JP4487772B2 - Optical waveguide module - Google Patents

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Description

本発明は、端部に傾斜した反射面を備えたシート状の光導波路を実装基板に実装して、面型の光素子を利用できるようにした光導波路モジュールに関する。詳しくは、面型の光素子が実装される実装凹部の両側に導波路支持部を備えて、光導波路の端部を支持できるようにしたものである。   The present invention relates to an optical waveguide module in which a sheet-like optical waveguide having a reflecting surface inclined at an end is mounted on a mounting substrate so that a planar optical element can be used. More specifically, a waveguide support portion is provided on both sides of a mounting recess in which a planar optical element is mounted so that the end portion of the optical waveguide can be supported.

また、反射面の直下に波長選択フィルタを配置することで、簡単な構成で波長多重双方向光伝送を行えるようにしたものである。   In addition, a wavelength selective filter is disposed immediately below the reflecting surface, so that wavelength division multiplexing bidirectional optical transmission can be performed with a simple configuration.

更に、実装基板の表面に接着剤の濡れ性を向上させる表面処理を施すことで、実装基板に対する光導波路の接着強度を増加させるものである。   Furthermore, the adhesive strength of the optical waveguide to the mounting substrate is increased by performing a surface treatment for improving the wettability of the adhesive on the surface of the mounting substrate.

従来より、電子機器内のボード間、チップ間等の情報伝達は電気信号により行われてきたが、更に超高速、大容量の情報伝送を実現するために、光配線技術が注目されており、光配線技術を利用して波長多重双方向光伝送を行えるようにした導波路型の光モジュールが提案されている(例えば、特許文献1参照)。   Conventionally, information transmission between boards in electronic devices, between chips, etc. has been performed by electrical signals, but optical wiring technology has attracted attention in order to realize ultra high speed, large capacity information transmission, A waveguide-type optical module has been proposed that can perform wavelength-division bidirectional optical transmission using optical wiring technology (see, for example, Patent Document 1).

従来の光モジュールでは、端面発光型の発光素子(LD)と端面受光型の受光素子(PD)を用いているが、特許文献1の構成では、受光素子を発光素子側とは別の実装用キャリアに実装して光導波路と位置合わせする必要がある。更に、波長多重双方向光伝送を実現する波長フィルタも別部品となっており、導波路端面に固定する必要があり、組立工程が複雑で低コスト化は困難である。   The conventional optical module uses an end surface light emitting element (LD) and an end surface light receiving element (PD). However, in the configuration of Patent Document 1, the light receiving element is mounted separately from the light emitting element side. It must be mounted on a carrier and aligned with the optical waveguide. Furthermore, the wavelength filter that realizes wavelength division multiplexing optical transmission is also a separate part, and it is necessary to fix it to the end face of the waveguide, so that the assembly process is complicated and cost reduction is difficult.

これに対して、面型の受発光素子は作製プロセスが端面型のものに比較して容易であることや表面実装に向いていることなどから、端面型のものに比較して低コスト化に対して有利である。特に面型発光素子(VCSEL)は、高速で直接変調が可能であるというメリットもあり、低コストな光モジュール用のデバイスとして非常に有望であり、面型の受発光素子を使用した低コストな光モジュールが求められている。   On the other hand, the surface type light emitting / receiving element is easier to manufacture than the end face type and suitable for surface mounting, so the cost is lower than that of the end face type. This is advantageous. In particular, the surface light emitting device (VCSEL) has a merit that it can be directly modulated at high speed, and is very promising as a device for a low cost optical module. There is a need for optical modules.

しかし、特許文献1の構成では、発光素子をVCSELに置き換えるためにはさらに別の実装用キャリアが必要となり、組立工程が更に複雑になってしまい、低コスト化が困難であるという問題がある。   However, the configuration of Patent Document 1 requires another mounting carrier in order to replace the light emitting element with the VCSEL, which further complicates the assembly process and makes it difficult to reduce the cost.

そこで、実装用キャリアを用いることなく、VCSELを実装できるようにした光モジュールが提案されている(例えば、特許文献2参照)。   Therefore, an optical module that can mount a VCSEL without using a mounting carrier has been proposed (see, for example, Patent Document 2).

特許文献2の構成では、実装基板に凹部を形成してこの凹部に面型の発光素子あるいは受光素子を実装している。また、光導波路の端部に45度の反射部を形成し、反射部が発光素子あるいは受光素子の直上にくるように、光導波路を実装基板に実装している。   In the configuration of Patent Document 2, a recess is formed in the mounting substrate, and a surface light emitting element or light receiving element is mounted in the recess. In addition, a reflection part of 45 degrees is formed at the end of the optical waveguide, and the optical waveguide is mounted on the mounting substrate so that the reflection part is directly above the light emitting element or the light receiving element.

特開2001−305365号公報JP 2001-305365 A 特開平10−300961号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-300961

光導波路の端部に45度の反射部を形成して、面型の光素子との光結合を行うためには、光導波路の反射部が形成された端部を凹部に突き出す構成とする必要がある。このため、凹部に突き出した光導波路の反射部が形成された部分は実装基板に対してフリーとなっており、熱等による光導波路の伸縮によって受発光素子との間に位置ずれが発生することを抑えることができないという問題がある。   In order to form a 45 degree reflection part at the end of the optical waveguide and perform optical coupling with the surface optical element, the end part where the reflection part of the optical waveguide is formed needs to protrude into the recess. There is. For this reason, the portion where the reflection portion of the optical waveguide protruding into the recess is formed is free with respect to the mounting substrate, and positional displacement occurs between the light receiving and emitting element due to expansion and contraction of the optical waveguide due to heat or the like. There is a problem that cannot be suppressed.

また、長期間の使用時には、光導波路の凹部に突き出した部分に反り等が生じ、やはり受発光素子との間の位置ずれや角度ずれを抑えることができず、過剰損失が発生するという問題がある。   In addition, when used for a long period of time, warpage or the like occurs in the portion protruding into the concave portion of the optical waveguide, and it is impossible to suppress positional deviation and angular deviation between the light emitting and receiving element, and excessive loss occurs. is there.

更に、実装基板は一般的にシリコンで構成されるが、光導波路を接着固定する接着剤はシリコン基板に対する濡れ性が悪く、接着剤が均一に付かないので、接着強度が不足するという問題がある。そして、接着強度が不足すると、温度の影響等により、光導波路の位置ずれを生じ、受発光素子との間の位置ずれを抑えることができないという問題がある。   Furthermore, although the mounting substrate is generally made of silicon, the adhesive that bonds and fixes the optical waveguide has poor wettability with respect to the silicon substrate, and the adhesive is not uniformly applied, so there is a problem that the adhesive strength is insufficient. . If the adhesive strength is insufficient, there is a problem that the optical waveguide is displaced due to the influence of temperature or the like, and the displacement between the light receiving and emitting elements cannot be suppressed.

本発明は、このような課題を解決するためになされたもので、光導波路の固定が確実に行え、かつ構成が簡単な光導波路モジュールを提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide an optical waveguide module that can reliably fix an optical waveguide and has a simple configuration.

上述した課題を解決するため、本発明に係る光導波路モジュールは、少なくとも一の端部に形成された傾斜端面と、前記傾斜端面において交差し、前記傾斜端面によって反射面が形成された複数のコアと、前記コアを覆うクラッドを有する光導波路を備える。またさらに、前記光導波路の下側で前記反射面と対向する位置に形成され、前記反射面を介して前記コアと光結合される面型光素子が実装される実装凹部と、前記実装凹部の両側に形成され、前記光導波路を支持する導波路支持部を有する実装基板も備える。
そしてさらに、本発明に係る光導波路モジュールは、前記反射面の直下において、前記コアの下部のクラッド上に配置され、任意の波長領域の光を選択的に反射及び透過させ、光の波長により光路を切り替える波長選択フィルタも備える。
In order to solve the above-described problem, an optical waveguide module according to the present invention includes an inclined end surface formed at at least one end portion, and a plurality of cores that intersect at the inclined end surface and have a reflecting surface formed by the inclined end surface. And an optical waveguide having a clad covering the core. Still further, a mounting recess that is formed at a position facing the reflection surface below the optical waveguide and that is optically coupled to the core via the reflection surface is mounted; and A mounting substrate having a waveguide support portion formed on both sides and supporting the optical waveguide is also provided.
Further, the optical waveguide module according to the present invention is disposed on the cladding under the core, directly below the reflecting surface, and selectively reflects and transmits light in an arbitrary wavelength region, and the optical path depends on the wavelength of the light. A wavelength selection filter for switching between.

本発明に係る光導波路モジュールでは、実装基板の実装凹部に面型光素子を実装し、反射面を介してコアと面型光素子が光結合するように、光導波路を実装基板に実装すると、実装凹部の部分では接着固定が行えないので、光導波路の端部で実装凹部の上部に位置する部分はフリーとなる。これに対して、実装凹部の両側は、導波路支持部を備えることで、光導波路の端部でフリーとなっている部分の両側は、実装基板に対して接着固定が行われる。   In the optical waveguide module according to the present invention, when the optical waveguide is mounted on the mounting substrate such that the surface optical element is mounted in the mounting recess of the mounting substrate, and the core and the surface optical element are optically coupled via the reflective surface, Since the adhesive fixing cannot be performed at the mounting recess portion, the portion located at the upper portion of the mounting recess at the end of the optical waveguide is free. On the other hand, both sides of the mounting recess are provided with the waveguide support portions, and both sides of the portion that is free at the end of the optical waveguide are bonded and fixed to the mounting substrate.

また、本発明に掛かる光導波路モジュールは、コアとクラッドを有する光導波路と、光導波路を支持する実装基板とを備えた光導波路モジュールにおいて、光導波路は、少なくとも一の端部に傾斜端面が形成され、傾斜端面に露出したコアの端面によって反射面が形成されると共に、反射面の直下に、任意の波長領域の光を選択的に反射及び透過させ、光の波長により光路を切り替える波長選択フィルタを備え、反射面を介してコアと光結合する面型光素子が、反射面と対向した光導波路の下側の実装基板に実装されるものである。   The optical waveguide module according to the present invention is an optical waveguide module including an optical waveguide having a core and a cladding, and a mounting substrate that supports the optical waveguide. The optical waveguide has an inclined end surface at least at one end. A wavelength selection filter that forms a reflection surface by the end surface of the core exposed on the inclined end surface, selectively reflects and transmits light in an arbitrary wavelength region directly below the reflection surface, and switches an optical path according to the wavelength of the light And a planar optical element that is optically coupled to the core via the reflective surface is mounted on the lower mounting substrate of the optical waveguide facing the reflective surface.

本発明に掛かる光導波路モジュールでは、コアを伝搬される光は、反射面で反射して波長選択フィルタに入射される。波長選択フィルタでは、入射した光が波長に応じて反射もしくは透過され、光路が切り替えられる。   In the optical waveguide module according to the present invention, the light propagated through the core is reflected by the reflecting surface and is incident on the wavelength selection filter. In the wavelength selection filter, incident light is reflected or transmitted according to the wavelength, and the optical path is switched.

本発明の光導波路モジュールによれば、面型光素子を実装するために形成される実装凹部の両側に導波路支持部を備えて光導波路を支持できるようにすることで、光導波路において、面型光素子との光結合のため、実装基板に接着固定できず空中でフリーとなる部分の両側が実装基板に固定される。これにより、フリーとなる部分が少なくなるので、熱による光導波路の伸縮や、長期的な使用による光導波路の反り等の変形による結合損失の増加を低減することができる。   According to the optical waveguide module of the present invention, the optical waveguide can be supported by providing the waveguide support portions on both sides of the mounting recess formed for mounting the planar optical element. Due to optical coupling with the mold optical element, both sides of the portion that cannot be bonded and fixed to the mounting substrate and become free in the air are fixed to the mounting substrate. As a result, the number of free portions is reduced, so that an increase in coupling loss due to deformation such as expansion and contraction of the optical waveguide due to heat and warpage of the optical waveguide due to long-term use can be reduced.

