JP4471860B2 - ボンディング装置におけるキャリブレーション方法 - Google Patents

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Description

本発明は、ボンディング装置におけるキャリブレーション方法に関するものである。
従来、回路基板や機能回路が形成されたウェハーに半導体チップをボンディング、すなわち加熱圧着するチップボンディング技術は、広く実用化されており、チップボンディングのような実装においてはミクロン単位の精度が要求され、近年、その精度の向上がさらに要求されつつある。
従来の上記ボンディング装置として、例えば特許文献1が開示されている。
このボンディング装置は、例えば、ボンディングツールに真空吸着保持されている半導体チップのアライメントマーク(例えばバンプのパターン)を下方から検出するチップ用カメラと、ボンディングステージ上に載置されている回路基板のアライメントマーク(例えば回路パターン)を上方から検出する基板用カメラとを備え、ボンディングステージが所定位置に移動されるとともに、チップ用カメラと基板用カメラの移動制御系のキャリブレーションを行うことにより、さらに高精度のボンディングを行っており、ボンディングステージをボンディング位置と基板検出位置に移動させ、上記両カメラによりボンディングステージの基板支持テーブルに装着されているキャリブレーション用基準マークを検出し、これに基づいて得られる所定のパラメータで、両カメラの移動制御系に予め入力されたパラメータの補正更新が行われている。
これにより、カメラ同士間の相対的位置ずれを補正、すなわちカメラ間のキャリブレーションを可能とすることができ、したがって高精度のボンディングを行うことができる。
特開平9−8104号公報
しかし、上記従来の構成では、ボンディングステージ、および基板用カメラもしくはチップ用カメラが少なくとも2方向に移動自在となるよう構成され、基板用カメラとチップ用カメラが共通のキャリブレーション用基準マークを検出することができるボンディング装置に限定されており、ボンディングステージやカメラが移動しても、基板用カメラとチップ用カメラのカメラ視野が重なる(交差する)ことなく、両カメラの位置が直線的にならぶことがない機構、または両カメラが同じキャリブレーション用基準マークを検出することができない機構など、ボンディングステージまたはカメラの移動自由度が極めて少ないボンディング装置においては適用することができず、このような機構を備えたボンディング装置に関しては、従来と異なるカメラ間のキャリブレーション方法を考えなければならないという問題がある。
そこで本発明は、ボンディングステージまたはカメラの移動自由度が極めて少なくても高精度のボンディングを行うことができるボンディング装置におけるキャリブレーション方法を提供することを目的とする。
前記した目的を達成するために、本発明の請求項1記載のボンディング装置におけるキャリブレーション方法は、ウェハーが載置されているボンディングステージと、半導体チップの吸着およびボンディングを行うボンディングツールと、前記ボンディングツールで吸着された前記半導体チップのアライメントマークを検出するチップ用カメラと、前記ウェハーのアライメントマークを検出する基板用カメラとを備えたボンディング装置におけるキャリブレーション方法であって、前記チップ用カメラもしくは前記基板用カメラ、および前記ボンディングステージが一方向に移動自在に形成されており、前記ボンディングステージに設けられ少なくとも2つのキャリブレーション用基準マークを有するとともに超低熱膨張鋳鉄により形成されているキャリブレーション用治具の一方のキャリブレーション用基準マークを前記チップ用カメラにより検出させ、他方のキャリブレーション用基準マークを前記基板用カメラにより検出させることにより、前記ボンディングステージ、前記ボンディングツール、および前記基板用カメラの位置補正を行うことを特徴としたものである。
また、請求項2に記載のボンディング装置におけるキャリブレーション方法は請求項1に記載の発明であって、前記チップ用カメラおよび前記基板用カメラがそれぞれ、異なる視野方向で前記各キャリブレーション用基準マークを認識することを特徴としたものである。
