JP4477758B2 - Waste treatment system - Google Patents

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  • Separation, Recovery Or Treatment Of Waste Materials Containing Plastics (AREA)
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Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、使用済み冷蔵庫を分解、解体する際に発生する断熱材ウレタン、発泡剤フロンおよび冷媒フロンを、無害化すると共に有価な燃料ガスに変換する廃棄物処理システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、使用済み冷蔵庫を分解する際に発生する断熱材ウレタンについては、これを再利用あるいはリサイクルする手段はなく、埋め立て処分されるのみであった。
【０００３】
さらに、使用済み冷蔵庫のリサイクル処理の際に回収される断熱材の発泡フロンや冷媒フロンは、オゾン層を破壊する有害物質であり、これを無害化する技術の確立が求められている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本件発明者は、断熱材ウレタンとフロンに対し、リサイクルと無害化の双方を実現できるシステムとして、熱分解・ガス改質システムを利用することを検討してきた。
【０００５】
フロンを熱分解する過程で必然的に発生する塩化水素は、高温で金属材料を腐食させる有害物質である。従って、使用済み冷蔵庫から回収した断熱材ウレタン及びフロンを処理する熱分解・ガス改質システムでは、この塩化水素に対する防食処置を講ずる必要がある。
【０００６】
この防食措置としては、金属材料を耐ＨＣｌ高合金とすることが一般的である。合金成分としては、（Ｃｒ＋Ｎｉ＋Ｍｏ）が４０％以上であるＳＵＳ３０９、ＳＵＳ３１０あるいはＨＡＳＴＥＬＯＹ−Ｃ系統の材料が使用され得る。
【０００７】
ところが、これらの耐ＨＣｌ高合金は極めて高価である。また、その製造性にも問題がある。従って、結果的に、耐ＨＣｌ高合金の使用範囲には自ずと制限が生じている。
【０００８】
本発明は、このような事情を考慮してなされたものであり、断熱材ウレタン及びフロンを分解処理する際に発生する塩化水素による金属材料の高温腐食を抑制することができる、安価で信頼性の高い廃棄物処理システムを提供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、フロンで発泡された断熱材ウレタンを熱分解する熱分解装置と、熱分解装置に接続され、熱分解された断熱材ウレタンと冷媒フロンとが導入されるガス改質装置と、ガス改質装置の出口近傍のガス分圧を制御する分圧制御装置と、を備え、分圧制御装置は、酸素分圧を極低レベルに制御するようになっており、分圧制御装置は、ガス改質装置の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において、酸素分圧を３％以下に制御するようになっていることを特徴とする廃棄物処理システムである。
【００１０】
ＨＣｌによる金属の高温腐食反応は、例えば金属が鉄の場合、
４ＨＣｌ ＋Ｏ2 ＝２Ｃｌ2＋２Ｈ2Ｏ …（１）
２Ｃｌ2＋２Ｆｅ ＝２ＦｅＣｌ2 …（２）
で、（１）＋（２）より
４ＨＣｌ＋２Ｆｅ＋Ｏ2＝２ＦｅＣｌ2＋２Ｈ2Ｏ …（３）
として記述できる。従って、本発明によれば、ガス改質装置における酸素分圧が抑制されていることにより、金属材料のＨＣｌ腐食を効果的に防止することができる。
【００１１】
ここで、本件発明者は、鉄よりもＯ2との親和力が高い要素（例えばＨ2やＣＨ4等）を添加することにより、鉄の腐食を防止することができることを知見した。すなわち、Ｏ2の分解反応が
４ＨＣｌ＋２Ｆｅ＋Ｏ2＋２Ｈ2＝２Ｆｅ＋４ＨＣｌ＋２Ｈ2Ｏ
等となるため、鉄の腐食が防止され得るのである。従って、本発明において、熱分解によってＯ2との親和力が高い要素（例えばＨ2やＣＨ4等）を発生させ得る有機化合物（例えばプラスチック類）を、熱分解装置に投入することがより有効である。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。
【００１３】
図１は、本発明の廃棄物処理システムの第１の実施の形態を示す概略図である。図１に示すように、本実施の形態の廃棄物処理システム１０は、フロンで発泡された断熱材ウレタンを熱分解する熱分解ドラム１１を備えている。熱分解ドラム１１には、熱分解された断熱材ウレタンと冷媒フロンとが導入されるガス改質器１２が接続されている。
【００１４】
ガス改質器１２には、ガス改質器１２の出口近傍のガス分圧を制御する分圧制御装置１３が設けられている。この場合、分圧制御装置１３は、ガス改質器１２の出口近傍の酸素分圧を極低レベル、より詳細には、ガス改質器１２の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において酸素分圧を３％以下、に制御するようになっている。
【００１５】
その他、ガス改質器１２は、熱交換器１５、バグフィルタ１６、スクラバ１７を順に介してガスエンジン１８に接続されている。スクラバ１７は、水処理装置１９にも接続されている。
【００１６】
次に、以上のような構成よりなる本実施の形態の作用について説明する。
【００１７】