また、本発明の光導波路モジュールによれば、光導波路の端面に傾斜端面を形成し、この傾斜端面による反射面の直下に波長選択フィルタを配置することで、面型光素子を利用して波長多重双方向光通信が行える光導波路モジュールを、容易な組み立て工程で実現することが可能となる。   In addition, according to the optical waveguide module of the present invention, an inclined end face is formed on the end face of the optical waveguide, and a wavelength selection filter is disposed immediately below the reflection surface by the inclined end face, so that the wavelength can be obtained using the planar optical element. An optical waveguide module capable of performing multiplex bidirectional optical communication can be realized by an easy assembly process.

以上のことから、光結合の特性に優れ、長期にわたり信頼性の高い光導波路モジュールを、低コストで提供できる。   As described above, an optical waveguide module having excellent optical coupling characteristics and high reliability over a long period can be provided at low cost.

以下、図面を参照して本発明の光導波路モジュールの実施の形態について説明する。   Hereinafter, embodiments of the optical waveguide module of the present invention will be described with reference to the drawings.

<第1の実施の形態の光導波路モジュールの構成例>
図1は第1の実施の形態の光導波路モジュールの一例を示す構成図で、図1(a)は平面図、図1(b)は図1(a)のA−A断面図、図1(c)は図1(a)のB−B断面図である。
<Configuration Example of Optical Waveguide Module of First Embodiment>
FIG. 1 is a configuration diagram illustrating an example of an optical waveguide module according to the first embodiment, in which FIG. 1A is a plan view, FIG. 1B is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. (C) is BB sectional drawing of Fig.1 (a).

第1の実施の形態の光導波路モジュール1Aは、平面型の光導波路を構成する導波路シート2と、導波路シート2を支持する実装基板3を備える。導波路シート2は、例えば高分子材料で構成され、平行に配置された複数本のコア4と、下部クラッド5a及び上部クラッド5bを備えて、コア・クラッド構造を有する。コア4は、屈折率が下部クラッド5a及び上部クラッド5bより若干大きくなるように構成されて、光がコア4に閉じ込められて伝搬される。   The optical waveguide module 1 </ b> A of the first embodiment includes a waveguide sheet 2 that constitutes a planar optical waveguide, and a mounting substrate 3 that supports the waveguide sheet 2. The waveguide sheet 2 is made of, for example, a polymer material, and includes a plurality of cores 4 arranged in parallel, a lower cladding 5a, and an upper cladding 5b, and has a core-cladding structure. The core 4 is configured such that the refractive index is slightly larger than that of the lower cladding 5a and the upper cladding 5b, and light is confined in the core 4 and propagated.

導波路シート2は、一方の端部に傾斜端面6を備える。傾斜端面6は、導波路シート2の端部を導波路シート2の下面に対して45度に傾斜させて構成され、各コア4の端面が露出する。コア4の端面は傾斜端面6と同じ45度の斜面であり、傾斜端面6に露出するコア4の端面によって反射面6aが構成される。   The waveguide sheet 2 includes an inclined end surface 6 at one end. The inclined end surface 6 is configured by inclining the end portion of the waveguide sheet 2 at 45 degrees with respect to the lower surface of the waveguide sheet 2, and the end surface of each core 4 is exposed. The end surface of the core 4 is the same 45-degree inclined surface as the inclined end surface 6, and the reflecting surface 6 a is configured by the end surface of the core 4 exposed to the inclined end surface 6.

実装基板3は、例えばシリコン(Si)基板であり、表面に導波路シート2が実装される。また、実装基板3は、面型発光素子(VCSEL)7と、面型受光素子(PD)8が、導波路シート2のコア4のピッチに合わせて実装される。   The mounting substrate 3 is, for example, a silicon (Si) substrate, and the waveguide sheet 2 is mounted on the surface. The mounting substrate 3 is mounted with a surface light emitting element (VCSEL) 7 and a surface light receiving element (PD) 8 in accordance with the pitch of the core 4 of the waveguide sheet 2.

更に、実装基板3は、導波路シート2の各コア4の反射面6aに対向させて面型発光素子7及び面型受光素子8を実装するため実装凹部9を備える。実装凹部9は、実装基板3の表面の一部を凹状にして形成され、底面には電極パッド9aを備える。   Further, the mounting substrate 3 includes a mounting recess 9 for mounting the surface light emitting element 7 and the surface light receiving element 8 so as to face the reflecting surface 6 a of each core 4 of the waveguide sheet 2. The mounting recess 9 is formed with a part of the surface of the mounting substrate 3 being concave, and includes an electrode pad 9a on the bottom surface.

面型発光素子7は、発光部7aが導波路シート2の所定のコア4の反射面6aと対向するように実装凹部9に実装され、電極パッド9aと電気的に接続される。また、ボンディングパッド7bが図示しない電子部品とワイヤボンディングにより電気的に接続される。   The surface light emitting element 7 is mounted in the mounting recess 9 so that the light emitting portion 7a faces the reflecting surface 6a of the predetermined core 4 of the waveguide sheet 2, and is electrically connected to the electrode pad 9a. The bonding pad 7b is electrically connected to an electronic component (not shown) by wire bonding.

面型受光素子8は、受光部8aが所定のコア4の反射面6aと対向するように実装凹部9に実装され、電極パッド9aと電気的に接続される。また、ボンディングパッド8bが図示しない電子部品とワイヤボンディングにより電気的に接続される。   The surface light receiving element 8 is mounted in the mounting recess 9 so that the light receiving portion 8a faces the reflecting surface 6a of the predetermined core 4, and is electrically connected to the electrode pad 9a. The bonding pad 8b is electrically connected to an electronic component (not shown) by wire bonding.

実装凹部9は、個々の面型発光素子7及び面型受光素子8に対応して独立して形成され、各実装凹部9の両側には、導波路支持部10が形成される。導波路支持部10は、導波路シート2が実装される実装基板3の表面と同一の平面で構成され、導波路シート2の一方の端部側を支持する。   The mounting recesses 9 are independently formed corresponding to the individual surface light emitting elements 7 and the surface light receiving elements 8, and waveguide support portions 10 are formed on both sides of each mounting recess 9. The waveguide support unit 10 is configured by the same plane as the surface of the mounting substrate 3 on which the waveguide sheet 2 is mounted, and supports one end side of the waveguide sheet 2.

導波路シート2は、接着剤11により実装基板3に接着固定される。接着剤11による接着位置11aは、実装基板3の上面で、導波路シート2と接する箇所の全面であり、導波路シート2と接しない実装凹部9の両側の導波路支持部10も接着位置11aとなる。   The waveguide sheet 2 is bonded and fixed to the mounting substrate 3 with an adhesive 11. The bonding position 11a by the adhesive 11 is the entire surface of the upper surface of the mounting substrate 3 that contacts the waveguide sheet 2, and the waveguide support portions 10 on both sides of the mounting recess 9 that do not contact the waveguide sheet 2 are also bonded positions 11a. It becomes.

なお、光導波路モジュール1Aは、図示しない光ファイバが接続されて、導波路シート2のコア4と光学的に結合している。例えば、実装基板3に形成した図示しないガイド溝に光ファイバを嵌めて、導波路シート2のコア4と光ファイバとの位置合わせを行う構成を備えても良いし、導波路シート2に形成した図示しないガイド溝に光ファイバを嵌めて、導波路シート2のコア4と光ファイバとの位置合わせを行う構成を備えても良い。   The optical waveguide module 1A is optically coupled to the core 4 of the waveguide sheet 2 by connecting an optical fiber (not shown). For example, an optical fiber may be fitted in a guide groove (not shown) formed on the mounting substrate 3 so as to align the core 4 of the waveguide sheet 2 and the optical fiber, or may be formed on the waveguide sheet 2. A configuration may be provided in which an optical fiber is fitted into a guide groove (not shown) and the core 4 of the waveguide sheet 2 and the optical fiber are aligned.

<第1の実施の形態の光導波路モジュールの動作例>
光導波路モジュール1Aは、電気信号が面型発光素子7で光信号に変換される。面型発光素子7は、実装基板3の表面に対して鉛直方向に光を出射する。これにより、面型発光素子7の発光部7aから出射された出力光信号は、導波路シート2の傾斜端面6の下面から入射し、対向するコア4の反射面6aで反射することで光の伝搬方向が90度変換されて、導波路シート2のコア4を伝搬される。そして、導波路シート2のコア4を伝搬された光信号は、図示しない光ファイバを伝搬されて対向機器で受光される。
<Operation Example of Optical Waveguide Module of First Embodiment>
In the optical waveguide module 1 </ b> A, an electric signal is converted into an optical signal by the surface light emitting element 7. The surface light emitting element 7 emits light in the vertical direction with respect to the surface of the mounting substrate 3. As a result, the output optical signal emitted from the light emitting portion 7a of the surface light emitting element 7 enters from the lower surface of the inclined end surface 6 of the waveguide sheet 2 and is reflected by the reflecting surface 6a of the opposing core 4 to transmit light. The propagation direction is changed by 90 degrees and propagated through the core 4 of the waveguide sheet 2. Then, the optical signal propagated through the core 4 of the waveguide sheet 2 is propagated through an optical fiber (not shown) and received by the opposing device.

図示しない対向機器から出力され、光ファイバを伝搬された入力光信号は、導波路シート2のコア4を伝搬され、反射面6aで反射することで光の伝搬方向が90度変換される。面型受光素子8は、実装基板3の表面に対して鉛直方向からの光が入射される。これにより、導波路シート2においてコア4の反射面6aで反射した光信号は、傾斜端面6の下面から出射して、対向する面型受光素子8の受光部8aで受光され、面型受光素子8で電気信号に変換される。   An input optical signal output from a counter device (not shown) and propagated through the optical fiber is propagated through the core 4 of the waveguide sheet 2 and reflected by the reflecting surface 6a, whereby the light propagation direction is converted by 90 degrees. In the surface light receiving element 8, light from the vertical direction is incident on the surface of the mounting substrate 3. As a result, the optical signal reflected by the reflection surface 6a of the core 4 in the waveguide sheet 2 is emitted from the lower surface of the inclined end surface 6 and received by the light receiving portion 8a of the opposed surface light receiving element 8, and the surface light receiving element. 8 is converted into an electric signal.

<実装基板の製造工程例>
図2は実装基板3の製造工程例を示す工程説明図で、次に、第1の実施の形態の光導波路モジュール1Aを構成する実装基板3の製造工程について説明する。
<Example of mounting board manufacturing process>
FIG. 2 is a process explanatory view showing an example of a manufacturing process of the mounting substrate 3. Next, a manufacturing process of the mounting substrate 3 constituting the optical waveguide module 1A of the first embodiment will be described.

実装基板3を形成する材料として、表面に熱酸化膜12aのあるシリコン基板12(結晶方位<100>)を用いる。まず、図1で説明した面型発光素子7及び面型受光素子8を実装する実装凹部9を作成する位置が開口するように、図2(a)に示すようにシリコン基板12の表面に所定の開口部13aを有するフォトレジスト13をパターンニングする。   As a material for forming the mounting substrate 3, a silicon substrate 12 (crystal orientation <100>) having a thermal oxide film 12a on the surface is used. First, as shown in FIG. 2 (a), a predetermined surface is formed on the surface of the silicon substrate 12 so that the position where the mounting recess 9 for mounting the surface light emitting element 7 and the surface light receiving element 8 described in FIG. The photoresist 13 having the opening 13a is patterned.

その後、フッ素系ガスを用いたイオンエッチング(RIE:Reactive Ion Etching)により、開口部分の熱酸化膜12aを除去する。マスクしたフォトレジスト13は、酸素プラズマによるアッシングにより除去する。   Thereafter, the thermal oxide film 12a in the opening is removed by ion etching (RIE: Reactive Ion Etching) using a fluorine-based gas. The masked photoresist 13 is removed by ashing with oxygen plasma.

次に、図2(b)に示すように、シリコン基板12を例えば70℃のKOH水溶液(濃度20wt%)に入れてシリコンのエッチングを行い、実装凹部9を形成する。   Next, as shown in FIG. 2B, the silicon substrate 12 is placed in, for example, a KOH aqueous solution (concentration 20 wt%) at 70 ° C., and silicon is etched to form the mounting recess 9.

