脂6をほぼ
一定の厚さに成形してベースフィルム11を樹脂6上に
配設する。
In the resin part forming step, as shown in FIG. 4, a negative film 8 and a gabber film 9 are disposed on a glass substrate 7 so as to overlap each other. Here, the negative film 8 is made transparent so as to irradiate light to the above-mentioned portion to be the convex portion 3b.
The other parts are prevented from transmitting light. That is, in the negative film 8, a pattern corresponding to the first region 4 and the second region 5 described above is formed. The cover film 9 has a thickness of 10 μm to 20 μm.
It is formed with a thickness of about μm, and has a function of making the negative film 8 adhere to the glass substrate 7 and preventing the negative film 8 and the glass substrate 7 from being stained by the resin 6. Then, the liquid resin 6 is placed on the cover film 9.
Is formed, the resin 6 is supplied onto the governor film 9 and the base film 11 is moved in the direction A in a state where the packet 10 is disposed on the resin 6, whereby the resin 6 is formed into a substantially constant thickness. The base film 11 is disposed on the resin 6.

【0026】なお、上述のネガフィルム8は、第1の領
域4に対応したパターンが形成されたネガフィルム8と
第2の領域5に対応したパターンが形成されたネガフィ
ルム8とを重ねてガラス基板7上に配設したものであっ
ても良い。
The above-mentioned negative film 8 is formed by stacking a negative film 8 on which a pattern corresponding to the first region 4 is formed and a negative film 8 on which a pattern corresponding to the second region 5 is formed. It may be provided on the substrate 7.

【0027】バック露光工程では、図5に示すように、
上述した樹脂部成形工程で形成された樹脂6の一方の面
6aに対してガラス基板12を載置する。そして、この
ガラス基板12上に配設された光源13を使用して露光
する樹脂6の一方の面6aに対して露光を行う。このよ
うに露光を行うことにより、樹脂6の一方の面6a側が
反応して硬化するとともに、ベースフィルム11の接着
性が向上して樹脂6とベースフィルム11を接着させ
る。ここで、光源13の光量を調整することで樹脂6
は、ベースフィルム11から所定の深さt4まで露光さ
れて硬化することとなる。
In the back exposure step, as shown in FIG.
The glass substrate 12 is placed on one surface 6a of the resin 6 formed in the above-described resin part forming step. Then, exposure is performed on one surface 6a of the resin 6 to be exposed by using the light source 13 disposed on the glass substrate 12. By performing the exposure in this manner, the one surface 6a side of the resin 6 reacts and cures, and the adhesiveness of the base film 11 is improved, so that the resin 6 and the base film 11 are bonded. Here, by adjusting the light amount of the light source 13,
Is exposed to a predetermined depth t 4 from the base film 11 and is cured.

【0028】凹凸面形成工程では、図6に示すように、
ネガフィルム8が配設された樹脂6の他方の面6b側に
配設された光源14を使用して露光を行う。このように
樹脂6の他方の面6bから露光を行うことにより、ネガ
フィルム8に光を透過させて樹脂6の硬化を行う。ここ
で、ネガフィルム8の光を透過しない部分に相当する樹
脂6は、光が照射されず、硬化しないこととなる。この
ように、ネガフィルム8を介して露光を行うことによ
り、樹脂6の他方の面6bに光により硬化した部分と硬
化しない部分とのパターンを形成することができる。
In the uneven surface forming step, as shown in FIG.
Exposure is performed using a light source 14 disposed on the other surface 6b side of the resin 6 on which the negative film 8 is disposed. By performing the exposure from the other surface 6b of the resin 6 as described above, light is transmitted through the negative film 8 to cure the resin 6. Here, the resin 6 corresponding to the portion of the negative film 8 that does not transmit light is not irradiated with light and is not cured. By performing the exposure through the negative film 8 in this manner, a pattern of a portion cured by light and a portion not cured by light can be formed on the other surface 6b of the resin 6.

【0029】洗浄工程は、図7に示すように、上述の凹
凸面形成工程で露光された他方の面6bを洗浄液15で
洗浄する。このように樹脂6の他方の面6bを洗浄する
ことにより、上述の工程で露光されなかった未硬化部分
を除去する。ここで、樹脂6に対しては、界面活性剤で
あるWO(Wash Out)剤を所定の温度の水に溶かしたも
のを噴射することにより洗浄を行う。また、このWO剤
を噴射した際に発泡することを防止するために、消泡剤
を水に溶かした状態のものも使用して洗浄を行う。
In the cleaning step, as shown in FIG. 7, the other surface 6b exposed in the above-described uneven surface forming step is cleaned with a cleaning liquid 15. By cleaning the other surface 6b of the resin 6, the uncured portions that have not been exposed in the above-described steps are removed. Here, the resin 6 is washed by spraying a solution obtained by dissolving a WO (Wash Out) agent as a surfactant in water at a predetermined temperature. In order to prevent foaming when the WO agent is sprayed, cleaning is performed using a defoaming agent dissolved in water.