例えば使用済み冷蔵庫を解体してリサイクルする際に発生する、フロンで発泡された断熱材ウレタン（以後ウレタンと呼ぶ）が、熱分解ドラム１１に投入されて熱分解される。
【００１８】
熱分解されたウレタンと、冷媒フロン（これも使用済み冷蔵庫を解体してリサイクルする際に発生する）とが、ガス改質器１２に投入される。
【００１９】
ここで、発泡剤フロンおよび冷媒フロンがガス改質器１２内で分解される過程で必然的に生じる塩化水素によるシステム機器構成金属材料の高温腐食を防止すべく、ガス改質器１２の出口ガス中の酸素分圧を極力低い値（温度９００℃〜１２００℃で３％以下）に保持するように分圧制御装置１３が作動する。
【００２０】
ガス改質器１２にて発生する塩化水素は、酸素と共存することにより金属材料に対し過酷な高温腐食を生じさせ得るが、本実施の形態のように酸素分圧を極力低い値に維持することによって、金属材料に対する高温腐食を防止することができる。
【００２１】
なお、本実施の形態において開示する「ガス改質器１２の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において酸素分圧を３％以下」という数値範囲は、各種実験結果から導出したより好適な範囲である。
【００２２】
次に、図２を用いて、本発明の廃棄物処理システムの第２の実施の形態について説明する。図２は、本実施の形態の廃棄物処理システム１０の構成概略図である。
【００２３】
図２に示すように、本実施の形態の廃棄物処理システム１０では、分圧制御装置１３が、ガス改質器１２の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において、酸素分圧を３％以下に制御すると共に一酸化炭素分圧を５％以上に制御するようになっている。
【００２４】
その他については、図１に示す第１の実施の形態の廃棄物処理システムと略同様である。第２の実施の形態において、図１に示す第１の実施の形態と同一の部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
【００２５】
本実施の形態によれば、金属材料に対する高温ＨＣｌ腐食をより効果的に防止することができる。
【００２６】
本実施の形態において開示する「ガス改質器１２の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において、酸素分圧を３％以下かつ一酸化炭素分圧を５％以上」という数値範囲は、各種実験結果から導出したより好適な範囲である。
【００２７】
次に、図３を用いて、本発明の廃棄物処理システムの第３の実施の形態について説明する。図３は、本実施の形態の廃棄物処理システム１０の構成概略図である。
【００２８】
図３に示すように、本実施の形態の廃棄物処理システム１０では、分圧制御装置１３が、ガス改質器１２の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において、酸素分圧を３％以下に制御すると共に水素分圧を５％以上に制御するようになっている。
【００２９】
その他については、図１に示す第１の実施の形態の廃棄物処理システムと略同様である。第３の実施の形態において、図１に示す第１の実施の形態と同一の部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
【００３０】
本実施の形態によれば、金属材料に対する高温ＨＣｌ腐食をより効果的に防止することができる。
【００３１】
本実施の形態において開示する「ガス改質器１２の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において、酸素分圧を３％以下かつ水素分圧を５％以上」という数値範囲は、各種実験結果から導出したより好適な範囲である。
【００３２】
次に、図４を用いて、本発明の廃棄物処理システムの第４の実施の形態について説明する。図４は、本実施の形態の廃棄物処理システム１０の構成概略図である。
【００３３】
図４に示すように、本実施の形態の廃棄物処理システム１０では、分圧制御装置１３が、ガス改質器１２の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において、酸素分圧を３％以下に制御すると共にメタン分圧を０．５％以上に制御するようになっている。
【００３４】
その他については、図１に示す第１の実施の形態の廃棄物処理システムと略同様である。第４の実施の形態において、図１に示す第１の実施の形態と同一の部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
【００３５】
本実施の形態によれば、金属材料に対する高温ＨＣｌ腐食をより効果的に防止することができる。
【００３６】
本実施の形態において開示する「ガス改質器１２の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において、酸素分圧を３％以下かつメタン分圧を０．５％以上」という数値範囲は、各種実験結果から導出したより好適な範囲である。
【００３７】
次に、図５を用いて、本発明の廃棄物処理システムの第５の実施の形態について説明する。図５は、本実施の形態の廃棄物処理システム１０の構成概略図である。
【００３８】
図５に示すように、本実施の形態の廃棄物処理システム１０では、分圧制御装置１３が、ガス改質器１２の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において、酸素分圧を３％以下に制御すると共に一酸化炭素分圧を５％以上、かつ、水素分圧を５％以上に制御するようになっている。
【００３９】