次に、図2(c)に示すように、実装凹部9の底面に所定のパターンで電極パッド9aを形成する。本例では、電極パッド9aの構成は、下層からチタン(Ti)、白金(Pt)、金(Au)の3層構造とし、金属膜形成には蒸着を用い、パターン形成にはフォトレジストを用いたリフトオフ工程により電極パット9aを形成する。   Next, as shown in FIG. 2C, electrode pads 9 a are formed in a predetermined pattern on the bottom surface of the mounting recess 9. In this example, the electrode pad 9a has a three-layer structure of titanium (Ti), platinum (Pt), and gold (Au) from the lower layer, vapor deposition is used for forming the metal film, and photoresist is used for pattern formation. The electrode pad 9a is formed by the lift-off process.

金属膜形成の方法としては、蒸着の他にもメッキやスパッタ等でもよい。また、パターン形成もエッチングによる方法を用いても良い。   As a method for forming the metal film, plating or sputtering may be used in addition to vapor deposition. Also, pattern formation may be performed by etching.

そして、ウエハ状態で作製を行った場合は、最後に実装基板3の形態にダイシングして、実装凹部9を備えた実装基板3が完成する。   When the wafer is manufactured in a wafer state, the substrate is finally diced into the form of the mounting substrate 3 to complete the mounting substrate 3 having the mounting recess 9.

<第1の実施の形態の導波路シートの製造工程例>
図3は導波路シート2の製造工程例を示す説明図で、次に、第1の実施の形態の光導波路モジュール1Aを構成する導波路シート2の製造工程について説明する。
<Example of Manufacturing Process of Waveguide Sheet of First Embodiment>
FIG. 3 is an explanatory view showing an example of the manufacturing process of the waveguide sheet 2. Next, the manufacturing process of the waveguide sheet 2 constituting the optical waveguide module 1A of the first embodiment will be described.

まず、図3(a)に示すように、下部クラッド5aを構成する紫外線硬化型の高分子材料をスピンコート等により支持基板14上に塗布し、プリベークを行った後、紫外線を照射して薄膜を硬化させ、下部クラッド5aを形成する。   First, as shown in FIG. 3A, an ultraviolet curable polymer material constituting the lower clad 5a is applied on the support substrate 14 by spin coating or the like, pre-baked, and then irradiated with ultraviolet rays to form a thin film. Is cured to form the lower clad 5a.

次に、図3(b)に示すように、コア4を構成する紫外線硬化型の高分子材料をスピンコート等により下部クラッド5a上に塗布し、コア4のパターンが形成された図示しないマスクを介して紫外線を照射することでコア4を形成する部位を硬化させ、溶液現像によってコア4の形成部位以外を除去して、所定のパターンでコア4を形成する。コア4を構成する高分子材料は、下部クラッド5a及び上部クラッド5bを構成する高分子材料より若干屈折率が大きい材料を用いる。   Next, as shown in FIG. 3B, an ultraviolet curable polymer material constituting the core 4 is applied onto the lower clad 5a by spin coating or the like, and a mask (not shown) on which the pattern of the core 4 is formed is applied. Then, the portion where the core 4 is formed is cured by irradiating with ultraviolet rays, and the portions other than the portion where the core 4 is formed are removed by solution development to form the core 4 in a predetermined pattern. As the polymer material constituting the core 4, a material having a slightly higher refractive index than the polymer material constituting the lower clad 5a and the upper clad 5b is used.

次に、図3(c)に示すように、上部クラッド5bを構成する紫外線硬化型の高分子材料をスピンコート等により下部クラッド5a及びコア4上に塗布し、プリベークを行った後、紫外線照射及びポストベークを行って薄膜を硬化させ、上部クラッド5bを形成する。本例では、上部クラッド5bを構成する高分子材料は、下部クラッド5aを構成する高分子材料と同じ材料を用いているが、下部クラッド5aと屈折率がほぼ等しければ、別の材料を用いることも可能である。   Next, as shown in FIG. 3C, an ultraviolet curable polymer material constituting the upper clad 5b is applied onto the lower clad 5a and the core 4 by spin coating or the like, pre-baked, and then irradiated with ultraviolet rays. Then, the thin film is cured by post-baking to form the upper clad 5b. In this example, the polymer material constituting the upper clad 5b is the same as the polymer material constituting the lower clad 5a. However, if the refractive index is substantially equal to that of the lower clad 5a, a different material should be used. Is also possible.

次に、図1で説明した傾斜端面6が形成される辺となる部分を、図3(d)に示すように、45度の角度を持つダイシングプレートを用いてダイシングすることで、傾斜端面6及び反射面6aを形成する。また、他の辺となる部分は、90度の角度を持つダイシングプレートを用いてダイシングすることで、所定の形状の導波路シート2を切り出す。   Next, as shown in FIG. 3 (d), the inclined end surface 6 is diced by using a dicing plate having an angle of 45 degrees as shown in FIG. 3D. And the reflective surface 6a is formed. In addition, the portion that becomes the other side is diced using a dicing plate having an angle of 90 degrees to cut out the waveguide sheet 2 having a predetermined shape.

そして、図3(e)に示すように、導波路シート2を支持基板14から剥離して、導波路シート2が完成する。   And as shown in FIG.3 (e), the waveguide sheet 2 is peeled from the support substrate 14, and the waveguide sheet 2 is completed.

なお、以上の例では、紫外線硬化型の高分子材料を用いてフォトリソグラフィプロセスによりコア4のパターンを形成したが、熱硬化型の樹脂を用いて金型成形によってパターンニングする方法や、金属マスク等でマスクしてRIEでパターンを転写して形成する方法等もある。   In the above example, the pattern of the core 4 is formed by a photolithography process using an ultraviolet curable polymer material. However, a patterning method by metal mold using a thermosetting resin, or a metal mask There is also a method in which a pattern is transferred by RIE and masked with the like.

<第1の実施の形態の光導波路モジュールの製造工程例>
図2で説明した工程で作製した実装基板3に、面型発光素子7及び面型受光素子8等を実装すると共に、図3で説明した工程で作製した導波路シート2を実装して、図1に示すような光導波路モジュール1Aが形成される。
<Example of Manufacturing Process of Optical Waveguide Module of First Embodiment>
The surface light-emitting element 7 and the surface light-receiving element 8 are mounted on the mounting substrate 3 manufactured in the process described with reference to FIG. 2, and the waveguide sheet 2 manufactured in the process described with reference to FIG. 1A is formed.

以下に、光導波路モジュール1A全体の製造工程例を説明すると、図2で説明した工程で作製した実装基板3の実装凹部9に、面型発光素子7及び面型受光素子8と、図示しない電子部品等を実装し、ワイヤボンディング等により電気的な接続を行う。   Hereinafter, an example of a manufacturing process of the entire optical waveguide module 1A will be described. In the mounting recess 9 of the mounting substrate 3 manufactured in the process described with reference to FIG. Mount components and make electrical connections by wire bonding.

次に、図3で説明した工程で作製した導波路シート2を、各コア4の反射面6aが、対応する面型発光素子7の発光部7a及び面型受光素子8の受光部8aの真上にくるように位置合わせを行い、接着剤11で実装基板3に固定する。   Next, in the waveguide sheet 2 manufactured in the process described with reference to FIG. 3, the reflection surface 6 a of each core 4 has a light emitting portion 7 a of the corresponding surface light emitting element 7 and a true light receiving portion 8 a of the surface light receiving element 8. Positioning is performed so as to come up, and the adhesive 11 is fixed to the mounting substrate 3.

導波路シート2は光を透過するので、接着剤11には可視光(405,436nm)硬化型の接着剤を使用し、導波路シート2の位置合わせ後に可視光を照射して接着剤11を硬化させ、導波路シート2を実装基板3に接着固定する。   Since the waveguide sheet 2 transmits light, a visible light (405, 436 nm) curable adhesive is used for the adhesive 11, and the adhesive 11 is irradiated by irradiating visible light after the alignment of the waveguide sheet 2. Curing is performed, and the waveguide sheet 2 is bonded and fixed to the mounting substrate 3.

ここで、導波路シート2の傾斜端面6側の端部は実装凹部9上に位置する。このため、隣り合う実装凹部9の間の導波路支持部10にも接着剤11が塗布されて、導波路シート2が実装基板3に接着されるようにする。   Here, the end of the waveguide sheet 2 on the inclined end surface 6 side is located on the mounting recess 9. For this reason, the adhesive 11 is also applied to the waveguide support 10 between the adjacent mounting recesses 9 so that the waveguide sheet 2 is bonded to the mounting substrate 3.

このように、面型発光素子7及び面型受光素子8を実装するために形成される実装凹部9の両側に導波路支持部10を備えて導波路シート2を支持できるようにすることで、導波路シート2において、面型発光素子7あるいは面型受光素子8との光結合のため、実装基板3に接着固定できず空中でフリーとなる部分の両側が実装基板3に固定される。これにより、フリーとなる部分が少なくなるので、熱による導波路シート2の伸縮や、長期的な使用による導波路シート2の反り等の変形による結合損失の増加を低減することができる。   Thus, by providing the waveguide sheet 2 with the waveguide support portions 10 on both sides of the mounting recess 9 formed for mounting the surface light emitting element 7 and the surface light receiving element 8, In the waveguide sheet 2, both sides of the portion that cannot be bonded and fixed to the mounting substrate 3 and become free in the air are fixed to the mounting substrate 3 because of optical coupling with the surface light emitting element 7 or the surface light receiving element 8. Thereby, since the part which becomes free decreases, the increase in the coupling loss by deformation | transformation of the expansion / contraction of the waveguide sheet 2 by heat | fever, the curvature of the waveguide sheet 2 by long-term use, etc. can be reduced.

上述したように、実装基板3に実装凹部9を形成して面型発光素子7及び面型受光素子8を実装し、傾斜端面6による反射面6aを有する導波路シート2を実装基板3に実装して、導波路シート2と面型発光素子7及び面型受光素子8との光結合を行う構成では、実装凹部9は、面型発光素子7及び面型受光素子8が実装基板3の表面から突出しない深さとする必要がある。   As described above, the mounting recess 9 is formed in the mounting substrate 3 to mount the surface light emitting element 7 and the surface light receiving element 8, and the waveguide sheet 2 having the reflection surface 6 a by the inclined end surface 6 is mounted on the mounting substrate 3. In the configuration in which the waveguide sheet 2 is optically coupled to the surface light-emitting element 7 and the surface light-receiving element 8, the mounting recess 9 has the surface light-emitting element 7 and the surface light-receiving element 8 on the surface of the mounting substrate 3. It is necessary to make the depth so that it does not protrude from.

また、面型発光素子7及び面型受光素子8と導波路シート2とのギャップが広いと、光の結合効率が低下するので、面型発光素子7及び面型受光素子8と導波路シート2とのギャップは厳密にコントロールする必要がある。   Further, if the gap between the surface light emitting element 7 and the surface light receiving element 8 and the waveguide sheet 2 is wide, the light coupling efficiency is lowered. Therefore, the surface light emitting element 7 and the surface light receiving element 8 and the waveguide sheet 2 are reduced. It is necessary to strictly control the gap.

このため、実装基板3はシリコン基板で形成すると良い。実装基板3にシリコンを用いることにより、異方性エッチングによって高精度な実装凹部9を容易に形成することができるため、面型発光素子7及び面型受光素子8との間のギャップを精密にコントロールすることができ、良好な光結合を得ることができる。また、導波路支持部10の形成部位を残して実装凹部9を形成できるので、隣り合う実装凹部9の間に導波路支持部10を形成することができる。更に、シリコンは熱伝導率が高く、良好な放熱特性を得ることができる。   For this reason, the mounting substrate 3 is preferably formed of a silicon substrate. By using silicon for the mounting substrate 3, a highly accurate mounting recess 9 can be easily formed by anisotropic etching, so that the gap between the surface light-emitting element 7 and the surface light-receiving element 8 can be precisely set. It can be controlled and good optical coupling can be obtained. Further, since the mounting recess 9 can be formed while leaving the formation site of the waveguide support 10, the waveguide support 10 can be formed between the adjacent mounting recesses 9. Furthermore, silicon has high thermal conductivity, and good heat dissipation characteristics can be obtained.