【0030】乾燥工程は、図8に示すように、ヒーター
により温風を樹脂6に対して吹き付けることにより、上
述の洗浄工程で樹脂6に付着した洗浄液15を乾燥させ
る。
In the drying step, as shown in FIG. 8, warm air is blown against the resin 6 by a heater to dry the cleaning liquid 15 attached to the resin 6 in the above-described cleaning step.

【0031】硬化工程では、図9に示すように、上述し
た乾燥工程を経た樹脂6を水中に浸す。そして、水面1
6上に配設したケミカルランプ17により露光すること
で樹脂6を硬化させる。
In the curing step, as shown in FIG. 9, the resin 6 having undergone the above-described drying step is immersed in water. And the water surface 1
The resin 6 is cured by exposing it with a chemical lamp 17 disposed on the resin 6.

【0032】表面処理工程では、図10に示すように、
例えばベンゾフェノン溶液18に樹脂6を浸すことによ
り樹脂6の表面のべとつきを低下させる。ここでベンゾ
フェノン溶液18は、ベンゾフェノンをエチルアルコー
ルに溶かしたものを使用している。
In the surface treatment step, as shown in FIG.
For example, by dipping the resin 6 in the benzophenone solution 18, the tackiness of the surface of the resin 6 is reduced. Here, the benzophenone solution 18 is a solution obtained by dissolving benzophenone in ethyl alcohol.

【0033】空気中露光工程は、図11に示すように、
樹脂6上に配設した殺菌ランプ19を照射することによ
り、樹脂6の表面のべとつきを低下させて、図1乃至図
3に示したような薄膜形成用印刷版1を完成させる。
In the air exposure step, as shown in FIG.
By irradiating a sterilizing lamp 19 disposed on the resin 6, the tackiness of the surface of the resin 6 is reduced, and the printing plate 1 for forming a thin film as shown in FIGS. 1 to 3 is completed.

【0034】なお、上述した薄膜形成用印刷版1の製造
工程においては、液体状の光硬化性樹脂を用いて薄膜形
成用印刷版1を製造する一例について説明したが、樹脂
部3となる光硬化性樹脂を板状に成形された固体状のも
のを用いてこの板状の光硬化性樹脂の表面に対して複数
の凸部を形成して図1に示す薄膜形成用印刷版1を製造
しても良い。
In the above-described manufacturing process of the printing plate 1 for forming a thin film, an example of manufacturing the printing plate 1 for forming a thin film using a liquid photocurable resin has been described. A plurality of convex portions are formed on the surface of the plate-shaped photocurable resin by using a solid-state resin obtained by molding a curable resin into a plate-like shape, thereby manufacturing the thin-film forming printing plate 1 shown in FIG. You may.

【0035】このように製造される薄膜形成用印刷版1
は、図12に示すような印刷機20に用いられる。この
印刷機20は、塗布液21の量を調整する調量ローラ2
2と、この調整ローラ22から供給された塗布液21を
薄膜形成用印刷版1に転写する転写ローラ23と、被印
刷物24に対して塗布液21を塗布する薄膜形成用印刷
版1と、この薄膜形成用印刷版1が外周面に取り付けら
れた版胴25と、被印刷物24が載置された定盤26
と、この定盤26を移動させることで被印刷物24を移
動させる移動テーブル27とからなる。
The printing plate 1 for forming a thin film manufactured as described above.
Is used in a printing machine 20 as shown in FIG. The printing press 20 includes a metering roller 2 that adjusts the amount of the coating liquid 21.
2, a transfer roller 23 for transferring the coating liquid 21 supplied from the adjusting roller 22 to the printing plate 1 for thin film formation, a printing plate 1 for thin film formation for applying the coating liquid 21 to a printing substrate 24, and A plate cylinder 25 on which the printing plate 1 for forming a thin film is mounted on an outer peripheral surface, and a platen 26 on which a printing material 24 is placed.
And a moving table 27 for moving the printing substrate 24 by moving the platen 26.

【0036】調量ローラ22は、円柱状に形成され、長
軸を中心として所定の方向Bに回転される。この調量ロ
ーラ22には、図示しない塗布液供給機構から塗布液2
1が供給され、塗布液21の量を調整する。
The metering roller 22 is formed in a columnar shape, and is rotated in a predetermined direction B about a long axis. The metering roller 22 receives a coating liquid 2 from a coating liquid supply mechanism (not shown).
1 is supplied to adjust the amount of the coating liquid 21.