その他については、図１に示す第１の実施の形態の廃棄物処理システムと略同様である。第５の実施の形態において、図１に示す第１の実施の形態と同一の部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
【００４０】
本実施の形態によれば、金属材料に対する高温ＨＣｌ腐食をより効果的に防止することができる。
【００４１】
本実施の形態において開示する「ガス改質器１２の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において、酸素分圧を３％以下かつ一酸化炭素分圧を５％以上かつ水素分圧を５％以上」という数値範囲は、各種実験結果から導出したより好適な範囲である。
【００４２】
次に、図６を用いて、本発明の廃棄物処理システムの第５の実施の形態について説明する。図６は、本実施の形態の廃棄物処理システム１０の構成概略図である。
【００４３】
図６に示すように、本実施の形態の廃棄物処理システム１０では、分圧制御装置１３が、ガス改質器１２の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において、酸素分圧を３％以下に制御すると共に一酸化炭素分圧を５％以上、かつ、水素分圧を５％以上、かつ、メタン分圧を０．５％以上に制御するようになっている。
【００４４】
その他については、図１に示す第１の実施の形態の廃棄物処理システムと略同様である。第６の実施の形態において、図１に示す第１の実施の形態と同一の部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
【００４５】
本実施の形態によれば、金属材料に対する高温ＨＣｌ腐食をより効果的に防止することができる。
【００４６】
本実施の形態において開示する「ガス改質器１２の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において、酸素分圧を３％以下かつ一酸化炭素分圧を５％以上かつ水素分圧を５％以上かつメタン分圧を０．５％以上」という数値範囲は、各種実験結果から導出したより好適な範囲である。
【００４７】
次に、図７を用いて、本発明の廃棄物処理システムの第５の実施の形態について説明する。図７は、本実施の形態の廃棄物処理システム１０の構成概略図である。
【００４８】
図７に示すように、本実施の形態の廃棄物処理システム１０では、分圧制御装置１３が、熱分解によってＯ2との親和力が高い要素（例えばＨ2やＣＨ4等）を発生させ得る有機化合物を熱分解ドラム１１に投入する投入装置１３ａを有している。
【００４９】
その他については、図６に示す第６の実施の形態の廃棄物処理システムと略同様である。第７の実施の形態において、図６に示す第６の実施の形態と同一の部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
【００５０】
本実施の形態によれば、金属材料に対する高温ＨＣｌ腐食をより効果的に防止することができる。
【００５１】
熱分解ドラム１１に投入される有機化合物としては、プラスチック類、特には、使用済み家電品等を解体する際に発生するプラスチック類、を用いることが好ましい。
【００５２】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、ガス改質装置における酸素分圧が、ガス改質装置の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において、３％以下に抑制されていることにより、金属材料のＨＣｌ腐食を効果的に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態による廃棄物処理システムを示す構成概略図。
【図２】本発明の第２の実施の形態による廃棄物処理システムを示す構成概略図。
【図３】本発明の第３の実施の形態による廃棄物処理システムを示す構成概略図。
【図４】本発明の第４の実施の形態による廃棄物処理システムを示す構成概略図。
【図５】本発明の第５の実施の形態による廃棄物処理システムを示す構成概略図。
【図６】本発明の第６の実施の形態による廃棄物処理システムを示す構成概略図。
【図７】本発明の第７の実施の形態による廃棄物処理システムを示す構成概略図。
【符号の説明】
１０ 廃棄物処理システム
１１ 熱分解ドラム
１２ ガス改質器
１３ 分圧制御装置
１３ａ 投入装置
１５ 熱交換器
１６ バグフィルタ
１７ スクラバ
１８ ガスエンジン
１９ 水処理装置[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a waste treatment system that renders heat insulation urethane, foaming agent freon and refrigerant freon generated when disassembling and disassembling a used refrigerator harmless and converting them into valuable fuel gas.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, the heat insulating urethane generated when disassembling a used refrigerator has no means of reusing or recycling it, and has only been disposed of in landfills.