<第2の実施の形態の光導波路モジュールの構成例>
図4は第2の実施の形態の光導波路モジュールの一例を示す構成図で、図4(a)は平面図、図4(b)は図4(a)のC−C断面図、図4(c)は図4(a)のD−D断面図である。以下の説明で、第1の実施の形態の光導波路モジュール1Aと同じ構成については同じ番号を付して説明する。
<Configuration Example of Optical Waveguide Module of Second Embodiment>
4A and 4B are configuration diagrams showing an example of the optical waveguide module according to the second embodiment. FIG. 4A is a plan view, FIG. 4B is a cross-sectional view taken along the line C-C in FIG. (C) is DD sectional drawing of Fig.4 (a). In the following description, the same components as those of the optical waveguide module 1A according to the first embodiment will be described with the same numbers.

第2の実施の形態の光導波路モジュール1Bは 導波路シート2を支持する実装基板3に面型発光素子7及び面型受光素子8を実装する実装凹部9を形成し、実装凹部9の両側で導波路シート2の下側となる位置には導波路支持部10を形成すると共に、各実装凹部9の間で導波路シート2より外側となる位置には連結凹部9bを形成し、各実装凹部9の後方を連結凹部9bで連結したものである。   In the optical waveguide module 1B of the second embodiment, a mounting recess 3 for mounting the surface light-emitting element 7 and the surface light-receiving element 8 is formed on the mounting substrate 3 that supports the waveguide sheet 2. A waveguide support portion 10 is formed at a position below the waveguide sheet 2, and a connection recess 9 b is formed at a position outside the waveguide sheet 2 between the mounting recesses 9. 9 is connected by a connecting recess 9b.

連結凹部9bは、実装凹部9と同様に実装基板3の表面の一部を凹状にして形成され、上述したエッチングによる実装凹部9の形成プロセスで実装凹部9と一括して形成される。   Similarly to the mounting recess 9, the connection recess 9 b is formed with a part of the surface of the mounting substrate 3 being recessed, and is formed together with the mounting recess 9 by the process of forming the mounting recess 9 by etching as described above.

更に、第2の実施の形態の光導波路モジュール1Bは、連結凹部9bを利用して、各実装凹部9に透明樹脂15が充填される。透明樹脂15は、耐湿性を有し、かつ、導波路シート2と同等の屈折率を有する透明な樹脂であり、例えばポリイミドシリコンを利用する。   Furthermore, in the optical waveguide module 1B of the second embodiment, each mounting recess 9 is filled with the transparent resin 15 using the connection recess 9b. The transparent resin 15 is a transparent resin having moisture resistance and a refractive index equivalent to that of the waveguide sheet 2, and uses, for example, polyimide silicon.

各実装凹部9では、面型発光素子7及び面型受光素子8と、導波路シート2において光が入出射する導波路シート2の下端面との間に透明樹脂15が充填される。これにより、導波路シート2の入射端面における反射による過剰損失の低減と、反射戻り光による面型発光素子7の出力モードの変化等を抑えて、導波路シート2からの出力光を安定化することが可能となる。   In each mounting recess 9, a transparent resin 15 is filled between the surface light-emitting element 7 and the surface light-receiving element 8 and the lower end surface of the waveguide sheet 2 where light enters and exits the waveguide sheet 2. This stabilizes the output light from the waveguide sheet 2 by reducing excess loss due to reflection at the incident end face of the waveguide sheet 2 and suppressing changes in the output mode of the surface light emitting element 7 due to reflected return light. It becomes possible.

また、透明樹脂15として耐湿性のある材料を利用することで、面型発光素子7及び面型受光素子8への水分を遮蔽することができるため、面型発光素子7及び面型受光素子8の信頼性を向上させることが可能となる。   Further, by using a moisture-resistant material as the transparent resin 15, moisture to the surface light emitting element 7 and the surface light receiving element 8 can be shielded, and thus the surface light emitting element 7 and the surface light receiving element 8. It becomes possible to improve the reliability.

そして、第2の実施の形態の光導波路モジュール1Bでは、各実装凹部9が連結凹部9bで連結されているので、各実装凹部9に透明樹脂15を充填する工程において、一度の充填で連結凹部9bを介して全ての実装凹部9に透明樹脂15を充填できるので、工程を簡易にすることができる。   In the optical waveguide module 1B of the second embodiment, the mounting recesses 9 are connected by the connection recesses 9b. Therefore, in the step of filling the mounting recesses 9 with the transparent resin 15, the connection recesses are filled once. Since all the mounting recesses 9 can be filled with the transparent resin 15 via 9b, the process can be simplified.

なお、第1の実施の形態の光導波路モジュール1Aのように、独立した形態の実装凹部9に透明樹脂15を充填する構成とすることもできるが、個々の実装凹部9は体積が小さく、充填する透明樹脂15の量のコントロールが難しい。これに対して、各実装凹部9を連結凹部9bで連結することで、実装凹部9が分割されている場合に比較して凹部の体積が大きくなるため、充填する透明樹脂15のコントロールが容易となり、透明樹脂15の実装工程を容易に行うことができる。   In addition, as with the optical waveguide module 1A of the first embodiment, the mounting recess 9 having an independent form can be filled with the transparent resin 15, but each mounting recess 9 has a small volume and is filled. It is difficult to control the amount of the transparent resin 15 to be processed. On the other hand, by connecting the mounting recesses 9 with the connecting recesses 9b, the volume of the recesses is increased as compared with the case where the mounting recesses 9 are divided, so that the control of the transparent resin 15 to be filled becomes easy. The mounting process of the transparent resin 15 can be easily performed.

ここで、第2の実施の形態の光導波路モジュール1Bにおいても、実装凹部9の両側で導波路シート2の下側となる位置には導波路支持部10が形成され、導波路シート2において、面型発光素子7あるいは面型受光素子8との光結合のため、実装基板3に接着固定できず空中でフリーとなる部分の両側が実装基板3に固定される。   Here, also in the optical waveguide module 1B of the second embodiment, the waveguide support portion 10 is formed at the lower side of the waveguide sheet 2 on both sides of the mounting recess 9, and in the waveguide sheet 2, Due to optical coupling with the surface light-emitting element 7 or the surface light-receiving element 8, both sides of the portion that cannot be bonded and fixed to the mounting substrate 3 and become free in the air are fixed to the mounting substrate 3.

これにより、第1の実施の形態の光導波路モジュール1Aと同様に、導波路シート2においてフリーとなる部分が少なくなるので、熱による導波路シート2の伸縮や、長期的な使用による導波路シート2の反り等の変形による結合損失の増加を低減することができる。   As a result, as in the optical waveguide module 1A of the first embodiment, the free portion of the waveguide sheet 2 is reduced, so that the waveguide sheet 2 can be expanded and contracted due to heat, and the waveguide sheet can be used over a long period of time. The increase in coupling loss due to deformation such as warpage of 2 can be reduced.

<第3の実施の形態の光導波路モジュールの構成例>
図5は第3の実施の形態の光導波路モジュールの一例を示す構成図で、図5(a)は平面図、図5(b)は図5(a)のE−E断面図である。以下の説明で、第1の実施の形態の光導波路モジュール1Aと同じ構成については同じ番号を付して説明する。
<Configuration Example of Optical Waveguide Module of Third Embodiment>
FIGS. 5A and 5B are configuration diagrams showing an example of the optical waveguide module according to the third embodiment. FIG. 5A is a plan view, and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along line EE in FIG. In the following description, the same components as those of the optical waveguide module 1A according to the first embodiment will be described with the same numbers.

第3の実施の形態の光導波路モジュール1Cは、平面型の光導波路を構成する導波路シート2と、導波路シート2を支持する実装基板3を備える。導波路シート2は、例えば高分子材料で構成され、第1のコア4a及び第2のコア4bと、下部クラッド5a及び上部クラッド5bを備えて、コア・クラッド構造を有する。第1のコア4a及び第2のコア4bは、屈折率が下部クラッド5a及び上部クラッド5bより若干大きくなるように構成されて、光が第1のコア4a及び第2のコア4bに閉じ込められて伝搬される。   The optical waveguide module 1 </ b> C of the third embodiment includes a waveguide sheet 2 that constitutes a planar optical waveguide, and a mounting substrate 3 that supports the waveguide sheet 2. The waveguide sheet 2 is made of, for example, a polymer material, and includes a first core 4a and a second core 4b, a lower clad 5a, and an upper clad 5b, and has a core / cladding structure. The first core 4a and the second core 4b are configured so that the refractive index is slightly larger than that of the lower cladding 5a and the upper cladding 5b, and light is confined in the first core 4a and the second core 4b. Propagated.

第1のコア4aと第2のコア4bは交差部4cで交差し、交差部4cにおける第1のコア4aと第2のコア4bの交差角は90度である。交差部4cは、導波路シート2の一の辺に位置し、交差部4cが位置する導波路シート2の一の辺は、第1のコア4a及び第2のコア4bに対して45度の角度で延在している。また、第2のコア4bの端部が位置する導波路シート2の他の辺は、第2のコア4bに対して90度の角度で延在している。   The first core 4a and the second core 4b intersect at the intersection 4c, and the intersection angle of the first core 4a and the second core 4b at the intersection 4c is 90 degrees. The intersection 4c is located on one side of the waveguide sheet 2, and one side of the waveguide sheet 2 on which the intersection 4c is located is 45 degrees with respect to the first core 4a and the second core 4b. It extends at an angle. Further, the other side of the waveguide sheet 2 where the end of the second core 4b is located extends at an angle of 90 degrees with respect to the second core 4b.

そして、交差部4cが位置する導波路シート2の一の辺は、導波路シート2の下面に対して45度に傾斜させて第1の傾斜端面16aを備え、第2のコア4bの端部が位置する導波路シート2の他の辺は、導波路シート2の下面に対して45度に傾斜させて第2の傾斜端面16bを備える。   One side of the waveguide sheet 2 where the intersecting portion 4c is located is inclined 45 degrees with respect to the lower surface of the waveguide sheet 2 and includes a first inclined end surface 16a, and the end of the second core 4b. The other side of the waveguide sheet 2 where the is located is inclined by 45 degrees with respect to the lower surface of the waveguide sheet 2 and includes a second inclined end face 16b.

第1の傾斜端面16aは、第1のコア4a及び第2のコア4bの交差部4cにおける端面が露出して第1の反射面17aが形成される。また、第2の傾斜端面16bは、第2のコア4bの端面が露出して第2の反射面17bが形成される。   The first inclined end surface 16a is exposed at the end surface at the intersecting portion 4c of the first core 4a and the second core 4b to form the first reflecting surface 17a. Further, the second inclined end face 16b is exposed to the end face of the second core 4b to form a second reflecting face 17b.

導波路シート2は、第1のコア4aと第2のコア4bの交差部4cに形成される第1の反射面17aと対向した下面側に波長選択フィルタ18を備える。波長選択フィルタ18は、任意の波長領域における光を選択的に反射及び透過させる機能を有し、例えば、波長λ1の光は反射し、波長λ2の光は透過するように構成される。本例では、波長選択フィルタ18は、後述するように導波路シート2の下部クラッド5a内に形成される。   The waveguide sheet 2 includes a wavelength selection filter 18 on the lower surface facing the first reflecting surface 17a formed at the intersection 4c of the first core 4a and the second core 4b. The wavelength selection filter 18 has a function of selectively reflecting and transmitting light in an arbitrary wavelength region. For example, the wavelength selective filter 18 is configured to reflect light of wavelength λ1 and transmit light of wavelength λ2. In this example, the wavelength selection filter 18 is formed in the lower clad 5a of the waveguide sheet 2 as will be described later.

実装基板3は、例えばシリコン(Si)基板であり、表面に導波路シート2が実装される。また、実装基板3は、面型発光素子(VCSEL)7と、面型受光素子(PD)8が実装される。   The mounting substrate 3 is, for example, a silicon (Si) substrate, and the waveguide sheet 2 is mounted on the surface. The mounting substrate 3 is mounted with a surface light emitting element (VCSEL) 7 and a surface light receiving element (PD) 8.