【0037】転写ローラ23は、上述の調量ローラ22
と同様に円柱状に形成されて上述の調量ローラ22とは
逆方向Cに回転される。この転写ローラ23は、外壁に
回転方向に沿って溝23aが形成されている。この転写
ローラ23は、上述の調量ローラ22から塗布液21が
供給され、薄膜形成用印刷版1に対して一様に塗布液2
1を転写する。そして、薄膜形成用印刷版1には、各凸
部3b間に塗布液21が供給されることとなる。
The transfer roller 23 is provided with the above-described metering roller 22.
Is formed in a columnar shape in the same manner as described above, and is rotated in the direction C opposite to that of the above-described metering roller 22. The transfer roller 23 has a groove 23a formed on the outer wall along the rotation direction. The transfer roller 23 is supplied with the coating liquid 21 from the above-mentioned metering roller 22 and uniformly applies the coating liquid 2 to the printing plate 1 for thin film formation.
Transfer 1 Then, the coating liquid 21 is supplied to the printing plate 1 for thin film formation between the convex portions 3b.

【0038】ここで、転写ローラ23により塗布液21
が供給された薄膜形成用印刷版1は、図2に示すよう
に、第2の領域5の各凸部3b間の面積が多く、かつ、
各凸部3b間の深さt3が大きくなっている。このよう
な形状の薄膜形成用印刷版で1は、第1の領域4に供給
されて滞留した塗布液21が深さt2で滞留するのに対
して第2の領域5に供給されて滞留した塗布液21が深
さt3以下となるように供給されることとなる。したが
って、このような薄膜形成用印刷版1では、第1の領域
4から第2の領域5に塗布液21が流れ込んでも、第2
の領域4の各凸部3b間に滞留させることができるの
で、縁部のみで多量に塗布液21が滞留することがな
い。
Here, the coating liquid 21 is transferred by the transfer roller 23.
As shown in FIG. 2, the printing plate 1 for forming a thin film has a large area between the convex portions 3b of the second region 5, and
Depth t 3 of between the convex portions 3b is large. In the printing plate 1 for forming a thin film having such a shape, the coating liquid 21 supplied to the first area 4 and stays at the depth t 2 while being supplied to the second area 5 and staying there. The applied coating solution 21 is supplied so as to have a depth of t 3 or less. Therefore, in such a printing plate 1 for forming a thin film, even if the coating solution 21 flows from the first region 4 to the second region 5, the second
Can be retained between the convex portions 3b in the region 4 of the above, so that a large amount of the coating liquid 21 is not retained only at the edges.

【0039】薄膜形成用印刷版1は、版胴25の外周壁
に取り付けられている。この版胴25は、円柱状に形成
され、長軸を中心軸として転写ローラ23とは逆方向D
に回転駆動される。そして、薄膜形成用印刷版1は、転
写ローラ23と所定の圧力により押し付けられ、各凸部
3b間に塗布液21が供給される。この薄膜形成用印刷
版1は、版胴25が回転駆動することで被印刷物24に
押し付けられて、上述した転写ローラ23から供給され
た塗布液21を被印刷物24に対して塗布する。
The printing plate 1 for forming a thin film is mounted on an outer peripheral wall of a plate cylinder 25. The plate cylinder 25 is formed in a columnar shape, and has a long axis as a center axis and a direction D opposite to the transfer roller 23.
Is driven to rotate. Then, the printing plate 1 for forming a thin film is pressed against the transfer roller 23 by a predetermined pressure, and the coating liquid 21 is supplied between the convex portions 3b. The printing plate 1 for forming a thin film is pressed against the printing material 24 by rotating the plate cylinder 25, and applies the coating liquid 21 supplied from the transfer roller 23 to the printing material 24.

【0040】定盤26は、被印刷物24が載置され、移
動テーブル27により版胴25の回転方向Eに所定の速
度で移動されるとともに、版胴25に取り付けられた薄
膜形成用印刷版1と所定の押し付け圧力で押し付けられ
る。このように、定盤26上に載置された被印刷物24
と薄膜形成用印刷版1とは、図13に示すように所定の
ニップ幅t5を有して押し付けられ、転写ローラ23か
ら供給された塗布液21が転写される。そして、この薄
膜形成用印刷版1は、図14に示すように、版胴25が
回転するとともに移動テーブル27により定盤26及び
被印刷物24が移動されて、被印刷物24に塗布液21
からなる塗布膜28が塗布されて形成されることとな
る。
The platen 26, on which the printing material 24 is placed, is moved at a predetermined speed in the rotation direction E of the plate cylinder 25 by the moving table 27, and the printing plate 1 for thin film formation attached to the plate cylinder 25 is mounted on the platen 26. And a predetermined pressing pressure. As described above, the printing medium 24 placed on the platen 26
As shown in FIG. 13, the printing plate 1 for forming a thin film is pressed with a predetermined nip width t 5 , and the coating liquid 21 supplied from the transfer roller 23 is transferred. Then, as shown in FIG. 14, the printing plate 1 for forming a thin film is rotated by the plate cylinder 25 and the platen 26 and the printing medium 24 are moved by the moving table 27 so that the coating liquid 21 is applied to the printing medium 24.
Is formed by applying a coating film 28 made of.

