JP4473664B2 - マスクブランクの製造方法、及び転写マスクの製造方法 - Google Patents
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Description
まず第1に、洗浄ブラシによって一旦除去された膜中の異物が洗浄ブラシから膜表面へ再付着してしまうという問題がある。再付着がどの程度起こるのかは、異物の大きさや材質、基板上の膜の材質等によって左右される。また、異物が膜表面に再付着する際、洗浄ブラシによる物理的な力が加わるので、異物が膜表面に強固に付着してしまう恐れがある。スクラブ洗浄後に、薬品、機能水等を用いた洗浄を行うことにより、この膜表面に再付着した異物の一部は膜表面から除去することも可能であるが、膜表面に強固に再付着した異物についてはその後の洗浄でも取り除くことは困難であり、そもそも洗浄ブラシによるスクラブ洗浄を行っても除去できなかった膜中に埋まっている異物は、その後の洗浄によっても除去することは殆どできないため、そのまま凸状の欠陥として残ることになる。
第3に、洗浄ブラシが膜表面を擦るため、洗浄ブラシによる刷毛目のような擦過傷が膜表面に形成されてしまうという問題がある。
従って、従来のマスクブランクの製造によって得られるマスクブランクでは、近年の例えば0.3μm以下レベルの微小な欠陥が存在しないことを要求される半導体デバイスのパターンのハーフピッチが65nm対応の露光用マスクブランクには適用することは困難である。
(構成1)基板上に転写パターンとなる薄膜を成膜する成膜工程と、該成膜工程の後、前記薄膜の表面形態情報と位置情報とを含む表面情報を取得する表面情報取得工程と、該表面情報取得工程によって得られた前記表面形態情報の中から凸部を選択し、該凸部の高さを低減させるように修正する修正工程と、その後、前記薄膜表面を洗浄する洗浄工程とを有することを特徴とするマスクブランクの製造方法である。
構成2によれば、凸部は、薄膜の材料と異なる異物であり、これは、薄膜成膜時に膜中に異物がめり込んだり、膜表面に異物が付着したりすることによって出来た凸部であるため、凸部の表面情報をもとに凸部の高さを低減させるように修正を行い、その後、薄膜表面を洗浄することにより、凸状の欠陥となりうる薄膜の表面の凸部をなくすことができる。これによって、基板上に形成された薄膜表面に微小な凸状の欠陥のないマスクブランクを製造することができる。
構成3のように、表面形態情報には凸部の大きさの情報を含み、大きさが0.3μm以下の凸部に対してその高さを低減させる修正工程を施すことにより、例えば0.3μm以下レベルの微小な欠陥が存在しないことを要求される半導体デザインルール(ハーフピッチ)が65nm対応の露光用マスクブランクの製造に好適である。
構成4によれば、凸部の高さを低減させる手段として、針状部材を用いることにより、凸部の高さの低減させる部分を高精度で物理的に除去することができる。
(構成5)前記洗浄工程は、前記基板を回転させながら前記薄膜表面に洗浄液を供給して前記薄膜表面を洗浄することを特徴とする構成1乃至4の何れかに記載のマスクブランクの製造方法である。
構成5によれば、凸部の高さを低減させる修正工程の後に実施する洗浄工程は、基板を回転させながら薄膜表面に洗浄液を供給して薄膜表面を洗浄する洗浄工程とすることにより、凸部の高さを低減させる修正を施した際に発生した残滓を除去して付着物による凸状の欠陥の発生を防止することができる。
構成6によれば、ガス溶解水、超音波を印加した溶媒、気体を混合した溶媒のうちから少なくとも一つを選択したものを洗浄液として前記洗浄工程を実施することにより、凸部の高さを低減させる修正を施した際に発生した残滓を薄膜表面から効果的に除去することができる。
構成7によれば、例えば基板上にハーフトーン膜と遮光膜を形成したハーフトーン型位相シフトマスクブランクのような、基板上に複数層の膜を形成するマスクブランクの場合、基板上に形成された薄膜表面に微小な凸状の欠陥を除去した状態で、その上に他の膜を形成することにより、微小な凸状の欠陥のないマスクブランクを製造することができる。
構成8によれば、本発明により得られるマスクブランクを使用して、基板上にパターン欠陥のない転写パターンを形成した転写マスクを製造することができる。