[0003]
Furthermore, the foamed fluorocarbons and refrigerant fluorocarbons that are collected during the recycling process of used refrigerators are harmful substances that destroy the ozone layer, and establishment of technology for detoxifying them is required.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
The present inventor has studied the use of a pyrolysis / gas reforming system as a system that can achieve both recycling and detoxification of the heat insulating materials urethane and chlorofluorocarbon.
[0005]
Hydrogen chloride inevitably generated in the process of pyrolyzing CFC is a harmful substance that corrodes metallic materials at high temperatures. Therefore, in the thermal decomposition and gas reforming system for treating the heat insulating material urethane and chlorofluorocarbon recovered from the used refrigerator, it is necessary to take an anticorrosive measure against this hydrogen chloride.
[0006]
As this anti-corrosion measure, the metal material is generally made of an HCl-resistant high alloy. As the alloy component, SUS309, SUS310, or HASTELOY-C material having (Cr + Ni + Mo) of 40% or more can be used.
[0007]
However, these high HCl resistant alloys are very expensive. There is also a problem with its manufacturability. Therefore, as a result, the range of use of the HCl-resistant high alloy is naturally limited.
[0008]
The present invention has been made in consideration of such circumstances, and is capable of suppressing high-temperature corrosion of a metal material due to hydrogen chloride generated when the thermal insulation urethane and chlorofluorocarbon are decomposed, and is inexpensive and reliable. The purpose is to provide a high waste treatment system.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
The present invention relates to a thermal decomposition apparatus for thermally decomposing heat insulating material urethane foamed with chlorofluorocarbon, a gas reforming apparatus connected to the thermal decomposition apparatus and into which thermally decomposed heat insulating urethane and refrigerant chlorofluorocarbon are introduced, and gas A partial pressure control device that controls the gas partial pressure in the vicinity of the outlet of the reformer, and the partial pressure control device is configured to control the oxygen partial pressure to an extremely low level . In the waste gas treatment system , the oxygen partial pressure is controlled to 3% or less when the temperature of the gas reformer is in the range of 900 ° C to 1200 ° C.
[0010]
For example, when the metal is iron,
4HCl + O 2 = 2Cl 2 + 2H 2 O (1)
2Cl 2 + 2Fe = 2FeCl 2 (2)
From (1) + (2), 4HCl + 2Fe + O 2 = 2FeCl 2 + 2H 2 O (3)
Can be described as Therefore, according to the present invention, since the oxygen partial pressure in the gas reformer is suppressed, HCl corrosion of the metal material can be effectively prevented.
[0011]
Here, the present inventors found that by adding affinity higher element of the O 2 than iron (eg, H 2 and CH 4, etc.), and found that it is possible to prevent corrosion of iron. That is, the decomposition reaction of O 2 is 4HCl + 2Fe + O 2 + 2H 2 = 2Fe + 4HCl + 2H 2 O
Therefore, corrosion of iron can be prevented. Therefore, in the present invention, it is more effective to introduce an organic compound (for example, plastics) capable of generating an element (for example, H 2 or CH 4 ) having a high affinity with O 2 by thermal decomposition into the thermal decomposition apparatus. is there.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
[0013]
FIG. 1 is a schematic view showing a first embodiment of the waste treatment system of the present invention. As shown in FIG. 1, the waste treatment system 10 of the present embodiment includes a thermal decomposition drum 11 that thermally decomposes the insulating material urethane foamed with Freon. Connected to the pyrolysis drum 11 is a gas reformer 12 into which thermally decomposed heat insulating material urethane and refrigerant freon are introduced.
[0014]
The gas reformer 12 is provided with a partial pressure control device 13 that controls the gas partial pressure in the vicinity of the outlet of the gas reformer 12. In this case, the partial pressure control device 13 sets the oxygen partial pressure in the vicinity of the outlet of the gas reformer 12 to an extremely low level, more specifically, in the range where the temperature of the gas reformer 12 is 900 ° C. to 1200 ° C. The pressure is controlled to 3% or less.