【0041】上述のような印刷機20により形成された
塗布膜28は、図15及び図16に示すように形成され
る。すなわち、この塗布膜28は、薄膜形成用印刷版1
が第1の領域4よりも第2の領域5に形成されている凸
部3bの密度が低いので、転写ローラ23により凸部3
b間に塗布液21を供給して、版胴25を回転させるこ
とで第1の領域4に滞留した塗布液21が第2の領域5
に対して流れ込んでも塗布液21が多量に滞留するよう
なことがなく、塗布膜28の縁部の近傍においても膜厚
が厚くなるようなことがない。したがって、この印刷機
20により塗布膜28を形成することにより、全体とし
て膜厚の均一な塗布膜28を形成することができること
となる。
The coating film 28 formed by the printing machine 20 as described above is formed as shown in FIGS. That is, the coating film 28 is formed on the printing plate 1 for forming a thin film.
Is lower in the density of the convex portions 3b formed in the second region 5 than in the first region 4,
The coating liquid 21 remaining in the first area 4 is supplied to the second area 5 by rotating the plate cylinder 25 by supplying the coating liquid 21 between b and b.
Therefore, the coating liquid 21 does not stay in a large amount even when the coating liquid flows, and the film thickness does not increase near the edge of the coating film 28. Therefore, by forming the coating film 28 with the printing machine 20, it is possible to form the coating film 28 having a uniform thickness as a whole.

【0042】上述のように、薄膜形成用印刷版1を備え
た印刷機20は、例えば図17に示すように、液晶パネ
ルを製造する製造工程において適用することができる。
以下に示す液晶パネルの製造方法においては、バッシベ
ージョン膜,カラーフィルター,平坦化膜,対向電極,
絶縁膜,配向膜,シール剤を順次形成した第1のガラス
基板30aと、バッシベージョン膜,対向電極,絶縁
膜,配向膜,スペーサを順次形成した第2のガラス基板
30bとを対向して貼り付け、これら第1のガラス基板
30aと第2のガラス基板30bとの間に液晶を充填す
る製造方法について説明する。
As described above, the printing machine 20 provided with the printing plate 1 for forming a thin film can be applied in a manufacturing process for manufacturing a liquid crystal panel, for example, as shown in FIG.
In the method of manufacturing a liquid crystal panel described below, a bassivation film, a color filter, a flattening film, a counter electrode,
A first glass substrate 30a on which an insulating film, an alignment film, and a sealant are sequentially formed is opposed to a second glass substrate 30b on which a barrier film, a counter electrode, an insulating film, an alignment film, and a spacer are sequentially formed. A description will be given of a manufacturing method of attaching and filling a liquid crystal between the first glass substrate 30a and the second glass substrate 30b.

【0043】この液晶パネルの製造工程は、第1及び第
2のガラス基板30の表面を加工するガラス加工工程
と、バッシベージョン膜31を形成するバッシベージョ
ン膜形成工程と、第1のガラス基板30a上に形成され
たバッシベーション膜31上にカラーフィルタ32を形
成するカラーフィルタ形成工程と、このカラーフィルタ
32上に平坦化膜33を形成する平坦化膜形成工程と、
第1及び第2のガラス基板30上に対向電極34を形成
する対向電極形成工程と、この対向電極34上に絶縁膜
35を形成する絶縁膜形成工程と、この絶縁膜35上に
配向膜36を形成する配向膜形成工程と、第1のガラス
基板30aの縁部にシール剤37を形成するシール剤塗
布工程と、第2のガラス基板30bの配向膜36上にス
ペーサ38を形成するスペーサ散布工程と、一対のガラ
ス基板30を貼り合わせる貼り合わせ工程と、液晶39
を一対のガラス基板30の間隙に注入する注入工程と、
この注入工程で注入した液晶39を封止する封止工程と
を有する。
The manufacturing process of the liquid crystal panel includes a glass processing process for processing the surfaces of the first and second glass substrates 30, a bassivation film forming process for forming the passivation film 31, and a first glass process. A color filter forming step of forming a color filter 32 on the passivation film 31 formed on the substrate 30a, a flattening film forming step of forming a flattening film 33 on the color filter 32,
A counter electrode forming step of forming a counter electrode on the first and second glass substrates 30; an insulating film forming step of forming an insulating film 35 on the counter electrode 34; Forming an alignment film, forming a sealing agent 37 on the edge of the first glass substrate 30a, and dispersing a spacer 38 on the alignment film 36 of the second glass substrate 30b. A bonding step of bonding a pair of glass substrates 30 to each other;
Injecting into the gap between the pair of glass substrates 30,
And a sealing step of sealing the liquid crystal 39 injected in the injection step.

【0044】ガラス加工工程は、図17(a)に示すよ
うに、第1及び第2のガラス基板30の表面を加工、洗
浄を行うことにより、第1及び第2のガラス基板30の
表面のぬれ性を向上させるとともに、後の工程で形成す
る膜の密着性を向上させる。
In the glass processing step, as shown in FIG. 17 (a), the surfaces of the first and second glass substrates 30 are processed and cleaned to process the surfaces of the first and second glass substrates 30. In addition to improving the wettability, the adhesiveness of a film formed in a later step is improved.