更に、実装基板3は、導波路シート2の第1の反射面17aに対向させて面型受光素子8を実装し、第2の反射面17bに対向させて面型発光素子7を実装するため、実装凹部9を備える。実装凹部9は、実装基板3の表面の一部を凹状にして形成され、底面には電極パッド9aを備える。   Furthermore, the mounting substrate 3 mounts the surface light-receiving element 8 facing the first reflecting surface 17a of the waveguide sheet 2 and mounts the surface light-emitting element 7 facing the second reflecting surface 17b. The mounting recess 9 is provided. The mounting recess 9 is formed with a part of the surface of the mounting substrate 3 being concave, and includes an electrode pad 9a on the bottom surface.

面型発光素子7は、発光部7aが導波路シート2の第2の反射面17bと対向するように実装凹部9に実装され、電極パッド9aと電気的に接続される。また、ボンディングパッド7bが図示しない電子部品とワイヤボンディングにより電気的に接続される。   The surface light emitting element 7 is mounted in the mounting recess 9 so that the light emitting portion 7a faces the second reflecting surface 17b of the waveguide sheet 2, and is electrically connected to the electrode pad 9a. The bonding pad 7b is electrically connected to an electronic component (not shown) by wire bonding.

面型受光素子8は、受光部8aが第1の反射面17aと対向するように実装凹部9に実装され、電極パッド9aと電気的に接続される。また、ボンディングパッド8bが図示しない電子部品とワイヤボンディングにより電気的に接続される。   The surface light receiving element 8 is mounted in the mounting recess 9 so that the light receiving portion 8a faces the first reflecting surface 17a, and is electrically connected to the electrode pad 9a. The bonding pad 8b is electrically connected to an electronic component (not shown) by wire bonding.

実装凹部9は、面型発光素子7及び面型受光素子8に対応して独立して形成され、各実装凹部9の両側には、導波路支持部10が形成される。導波路支持部10は、導波路シート2が実装される実装基板3の表面と同一の平面で構成され、導波路シート2の端部側を支持する。   The mounting recess 9 is independently formed corresponding to the surface light emitting element 7 and the surface light receiving element 8, and the waveguide support portions 10 are formed on both sides of each mounting recess 9. The waveguide support unit 10 is configured in the same plane as the surface of the mounting substrate 3 on which the waveguide sheet 2 is mounted, and supports the end side of the waveguide sheet 2.

導波路シート2は、接着剤11により実装基板3に接着固定される。接着剤11による接着位置は、実装基板3の上面で、導波路シート2と接する箇所の全面であり、導波路シート2と接しない実装凹部9の両側の導波路支持部10も接着位置となる。   The waveguide sheet 2 is bonded and fixed to the mounting substrate 3 with an adhesive 11. The bonding position by the adhesive 11 is the entire surface of the upper surface of the mounting substrate 3 that is in contact with the waveguide sheet 2, and the waveguide support portions 10 on both sides of the mounting recess 9 that are not in contact with the waveguide sheet 2 are also bonding positions. .

なお、光導波路モジュール1Cは、図示しない光ファイバが接続されて、導波路シート2の第1のコア4aと光学的に結合している。例えば、実装基板3に形成した図示しないガイド溝に光ファイバを嵌めて、導波路シート2の第1のコア4aと光ファイバとの位置合わせを行う構成を備えても良いし、導波路シート2に形成した図示しないガイド溝に光ファイバを嵌めて、導波路シート2の第1のコア4aと光ファイバとの位置合わせを行う構成を備えても良い。   The optical waveguide module 1C is optically coupled to the first core 4a of the waveguide sheet 2 by connecting an optical fiber (not shown). For example, an optical fiber may be fitted into a guide groove (not shown) formed on the mounting substrate 3 so as to align the first core 4a of the waveguide sheet 2 and the optical fiber, or the waveguide sheet 2 may be provided. An optical fiber may be fitted in a guide groove (not shown) formed in the above, and the first core 4a of the waveguide sheet 2 and the optical fiber may be aligned.

<第3の実施の形態の光導波路モジュールの動作例>
光導波路モジュール1Cは、図示しない対向機器からの入力信号が波長λ2(例えば、λ2=790nm)の光信号で光ファイバを介して導波路シート2に入射される。導波路シート2に入射された入力光信号は、第1のコア4aを伝搬され、第1の反射面17aで反射することで光の伝搬方向が90度変換されて、波長選択フィルタ18に入射する。
<Example of Operation of Optical Waveguide Module of Third Embodiment>
In the optical waveguide module 1C, an input signal from a counter device (not shown) is incident on the waveguide sheet 2 through an optical fiber as an optical signal having a wavelength λ2 (for example, λ2 = 790 nm). The input optical signal incident on the waveguide sheet 2 is propagated through the first core 4 a and reflected by the first reflecting surface 17 a, so that the light propagation direction is converted by 90 degrees and incident on the wavelength selection filter 18. To do.

波長選択フィルタ18は、上述したように波長λ2の光は透過するので、第1の反射面17aで反射した図示しない対向機器からの光信号は、波長選択フィルタ18を透過して導波路シート2の第1の傾斜端面16aの下面側から出射し、面型受光素子8の受光部8aで受光されて、面型受光素子8で電気信号に変換される。   Since the wavelength selective filter 18 transmits the light having the wavelength λ2 as described above, the optical signal from the opposite device (not shown) reflected by the first reflecting surface 17a is transmitted through the wavelength selective filter 18 and the waveguide sheet 2. Is emitted from the lower surface side of the first inclined end surface 16 a, received by the light receiving portion 8 a of the surface light receiving element 8, and converted into an electric signal by the surface light receiving element 8.

一方、光導波路モジュール1Cでは、電気信号が面型発光素子7で光信号に変換される。ここで、面型発光素子7の発振波長はλ1(例えば、λ1=850nm)とする。面型発光素子7の発光部7aから出射された出力光信号は、導波路シート2の第2の傾斜端面16bの下面側から入射し、第2の反射面17bで反射することで光の伝搬方向が90度変換されて、導波路シート2の第2のコア4bを伝搬される。   On the other hand, in the optical waveguide module 1 </ b> C, the electric signal is converted into an optical signal by the surface light emitting element 7. Here, the oscillation wavelength of the surface light emitting element 7 is λ1 (for example, λ1 = 850 nm). The output optical signal emitted from the light emitting portion 7a of the surface light emitting element 7 enters from the lower surface side of the second inclined end surface 16b of the waveguide sheet 2 and is reflected by the second reflecting surface 17b to propagate light. The direction is changed by 90 degrees and propagated through the second core 4 b of the waveguide sheet 2.

導波路シート2の第2のコア4bを伝搬された光信号は、第1の反射面17aで反射することで光の伝搬方向が90度変換されて、波長選択フィルタ18に入射する。   The optical signal propagated through the second core 4 b of the waveguide sheet 2 is reflected by the first reflecting surface 17 a so that the light propagation direction is changed by 90 degrees and enters the wavelength selection filter 18.

波長選択フィルタ18は、上述したように波長λ1の光は反射するので、第1の反射面17aで反射した面型発光素子7からの光信号は、波長選択フィルタ18で反射して再度第1の反射面17aで反射することで光の伝搬方向が90度変換されて、第1のコア4aを伝搬される。そして、導波路シート2の第1のコア4aを伝搬された光信号は、図示しない光ファイバを伝搬されて対向機器で受光される。   Since the wavelength selective filter 18 reflects the light having the wavelength λ1 as described above, the optical signal from the surface light emitting element 7 reflected by the first reflective surface 17a is reflected by the wavelength selective filter 18 and again the first. The light is reflected by the reflecting surface 17a so that the light propagation direction is changed by 90 degrees and propagated through the first core 4a. The optical signal propagated through the first core 4a of the waveguide sheet 2 is propagated through an optical fiber (not shown) and received by the opposing device.

図示しない対向機器では、光導波路モジュール1Cと対になる光導波路モジュールとして、光導波路モジュール1Cと同じ構成で、かつ、波長λ1の光は透過し、波長λ2の光は反射する波長選択フィルタと、発振波長λ2の面型発光素子を備えた光導波路モジュールを用いることで、複数の異なる波長の光信号の分離多重化を行って、1本の光ファイバに複数の異なる波長の光信号を伝送させることが可能となる。   In a counter device (not shown), as an optical waveguide module that is paired with the optical waveguide module 1C, a wavelength selection filter that has the same configuration as the optical waveguide module 1C, transmits light of wavelength λ1, and reflects light of wavelength λ2. By using an optical waveguide module including a surface light emitting device having an oscillation wavelength λ2, a plurality of optical signals of different wavelengths are separated and multiplexed to transmit optical signals of a plurality of different wavelengths to one optical fiber. It becomes possible.

これにより、光導波路モジュール1Cを備えることで、波長多重双方向光通信(WDM)が行われるシステムの構築が可能となる。   Accordingly, by providing the optical waveguide module 1C, it is possible to construct a system in which wavelength division multiplexing optical communication (WDM) is performed.

<第3の実施の形態の導波路シートの製造工程例>
図6は導波路シート2の製造工程例を示す説明図で、次に、第3の実施の形態の光導波路モジュール1Cを構成する導波路シート2の製造工程について説明する。
<Example of Manufacturing Process of Waveguide Sheet of Third Embodiment>
FIG. 6 is an explanatory view showing an example of the manufacturing process of the waveguide sheet 2. Next, the manufacturing process of the waveguide sheet 2 constituting the optical waveguide module 1C of the third embodiment will be described.

まず、図6(a)に示すように、下部クラッド5aの第1層を構成する紫外線硬化型の高分子材料をスピンコート等により支持基板14上に塗布し、プリベークを行った後、紫外線を照射して薄膜を硬化させ、下部クラッド第1層5a(1)を形成する。   First, as shown in FIG. 6A, an ultraviolet curable polymer material constituting the first layer of the lower clad 5a is applied onto the support substrate 14 by spin coating or the like, pre-baked, and then irradiated with ultraviolet rays. The thin film is cured by irradiation to form the lower clad first layer 5a (1).

次に、図6(b)に示すように、下部クラッド第1層5a(1)上の所定の位置に、波長選択フィルタ18を構成する誘電体多層膜を形成する。本例では、まず、フォトレジストを塗布し、誘電体多層膜を形成したい部分はパターンニングして取り除く。次に誘電体多層膜を蒸着によって下部クラッド第1層5a(1)の全面に形成した後、溶液でフォトレジストをエッチングして、フォトレジストとフォトレジスト上の誘電体多層膜を取り除くリフトオフ工程によって、所望の場所にのみ誘電体多層膜による波長選択フィルタ18を形成する。   Next, as shown in FIG. 6B, a dielectric multilayer film constituting the wavelength selection filter 18 is formed at a predetermined position on the lower cladding first layer 5a (1). In this example, first, a photoresist is applied, and a portion where a dielectric multilayer film is to be formed is removed by patterning. Next, after forming a dielectric multilayer film on the entire surface of the lower cladding first layer 5a (1) by vapor deposition, the photoresist is etched with a solution to remove the photoresist and the dielectric multilayer film on the photoresist by a lift-off process. Then, the wavelength selective filter 18 made of a dielectric multilayer film is formed only at a desired location.

次に、図6(c)に示すように、下部クラッド第1層5a(1)と同様の工程によって、下部クラッド第1層5a(1)の上に下部クラッド第2層5a(2)を形成する。これにより、下部クラッド第1層5a(1)と下部クラッド第2層5a(2)の間の所定の位置に、波長選択フィルタ18を挟み込んだ形態で下部クラッド5aが形成される。   Next, as shown in FIG. 6C, the lower clad second layer 5a (2) is formed on the lower clad first layer 5a (1) by the same process as the lower clad first layer 5a (1). Form. Thus, the lower clad 5a is formed in a form in which the wavelength selection filter 18 is sandwiched between the lower clad first layer 5a (1) and the lower clad second layer 5a (2).

