JP4491121B2 - 高分子シート及び高分子シートの製造方法並びに液晶表示装置 - Google Patents
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Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、耐熱性に優れ、シート表面の平滑性が優れ、かつ突起物が少ない高分子シートの製造方法に関するものであり、さらに本発明は液晶表示装置等の光学用シートに適する高分子シート及びそれを用いた液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来から液晶表示素子用透明電極基板にはガラス基板が使用されている。しかしながら、ガラス基板を用いた液晶表示素子においては、ガラス基板自体が厚いため液晶表示素子自体の薄型化が困難であると共に、軽量化しにくいという欠点があり、更に、可とう性、耐衝撃性の点で問題があった。
【0003】
このガラス基板液晶表示素子の持つ欠点を改善する方法として、プラスチックフィルムを用いて液晶パネルを作製することにより、液晶パネルの軽量化、耐衝撃性の向上が検討されている。
【0004】
本発明者らは、光学等方性に優れた熱可塑性樹脂シート(高分子シート、特にポリエーテルスルホン樹脂シート)をこれらの用途に応用すべく研究を進めたところ、溶融押し出し製膜工程において発生する高分子量ゲル化物に起因する突起状物の増大が重大な欠点となることを見いだした。例えば、ポリエーテルスルホン樹脂シートを基板に使用した液晶表示素子では、基板表面の突起物により表示の点欠陥が生じる問題がある。
【0005】
高分子量ゲル化物は重合時又は重合後の原料段階及び各種熱加工の工程において生じる。この内原料段階で生じるゲル化物は、熱溶融時にメッシュ等で除去することが可能であるが、メッシュを通した後も高温状態になっているため冷却されるまでの短時間の間に、樹脂中の高分子化合物同士が反応して高分子量ゲル化物を生じることが避けられなかった。この傾向はシート厚みが厚いほど顕著になる性質があり、表示画面の大型化に伴い重大な欠点となっていた。
【0006】
このように、シート表面の平滑性が優れ、かつ突起物が少ないポリエーテルスルホン樹脂シートを製造することは現状技術では困難であった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、耐熱性に優れ、シート表面の平滑性が優れ、かつ突起物が少ないポリエーテルスルホン樹脂シートの製造方法を提供することであり、更に、液晶表示パネル用光学シートとして好適に使用できるポリエーテルスルホン樹脂シート及びそれを用いた液晶表示装置を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ガラス転移点が150℃以上で、かつOH基含有量が5×10-6mol/g以下である末端にフェノール性OH基を含有するポリエーテルスルホン樹脂をTダイ又はコートハンガーダイで溶融押し出しして、厚みが70μm以上1000μm以下のポリエーテルスルホン樹脂シートを製造することを特徴とする高分子シートの製造方法である。
前記高分子シートの製造方法においては、ポリエーテルスルホン樹脂シートの0.1m2あたり両面で、直径0.5mm以上の突起物が2個以下であることが好ましい。
また、本発明は、前記高分子シートの製造方法で製造されたポリエーテルスルホン樹脂シートである。
更に、本発明は、前記ポリエーテルスルホン樹脂シートを使用して組み立てられた液晶表示装置である。
【0009】
【発明の実施の形態】
本発明において使用するOH基を含有する高分子化合物のガラス転移点(Tg)は、150℃以上であることが必要であり、好ましくは180℃以上、400℃以下である。高分子化合物のTgが150℃未満の場合には液晶組立工程の熱処理、例えば、配向膜焼成及びシール硬化温度にて高分子シートが軟化し、不具合を生じるおそれがある。
【0010】