【0045】バッシベージョン膜形成工程は、図17
(b)に示すように、上述の工程で表面が加工されたガ
ラス基板30上にバッシベージョン膜31を形成する。
このようにバッシベージョン膜形成工程では、バッシベ
ージョン膜31を形成することで、後の工程で形成する
カラーフィルタ32との密着性を向上させる。
FIG.
As shown in FIG. 2B, a barrier film 31 is formed on the glass substrate 30 whose surface has been processed in the above-described steps.
As described above, in the bassivation film forming step, the adhesion to the color filter 32 formed in a later step is improved by forming the bassivation film 31.

【0046】カラーフィルタ形成工程では、図17
(c)に示すように、第1のガラス基板30aに対して
行う工程であり、上述の工程で形成されたバッシベーシ
ョン膜31上にカラーフィルタ32を形成する。このカ
ラーフィルタ32は、部分的に光透過性を有するもので
あって、入射光を部分的に吸収、反射、または透過する
光学素子である。
In the color filter forming step, FIG.
As shown in (c), this is a step performed on the first glass substrate 30a, in which a color filter 32 is formed on the passivation film 31 formed in the above-described step. The color filter 32 is an optical element that partially has light transmissivity and partially absorbs, reflects, or transmits incident light.

【0047】平坦化膜形成工程は、図17(d)に示す
ように、第1のガラス基板30aに対して行う工程であ
り、上述の工程で形成されたカラーフィルタ32上に平
坦化膜33を形成する。このように平坦化膜形成工程で
は、平坦化膜33を形成することにより、表面を平坦と
することができる。
As shown in FIG. 17D, the flattening film forming step is a step performed on the first glass substrate 30a, and the flattening film 33 is formed on the color filter 32 formed in the above-described step. To form Thus, in the flattening film forming step, the surface can be flattened by forming the flattening film 33.

【0048】対向電極形成工程は、図17(e)に示す
ように、第1及び第2のガラス基板30の双方に対して
行う工程であり、上述の工程で形成された平坦化膜33
上に対向電極34を形成する。この電極34は、後の工
程で貼り合わされる第1のガラス基板30にも形成され
ており、第2のガラス基板30bに形成されている対向
電極34間で電圧が印加される。
The counter electrode forming step is a step performed on both the first and second glass substrates 30 as shown in FIG. 17E, and the flattening film 33 formed in the above-described step is formed.
An opposing electrode 34 is formed thereon. The electrode 34 is also formed on the first glass substrate 30 to be bonded in a later step, and a voltage is applied between the counter electrodes 34 formed on the second glass substrate 30b.

【0049】絶縁膜形成工程は、図17(f)に示すよ
うに、上述の工程で形成された対向電極34上に絶縁膜
35を形成する。このように絶縁膜形成工程では、対向
電極34上に絶縁膜35を形成することにより第2のガ
ラス基板30bに形成されている対向電極34等との絶
縁性を保持する。
In the insulating film forming step, as shown in FIG. 17F, an insulating film 35 is formed on the counter electrode 34 formed in the above-described step. As described above, in the insulating film forming step, the insulating property with the counter electrode 34 formed on the second glass substrate 30b is maintained by forming the insulating film 35 on the counter electrode 34.

【0050】配向膜形成工程は、図17(g)に示すよ
うに、上述の工程で形成された絶縁膜35上にポリイミ
ド等からなる配向液を塗布することにより配向膜36を
形成する。この配向膜36を形成する際には、上述の薄
膜形成用印刷版1を版胴25に取り付けた印刷機20を
使用して絶縁膜35上に配向膜36を形成する。すなわ
ち、上述の印刷機20においては、定盤27上に絶縁膜
35等が形成されたガラス基板30が載置されて移動テ
ーブル27により移動されるとともに版胴25が回転駆
動することで薄膜形成用印刷版1を絶縁膜35上に所定
の圧力で押し付けることにより絶縁膜35上に配向膜3
6を形成する。
In the alignment film forming step, as shown in FIG. 17G, the alignment film 36 is formed by applying an alignment liquid made of polyimide or the like on the insulating film 35 formed in the above step. When forming the alignment film 36, the alignment film 36 is formed on the insulating film 35 by using the printing machine 20 in which the above-described printing plate 1 for forming a thin film is attached to the plate cylinder 25. That is, in the above-described printing machine 20, the glass substrate 30 on which the insulating film 35 and the like are formed is placed on the surface plate 27, is moved by the moving table 27, and the plate cylinder 25 is rotationally driven to form a thin film. The printing plate 1 is pressed on the insulating film 35 with a predetermined pressure, so that the alignment film 3 is formed on the insulating film 35.
6 is formed.