[0015]
In addition, the gas reformer 12 is connected to a gas engine 18 through a heat exchanger 15, a bag filter 16, and a scrubber 17 in this order. The scrubber 17 is also connected to the water treatment device 19.
[0016]
Next, the operation of the present embodiment configured as described above will be described.
[0017]
For example, an insulating material urethane foamed with chlorofluorocarbon (hereinafter referred to as urethane) that is generated when a used refrigerator is disassembled and recycled is put into the thermal decomposition drum 11 and thermally decomposed.
[0018]
Pyrolyzed urethane and refrigerant chlorofluorocarbon (also generated when the used refrigerator is disassembled and recycled) are put into the gas reformer 12.
[0019]
Here, the outlet gas of the gas reformer 12 is prevented in order to prevent high temperature corrosion of the system equipment constituent metal material due to hydrogen chloride inevitably generated in the process in which the blowing agent chlorofluorocarbon and the refrigerant chlorofluorocarbon are decomposed in the gas reformer 12. The partial pressure control device 13 operates so as to keep the oxygen partial pressure therein as low as possible (3% or less at a temperature of 900 ° C. to 1200 ° C.).
[0020]
Hydrogen chloride generated in the gas reformer 12 can cause severe high-temperature corrosion on the metal material by coexisting with oxygen, but the oxygen partial pressure is kept as low as possible as in the present embodiment. Therefore, high temperature corrosion on the metal material can be prevented.
[0021]
It should be noted that the numerical range disclosed in the present embodiment “the oxygen partial pressure is 3% or less when the temperature of the gas reformer 12 is in the range of 900 ° C. to 1200 ° C.” is a more preferable range derived from various experimental results. is there.
[0022]
Next, a second embodiment of the waste treatment system of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a schematic configuration diagram of the waste treatment system 10 of the present embodiment.
[0023]
As shown in FIG. 2, in the waste treatment system 10 of the present embodiment, the partial pressure control device 13 has an oxygen partial pressure of 3% or less when the temperature of the gas reformer 12 is in the range of 900 ° C. to 1200 ° C. The carbon monoxide partial pressure is controlled to 5% or more.
[0024]
About others, it is substantially the same as the waste disposal system of 1st Embodiment shown in FIG. In the second embodiment, the same parts as those in the first embodiment shown in FIG.
[0025]
According to the present embodiment, high-temperature HCl corrosion on the metal material can be more effectively prevented.
[0026]
The numerical range disclosed in the present embodiment, “when the temperature of the gas reformer 12 is in the range of 900 ° C. to 1200 ° C., the oxygen partial pressure is 3% or less and the carbon monoxide partial pressure is 5% or more” It is a more preferable range derived from the result.
[0027]
Next, a third embodiment of the waste treatment system of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic configuration diagram of the waste treatment system 10 according to the present embodiment.
[0028]
As shown in FIG. 3, in the waste treatment system 10 of the present embodiment, the partial pressure control device 13 has an oxygen partial pressure of 3% or less when the temperature of the gas reformer 12 is in the range of 900 ° C. to 1200 ° C. And the hydrogen partial pressure is controlled to 5% or more.
[0029]
About others, it is substantially the same as the waste disposal system of 1st Embodiment shown in FIG. In the third embodiment, the same parts as those in the first embodiment shown in FIG.
[0030]
According to the present embodiment, high-temperature HCl corrosion on the metal material can be more effectively prevented.
[0031]
The numerical range disclosed in the present embodiment “in the range where the temperature of the gas reformer 12 is 900 ° C. to 1200 ° C., the oxygen partial pressure is 3% or less and the hydrogen partial pressure is 5% or more” is based on the results of various experiments. This is a more preferable range.
[0032]
Next, a fourth embodiment of the waste treatment system of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a schematic configuration diagram of the waste treatment system 10 of the present embodiment.
[0033]
As shown in FIG. 4, in the waste treatment system 10 of the present embodiment, the partial pressure control device 13 has an oxygen partial pressure of 3% or less when the temperature of the gas reformer 12 is in the range of 900 ° C. to 1200 ° C. And the methane partial pressure is controlled to 0.5% or more.
[0034]
About others, it is substantially the same as the waste disposal system of 1st Embodiment shown in FIG. In the fourth embodiment, the same parts as those in the first embodiment shown in FIG.