図1は、本発明により得られるマスクブランクの一実施の形態を模式的に示す断面図である。図1によると、マスクブランク100は、基板11上に転写パターンとなる薄膜12を形成してなる。このようなマスクブランクの具体例としては、ガラス基板上に、例えばMoSiNからなるハーフトーン膜を形成したハーフトーン型位相シフトマスクブランクなどが挙げられる。
本発明に係るマスクブランクの製造方法は、基板11上に転写パターンとなる薄膜12を成膜する成膜工程と、該成膜工程の後、前記薄膜12の表面形態情報と位置情報とを含む表面情報を取得する表面情報取得工程と、該表面情報取得工程によって得られた前記表面形態情報の中から凸部を選択し、該凸部の高さを低減させるように修正する修正工程と、その後、前記薄膜12表面を洗浄する洗浄工程とを有する。
同図(a)は、基板11上に転写パターンとなる薄膜12を成膜することにより薄膜付き基板1を得る成膜工程を示す。薄膜12は、例えばバイナリマスクブランクにおける遮光膜、ハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおけるハーフトーン膜などである。また、基板11としては、剛性があり、かつ平滑度及び平坦度に優れるガラス基板が好ましく用いられる。基板11上に薄膜12を成膜する場合の成膜方法としては特に制約はされないが、均一で膜厚の一定な膜を形成できるスパッタ成膜法が好ましく挙げられる。但し、基板11上に薄膜12をスパッタ成膜する場合、使用するスパッタターゲットに起因する微小なパーティクルが発生しやすく、これが薄膜12表面に異物として付着したり、膜中にめり込んでしまい、薄膜12表面に凸部2,3を形成することがある。このような成膜時に膜表面に形成される凸部は、その後の洗浄でも全ては除去されずに、或いは洗浄時の再付着により、そのまま凸状の欠陥として残存することになる。
上記表面情報取得工程によって得られた表面形態情報の中から凸部を選択すると、例えば、X座標が10mm、Y座標が20mmの位置に、〜0.3μmの凸部と、X座標が20mm、Y座標が35mmの位置に、〜0.3μmの凸部というように検出される。
上記修正工程の後、前記薄膜12表面を洗浄する洗浄工程を実施する。上記修正工程の後、薄膜12表面を洗浄することにより、凸部の高さを低減させる修正を施した際に発生した残滓を除去して付着物による凸状の欠陥の発生を防止することができる。尚、上記修正工程において、たとえばパーティクルが薄膜の表面近くにめり込んで出来た凸部であったため、針状部材4を接触させて摺動させることによってパーティクル全体がその場所から除去される場合もあるが、除去されたパーティクルは、修正を施した際に発生した残滓と同様、薄膜表面に単に載っている状態であるため、洗浄によって容易に薄膜表面から除去できる。
上記洗浄工程に使用する洗浄液としては、ガス溶解水、超音波を印加した溶媒、気体を混合した溶媒のうちから少なくとも一つを選択したものであることが好ましい。これらガス溶解水、超音波を印加した溶媒、気体を混合した溶媒のうちから少なくとも一つを選択したものを洗浄液として洗浄工程を実施することにより、凸部の高さを低減させる修正を施した際に発生した残滓を薄膜表面から効果的に除去することができる。ガス溶解水としては、水素ガス溶解水、酸素ガス溶解水、オゾンガス溶解水、希ガス溶解水、窒素ガス溶解水などが挙げられる。また、気体を混合した溶媒を使用する場合は、溶媒噴射ノズルを経て供給される溶媒と気体噴射ノズルを経て供給される気体とを混合した洗浄液を2流体噴射ノズルで供給するのが効果的である。
図3に示すスピン洗浄装置20は、前述の修正工程を終えた薄膜付き基板10を保持するスピンチャック21と、アーム24に備えられた洗浄液供給ノズル25とを有して構成される。スピンチャック21は、電動モータ22により回転可能に設けられている。洗浄液供給ノズル25は、溶媒供給装置26からの溶媒を洗浄液として薄膜付き基板10上に供給する。洗浄液供給ノズル25は、アーム24により薄膜付き基板10の中央から端面までの間で移動する。尚、上記スピンチャック21の周囲は洗浄カップ23にて覆われ、洗浄液等の飛散を防止している。かかるスピン洗浄装置20において、洗浄液供給ノズル25から薄膜付き基板10へ洗浄液(例えば前記ガス溶解水)を供給しつつ、電動モータ22により上記基板10を回転させた状態で洗浄が行われる。