【0051】シール剤塗布工程は、図17(h)に示す
ように、第1のガラス基板30aに対して行う工程であ
り、上述の工程で形成された配向膜36上にシール剤3
7を形成する。このシール剤37は、配向膜36が形成
された第1のガラス基板30aの縁部に塗布することに
より形成する。
As shown in FIG. 17 (h), the sealing agent application step is a step performed on the first glass substrate 30a, and the sealing agent 3 is formed on the alignment film 36 formed in the above-described step.
7 is formed. The sealing agent 37 is formed by applying to the edge of the first glass substrate 30a on which the alignment film 36 is formed.

【0052】スペーサ散布工程は、図17(i)に示す
ように、第2のガラス基板30bに対して行う工程であ
り、配向膜36上にガラス等の透明ビーズであるスペー
サ38を散布する。このスペーサ38は、後の工程で一
対のガラス基板30を貼り合わせた際に一対のガラス基
板30間の間隔を一定に保持するためのものである。
The spacer dispersing step is a step performed on the second glass substrate 30b, as shown in FIG. 17 (i), and disperses spacers 38 as transparent beads such as glass on the alignment film 36. The spacer 38 is used to keep the distance between the pair of glass substrates 30 constant when the pair of glass substrates 30 is bonded in a later step.

【0053】貼り合わせ工程では、図17(j)に示す
ように、一対のガラス基板30を貼り合わせる。この貼
り合わせ工程では、配向膜36上にシール剤37が形成
された第1のガラス基板30aと、配向膜36上にスペ
ーサ38が散布された第2のガラス基板30bとを対向
させて貼り合わせる。そして、この貼り合わせ工程で
は、一対のガラス基板30に対して紫外線を照射するこ
とによりシール剤37を硬化させて一対のガラス基板3
0を接着する。ここで、貼り合わせた後における一対の
ガラス基板30の間隔は数百〜数十μm程度である。
In the bonding step, a pair of glass substrates 30 are bonded as shown in FIG. In this bonding step, the first glass substrate 30a having the sealant 37 formed on the alignment film 36 and the second glass substrate 30b having the spacers 38 scattered on the alignment film 36 are bonded to face each other. . In the bonding step, the sealant 37 is cured by irradiating the pair of glass substrates 30 with ultraviolet rays, and the pair of glass substrates 3 is cured.
0 is adhered. Here, the interval between the pair of glass substrates 30 after the bonding is about several hundreds to several tens μm.

【0054】注入工程では、図17(k)に示すよう
に、液晶39を注入口から注入することで一対のガラス
基板30の間隙に液晶39を充填させる。
In the injection step, as shown in FIG. 17 (k), the liquid crystal 39 is injected from the injection port to fill the gap between the pair of glass substrates 30 with the liquid crystal 39.

【0055】封止工程は、図17(l)に示すように、
上述の工程で一対のガラス基板30間に注入した液晶3
9を封止する。すなわち、この封止工程では、上記の注
入口を封止する。そして、この封止工程では、光処理ま
たは熱処理を施すことにより、液晶39の配向状態を安
定化させることで液晶パネルを完成させる。
In the sealing step, as shown in FIG.
The liquid crystal 3 injected between the pair of glass substrates 30 in the above process
9 is sealed. That is, in this sealing step, the above-described injection port is sealed. In this sealing step, the liquid crystal panel is completed by performing light treatment or heat treatment to stabilize the alignment state of the liquid crystal 39.

【0056】このように製造された液晶パネルは、上述
した配向膜形成工程において、上述の印刷機20を使用
して配向膜36を形成しているので、配向膜36の表面
を平坦に形成することができ、製造歩留まりを向上させ
ることができる。すなわち、上述したような液晶パネル
の製造工程によれば、配向膜36を形成した領域におけ
る縁部において膜厚が厚くなるようなことがなく、不良
率を大幅に減少させることができ、図18に示すよう
に、縁部において配向膜36の膜厚が不均一に形成され
たことによる不良率を約0.02%程度とすることがで
きる。
In the liquid crystal panel manufactured as described above, since the alignment film 36 is formed using the above-described printing machine 20 in the above-described alignment film forming step, the surface of the alignment film 36 is formed flat. And the manufacturing yield can be improved. In other words, according to the manufacturing process of the liquid crystal panel as described above, the film thickness does not increase at the edge in the region where the alignment film 36 is formed, and the defect rate can be greatly reduced. As shown in (1), the defect rate due to the uneven thickness of the alignment film 36 at the edge can be reduced to about 0.02%.