本発明のボンディング装置におけるキャリブレーション方法は、一方向にしか移動することのできない、すなわち移動自由度が極めて少ないチップ用カメラもしくは基板用カメラ、およびボンディングステージを備えたボンディング装置において、ボンディングステージに設けられ少なくとも2つのキャリブレーション用基準マークを有するキャリブレーション用治具の一方のキャリブレーション用基準マークをチップ用カメラにより検出させ、他方のキャリブレーション用基準マークを基板用カメラにより検出させることにより、新たな移動制御系のパラメータが求められて補正更新されるため、ボンディングステージ、ボンディングツール、および基板用カメラの位置補正が行われ、カメラ同士間の相対的位置ずれを補正、すなわちカメラ間のキャリブレーションを可能とすることができ、したがって高精度のボンディングを行うことができる。
以下に本発明の実施の形態を図面を参照しながら説明する。
本発明のボンディング装置は、水平方向においてボンディングステージ(後述する)が移動する方向(ボンディングステージの長手方向)をX軸方向、水平方向においてX軸と直交する方向(ボンディングステージの短手方向)をY軸方向、X軸およびY軸と直交する鉛直方向をZ軸方向とし、ウェハーが載置されているボンディングステージをX軸方向に移動させ、半導体チップが真空吸着されているボンディングツールをY軸方向に移動させ、ボンディングツールをウェハー上のボンディング位置に移動させることにより、ウェハー上に半導体チップをボンディングするものである。
図1、図2に示すように、本発明のボンディング装置は、ボンディングステージ3、ボンディングツール4、チップ用カメラ5、基板用カメラ6などから構成されている。
上記ボンディングステージ3は、矩形板状に形成され、X軸方向に移動自在なテーブル1と、テーブル1の上面における一方側に回路基板や機能回路などが形成されているウェハー21が載置されるチップ支持テーブル2と、テーブル1の上面における他方側にキャリブレーション用治具7を嵌め込み固定するためのL字型の溝部8Aが形成されている固定テーブル8から形成されている。
上記ボンディングツール4は、Z軸回りに回転され、Y軸方向およびZ軸方向に移動自在であり半導体チップ22の真空吸着およびボンディングを行う。
上記チップ用カメラ5は、撮像方向が上方となるよう固定されており、ボンディングツール4で真空吸着された半導体チップ22のアライメントマークを検出する。
上記基板用カメラ6は、撮像方向が下方となるよう設けられており、Y軸方向に移動自在でありウェハー21のアライメントマークを検出する。
図2から図4に示すように、上記キャリブレーション用治具7は、室温の上昇などによる環境条件の変化が発生しても形状がほとんど変化しない材料である超低熱膨張鋳鉄により平面視がL字型に形成されており、テーブル1の上面における他方側にX軸方向(ボンディングステージ3の移動方向と平行)に配置される長方形状(棒状)の第1板部11と、第1板部11の他端からY軸方向(ボンディングツール4の移動方向と平行)に且つその他端がボンディングステージ3から突出するように形成された長方形状(棒状)の第2板部12から構成されている。なお、第1板部11の一端をA部、第2板部12の他端をB部、第1板部の他端(第2板部12の一端)をC部と称する。
また、上記超低熱膨張鋳鉄としては、ねずみ鋳鉄、ダクタイル鋳鉄、鋼などの熱膨張係数が12×10−6/k以下のものが用いられ、特に熱膨張係数が6×10−6/k以下のものがよい。例えば、榎本鋳工所のインバー材やニレジスト、ノビナイトを用いることができる。
図5に示すように、第1板部11の一端であるA部および第2板部12の他端であるB部には貫通孔17が形成されており、A部の貫通孔17の上部には基板用カメラ6により検出される円板状の透明ガラスにより形成された第1キャリブレーション用基準マーク15が設けられ、B部の貫通孔17の上部にはチップ用カメラ5により検出される円板状の透明ガラスにより形成された第2キャリブレーション用基準マーク16が設けられている。