図4に示すスピン洗浄装置30は、図3のスピン洗浄装置20における洗浄液供給ノズル25に代えて超音波洗浄ノズル28及び2流体噴射ノズル29を備えたものである。従って、このスピン洗浄装置30において、前述のスピン洗浄装置20と同様な箇所は同一の符号を付して重複説明は省略する。上記超音波洗浄ノズル28は、溶媒供給装置26からの溶媒に超音波を印加させ、この溶媒を洗浄液として薄膜付き基板10上に供給する。また、上記2流体噴射ノズル29は、溶媒供給装置26から図示しない溶媒噴射ノズルを経て供給される溶媒と、気体供給装置27から図示しない気体噴射ノズルを経て供給される気体とを混合し、この混合流体(気体を混合した溶媒)を洗浄液として薄膜付き基板10上に噴射する。超音波洗浄ノズル28及び2流体噴射ノズル29は、アーム24により薄膜付き基板10の中央から端面までの間で移動する。
以上の洗浄工程を終えると、基板11上に形成された薄膜12表面に微小な凸状の欠陥の存在しないマスクブランク100(図1参照)が得られる。
前記洗浄工程の後、薄膜12上に他の膜を形成するようにしてもよい。例えば基板上にハーフトーン膜と遮光膜を形成したハーフトーン型位相シフトマスクブランクのような、基板上に複数層の膜を形成するマスクブランクの場合、基板上に形成された薄膜表面に微小な凸状の欠陥を除去した状態で、その上に他の膜を形成することにより、微小な凸状の欠陥のないマスクブランクを製造することができる。本発明は、バイナリマスクブランクに限らず、ハーフトーン型位相シフトマスクブランク、レベンソン型位相シフトマスクブランクなどの製造に好適である。
本発明によるマスクブランクの製造方法によって得られたマスクブランクの薄膜をパターニングして、基板上に転写パターンを形成した転写マスクを製造することができる。すなわち、転写マスクは、マスクブランクを用いて、レジスト膜塗布、パターン描画(露光)、現像の各工程によりマスクブランク上にレジストパターンを形成し、次いで、このレジストパターンをマスクとして上記薄膜をエッチングすることにより、基板上に転写パターンとなる薄膜パターンを形成し、残存するレジストパターンを除去することにより得ることができる。
本発明の転写マスクの製造方法によれば、本発明によるマスクブランクの製造方法によって得られた、薄膜表面に微小な凸状の欠陥のないマスクブランクを使用して、基板上にパターン欠陥のない転写パターンを形成した転写マスクを製造することができる。
(実施例1)
合成石英ガラス基板上に、反応性スパッタリングにより、MoSiNからなるハーフトーン膜をスパッタ成膜し、ハーフトーン膜付き基板を得た。
次に、得られたハーフトーン膜付き基板を欠陥検査装置(レーザーテック社製:MAGICS M-1320)に投入し、ハーフトーン膜の表面情報を取得した。尚、この表面情報には、凸部(パーティクル)と凹部(ピンホール)の表面形態情報と、前記凸部と前記凹部の位置情報と、前記凸部と前記凹部の大きさの情報が含まれている。前記位置情報は、合成石英ガラス基板のコーナー部に形成されたノッチマークを基準に、合成石英ガラス基板の大きさから求められた基板面内(主表面)の中心を原点とした、XY座標で示される。また、前記凸部と前記凹部の大きさは、〜0.3μm、0.3μm〜0.5μm、0.5μm〜1μm、1μm〜と複数段階に分けて指定される。
次いで、ハーフトーン膜付き基板をXYステージに載置し、前記位置情報をもとに、先端の曲率半径が0.5μmの針状部材を上記パーティクル1,2に接触させて、摺動させた。上記パーティクル1は、異物がハーフトーン膜中に深くめり込んだものであったため、凸部の高さをハーフトーン膜表面とほぼ同一になるまで削り込んで高さを低減させた。また、パーティクル2は、異物がハーフトーン膜の表面近くにめり込んだものであったため、針状部材を接触させ摺動させることによって、完全にその場所からは取り除くことができた。
再度、上述の欠陥検査装置でハーフトーン膜の表面情報を取得したところ、凸部と凹部は検出されなかった。
このハーフトーン型位相シフトマスクブランクは、ハーフトーン膜表面に、〜0.3μmの大きさの凸部(パーティクル)や凹部(ピンホール)が存在していないので、半導体デバイスのパターンのハーフピッチが65nm対応のArFエキシマレーザー露光用ハーフトーン型位相シフトマスクブランクとして適用可能である。