【0057】なお、上述した説明においては、液晶パネ
ルの配向膜36を形成する一例について説明したが、上
述の薄膜形成用印刷版1を使用する印刷技術、及びこの
薄膜形成用印刷版1を用いた薄膜形成方法を使用した印
刷技術であればあらゆる印刷の分野においても適用可能
である。上述した薄膜形成用印刷版1及び薄膜形成方法
においては被印刷物としてガラス基板上に配向膜を形成
する一例について説明したが、被印刷物としては、例え
ば紙、フィルム等であっても良い。
In the above description, an example in which the alignment film 36 of the liquid crystal panel is formed has been described. However, the printing technique using the above-described printing plate 1 for forming a thin film and the printing technique using the printing plate 1 for forming a thin film are described. The present invention can be applied to any printing field as long as the printing technique uses a thin film forming method. In the above-described printing plate 1 for forming a thin film and the method of forming a thin film, an example in which an alignment film is formed on a glass substrate as a material to be printed has been described.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明に係
る薄膜形成用印刷版は、所定の密度で凸部が形成された
第1の領域と、所定の密度よりも低密度で凸部が形成さ
れ第1の領域の縁部に形成された第2の領域とを有し、
第1の領域よりも第2の領域に形成されている凸部の密
度が低いので、凸部間に液体を供給して第1の領域に滞
留した液体が第2の領域に対して流れ込んでも液体が多
量に滞留するようなことがない。すなわち、このような
薄膜形成用印刷版では、第1の領域から第2の領域に液
体が流れ込んでも、第2の領域の各凸部間に滞留させる
ことができるので、縁部のみで多量に液体が滞留するこ
とがない。したがって、この薄膜形成用印刷版では、形
成する薄膜の端部においても膜厚が厚くなるようなこと
がない。
As described above in detail, the printing plate for forming a thin film according to the present invention has a first region in which convex portions are formed at a predetermined density and a convex region having a lower density than the predetermined density. And a second region formed at an edge of the first region,
Since the density of the protrusions formed in the second region is lower than that of the first region, even if liquid is supplied between the protrusions and the liquid staying in the first region flows into the second region. A large amount of liquid does not stay. That is, in such a printing plate for forming a thin film, even if the liquid flows from the first region to the second region, the liquid can be retained between the convex portions of the second region. No liquid is retained. Therefore, in this printing plate for forming a thin film, the film thickness does not increase at the end of the thin film to be formed.

【0059】また、本発明に係る薄膜形成用印刷版を用
いた薄膜形成方法は、塗布液を薄膜形成用印刷版に供給
して薄膜形成用印刷版に押し付ける際に、第1の領域の
凸部間に滞留した塗布液が第2の領域に対して流れ込ん
でも塗布液が液体に多量に滞留することがなく、形成さ
れた薄膜の縁部の膜厚が略々中心部と比較して厚くなる
ようなことがない。
Further, in the method for forming a thin film using the printing plate for forming a thin film according to the present invention, when the coating liquid is supplied to the printing plate for forming a thin film and pressed against the printing plate for forming a thin film, the convexity of the first region is formed. Even if the coating liquid retained between the portions flows into the second region, the coating liquid does not remain in the liquid in a large amount, and the film thickness of the formed thin film at the edge is substantially thicker than that at the center. There is no such thing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明を適用した薄膜形成用印刷版の一例を示
す側面図である。
FIG. 1 is a side view showing an example of a printing plate for forming a thin film to which the present invention is applied.

【図2】本発明を適用した薄膜形成用印刷版の一例を示
す平面図である。
FIG. 2 is a plan view showing an example of a printing plate for forming a thin film to which the present invention is applied.

【図3】本発明を適用した薄膜形成用印刷版の一例を拡
大して示す側面図である。
FIG. 3 is a side view showing an enlarged example of a printing plate for forming a thin film to which the present invention is applied.

【図4】薄膜形成用印刷版の製造工程における樹脂部成
形工程の一例を示す側面図である。
FIG. 4 is a side view showing an example of a resin part forming step in a manufacturing step of a printing plate for forming a thin film.

【図5】薄膜形成用印刷版の製造工程におけるバック露
光工程の一例を示す側面図である。
FIG. 5 is a side view showing an example of a back exposure step in a manufacturing process of a printing plate for forming a thin film.

【図6】薄膜形成用印刷版の製造工程における凹凸面形
成工程の一例を示す側面図である。
FIG. 6 is a side view showing an example of an uneven surface forming step in the manufacturing process of the printing plate for forming a thin film.

【図7】薄膜形成用印刷版の製造工程における洗浄工程
の一例を示す側面図である。
FIG. 7 is a side view showing an example of a cleaning step in a manufacturing process of the printing plate for forming a thin film.

【図8】薄膜形成用印刷版の製造工程における乾燥工程
の一例を示す側面図である。
FIG. 8 is a side view showing an example of a drying process in a manufacturing process of a printing plate for forming a thin film.

【図9】薄膜形成用印刷版の製造工程における硬化工程
の一例を示す側面図である。
FIG. 9 is a side view showing an example of a curing step in a manufacturing process of a printing plate for forming a thin film.

【図10】薄膜形成用印刷版の製造工程における表面処
理工程の一例を示す側面図である。
FIG. 10 is a side view showing an example of a surface treatment step in a process of manufacturing a printing plate for forming a thin film.

【図11】薄膜形成用印刷版の製造工程における空気中
露光工程の一例を示す側面図である。
FIG. 11 is a side view showing an example of an in-air exposure step in a manufacturing process of a printing plate for forming a thin film.