本発明におけるOH基を含有する高分子化合物とは、2価フェノール化合物を原料モノマーとして使用して得られる高分子化合物を意味し、通常、高分子鎖末端にフェノール性OH基を有する。本発明におけるOH基を含有する高分子化合物としては、例えば、ポリサルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリアリレート、高耐熱ポリカーボネート、ノルボルネン系高分子及びこれらをブレンドした樹脂等をあげることができる。この中でもポリエーテルスルホン樹脂が特に好ましい。
【0011】
このようなOH基を含有する高分子化合物は、例えば2価フェノール化合物とジハロゲノ類との縮合反応により得られる。両原料の仕込み配合量比、脱縮合剤、反応条件により、高分子化合物の分子量、分子量分布、OH基量をコントロールすることができる。この内OH基は高分子鎖の末端のフェノール性水酸基であり、該フェノール性水酸基が高分子化合物中にある量以上残っていると、後工程での加熱処理時にOH基同士又はOH基と他の反応性末端基との反応が進行し、分子量の増加さらにはゲル化物形成の原因となることが判明した。
かかるゲル化物の形成を抑制し、平滑性に優れた高分子シートを得るためには、高分子化合物中のOH基含有量を、5×10-6mol/g以下とすることが必要であり、好ましくは3.5×10-6mol/g以下、より好ましくは2.5×10-6mol/g以下である。OH基含有量は少ないほど好ましく、下限は特に限定されず、OH基が全くないのが最も好ましい。
一方、OH基含有量が5×10-6mol/gを越える場合には、押出加工時にゲル化物の発生が多くなるため、突起物が数多く生成し、平滑性に優れたシートを得ることができず実用性がなくなる。
【0012】
本発明で製造する高分子シートは、厚みが70μm以上1000μm以下であり、好ましくは100μm以上600μm以下である。高分子シートの厚みが70μm未満であると液晶のセルギャップ保持が難しく、特に、大面積の液晶表示素子ではセルギャップ保持をすることができない。1000μmを越えると液晶表示がダブルイメージと呼ばれる表示不良を起こし、更に液晶表示素子の厚みが厚くなり機能上好ましくない。
【0013】
本発明の高分子シートの製造方法においては、高分子化合物をTダイもしくはコートハンガーダイで溶融押し出しして高分子シートを製造する。
熱溶融された熱可塑性高分子化合物は、公知の方法により、金属ベルト又は冷却ロール等に密着させてシート化、冷却され巻き取られる。
ダイスから溶融押し出しされた高分子シートを金属ベルトに密着させるために、金属ベルトと同様の温度に制御されたエアを吹き付けたり、帯電固定により密着させたりしてもよい。
【0014】
本発明の方法で製造された高分子シートは、該高分子シート0.1m2あたり両面で、直径0.5mm以上の突起物が2個以下であり、突起物がきわめて少ないという特徴を有する。このようにして製造された本発明の高分子シートは耐熱性に優れ、シート表面の平滑性が優れ、かつ突起物が少ないため液晶表示パネル用光学シートとして好適に使用することができ、この高分子シートを用いて液晶表示素子を作成することによって、表示欠点のない、フラットな液晶表示を得ることができる。
【0015】
【実施例】
以下本発明を実施例、比較例によって説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0016】
[A]高分子シートの物性及び製造装置の物性は次の方法により測定した。
(1)高分子シートの厚み
接触式のダイヤルゲージで高分子シートの幅方向に20mm間隔で測定した。その平均値を高分子シートの厚みとした。
(2)高分子シートの表面粗さの最大(Rmax)
接触式の精密段差計(TENCOR INSTRUMENTS製 AIPHA−STEP200)により、高分子シートの幅方向に2mmのスキャン幅にて全幅を測定した凹凸の最大値。
(3)高分子シートのリタデーション
オリンパス光学(株)製偏光顕微鏡BH2とベレックコンペンセーターを用い、波長550nmでのリタデーションを測定した。
(4)高分子シートの反り
高分子シートの流れ方向に300mm長さ、幅方向に300mm長さに切り取った正方形のサンプルを、定盤に対して、高分子シートの表側を上にした場合と下にした場合の、定盤の面から最大に離れた高分子シートの高さを測定し、その最大値をシートの反りとした。
(5)金属ベルトの表面粗さの最大(Rmax)
接触式表面粗さ計((株)ミツトヨ製のサーフテスト301)により、金属ベルトの幅方向にカットオフ長さ0.8mmにて全幅を測定したときの凹凸の最大値。
