JP4486870B2 - スラリーの供給装置及びスラリーの供給方法 - Google Patents
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- 239000002002 slurry Substances 0.000 title claims description 241
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 54
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 90
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 25
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 9
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 9
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 7
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 239000011550 stock solution Substances 0.000 description 5
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 4
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 4
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 4
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 4
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000010349 pulsation Effects 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N ceric oxide Chemical compound O=[Ce]=O CETPSERCERDGAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000422 cerium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000005243 fluidization Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000011268 mixed slurry Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012806 monitoring device Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
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- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Description
<実施例1及び比較例1>
(供給方法)
本実施例では、図1に示したフローにおいて、供給ライン内のシリカ系のスラリーを10分間循環させることと、3時間のワンパス供給することを繰り返して行い、これを連続して1週間ほど処理した。そして、処理の間に生じたスラリーの凝集状態を、下記の方法で調べた。一方、比較例として、図1に示したフローで、常時スラリーを循環させる方式とした以外は、上記と同様の処理を行って、その際に生じるスラリーの凝集状態を上記と同様の方法で調べた。
図1の混合ベッセル2内で、水で希釈・混合したシリカ系のスラリーを用いて1週間ほど、スラリーを上記した条件で供給ライン中を循環させた。そして、その間に、何度かディタンク7内からスラリーをサンプリングし、該サンプルについて粒度分布計にて粗大粒子の数を計測した。サンプリングは、クリーンな状態を保つため、特殊な冶具を用いサンプリング中のコンタミネーションの影響を最小限に抑えた。
2:混合容器
3:供給ベッセル
4:供給ライン
5:化学機械研磨装置
6:空気作動式バルブ
7:ディタンク
8:圧力計
Claims (4)
- 研磨装置の運転状態に対応して該装置に研磨粒子を含む研磨剤であるスラリーを供給するためのスラリー供給装置において、所望濃度に調整されたスラリーを貯蔵するタンクと、当該タンク内のスラリーを前記研磨装置に供給するためのプレッシャーバキュームベッセルと、前記タンク内のスラリーを前記プレッシャーバキュームベッセルを用いて前記研磨装置に供給するための供給ラインと、該供給ライン内のスラリーを前記タンクに循環するとともに、当該循環を間欠的に行うため前記供給ラインに接続したバルブ機構より成り、前記バルブ機構の開閉により前記供給ライン内をスラリーが循環している状態と供給ライン内におけるスラリーの循環が停止している状態とが繰り返されて、前記供給ライン内をスラリーが間欠的に循環し、且つ、上記スラリーの循環及び前記研磨装置へのスラリーの供給が停止している状態においても、常に前記プレッシャーバキュームベッセルの駆動状態を維持することにより、前記研磨装置にスラリーを供給することができる所望の圧力がかかった、前記研磨装置の運転の開始に即応して常にスラリーが前記研磨装置に供給できる待機状態となるように構成されていることを特徴とするスラリー供給装置。
- 研磨装置に対して供給するスラリーが、シリカ系スラリーである請求項1に記載のスラリー供給装置。
- 研磨装置の運転状態に対応して該装置に研磨粒子を含む研磨剤であるスラリーをタンク内に貯蔵し、該タンク内に貯蔵したスラリーを、プレッシャーバキュームベッセルによって供給ラインより供給するスラリーの供給方法において、前記研磨装置の運転状態と無関係に、前記供給ライン内のスラリーを供給ラインに接続したバルブ機構のバルブの開閉により、前記タンク内に間欠的に循環させ、且つ、常に前記プレッシャーバキュームベッセルの駆動状態を維持することにより、スラリーの循環が停止或いは循環している状態のいずれの場合においても、前記供給ライン内のスラリーを、常に前記研磨装置に供給できる所望の圧力がかかったままの状態とし、研磨装置の運転の開始に即応して研磨装置へ供給ライン内のスラリーを供給することを特徴とするスラリーの供給方法。
- 研磨装置に対して供給するスラリーが、シリカ系スラリーである請求項3に記載のスラリー供給方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004322689A JP4486870B2 (ja) | 2004-11-05 | 2004-11-05 | スラリーの供給装置及びスラリーの供給方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004322689A JP4486870B2 (ja) | 2004-11-05 | 2004-11-05 | スラリーの供給装置及びスラリーの供給方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006130614A JP2006130614A (ja) | 2006-05-25 |
JP4486870B2 true JP4486870B2 (ja) | 2010-06-23 |
Family
ID=36724596
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004322689A Active JP4486870B2 (ja) | 2004-11-05 | 2004-11-05 | スラリーの供給装置及びスラリーの供給方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4486870B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8649923B2 (en) * | 2010-01-12 | 2014-02-11 | Ford Global Technologies, Llc | E-drive PWM frequency strategy |
KR101138403B1 (ko) * | 2010-09-02 | 2012-04-26 | 씨앤지하이테크 주식회사 | 배관 막힘 방지 수단이 마련된 반도체용 슬러리 공급장치 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06500621A (ja) * | 1990-09-17 | 1994-01-20 | アプライド ケミカル ソリューションズ | 高純度化学薬品を移送及び送出するための改良された装置及び方法 |
JPH10503431A (ja) * | 1994-07-19 | 1998-03-31 | アプライド ケミカル ソルーションズ インコーポレーティッド | 化学機械的研磨処理に用いるための装置及び方法 |
JP2005316617A (ja) * | 2004-04-27 | 2005-11-10 | M Fsi Kk | 液吸引吐出制御方法及びこれを用いた液吸引吐出装置 |
-
2004
- 2004-11-05 JP JP2004322689A patent/JP4486870B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06500621A (ja) * | 1990-09-17 | 1994-01-20 | アプライド ケミカル ソリューションズ | 高純度化学薬品を移送及び送出するための改良された装置及び方法 |
JPH10503431A (ja) * | 1994-07-19 | 1998-03-31 | アプライド ケミカル ソルーションズ インコーポレーティッド | 化学機械的研磨処理に用いるための装置及び方法 |
JP2005316617A (ja) * | 2004-04-27 | 2005-11-10 | M Fsi Kk | 液吸引吐出制御方法及びこれを用いた液吸引吐出装置 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006130614A (ja) | 2006-05-25 |
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A621 | Written request for application examination |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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