【図12】薄膜形成用印刷版を版胴に取り付けた印刷機
の一例を示す斜視図である。
FIG. 12 is a perspective view showing an example of a printing machine in which a printing plate for forming a thin film is mounted on a plate cylinder.

【図13】版胴に取り付けられた薄膜形成用印刷版が被
印刷物に押し付けられているときの一例を示す側面図で
ある。
FIG. 13 is a side view showing an example when a printing plate for forming a thin film attached to a plate cylinder is pressed against a printing medium.

【図14】版胴に取り付けられた薄膜形成用印刷版が被
印刷物に押し付けられているときの一例を示す斜視図で
ある。
FIG. 14 is a perspective view showing an example when a printing plate for forming a thin film attached to a plate cylinder is pressed against a printing medium.

【図15】被印刷物上に塗布された塗布膜の一例を示す
側面図である。
FIG. 15 is a side view showing an example of a coating film applied on a printing substrate.

【図16】被印刷物上に塗布された塗布膜の縁部を拡大
して示す斜視図である。
FIG. 16 is an enlarged perspective view showing an edge portion of a coating film applied on a printing substrate.

【図17】液晶パネルの製造工程を示す工程図である。FIG. 17 is a process chart showing a manufacturing process of the liquid crystal panel.

【図18】本発明に係る薄膜形成用印刷版を使用して配
向膜を形成した液晶パネルの不良率の一例を示す図であ
る。
FIG. 18 is a diagram illustrating an example of a defect rate of a liquid crystal panel in which an alignment film is formed using the printing plate for forming a thin film according to the present invention.

【図19】被印刷物上に塗布された塗布膜の縁部を拡大
して示す斜視図である。
FIG. 19 is an enlarged perspective view showing an edge portion of a coating film applied on a printing substrate.

【図20】従来の薄膜形成用印刷版を使用して配向膜を
形成した液晶パネルの不良率の一例を示す図である。
FIG. 20 is a diagram illustrating an example of a defect rate of a liquid crystal panel in which an alignment film is formed using a conventional printing plate for forming a thin film.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 薄膜形成用印刷版、4 第1の領域、5 第2の領
域、21、塗布液
1 Printing Plate for Thin Film Formation, 4 First Area, 5 Second Area, 21, Coating Liquid

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一方の面に複数の凸部が形成されてな
り、 上記一方の面には所定の密度で上記凸部が形成された第
1の領域と、 上記所定の密度よりも低密度で上記凸部が形成され上記
第1の領域の縁部に形成された第2の領域とを有するこ
とを特徴とする薄膜形成用印刷版。
A first region in which a plurality of protrusions are formed on one surface; a first region in which the protrusions are formed at a predetermined density on the one surface; and a first region having a density lower than the predetermined density. And a second region formed at an edge of the first region.
【請求項2】 光硬化性樹脂からなることを特徴とする
請求項1記載の薄膜形成用印刷版。
2. The printing plate for forming a thin film according to claim 1, wherein the printing plate is made of a photocurable resin.
【請求項3】 上記各凸部間に配向液が供給され、上記
一方の面を被印刷物に押し付けて液晶配向膜を形成する
ことを特徴とする請求項2記載の薄膜形成用印刷版。
3. The printing plate for forming a thin film according to claim 2, wherein an alignment liquid is supplied between the convex portions, and the one surface is pressed against a printing substrate to form a liquid crystal alignment film.
【請求項4】 一方の面に複数の凸部が形成されてな
り、所定の密度で上記凸部が形成された第1の領域と、
前記所定の密度よりも低密度で上記凸部が形成され前記
第1の領域の縁部に形成された第2の領域とを有する薄
膜形成用印刷版に塗布液を供給し、 上記薄膜形成用印刷版を上記塗布液が塗布される被塗布
物に対して押し付けることを特徴とする薄膜形成方法。
4. A first region in which a plurality of protrusions are formed on one surface, and a first region in which the protrusions are formed at a predetermined density;
Supplying a coating liquid to a printing plate for forming a thin film having a lower density than the predetermined density and having a second region formed at an edge of the first region, wherein the convex portion is formed; A method for forming a thin film, comprising pressing a printing plate against an object to be coated with the coating liquid.
【請求項5】 上記薄膜形成用印刷版を光硬化性樹脂と
したことを特徴とする請求項4記載の薄膜形成方法。
5. The method for forming a thin film according to claim 4, wherein said printing plate for forming a thin film is made of a photocurable resin.
【請求項6】 上記薄膜形成用印刷版に形成されている
各凸部間に配向液を供給し、被塗布物に対して前記薄膜
形成用印刷版を押し付けて液晶配向膜を形成することを
特徴とする請求項5記載の薄膜形成方法。
6. A method of forming a liquid crystal alignment film by supplying an alignment liquid between the respective convex portions formed on the printing plate for forming a thin film and pressing the printing plate for forming a thin film against an object to be coated. The method for forming a thin film according to claim 5, wherein:
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