次に、図6(d)に示すように、第1のコア4a及び第2のコア4bを構成する紫外線硬化型の高分子材料をスピンコート等により下部クラッド5a上に塗布し、第1のコア4a及び第2のコア4bのパターンが形成された図示しないマスクを介して紫外線を照射することで第1のコア4a及び第2のコア4bを形成する部位を硬化させ、溶液現像によってコアの形成部位以外を除去して、所定のパターンで第1のコア4a及び第2のコア4bを形成する。第1のコア4a及び第2のコア4bを構成する高分子材料は、下部クラッド5a及び上部クラッド5bを構成する高分子材料より若干屈折率が大きい材料を用いる。   Next, as shown in FIG. 6D, an ultraviolet curable polymer material constituting the first core 4a and the second core 4b is applied onto the lower clad 5a by spin coating or the like, The portion where the first core 4a and the second core 4b are formed is cured by irradiating ultraviolet rays through a mask (not shown) in which the patterns of the core 4a and the second core 4b are formed, and the core is formed by solution development. The first core 4a and the second core 4b are formed in a predetermined pattern by removing portions other than the formation site. As the polymer material constituting the first core 4a and the second core 4b, a material having a slightly higher refractive index than the polymer material constituting the lower cladding 5a and the upper cladding 5b is used.

次に、図6(e)に示すように、上部クラッド5bを構成する紫外線硬化型の高分子材料をスピンコート等により下部クラッド5a及び第1のコア4a及び第2のコア4b上に塗布し、プリベークを行った後、紫外線照射及びポストベークを行って薄膜を硬化させ、上部クラッド5bを形成する。本例では、上部クラッド5bを構成する高分子材料は、下部クラッド5aを構成する高分子材料と同じ材料を用いているが、下部クラッド5aと屈折率がほぼ等しければ、別の材料を用いることも可能である。   Next, as shown in FIG. 6E, an ultraviolet curable polymer material constituting the upper clad 5b is applied onto the lower clad 5a, the first core 4a, and the second core 4b by spin coating or the like. After pre-baking, the thin film is cured by irradiating with ultraviolet rays and post-baking to form the upper clad 5b. In this example, the polymer material constituting the upper clad 5b is the same as the polymer material constituting the lower clad 5a. However, if the refractive index is substantially equal to that of the lower clad 5a, a different material should be used. Is also possible.

次に、図5で説明した第1の傾斜端面16a及び第2の傾斜端面16bが形成される辺となる部分を、図6(f)に示すように、45度の角度を持つダイシングプレートを用いてダイシングすることで、第1の傾斜端面16a及び第1の反射面17aと、第2の傾斜端面16b及び第2の反射面17bを形成する。また、他の辺となる部分は、90度の角度を持つダイシングプレートを用いてダイシングすることで、所定の形状の導波路シート2を切り出す。   Next, as shown in FIG. 6 (f), a dicing plate having an angle of 45 degrees is used as a side where the first inclined end face 16a and the second inclined end face 16b described in FIG. 5 are formed. By using and dicing, the first inclined end surface 16a and the first reflecting surface 17a, the second inclined end surface 16b and the second reflecting surface 17b are formed. In addition, the portion that becomes the other side is diced using a dicing plate having an angle of 90 degrees to cut out the waveguide sheet 2 having a predetermined shape.

そして、図6(g)に示すように、導波路シート2を支持基板14から剥離して、導波路シート2が完成する。   Then, as shown in FIG. 6G, the waveguide sheet 2 is peeled from the support substrate 14 to complete the waveguide sheet 2.

なお、以上の例では、紫外線硬化型の高分子材料を用いてフォトリソグラフィプロセスにより第1のコア4a及び第2のコア4bのパターンを形成したが、熱硬化型の樹脂を用いて金型成形によってパターンニングする方法や、金属マスク等でマスクしてRIEでパターンを転写して形成する方法等もある。   In the above example, the pattern of the first core 4a and the second core 4b is formed by a photolithography process using an ultraviolet curable polymer material, but the mold is formed using a thermosetting resin. There are also a method of patterning, a method of masking with a metal mask or the like, and a method of forming a pattern by transferring by RIE.

<第3の実施の形態の光導波路モジュールの製造工程例>
以下に、光導波路モジュール1C全体の製造工程例を説明する。なお、実装基板3の製造工程は、図2で説明した工程と同じで良い。まず、実装基板3の実装凹部9に、面型発光素子7及び面型受光素子8と、図示しない電子部品等を実装し、ワイヤボンディング等により電気的な接続を行う。
<Example of Manufacturing Process of Optical Waveguide Module of Third Embodiment>
Below, the example of a manufacturing process of the optical waveguide module 1C whole is demonstrated. In addition, the manufacturing process of the mounting substrate 3 may be the same as the process demonstrated in FIG. First, the surface light-emitting element 7 and the surface light-receiving element 8 and an electronic component (not shown) are mounted in the mounting recess 9 of the mounting substrate 3 and are electrically connected by wire bonding or the like.

次に、図6で説明した工程で作製した導波路シート2を、第1の反射面17aが面型受光素子8の受光部8aの真上に位置し、かつ、第2の反射面17bが面型発光素子7の発光部7aの真上に位置するように位置合わせを行い、接着剤11で実装基板3に固定する。   Next, in the waveguide sheet 2 manufactured in the process described with reference to FIG. 6, the first reflection surface 17 a is located immediately above the light receiving portion 8 a of the surface light receiving element 8, and the second reflection surface 17 b is Positioning is performed so that the light emitting portion 7 a of the surface light emitting element 7 is positioned directly above, and the surface light emitting element 7 is fixed to the mounting substrate 3 with an adhesive 11.

導波路シート2は光を透過するので、接着剤11には可視光(405,436nm)硬化型の接着剤を使用し、導波路シート2の位置合わせ後に可視光を照射して接着剤11を硬化させ、導波路シート2を実装基板3に接着固定する。   Since the waveguide sheet 2 transmits light, a visible light (405, 436 nm) curable adhesive is used for the adhesive 11, and the adhesive 11 is irradiated by irradiating visible light after the alignment of the waveguide sheet 2. Curing is performed, and the waveguide sheet 2 is bonded and fixed to the mounting substrate 3.

そして、第1のコア4aの他方の端面を露出させた導波路シート2の垂直カット辺に図示しない光ファイバを接合することで、上述したように、波長多重双方向光通信が行える光導波路モジュール1Cが完成する。   Then, as described above, an optical waveguide module capable of performing wavelength division multiplexing optical communication by bonding an optical fiber (not shown) to the vertical cut side of the waveguide sheet 2 with the other end face of the first core 4a exposed. 1C is completed.

以上のように、導波路シート2の端面に第1の傾斜端面16aを形成し、この第1の傾斜端面16aによる第1の反射面17aの直下に波長選択フィルタ18を配置すると共に、第1のコア4a及び第2のコア4bを第1の反射面17aの下で分岐する構成とすることで、面型発光素子7及び面型受光素子8を利用して波長多重双方向光通信が行える光導波路モジュール1Cを、容易な組み立て工程で実現することが可能となる。   As described above, the first inclined end face 16a is formed on the end face of the waveguide sheet 2, and the wavelength selective filter 18 is disposed immediately below the first reflecting face 17a by the first inclined end face 16a. By making the core 4a and the second core 4b branch under the first reflecting surface 17a, wavelength division multiplexing optical communication can be performed using the surface light emitting element 7 and the surface light receiving element 8. The optical waveguide module 1C can be realized by an easy assembly process.

また、波長選択フィルタ18を導波路シート2内に集積して作製するプロセスも可能であるので、波長選択フィルタ18の実装工程を省くことができる。   In addition, since the process of manufacturing the wavelength selective filter 18 by integrating it in the waveguide sheet 2 is possible, the mounting process of the wavelength selective filter 18 can be omitted.

なお、以上の構成では、下部クラッド5aを2層にしてその間に波長選択フィルタ18を形成したが、下部クラッド5aを2層に分けずに1層の下部クラッド5aとして形成し、その上に波長選択フィルタ18を形成した後に、コア層を形成する構成としても良い。   In the above configuration, the lower clad 5a is formed in two layers and the wavelength selection filter 18 is formed therebetween. However, the lower clad 5a is formed as a single lower clad 5a without being divided into two layers, and a wavelength is formed thereon. After forming the selection filter 18, it is good also as a structure which forms a core layer.

このような構成では、第1の反射面17aで反射した光が下部クラッド5aに出て拡散することなく波長選択フィルタ18で反射されて、第2のコア4bに結合されるため、結合損失を低減することができる。但し、第1のコア4a及び第2のコア4bの直下に波長選択フィルタ18が存在するので、波長選択フィルタ18の形成部位ではコアにおける光の伝搬損失が増大する。よって、波長選択フィルタ18は、なるべく光が反射する部分のみに形成する必要がある。   In such a configuration, the light reflected by the first reflecting surface 17a is reflected by the wavelength selection filter 18 without being diffused out to the lower clad 5a and coupled to the second core 4b. Can be reduced. However, since the wavelength selective filter 18 exists immediately below the first core 4a and the second core 4b, the propagation loss of light in the core increases at the site where the wavelength selective filter 18 is formed. Therefore, it is necessary to form the wavelength selection filter 18 only in a portion where light is reflected as much as possible.

<第4の実施の形態の光導波路モジュールの構成例>
図7は第4の実施の形態の光導波路モジュールの一例を示す構成図で、図7(a)は平面図、図7(b)は図7(a)のF−F断面図である。以下の説明で、第3の実施の形態の光導波路モジュール1Cと同じ構成については同じ番号を付して説明する。
<Configuration Example of Optical Waveguide Module of Fourth Embodiment>
7A and 7B are configuration diagrams showing an example of an optical waveguide module according to the fourth embodiment. FIG. 7A is a plan view, and FIG. 7B is a cross-sectional view taken along line FF in FIG. In the following description, the same components as those of the optical waveguide module 1C of the third embodiment will be described with the same numbers.

第4の実施の形態の光導波路モジュール1Dは、波長選択フィルタ18を導波路シート2内に集積せず、導波路シート2の第1の反射面17aと対向する下部クラッド5aの下面に、別途作製した波長選択フィルタ18を貼り付けた構成である。更に、波長選択フィルタ18の大きさを、面型受光素子8が実装される実装凹部9の大きさに合わせてある。   In the optical waveguide module 1D of the fourth embodiment, the wavelength selection filter 18 is not integrated in the waveguide sheet 2 and is separately provided on the lower surface of the lower cladding 5a facing the first reflection surface 17a of the waveguide sheet 2. In this configuration, the manufactured wavelength selection filter 18 is attached. Furthermore, the size of the wavelength selection filter 18 is adjusted to the size of the mounting recess 9 in which the surface light receiving element 8 is mounted.

他の構成及び動作は第3の光導波路モジュール1Cと同様である。さて、波長選択フィルタ18を下部クラッド5aの下面に貼り付け、その大きさを、面型受光素子8が実装される実装凹部9の大きさに合わせることで、面型発光装置7から出射され、第2のコア4bに結合せずにクラッド層に結合した迷光が、第1の傾斜端面16aで面型受光素子8方向に反射しても、波長選択フィルタ18で反射され、導波路シート2の下面からは出射しない。これにより、迷光が多重反射により面型受光素子8に入射してクロストークとなることを防ぐことができる。   Other configurations and operations are the same as those of the third optical waveguide module 1C. Now, the wavelength selective filter 18 is affixed to the lower surface of the lower clad 5a, and the size thereof is adjusted to the size of the mounting recess 9 in which the surface light receiving element 8 is mounted, thereby being emitted from the surface light emitting device 7. Even if the stray light that is not coupled to the second core 4b but is coupled to the clad layer is reflected by the first inclined end surface 16a in the direction of the surface light receiving element 8, it is reflected by the wavelength selection filter 18, and the waveguide sheet 2 It does not exit from the bottom surface. Thereby, it is possible to prevent stray light from entering the surface light receiving element 8 due to multiple reflection and causing crosstalk.

なお、第3の実施の形態及び第4の実施の形態では、信号が入出力されるコアは1本であるが、多数本のコアを所定のパターンで配置して、マルチチャンネルで送受信を行う光導波路モジュールを構成することも可能である。   In the third and fourth embodiments, the number of cores through which signals are input / output is one, but a large number of cores are arranged in a predetermined pattern to perform transmission / reception in multi-channels. It is also possible to configure an optical waveguide module.