[0035]
According to the present embodiment, high-temperature HCl corrosion on the metal material can be more effectively prevented.
[0036]
The numerical range disclosed in the present embodiment “in the range where the temperature of the gas reformer 12 is 900 ° C. to 1200 ° C., the oxygen partial pressure is 3% or less and the methane partial pressure is 0.5% or more” It is a more preferable range derived from the result.
[0037]
Next, a fifth embodiment of the waste treatment system of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a schematic configuration diagram of the waste treatment system 10 of the present embodiment.
[0038]
As shown in FIG. 5, in the waste treatment system 10 of the present embodiment, the partial pressure control device 13 has an oxygen partial pressure of 3% or less when the temperature of the gas reformer 12 is in the range of 900 ° C. to 1200 ° C. In addition, the carbon monoxide partial pressure is controlled to 5% or more and the hydrogen partial pressure is controlled to 5% or more.
[0039]
About others, it is substantially the same as the waste disposal system of 1st Embodiment shown in FIG. In the fifth embodiment, the same parts as those in the first embodiment shown in FIG.
[0040]
According to the present embodiment, high-temperature HCl corrosion on the metal material can be more effectively prevented.
[0041]
As disclosed in the present embodiment, “in the range of the temperature of the gas reformer 12 from 900 ° C. to 1200 ° C., the oxygen partial pressure is 3% or less, the carbon monoxide partial pressure is 5% or more, and the hydrogen partial pressure is 5% or more. Is a more preferable range derived from various experimental results.
[0042]
Next, a fifth embodiment of the waste treatment system of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 6 is a schematic configuration diagram of the waste treatment system 10 of the present embodiment.
[0043]
As shown in FIG. 6, in the waste treatment system 10 of the present embodiment, the partial pressure control device 13 has an oxygen partial pressure of 3% or less when the temperature of the gas reformer 12 is in the range of 900 ° C. to 1200 ° C. The carbon monoxide partial pressure is controlled to 5% or more, the hydrogen partial pressure is controlled to 5% or more, and the methane partial pressure is controlled to 0.5% or more.
[0044]
About others, it is substantially the same as the waste disposal system of 1st Embodiment shown in FIG. In the sixth embodiment, the same parts as those in the first embodiment shown in FIG.
[0045]
According to the present embodiment, high-temperature HCl corrosion on the metal material can be more effectively prevented.
[0046]
As disclosed in the present embodiment, “in the range of the temperature of the gas reformer 12 from 900 ° C. to 1200 ° C., the oxygen partial pressure is 3% or less, the carbon monoxide partial pressure is 5% or more, and the hydrogen partial pressure is 5% or more. The numerical range of “0.5% or more of methane partial pressure” is a more preferable range derived from various experimental results.
[0047]
Next, a fifth embodiment of the waste treatment system of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a schematic configuration diagram of the waste treatment system 10 of the present embodiment.
[0048]
As shown in FIG. 7, in the waste treatment system 10 of the present embodiment, the partial pressure control device 13 can generate an element (for example, H 2 or CH 4 ) having a high affinity with O 2 by thermal decomposition. A charging device 13 a for charging the organic compound into the thermal decomposition drum 11 is provided.
[0049]
About others, it is substantially the same as the waste disposal system of 6th Embodiment shown in FIG. In the seventh embodiment, the same parts as those in the sixth embodiment shown in FIG. 6 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted.
[0050]
According to the present embodiment, high-temperature HCl corrosion on the metal material can be more effectively prevented.
[0051]
As an organic compound thrown into the thermal decomposition drum 11, it is preferable to use plastics, especially plastics generated when dismantling used home appliances and the like.