(6)ダイスの表面粗さの最大(Rmax)
接触式表面粗さ計((株)ミツトヨ製のサーフテスト301)により、ダイスの幅方向にカットオフ長さ0.8mmにて全幅を測定したときの凹凸の最大値。
【0017】
[B]OH基を含有する高分子化合物として以下のポリエーテルスルホン樹脂(PES)を用いた。Tgはいずれも226℃である。
(1)PES−1
4,4′−ジクロロジフェニルスルホン及び4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを原料として重合したもの。
OH基含有量:3.4×10-6mol/g
(2)PES−2
4,4′−ジクロロジフェニルスルホン及び4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを原料として重合したもの。
OH基含有量:1.3×10-6mol/g
(3)PES−3
4,4′−ジクロロジフェニルスルホン及び4,4′−ジヒドロキシジフェニルスルホンを原料として重合したもの。
OH基含有量:6.0×10-6mol/g
【0018】
[C]OH基定量方法
(1)溶液調整方法
▲1▼ サンプル溶液
ポリエーテルスルホン10gに100mlのジメチルホルムアミド(特級)溶液を加え、約1時間撹拌し完全に溶解させる。
▲2▼ p−トルエンスルホン酸溶液
p−トルエンスルホン酸溶液一水和物(アミノ酸自動分析用)を1.902gを測り取りジメチルホルムアミド(特級)溶液50mlを加え完全に溶解させる。
▲3▼ アルカリ滴定溶液
水酸化カリウム3.3gをメタノール(特級)200mlで溶解させる。この溶液を1Lのメスフラスコに移し、トルエン(特級)により、全量1Lとする。(2)OH基濃度の測定方法
▲1▼ 装置
平沼自動滴定装置COMTITE−900を使用した。
▲2▼ ブランク測定
100mlのジメチルホルムアミド(特級)溶液に、p−トルエンスルホン酸溶液2mlを加え5分間撹拌する。
次に、アルカリ滴定溶液で滴定し、ブランク値を求める。
▲3▼ サンプル測定
サンプル溶液にp−トルエンスルホン酸溶液2mlを加え5分間撹拌する。
次に、アルカリ滴定溶液で滴定し、ブランク値との差を求め、計算によりOH基濃度を計算する。
【0019】
《実施例1》
PES−1を原料として用い、表面粗さの最大(Rmax)が0.4μm、リップ間隙が3mmのダイを用い、表面粗さの最大(Rmax)が0.1μm、ダイから押し出された高分子シートが流れ方向に対し曲率のない形で接触している時間が22秒となる金属ベルトを使用して冷却シート化した。金属ベルトに接触する最初の部分の温度(V1)が250℃、高分子シートの流れ方向に対し曲率の無い部分の金属ベルトの温度(V2)が210℃、冷却された高分子シートが、上記金属ベルトから離れる部分の金属ベルトの温度(V3)が110℃であり、高分子シートの金属ベルトに接触している面とは反対側の面を赤外線ヒーターにより、金属ベルト側のシート表面温度と同じ温度にした。その結果、厚みが400μmで、平面におけるリタデーションが15nmで有り、且つ、金属ベルト面に接した高分子シートの表面の粗さの最大(Rmax)が0.06μm、300mm角の高分子シートの最大の反り量が2mmである高分子シートが得られた。0.1m2のシートを10シート目視で調べたところ直径0.5mm以上の突起物は全て2個以下であり、平均1.2個であった。
【0020】
《実施例2》
PES−2を原料として用い、表面粗さの最大(Rmax)が0.3μm、リップ間隙が4mmのダイを用い、表面粗さの最大(Rmax)が0.07μm、ダイから押し出された高分子シートが流れ方向に対し曲率のない形で接触している時間が25秒となる金属ベルトを使用して冷却シート化した。金属ベルトに接触する最初の部分の温度(V1)が270℃、高分子シートの流れ方向に対し曲率の無い部分の金属ベルトの温度(V2)が210℃、冷却された高分子シートが、上記金属ベルトから離れる部分の金属ベルトの温度(V3)が110℃であり、高分子シートの金属ベルトに接触している面とは反対側の面を赤外線ヒーターにより、金属ベルト側のシート表面温度と同じ温度にした。その結果、厚みが600μmで、平面におけるリタデーションが18nmで有り、且つ、金属ベルト面に接した高分子シートの表面の粗さの最大(Rmax)が0.05μm、300mm角の高分子シートの最大の反り量が3mmである高分子シートが得られた。0.1m2のシートを10シート目視で調べたところ直径0.5mm以上の突起物は全て2個以下であり、平均0.8個であった。