<第5の実施の形態の光導波路モジュールの構成例>
上述した第1〜第4の実施の形態の光導波路モジュール1は、フィルム化した導波路シート2を実装基板3に接着剤11で貼り付けているが、実装基板3に対する接着剤11の濡れ性が悪いと、導波路シート2に均一に接着剤11が付かず、接着強度が低下する。
<Configuration Example of Optical Waveguide Module of Fifth Embodiment>
In the optical waveguide modules 1 of the first to fourth embodiments described above, the film-formed waveguide sheet 2 is attached to the mounting substrate 3 with the adhesive 11, but the wettability of the adhesive 11 with respect to the mounting substrate 3. If it is poor, the adhesive 11 is not uniformly applied to the waveguide sheet 2 and the adhesive strength is lowered.

接着剤11が均一に付かないと、特に、温湿度の影響による接着強度の低下が顕著に見られ、接着強度の低下から導波路シート2の位置ずれを生じ、光素子との結合に問題を生じる。このため、導波路シート2を実装基板3に貼り付ける前に、実装基板3の表面に表面処理を行う。   If the adhesive 11 is not evenly applied, particularly, a decrease in the adhesive strength due to the influence of temperature and humidity is noticeable, and the waveguide sheet 2 is displaced due to the decrease in the adhesive strength, which causes a problem in coupling with the optical element. Arise. Therefore, surface treatment is performed on the surface of the mounting substrate 3 before the waveguide sheet 2 is attached to the mounting substrate 3.

図8は第5の実施の形態の光導波路モジュール1Eの要部構成を示す断面図である。光導波路モジュール1Eは、例えば、図1に示す光導波路モジュール1Aと同様に、フィルム化した導波路シート2が実装基板3に接着剤11により貼り付けられている。   FIG. 8 is a cross-sectional view showing a main configuration of an optical waveguide module 1E according to the fifth embodiment. In the optical waveguide module 1E, for example, the waveguide sheet 2 formed into a film is attached to the mounting substrate 3 with an adhesive 11 in the same manner as the optical waveguide module 1A shown in FIG.

導波路シート2は、例えば高分子材料で構成され、コア4と下部クラッド5a及び上部クラッド5bを備えて、コア・クラッド構造を有する。また、実装基板3はシリコン基板である。   The waveguide sheet 2 is made of, for example, a polymer material, and includes a core 4, a lower cladding 5a, and an upper cladding 5b, and has a core / cladding structure. The mounting substrate 3 is a silicon substrate.

そして、実装基板3上に塗布された表面処理剤19上に接着剤11を塗布することで、実装基板3に対する接着剤11の濡れ性を向上させている。表面処理剤19としては、シランカップリング剤を用いる。   And the wettability of the adhesive 11 with respect to the mounting substrate 3 is improved by applying the adhesive 11 on the surface treatment agent 19 applied on the mounting substrate 3. A silane coupling agent is used as the surface treatment agent 19.

<第5の実施の形態の光導波路モジュールの製造工程例>
図9は第5の実施の形態の光導波路モジュールの製造工程例を示す説明図で、以下に、第5の実施の形態における光導波路モジュール1Eの製造工程例を説明する。なお、実装基板3の製造工程は、例えば図2で説明した工程と同じで良く、導波路シート2の製造工程は、例えば図3で説明した工程と同じで良い。
<Example of Manufacturing Process of Optical Waveguide Module of Fifth Embodiment>
FIG. 9 is an explanatory diagram showing an example of a manufacturing process of the optical waveguide module according to the fifth embodiment. Hereinafter, an example of a manufacturing process of the optical waveguide module 1E according to the fifth embodiment will be described. In addition, the manufacturing process of the mounting substrate 3 may be the same as the process demonstrated in FIG. 2, for example, and the manufacturing process of the waveguide sheet 2 may be the same as the process demonstrated in FIG.

まず、図1等に示す実装凹部9が形成された実装基板3の表面に、図9(a)に示すように、表面処理剤19としてシランカップリング剤を塗布する。次に、図1等に示すように、実装基板3の実装凹部9に、面型発光素子7及び面型受光素子8と、図示しない電子部品等を実装し、ワイヤボンディング等により電気的な接続を行う。   First, as shown in FIG. 9A, a silane coupling agent is applied to the surface of the mounting substrate 3 on which the mounting recess 9 shown in FIG. Next, as shown in FIG. 1 and the like, the surface light-emitting element 7 and the surface light-receiving element 8 and an electronic component (not shown) are mounted in the mounting recess 9 of the mounting substrate 3 and are electrically connected by wire bonding or the like. I do.

次に、図9(b)に示すように、実装基板3上に塗布された表面処理剤(シランカップリング剤)19上に例えば可視光硬化型の接着剤11を塗布し、図3で説明した工程で作製した導波路シート2の位置合わせを行った後、可視光を照射して接着剤11を硬化させ、導波路シート2を実装基板3に接着固定する。   Next, as shown in FIG. 9B, for example, a visible light curable adhesive 11 is applied on the surface treatment agent (silane coupling agent) 19 applied on the mounting substrate 3, and is described with reference to FIG. 3. After aligning the waveguide sheet 2 produced in the above process, visible light is irradiated to cure the adhesive 11, and the waveguide sheet 2 is bonded and fixed to the mounting substrate 3.

<第5の実施の形態の光導波路モジュールの効果>
具体的な実施例として、図3に示すプロセスで支持基板14上に厚さ約30μmの下部クラッド5a、断面形状が四角形で、そのサイズが約40×40μmのコア4、厚さ約30μmの上部クラッド5bを順次積層形成して導波路シート2を作製した。そして、傾斜端面6をダイシングにより形成し、支持基板14から剥離して厚さ約100μmのフィルム状の導波路シート2を作製した。
<Effect of Optical Waveguide Module of Fifth Embodiment>
As a specific embodiment, in the process shown in FIG. 3, the lower clad 5a having a thickness of about 30 μm on the support substrate 14, the core 4 having a quadrangular cross section and a size of about 40 × 40 μm, and the upper portion having a thickness of about 30 μm The waveguide sheet 2 was produced by sequentially laminating the clad 5b. Then, the inclined end face 6 was formed by dicing and peeled from the support substrate 14 to produce a film-like waveguide sheet 2 having a thickness of about 100 μm.

実装基板3は、図2に示すプロセスで作製した。この実装基板3の表面に、表面処理剤19として5w%のシランカップリング剤水溶液を塗布し、100℃5分で乾燥させた。シランカップリング剤としては、N−2(アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシランを用いた。   The mounting substrate 3 was produced by the process shown in FIG. A 5 w% aqueous silane coupling agent solution was applied as a surface treating agent 19 to the surface of the mounting substrate 3 and dried at 100 ° C. for 5 minutes. As the silane coupling agent, N-2 (aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane was used.

その後、表面処理剤(シランカップリング剤)19上に接着剤11を塗布し、導波路シート2を接着固定して図8に示すような断面構造の光導波路モジュール1Eを作製した。   Thereafter, the adhesive 11 was applied on the surface treatment agent (silane coupling agent) 19 and the waveguide sheet 2 was bonded and fixed to produce an optical waveguide module 1E having a sectional structure as shown in FIG.

図10は比較例の光導波路モジュールの一例を示す断面図である。比較例の光導波路モジュールは、図2に示すプロセスで作製した実装基板3上に、表面処理剤(シランカップリング剤)19を塗布せずに、接着剤11を塗布して、図3に示すプロセスで作製した導波路シート2を接着固定したものである。導波路シート2の構成は、図8に示す例と同じにした。   FIG. 10 is a cross-sectional view showing an example of an optical waveguide module of a comparative example. In the optical waveguide module of the comparative example, the adhesive 11 is applied on the mounting substrate 3 manufactured by the process shown in FIG. 2 without applying the surface treatment agent (silane coupling agent) 19, and the optical waveguide module shown in FIG. The waveguide sheet 2 produced by the process is bonded and fixed. The configuration of the waveguide sheet 2 was the same as the example shown in FIG.

実装基板3上に表面処理剤(シランカップリング剤)19を塗布した実施例では、接着剤11の実装基板3への濡れ性が良く、接着剤11が実装基板3上に均一に広がり、実装基板3へ導波路シート2を接着した場合に実装基板3と導波路シート2の間に気泡の残留が見られなかった。   In the example in which the surface treatment agent (silane coupling agent) 19 is applied on the mounting substrate 3, the wettability of the adhesive 11 to the mounting substrate 3 is good, and the adhesive 11 spreads uniformly on the mounting substrate 3, so that the mounting is possible. When the waveguide sheet 2 was bonded to the substrate 3, no bubbles remained between the mounting substrate 3 and the waveguide sheet 2.

一方、実装基板3上に表面処理剤(シランカップリング剤)19を塗布しない比較例では、接着剤11が実装基板3上に均一に広がらず、実装基板3へ導波路シート2を接着した場合に実装基板3と導波路シート2の間に気泡が残留し、均一に接着層が作製されなかった。   On the other hand, in the comparative example in which the surface treatment agent (silane coupling agent) 19 is not applied on the mounting substrate 3, the adhesive 11 does not spread uniformly on the mounting substrate 3, and the waveguide sheet 2 is adhered to the mounting substrate 3. In addition, air bubbles remained between the mounting substrate 3 and the waveguide sheet 2, and a uniform adhesive layer was not produced.

図11はシランカップリング剤の効果を示す説明図で、以下に具体的な効果について説明する。シリコンのような無機質表面に対して、有機溶剤からなる接着剤の濡れ性は悪く、実装基板3の表面処理を行わない場合は、接着剤11が実装基板3と導波路シート2との間に均一に回り込まず、気泡が残留する等接着層にムラが生じる。このような接着ムラが生じた場合、接着強度は低く、特に高温高湿環境下で使用した場合や保管した場合等における接着強度の低下が顕著である。そして、接着強度の低下により導波路シート2が位置ずれし光素子との結合に問題が生じる。   FIG. 11 is an explanatory diagram showing the effect of the silane coupling agent. Specific effects will be described below. The wettability of the adhesive made of an organic solvent is poor with respect to an inorganic surface such as silicon, and when the surface treatment of the mounting substrate 3 is not performed, the adhesive 11 is interposed between the mounting substrate 3 and the waveguide sheet 2. Unevenness occurs in the adhesive layer, such as bubbles that remain without being uniformly wrapped. When such adhesion unevenness occurs, the adhesive strength is low, and particularly when used in a high temperature and high humidity environment or when stored, the adhesive strength is significantly reduced. Then, the waveguide sheet 2 is displaced due to a decrease in adhesive strength, causing a problem in coupling with the optical element.

これに対して、実装基板3を構成するシリコンの無機質表面をシランカップリング剤で処理すると、図11に示すように、シランカップリング剤と、導波路シート2を構成する有機高分子材料との相互作用により、有機樹脂からなる接着剤11の実装基板3に対する濡れ性を向上させることができる。   On the other hand, when the inorganic surface of silicon constituting the mounting substrate 3 is treated with a silane coupling agent, the silane coupling agent and the organic polymer material constituting the waveguide sheet 2 as shown in FIG. Due to the interaction, the wettability of the adhesive 11 made of an organic resin to the mounting substrate 3 can be improved.

その結果、実装基板3と導波路シート2との間に均一な接着層が形成され、接着強度が高く、高温高湿環境下等で使用したような場合においても十分な接着強度を保つことができ、信頼性が向上する。   As a result, a uniform adhesive layer is formed between the mounting substrate 3 and the waveguide sheet 2, and the adhesive strength is high, so that sufficient adhesive strength can be maintained even when used in a high temperature and high humidity environment. And reliability is improved.

なお、表面処理剤19として使用するシランカップリング剤としては、上述した実施例に記載したものに限らず、式R2−Si−(OR13で表され、OR1が例えばメトキシ基、エトキシ基等、R2が例えばビニル基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、メルカプト基等である、あらゆるシランカップリング剤を使用することが可能である。 As the silane coupling agent used as a surface treatment agent 19 is not limited to those described in the above embodiments, are represented by the formula R 2 -Si- (OR 1) 3 , OR 1 is a methoxy group, Any silane coupling agent, such as an ethoxy group, where R 2 is, for example, a vinyl group, an epoxy group, an amino group, a methacryl group, a mercapto group, or the like can be used.