[0052]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the oxygen partial pressure in the gas reformer is suppressed to 3% or less when the temperature of the gas reformer is in the range of 900 ° C. to 1200 ° C. HCl corrosion can be effectively prevented.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a waste treatment system according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a waste treatment system according to a second embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a waste treatment system according to a third embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a schematic configuration diagram showing a waste disposal system according to a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing a waste disposal system according to a fifth embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a schematic configuration diagram showing a waste treatment system according to a sixth embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a schematic configuration diagram showing a waste treatment system according to a seventh embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Waste treatment system 11 Pyrolysis drum 12 Gas reformer 13 Partial pressure control apparatus 13a Input apparatus 15 Heat exchanger 16 Bag filter 17 Scrubber 18 Gas engine 19 Water treatment apparatus

Claims (7)

フロンで発泡された断熱材ウレタンを熱分解する熱分解装置と、
熱分解装置に接続され、熱分解された断熱材ウレタンと冷媒フロンとが導入されるガス改質装置と、
ガス改質装置の出口近傍のガス分圧を制御する分圧制御装置と、
を備え、
分圧制御装置は、酸素分圧を極低レベルに制御するようになっており、
分圧制御装置は、ガス改質装置の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において、酸素分圧を３％以下に制御するようになっている
ことを特徴とする廃棄物処理システム。A thermal decomposition apparatus for thermally decomposing the insulating material urethane foamed with chlorofluorocarbon;
A gas reformer connected to the thermal decomposition apparatus and introduced with thermally decomposed heat insulating urethane and refrigerant freon;
A partial pressure control device for controlling the gas partial pressure in the vicinity of the outlet of the gas reformer;
With
The partial pressure control device is designed to control the oxygen partial pressure to an extremely low level,
The waste pressure treatment system is characterized in that the partial pressure control device controls the oxygen partial pressure to 3% or less when the temperature of the gas reformer is in the range of 900 ° C to 1200 ° C. 分圧制御装置は、ガス改質装置の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において、一酸化炭素分圧が５％以上であるように制御するようになっている
ことを特徴とする請求項１に記載の廃棄物処理システム。The partial pressure control device controls the partial pressure of carbon monoxide to be 5% or more when the temperature of the gas reformer is in the range of 900 ° C to 1200 ° C. The waste treatment system described in 1. 分圧制御装置は、ガス改質装置の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において、水素分圧が５％以上であるように制御するようになっている
ことを特徴とする請求項１に記載の廃棄物処理システム。2. The partial pressure control device according to claim 1, wherein the hydrogen partial pressure is controlled to be 5% or more in a temperature range of 900 ° C. to 1200 ° C. of the gas reformer. Waste treatment system. 分圧制御装置は、ガス改質装置の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において、メタン分圧が０．５％以上であるように制御するようになっている
ことを特徴とする請求項１に記載の廃棄物処理システム。The partial pressure control device controls the partial pressure of methane so that the partial pressure of methane is 0.5% or more when the temperature of the gas reformer is in the range of 900 ° C to 1200 ° C. The waste treatment system described in 1. 分圧制御装置は、ガス改質装置の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において、一酸化炭素分圧が５％以上、かつ、水素分圧が５％以上であるように制御するようになっている
ことを特徴とする請求項１に記載の廃棄物処理システム。The partial pressure control device controls the partial pressure of carbon monoxide to be 5% or more and the partial pressure of hydrogen to be 5% or more when the temperature of the gas reformer is in the range of 900 ° C to 1200 ° C. The waste treatment system according to claim 1, wherein 分圧制御装置は、ガス改質装置の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において、一酸化炭素分圧が５％以上、かつ、水素分圧が５％以上、かつ、メタン分圧が０．５％以上であるように制御するようになっている
ことを特徴とする請求項１に記載の廃棄物処理システム。The partial pressure control device has a carbon monoxide partial pressure of 5% or more, a hydrogen partial pressure of 5% or more, and a methane partial pressure of 0. The waste treatment system according to claim 1, wherein the waste treatment system is controlled to be 5% or more. 請求項１に記載の廃棄物処理システムを用いる方法であって、
熱分解装置によって、フロンで発泡された断熱材ウレタンを熱分解する工程と、
熱分解された断熱材ウレタンと冷媒フロンとをガス改質装置に導入する工程と、
分圧制御装置によって、ガス改質装置の出口近傍の酸素分圧を、ガス改質装置の温度が９００℃〜１２００℃の範囲において、３％以下に制御する工程と、
を備えたことを特徴とする方法。A method using the waste treatment system according to claim 1,
A process of thermally decomposing the heat insulating urethane foamed with chlorofluorocarbon by a pyrolysis device;
Introducing thermally decomposed heat insulating material urethane and refrigerant flon into the gas reformer;
A step of controlling the oxygen partial pressure in the vicinity of the outlet of the gas reformer to 3% or less by a partial pressure control device when the temperature of the gas reformer is in the range of 900 ° C. to 1200 ° C .;
A method characterized by comprising:
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