【0021】
《実施例3》
実施例1で得られた400μm厚みの高分子シートを用い、分子量1540、融点70℃のエポキシアクリレートプレポリマー(昭和高分子(株)製、VR−60)100重量部、酢酸ブチル400重量部、セロソルブアセテート100重量部、ベンゾインエチルエーテル2重量部を50℃にて攪拌、溶解して均一な溶液としたものをグラビアロールコータで塗布し、80℃で10分間加熱して溶媒を除去し、80w/cmの高圧水銀灯により15cmの距離で30秒間照射して樹脂を硬化させ、0.5μm厚の有機層を両面に形成した。
次にこのシート上に、DCマグネトロン法により初期真空度3×10-4Paに引き、酸素/アルゴンガスの混合ガス(酸素分率9vol%)を導入、3×10-1Paの条件下において無機層を成膜し500Å厚のSiO2を得た。この無機膜の酸素バリヤー性をモコン法により測定したところ1cm3/24hr・m2であり、表面抵抗率を測定したところ8.1×1012Ωであった。
次に透明導電膜として、同じくDCマグネトロン法により初期真空度3×10-4Paに引き、酸素/アルゴンガスの混合ガス(酸素分率4vol%)を導入し、1×10-1Paの条件下において成膜し、In/(In+Sn)の原子比が0.98であるIn2O3、SnO2からなる透明導電膜を得た。測定の結果、膜厚は1600Å、抵抗率は4×10-4Ω・cmであった。
成膜後、レジストを塗布、現像し、エッチング液として塩酸(1mol/l)、液温40℃中でパターンエッチングし、対角長さ3インチ(7.5cm)、L/S(導体線幅/導体線間隔)=150μm/50μmの格子からなるアクティブマトリックス用パターンを形成した。パターン形成後、配向膜を塗布し、150℃、2hrの焼成処理を行った後、ラビング処理を行った。ラビング処理後、スペーサーを散布し、シール剤を塗布し、150℃でシール硬化させてセル化し、液晶を注入した。偏光板をコントラストの最大となる位置に貼り合わせ、点灯試験を行ったところ、シートの突起物による表示欠点は見られず、コントラストの良い表示を示した。
【0022】
《実施例4》
実施例2で得られた600μm厚みの高分子シートを用い、実施例3と同様に液晶セルを作成した。点灯試験を行ったところ、シートの突起物による表示欠点は見られず、コントラストの良い表示を示した。
【0023】
《比較例1》
原料としてPES−3を用いた以外は実施例1と同様に行い高分子シートを得た。0.1m2のシートを10シート目視で調べたところ直径0.5mm以上の突起物は全て2個より多く、平均5.8個であった。
このシートを用い、実施例3と同様に液晶セルを作成したところ、シートの突起物による表示欠点が確認された。
【0024】
【発明の効果】
本発明の製造方法により、表面平滑性に優れ、かつ突起物が少ない高分子シートが得られた。又本発明の方法により得られた高分子シートはフレキシブル液晶表示素子用透明電極シートとして液晶表示パネルに実装した場合に表示ムラのない高精細な表示を示した。
Claims (4)
- ガラス転移点が150℃以上で、かつOH基含有量が5×10-6mol/g以下である末端にフェノール性OH基を含有するポリエーテルスルホン樹脂をTダイ又はコートハンガーダイで溶融押し出しして、厚みが70μm以上1000μm以下のポリエーテルスルホン樹脂シートを製造することを特徴とする高分子シートの製造方法。
- ポリエーテルスルホン樹脂が、4,4’−ジクロロジフェニルスルホンと4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンを原料とした樹脂である請求項1記載の高分子シートの製造方法。
- 請求項1又は2記載の高分子シートの製造方法で製造されたポリエーテルスルホン樹脂シート。
- 請求項3記載のポリエーテルスルホン樹脂シートを使用して組み立てられた液晶表示装置。
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