具体的には例えば、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、トリイソプロポキシシラン、トリブトキシシラン、トリオクチロキシシラン、メチルジメトキシシラン、エチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、エチルジエトキシシラン、メチルジオクチロキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルオクチロキシシラン、ビニルメトキシシラン、ビニルエトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン等を用いることができる。   Specifically, for example, trimethoxysilane, triethoxysilane, tripropoxysilane, triisopropoxysilane, tributoxysilane, trioctyloxysilane, methyldimethoxysilane, ethyldimethoxysilane, methyldiethoxysilane, ethyldiethoxysilane, Use methyldioctyloxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethyloctyloxysilane, vinylmethoxysilane, vinylethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, aminopropyltrimethoxysilane, aminopropyltriethoxysilane, mercaptopropyltrimethoxysilane, etc. be able to.

これらのシランカップリング剤は、相溶性のある各種溶媒で、濃度が0.1〜50w%、好ましくは0.1〜20w%となるよう希釈して使用する。希釈する溶媒としては、例えば、水、メチルアルコール、エチルアルコール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、アセトン、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン等が挙げられる。   These silane coupling agents are diluted with various compatible solvents so that the concentration is 0.1 to 50 w%, preferably 0.1 to 20 w%. Examples of the solvent to be diluted include water, methyl alcohol, ethyl alcohol, propanol, isopropyl alcohol, butanol, acetone, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, and the like.

また、実装基板3はシリコン基板に限らず、例えばガラス基板のようにシランカップリング剤と化学結合を形成するものであれば何でも良い。   The mounting substrate 3 is not limited to a silicon substrate, and may be anything as long as it forms a chemical bond with a silane coupling agent, such as a glass substrate.

<第5の実施の形態の光導波路モジュールの変形例>
第5の実施の形態の光導波路モジュール1Eの全体構成としては、第1〜第4の実施の形態の光導波路モジュールの何れの構成であっても良い。更に、他の構成であっても良い。
<Modification of Optical Waveguide Module of Fifth Embodiment>
The overall configuration of the optical waveguide module 1E of the fifth embodiment may be any configuration of the optical waveguide modules of the first to fourth embodiments. Furthermore, other configurations may be used.

図12は光導波路モジュールの変形例を示す斜視図である。図12に示す光導波路モジュール1Fは、導波路シート2に形成した溝部20に波長選択フィルタ18を挿入して、波長多重双方向光通信が行える光導波路モジュールを構成したものである。   FIG. 12 is a perspective view showing a modification of the optical waveguide module. An optical waveguide module 1 </ b> F shown in FIG. 12 is configured by inserting a wavelength selection filter 18 into a groove 20 formed in the waveguide sheet 2 and performing an optical wavelength division duplex optical communication.

図3に示すように、フォトリソグラフィプロセスで導波路シート2を作製する場合は、導波路中に高精度な溝部20を容易に形成することができる。本例では、コア4を略Y字型のパターンとし、その分岐点に溝部20を備える。溝部20は、紫外線硬化型の高分子材料を用いて導波路シート2を構成する場合は、導波路の形成プロセスで所定の形状のマスクを介して紫外線を照射し、溝部20を形成する部位以外を硬化させ、例えば溶液現像によって溝部20の形成部位を除去することで作製される。   As shown in FIG. 3, when the waveguide sheet 2 is manufactured by a photolithography process, a highly accurate groove 20 can be easily formed in the waveguide. In this example, the core 4 has a substantially Y-shaped pattern, and a groove 20 is provided at the branch point. When the waveguide 20 is formed using an ultraviolet curable polymer material, the groove 20 is irradiated with ultraviolet rays through a mask having a predetermined shape in the waveguide formation process, and other than the portion where the groove 20 is formed. Is cured, and for example, the formation site of the groove 20 is removed by solution development.

溝部20及び傾斜端面6を備えた導波路シート2は、図8に示すように、表面処理剤19としてシランカップリング剤で表面処理された実装基板3に、接着剤11により接着固定される。シランカップリング剤を利用する効果は、上述した通りである。   As shown in FIG. 8, the waveguide sheet 2 provided with the groove 20 and the inclined end surface 6 is bonded and fixed by the adhesive 11 to the mounting substrate 3 that has been surface-treated with a silane coupling agent as the surface treating agent 19. The effect of using the silane coupling agent is as described above.

波長選択フィルタ18は、例えば波長λ1の光は反射し、波長λ2の光は透過するように構成され、溝部20に挿入されて、接着剤で固定される。   The wavelength selection filter 18 is configured to reflect, for example, light having a wavelength λ1 and transmit light having a wavelength λ2, and is inserted into the groove 20 and fixed with an adhesive.

以上の構成では、実装凹部9に実装された面型発光素子7から出射された波長λ2の出力光信号は、導波路シート2の傾斜端面6に形成された反射面で反射して、コア4を伝搬される。コア4を伝搬される波長λ2の信号光は、波長選択フィルタ18を透過してコア4に入射し、光ファイバ21へと伝搬される。   In the above configuration, the output optical signal having the wavelength λ 2 emitted from the surface light emitting element 7 mounted in the mounting recess 9 is reflected by the reflecting surface formed on the inclined end surface 6 of the waveguide sheet 2, and the core 4 Is propagated. The signal light having the wavelength λ <b> 2 propagated through the core 4 is transmitted through the wavelength selection filter 18, enters the core 4, and is propagated to the optical fiber 21.

光ファイバ21から入射した波長λ1の入力信号光は、コア4を伝搬されて波長選択フィルタ18に入射する。波長選択フィルタ18は、波長λ1の光は反射するので、コア4を伝搬される波長λ1の信号光は、波長選択フィルタ18で反射し、コア4を伝搬されて、受光素子22に入射する。   The input signal light having the wavelength λ 1 incident from the optical fiber 21 is propagated through the core 4 and incident on the wavelength selection filter 18. Since the wavelength selective filter 18 reflects the light with the wavelength λ 1, the signal light with the wavelength λ 1 propagated through the core 4 is reflected by the wavelength selective filter 18, propagated through the core 4, and enters the light receiving element 22.

このように、光導波路モジュール1Fでは、複数の異なる波長の光信号の分離多重化が行われることで、1本の光ファイバ21に複数の異なる波長の光信号を伝送させることが可能となり、光導波路モジュール1Fを備えることでも、波長多重双方向光通信が行われるシステムの構築が可能となる。   As described above, in the optical waveguide module 1F, by demultiplexing a plurality of optical signals having different wavelengths, it becomes possible to transmit a plurality of optical signals having different wavelengths to one optical fiber 21. By providing the waveguide module 1F, it is possible to construct a system in which wavelength division multiplexing optical communication is performed.

本発明は、電子機器のボード間やチップ間の光通信モジュールや、光ファイバを利用した通信ケーブルのコネクタ等に適用される。   The present invention is applied to an optical communication module between boards or chips of an electronic device, a connector of a communication cable using an optical fiber, and the like.

第1の実施の形態の光導波路モジュールの一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of the optical waveguide module of 1st Embodiment. 実装基板の製造工程例を示す工程説明図である。It is process explanatory drawing which shows the example of a manufacturing process of a mounting substrate. 導波路シートの製造工程例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the example of a manufacturing process of a waveguide sheet. 第2の実施の形態の光導波路モジュールの一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of the optical waveguide module of 2nd Embodiment. 第3の実施の形態の光導波路モジュールの一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of the optical waveguide module of 3rd Embodiment. 導波路シートの製造工程例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the example of a manufacturing process of a waveguide sheet. 第4の実施の形態の光導波路モジュールの一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of the optical waveguide module of 4th Embodiment. 第5の実施の形態の光導波路モジュールの要部構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the principal part structure of the optical waveguide module of 5th Embodiment. 第5の実施の形態の光導波路モジュールの製造工程例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the example of a manufacturing process of the optical waveguide module of 5th Embodiment. 比較例の光導波路モジュールの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the optical waveguide module of a comparative example. シランカップリング剤の効果を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the effect of a silane coupling agent. 光導波路モジュールの変形例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the modification of an optical waveguide module.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・光導波路モジュール、2・・・導波路シート、3・・・実装基板、4・・・コア、5a・・・下部クラッド、5b・・・上部クラッド、6・・・傾斜端面、6a・・・反射面、7・・・面型発光素子、7a・・・発光部、8・・・面型受光素子、8a・・・受光部、9・・・実装凹部、9a・・・電極パッド、9b・・・連結凹部、10・・・導波路支持部、11・・・接着剤、11a・・・接着位置、12・・・シリコン基板、12a・・・熱酸化膜、13・・・フォトレジスト、13a・・・開口部、14・・・支持基板、15・・・透明樹脂、16a・・・第1の傾斜端面、16b・・・第2の傾斜端面、17a・・・第1の反射面、17b・・・第2の反射面、18・・・波長選択フィルタ、19・・・表面処理剤
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Optical waveguide module, 2 ... Waveguide sheet, 3 ... Mounting board, 4 ... Core, 5a ... Lower clad, 5b ... Upper clad, 6 ... Inclined end surface, 6a ... reflective surface, 7 ... surface light emitting element, 7a ... light emitting part, 8 ... surface light receiving element, 8a ... light receiving part, 9 ... mounting recess, 9a ... Electrode pad, 9b ... Connection recess, 10 ... Waveguide support, 11 ... Adhesive, 11a ... Adhesion position, 12 ... Silicon substrate, 12a ... Thermal oxide film, 13. .... Photoresist, 13a ... opening, 14 ... support substrate, 15 ... transparent resin, 16a ... first inclined end face, 16b ... second inclined end face, 17a ... 1st reflective surface, 17b ... 2nd reflective surface, 18 ... wavelength selection filter, 19 ... surface treatment agent

Claims (7)

少なくとも一の端部に形成された傾斜端面と、前記傾斜端面において交差し、前記傾斜端面によって反射面が形成された複数のコアと、前記コアを覆うクラッドを有する光導波路と、
前記光導波路の下側で前記反射面と対向する位置に形成され、前記反射面を介して前記コアと光結合される面型光素子が実装される実装凹部と、前記実装凹部の両側に形成され、前記光導波路を支持する導波路支持部を有する実装基板と、
前記反射面の直下において、前記コアの下部のクラッド上に配置され、任意の波長領域の光を選択的に反射及び透過させ、光の波長により光路を切り替える波長選択フィルタと、
を備えた
光導波路モジュール。
An optical waveguide having an inclined end surface formed at at least one end, a plurality of cores intersecting at the inclined end surface and having a reflecting surface formed by the inclined end surface, and a clad covering the core;
A mounting recess formed on a lower side of the optical waveguide and facing the reflection surface and mounted with a surface optical element optically coupled to the core via the reflection surface, and formed on both sides of the mounting recess. A mounting substrate having a waveguide support part for supporting the optical waveguide;
Directly below the reflecting surface, disposed on the lower clad of the core, selectively reflects and transmits light in an arbitrary wavelength region, and switches the optical path according to the wavelength of the light; and
An optical waveguide module comprising:
前記光導波路は、前記実装基板の表面及び前記導波路支持部に接着固定されている請求項1記載の光導波路モジュール。 The optical waveguide, the optical waveguide module of Motomeko 1 wherein that is bonded to a surface and the waveguide support of the mounting substrate. 前記実装凹部に、前記光導波路と同等の屈折率を有する樹脂が充填される請求項1記載の光導波路モジュール。 On the mounting recess, the optical waveguide module of Motomeko 1, wherein the resin Ru is filled with the optical waveguide and the equivalent refractive index. 前記樹脂は耐湿性を有する請求項3記載の光導波路モジュール。 Optical waveguide module of the resin Motomeko 3 wherein that having a moisture resistance. 前記実装基板はシリコンで構成され、前記実装凹部が異方性エッチングにより作製されている請求項1記載の光導波路モジュール。 The mounting substrate is composed of silicon, Motomeko first optical waveguide module according the mounting recess that is produced by anisotropic etching. 前記光導波路は高分子材料により作製され、シート状である請求項1記載の光導波路モジュール。 The optical waveguide is fabricated by a polymer material, Ru sheet der Motomeko first optical waveguide module according. 前記実装基板は、前記光導波路を接着固定する接着剤に対する濡れ性を向上させる表面処理が施されている請求項1記載の光導波路モジュール。 The mounting board, the optical waveguide module of Motomeko 1, wherein a surface treatment for improving the wettability that have been subjected for adhesive bonding and fixing the optical waveguide.
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