なお、上記キャリブレーション用治具7における第2板部12の中間には段部が形成されて、他端側が一端側よりも上方に位置するように形成されているため、チップ用カメラ5により第2板部12の他端に形成された第2キャリブレーション用基準マーク16のフォーカスを行う際、チップ用カメラ5と第2キャリブレーション用基準マーク16とを所定距離離すことができ、したがってフォーカスの精度が向上される。
また、図3に示すように、上記第1キャリブレーション用基準マーク15の中心をa、第2キャリブレーション用基準マーク16の中心をb、第1キャリブレーション用基準マーク15の中心aを通るX軸方向の直線と第2キャリブレーション用基準マーク16の中心bを通るY軸方向の直線との交点をcとし、中心aと交点cとの距離を第1マーク間基準距離M、中心bと交点cとの距離を第2マーク間基準距離Nとする。
次に、上記チップ用カメラ5と基板用カメラ6間のキャリブレーション方法を、図6のフローチャートに基づいて説明する。
なお、このボンディング装置には、図1に示すように、ボンディングツール4をその待機位置であるツール基準位置(XA,YA)からY軸方向に所定距離移動させる距離である第1基準距離L1、ボンディングステージ3をその待機位置であるステージ基準位置(XB,YB)からX軸方向に所定距離移動させる距離である第2基準距離L2、基板用カメラ6をその待機位置である基板用カメラ基準位置(XC,YC)からY軸方向に所定距離移動させる距離である第3基準距離L3、ボンディングツール4の待機位置からチップ用カメラ5のカメラ視野の中心までの距離(チップ用カメラ基準距離)におけるX成分のチップ用カメラ基準距離XR、そのY成分のチップ用カメラ基準距離YR、ボンディングツール4の待機位置から基板用カメラ6のカメラ視野の中心までの距離(基板用カメラ基準距離)におけるX成分である基板用カメラ基準距離XS、そのY成分である基板用カメラ基準距離YSなどの移動制御系の初期パラメータが設定されており、これら初期パラメータは誤差のないものとする。なお、ボンディングツール4の代表座標位置は、ボンディングツール4の回転中心としている。
(ステップ−1)
まず、キャリブレーション用治具7をボンディングステージ3に固定する前に、キャリブレーション用治具7における上記第1マーク間基準距離Mおよび第2マーク間基準距離Nを、光学顕微鏡などを用いて測定する。
(ステップ−2)
次に、キャリブレーション用治具7を、例えばキャリブレーション用治具7のX軸方向の一辺とテーブル1のX軸方向の一辺が平行となるよう、ボンディングステージ3に固定する。
ここで、キャリブレーション用治具7をボンディングステージ3に固定する際、図7に示すように、キャリブレーション用治具7がボンディングステージ3に対して若干傾いて固定されている恐れがあるため、この傾き角度θ(ズレ)を計測する。
(ステップ−3)
すなわち、ボンディングステージ3をX軸方向に移動させるとともに基板用カメラ6をY軸方向に移動させ、図7に示すキャリブレーション用治具7における第1板部11のA部の左上角A´およびC部の右上角C´を基板用カメラ6によって検出することにより、固定されているキャリブレーション用治具7の座標を取得する。
なお、取得する座標は、上述した以外の角でもよく、固定されているキャリブレーション用治具7の傾き角度θが検出される2点であればよい。
(ステップ−4)
そして、取得したキャリブレーション用治具7の座標からキャリブレーション用治具7の傾き角度θを求め、座標変換式を用いて上記第1マーク間基準距離Mと第2マーク間基準距離Nを修正することにより、角度θ傾いた状態でボンディングステージ3に固定された状態のキャリブレーション用治具7のX軸方向におけるA部の中心aとB部の中心bとの距離である第1修正マーク間距離M´、およびY軸方向におけるA部の中心aとB部の中心bとの距離である第2修正マーク間距離N´を求める。
(ステップ−5)