次に、この得られたハーフトーン型位相シフトマスクブランクのハーフトーン膜表面にレジスト膜を形成し、このレジスト膜に所望のパターンを露光し、現像してレジストパターンを形成した。次いで、このレジストパターンをマスクとしてハーフトーン膜をエッチングして、基板上にハーフトーン膜のパターンを形成したハーフトーン型位相シフトマスクを得た。
得られたハーフトーン型位相シフトマスクのパターンを検査したところ、パターン欠陥は存在しなかった。
合成石英ガラス基板上に、反応性スパッタリングにより、MoSiNからなるハーフトーン膜をスパッタ成膜し、ハーフトーン膜付き基板を得た。
得られたハーフトーン膜付き基板のハーフトーン膜表面を洗浄ブラシを用いてスクラブ洗浄した。
次に、スクラブ洗浄後のハーフトーン膜付き基板を欠陥検査装置(レーザーテック社製:MAGICS M-1320)に投入し、ハーフトーン膜の表面情報を取得した。その結果、ハーフトーン膜表面内に、〜0.3μmの凹部(ピンホール)を1個と、〜0.3μmの凸部(パーティクル)を4個検出した。検出した凹部と凸部を詳細に調べたところ、凹部は、ハーフトーン膜中に存在していた異物がスクラブ洗浄により除去されて形成されたものであり、また凸部は、スクラブ洗浄を行っても除去できなかったハーフトーン膜中に埋まっている異物と、洗浄ブラシから再付着したと思われるハーフトーン膜表面上に付着した異物であることが確認できた。
また、基板上のハーフトーン膜や上記遮光膜の上にレジスト膜を形成してハーフトーン型位相シフトマスクブランクとしてもよい。
また、以上の実施例では、針状部材により凸部(パーティクル)を除去した後の洗浄として、水素ガス溶解水に超音波を印加した水素溶解水メガソニック洗浄液を使用した洗浄の例しか挙げなかったが、これに限らず、ガス溶解水のみや、超音波を印加したメガソニック溶媒のみを薄膜表面に供給してもよい。また、溶媒に印加する超音波の周波数も適宜調整することができる。また、溶媒噴射ノズルを経て供給される溶媒と気体噴射ノズルを経て供給される気体とを混合した洗浄液を供給する2流体噴射ノズル洗浄でも構わない。
2,3 凸部
4 針状部材
11 基板
12 薄膜
20,30 スピン洗浄装置
100 マスクブランク
Claims (8)
- 基板上に転写パターンとなる薄膜を成膜する成膜工程と、該成膜工程の後、前記薄膜の表面形態情報と位置情報とを含む表面情報を取得する表面情報取得工程と、該表面情報取得工程によって得られた前記表面形態情報の中から凸部を選択し、該凸部の高さを低減させるように修正する修正工程と、その後、前記薄膜表面を洗浄する洗浄工程とを有することを特徴とするマスクブランクの製造方法。
- 前記凸部は、前記薄膜の材料と異なる異物であることを特徴とする請求項1に記載のマスクブランクの製造方法。
- 前記表面形態情報には前記凸部の大きさの情報を含み、大きさが0.3μm以下の凸部に対して前記修正工程を施すことを特徴とする請求項1又は2に記載のマスクブランクの製造方法。
- 前記修正工程は、前記凸部に針状部材を接触させて物理的な力を加え、前記凸部の高さを低減させることを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載のマスクブランクの製造方法。
- 前記洗浄工程は、前記基板を回転させながら前記薄膜表面に洗浄液を供給して前記薄膜表面を洗浄することを特徴とする請求項1乃至4の何れかに記載のマスクブランクの製造方法。
- 前記洗浄液は、ガス溶解水、超音波を印加した溶媒、気体を混合した溶媒のうちから少なくとも一つを選択したものであることを特徴とする請求項5に記載のマスクブランクの製造方法。
- 前記洗浄工程の後、前記薄膜上に他の膜を形成することを特徴とする請求項1乃至6の何れかに記載のマスクブランクの製造方法。
- 請求項1乃至7の何れかに記載のマスクブランクの製造方法によって得られたマスクブランクの薄膜をパターニングして、前記基板上に転写パターンを形成することを特徴とする転写マスクの製造方法。
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