JP4483573B2 - モニタ素子及び磁気抵抗効果素子基板、並びにモニタ素子の製造方法 - Google Patents
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Description
先ず、下部シールド層の上に第1エクストラギャップ層と磁気抵抗効果を発揮する多層膜とを順次全面的に形成し、フォトリソグラフィ技術を用いて多層膜の一部を除去し、該多層膜の形状を規定する。モニタ素子の多層膜は、製品となる実素子の磁気抵抗効果膜と同一工程で、所定の抵抗値をとるように形成されている。次に、多層膜よりも素子高さ方向奥側にバックフィルギャップ層を形成し、このバックフィルギャップ及び多層膜の上に、該多層膜に素子高さ方向奥側で接触する一対の電極層を形成する。続いて、電極層の素子高さ方向の奥側端部をリフトオフ用のレジストで覆い、後に第2エクストラギャップ層を形成して、レジストをリフトオフする。レジスト除去後は、第2エクストラギャップ層及び電極層の上に全面的にメッキ下地膜を成膜する。メッキ下地膜の上には、フレームメッキ法により、第2エクストラギャップ層を介して多層膜を覆う上部シールド層と、電極層の素子高さ方向の奥側端部を覆う電極端子部とを同時に形成する。そして、エッチングにより、上部シールド層と電極端子部との間に露出しているメッキ下地膜を除去する。これにより、モニタ素子が得られる。
10 CPP型磁気抵抗効果素子
11 下部シールド層
14 上部シールド層
15 ハードバイアス層
20 モニタ素子
21 電極層
21A 電極接続部
21B 電極取出部
22 第1エクストラギャップ層
23 多層膜
24 電極パッド
25 バックフィルギャップ層
26 第2エクストラギャップ層
27 絶縁性保護層
28 電極コンタクト
100 ウエハバー(バー状の磁気抵抗効果素子基板)
M 磁気抵抗効果膜
Claims (15)
- 上下のシールド層によりセンス電流が膜面に直交する方向に与えられる磁気抵抗効果素子の媒体対向面を形成する研磨加工時に、該磁気抵抗効果素子の素子抵抗モニタとして使用されるモニタ素子であって、
所定の抵抗値を有する多層膜と、この多層膜の膜面に対して平行に電流を与える電極層とを備え、
前記電極層は、前記下部シールド層と同一の積層高さ位置に形成され、前記多層膜との電極接続部及び電極取出部を除く領域が絶縁性保護層により覆われていることを特徴とするモニタ素子。 - 請求項1記載のモニタ素子において、前記絶縁性保護層は多層構造であるモニタ素子。
- 請求項2記載のモニタ素子において、前記絶縁性保護層は、前記電極層上であって前記多層膜の直下に形成された第1エクストラギャップ層と、この第1エクストラギャップ層上の前記多層膜よりも素子高さ方向の奥側位置に形成されたバックフィルギャップ層と、このバックフィルギャップ層及び前記多層膜の上に形成された第2エクストラギャップ層とにより形成されているモニタ素子。
- 請求項2または3記載のモニタ素子において、前記絶縁性保護層を構成する各層の膜厚は1000Å以下であるモニタ素子。
- 請求項1ないし4のいずれか一項に記載のモニタ素子において、前記電極層は、前記下部シールド層と同一の軟磁性材料により形成されているモニタ素子。
- 請求項1ないし5のいずれか一項に記載のモニタ素子において、前記電極層の電極取出部には、前記上部シールド層と同一の積層高さ位置に、該上部シールド層と同一の軟磁性材料により電極パッドが形成されているモニタ素子。
- 請求項1ないし6のいずれか一項に記載のモニタ素子において、前記電極層は、前記磁気抵抗効果素子の素子高さ方向と平行な方向に延ばして形成され、同方向の一端部と他端部に前記電極接続部と前記電極取出部をそれぞれ有しているモニタ素子。
- 上下のシールド層によってセンス電流が膜面に直交する方向に与えられる磁気抵抗効果素子が複数並列に形成され、各磁気抵抗効果素子の近傍に該磁気抵抗効果素子と一対で請求項1ないし7のいずれか一項に記載のモニタ素子を備えたことを特徴とする磁気抵抗効果素子基板。
- 上下のシールド層によってセンス電流が膜面に直交する方向に与えられる複数の磁気抵抗効果素子が一列に配置され、各磁気抵抗効果素子の近傍に該磁気抵抗効果素子と一対で請求項1ないし7のいずれか一項に記載のモニタ素子を備えたことを特徴とする磁気抵抗効果素子基板。
- 上下のシールド層によりセンス電流が膜面に直交する方向に与えられる磁気抵抗効果素子の媒体対向面を形成する研磨加工時に同磁気抵抗効果素子の素子抵抗モニタとして使用される、所定の抵抗値を有する多層膜を備えたモニタ素子を製造する方法であって、
前記下部シールド層と同一積層高さ位置に、前記多層膜の最下面にハイト方向奥側で接続し該多層膜の膜面に対して平行に電流を供給する電極層を形成し、この電極層の電極接続部及び電極取出部を除く領域を覆う絶縁性保護層を形成することを特徴とするモニタ素子の製造方法。 - 請求項10記載のモニタ素子の製造方法において、前記絶縁性保護層は多層構造で形成するモニタ素子の製造方法。
- 請求項11記載のモニタ素子の製造方法において、前記電極層を形成した後に、
前記電極層の電極接続部と電極取出部を除く領域に、絶縁材料からなる第1エクストラギャップ層を形成する工程と、
前記第1エクストラギャップ層及び露出している前記電極層の電極接続部の上に、所定の抵抗値を有する多層膜を形成し、この多層膜の最下面と前記電極層の電極接続部をハイト方向奥側で接続する工程と、
露出している前記第1エクストラギャップ層の上に、絶縁材料からなるバックフィルギャップ層を形成する工程と、
前記電極層の電極取出部を除く領域に、絶縁材料からなる第2エクストラギャップ層を形成する工程と、
この第2エクストラギャップ層の上に上部シールド形成用のメッキ下地膜を全面的に形成し、前記上部シールド層と同一積層高さ位置に、露出している前記電極層の電極取出部に接続する電極パッドを形成する工程と、
エッチングにより、前記上部シールド層と前記電極パッドの間の不要なメッキ下地膜を除去する工程とを有し、
前記第1エクストラギャップ層、前記第2エクストラギャップ層、及び前記バックフィルギャップ層により前記絶縁性保護層を構成するモニタ素子の製造方法。 - 請求項11または12記載のモニタ素子の製造方法において、前記絶縁性保護層の各層の膜厚は、1000Å以下で形成するモニタ素子の製造方法。
- 請求項10ないし13のいずれか一項に記載のモニタ素子の製造方法において、前記下部シールド層と前記電極層は、同一の導電性軟磁性材料により、同時に形成するモニタ素子の製造方法。
- 請求項10ないし13のいずれか一項に記載のモニタ素子の製造方法において、前記上部シールド層と前記電極パッドは、同一の導電性軟磁性材料により、同時に形成するモニタ素子の製造方法。
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