ボンディングツール4とチップ用カメラ5の位置関係を明示し、経時変化等によるボンディングツール4とチップ用カメラ5との間の実距離とその設定距離のズレの補正および確認を行うため、チップ用カメラ5で第2キャリブレーション用基準マーク16を認識(捕捉)し、ボンディングツール4の回転中心からチップ用カメラ5のカメラ視野の中心(XD,YD)までの距離であるチップ用カメラ補正距離YR´(L1´)を求める。(図8、図9参照)
詳述すると、まずボンディングステージ3をステージ基準位置(XB,YB)から初期パラメータである第2基準距離L2に基づいてX軸方向に移動させ、第2キャリブレーション用基準マーク16をチップ用カメラ5のカメラ視野の中心付近で認識させる。
次に、ボンディングツール4をツール基準位置(XA,YA)から初期パラメータである第1基準距離L1に基づいてY軸方向に移動させ、チップ用カメラ5がボンディングツール4の回転によりその回転中心をチップ用カメラ5のカメラ視野の中心付近で認識するよう、ボンディングツール4の回転中心座標を求める。
これにより、ボンディングツールの回転中心座標と第2キャリブレーション用基準マーク16の中心とのズレがわかり、チップ用カメラ5のカメラ視野の中心(XD,YD)とボンディングツール4の回転中心のズレ、すなわちX成分におけるチップ用オフセット量XPおよびY成分におけるチップ用オフセット量YPが求められるため、図8に示すように、上記X成分のチップ用カメラ基準距離XRおよびX成分のチップ用オフセット量XPによりX成分のチップ用カメラ補正距離XR´が求められ、上記Y成分のチップ用カメラ基準距離YRおよびY成分のチップ用オフセット量YPによりY成分のチップ用カメラ補正距離YR´が求められる。なお、移動制御系の初期パラメータであるX成分のチップ用カメラ基準距離XRおよびY成分のチップ用カメラ基準距離YRは、上記新たに求められたX成分のチップ用カメラ補正距離XR´およびY成分のチップ用カメラ補正距離YR´に更新される。
(ステップ−6)
まず、(ステップ−4)で求められた第1修正マーク間距離M´および第2修正マーク間距離N´と、上記X成分におけるチップ用オフセット量XPおよびY成分におけるチップ用オフセット量YPとにより、第1キャリブレーション用基準マーク15の目標中心座標を求める。
そして、基板用カメラ6を基板用カメラ基準位置(XC,YC)から第3基準距離L3に基づいてY軸方向に移動させ、基板用カメラ6で第1キャリブレーション用基準マーク15を認識させるとともに、第1キャリブレーション用基準マーク15の中心座標が上記目標中心座標となっているかどうかを確認し、基板用カメラ6のカメラ視野の中心と第1キャリブレーション用基準マーク15の中心とのズレ、すなわちX成分における基板用オフセット量XQおよびY成分における基板用オフセット量YQを求める。
これにより、上記X成分における基板用カメラ基準距離XSおよびX成分の基板用オフセット量XQによりX成分の基板用カメラ補正距離XS´が求められ、上記Y成分における基板用カメラ基準距離YSおよびY成分の基板用オフセット量YQによりY成分の基板用カメラ補正距離YS´が求められる。そして、移動制御系の初期パラメータであるX成分の基板用カメラ基準距離XRおよびY成分の基板用カメラ基準距離YRは、上記新たに求められたX成分の基板用カメラ補正距離XR´およびY成分の基板用カメラ補正距離YR´に更新される。
(ステップ−7)
そして、(ステップ−5)で求められた成分におけるチップ用オフセット量XPおよび(ステップ−6)で求められたX成分における基板用オフセット量XQにより、図1に示す第2基準距離L2は、図8に示す第2補正距離L2´に補正され、(ステップ−5)で求められたY成分におけるチップ用オフセット量YPおよび(ステップ−6)で求められたY成分における基板用オフセット量YQにより、図1に示す第1基準距離L1および第3基準距離L3は、図8に示す第1補正距離L1´および第3補正距離L3´に補正される。
これにより、移動制御系の初期パラメータである第1基準距離L1、第2基準距離L2、第3基準距離L3が第1補正距離L1´、第2補正距離L2´、第3補正距離L3´に補正されるため、次回動作時において、ボンディングツール4はツール基準位置(XA,YA)から第1補正距離L1´移動され、ボンディングステージ3はステージ基準位置(XB,YB)から第2補正距離L2´移動され、基板用カメラ6は基板用カメラ基準位置(XC,YC)から第1補正距離L1´移動され、したがってボンディングの精度が維持される。
上記手順をまとめると、ボンディングツール4の中心を基準として、ボンディングツール4とチップ用カメラ5のキャリブレーションを行うことによりボンディングツール4とチップ用カメラ5の位置精度が保証され、次にボンディングツール4と基板用カメラ6のキャリブレーションを行うことによりボンディングツール4とチップ用カメラ6の位置精度が保証されるため、チップ用カメラ5と基板用カメラ6の位置精度が保証されることとなる。
以上のように実施の形態によれば、X,Y,Z軸方向のうちいずれか一つの軸方向にしか移動することのできない、すなわち移動自由度が極めて少ない基板用カメラ6およびボンディングステージ3と、固定されたチップ用カメラ5を備えたボンディング装置において、ボンディングステージ3に設けられ2つのキャリブレーション用基準マーク15,16を有するキャリブレーション用治具7の一方のキャリブレーション用基準マーク16をチップ用カメラ5により検出させ、他方のキャリブレーション用基準マーク15を基板用カメラ6により検出させることにより、新たな移動制御系のパラメータが求められて補正更新されるため、ボンディングステージ、ボンディングツール、および基板用カメラの位置補正が行われ、カメラ同士間の相対的位置ずれを補正、すなわちカメラ間のキャリブレーションを可能とすることができ、したがって高精度のボンディングを行うことができる。
また、実施の形態によれば、室温の上昇などによる環境条件の変化が発生しても形状がほとんど変化しない材料である超低熱膨張鋳鉄によりキャリブレーション用治具7が形成されているため、チップ用カメラ5により検出される第2キャリブレーション用基準マーク16と、基板用カメラ6により検出される第1キャリブレーション用基準マーク15を設けることができる。
例えば、異なるカメラにより検出される複数のキャリブレーション用基準マークがボンディングステージ3に直接形成されている場合、ボンディングステージ3を上述した理由により環境条件の変化に強い材料により形成するとコストがかかるが、本願のようにキャリブレーション用治具7のみを超低熱膨張鋳鉄で形成することによりコストを大幅に低減することができる。
また、実施の形態によれば、キャリブレーション用治具7は、L字型に形成されるとともに、その各端部にキャリブレーション用基準マーク15,16を有しているため、チップ用カメラ5により一方のキャリブレーション用基準マーク16を検出させ、基板用カメラ6により他方のキャリブレーション用基準マーク15を検出させる際、ボンディングステージ3および基板用カメラ6を移動させる距離を小さくすることができる。これにより、この移動によるボンディングステージ3および基板用カメラ6等の位置精度の低下を抑えることができ、また移動機構が小さくなるためボンディング装置を小型化することができる。
なお、実施の形態では、L字型に一体に形成されているキャリブレーション用治具7が用いられていたが、これに限ることは無く、図11に示すように、L字型に形成され、ボンディングステージ3の溝部8Aに配置される第1板部31と、第1板部31における端部に取り付け具33により取り付けられる第2板部32とから構成されるキャリブレーション用治具34を用いてもよい。なお、第2板部32は第1板部31の所望の位置に取り付けることができ、キャリブレーション用治具34を様々な形状に組み立てることができるため、他の装置にも用いることができる。また、第2板部32の鉛直方向における高さ調整は、調整部材(例えば板材等)を介して第2板部32を第1板部31の端部に取り付けることにより行うことができる。
また、実施の形態では、キャリブレーション用治具7は、平面視がL字型に形成されているが、これに限ることは無く、例えばI字型でもよい。
また、実施の形態では、超低熱膨張鋳鉄によりキャリブレーション用治具7が形成されていたが、室温の上昇などによる環境条件の変化が生じても形状が極めて変化しにくい材料であればよい。
また、実施の形態では、チップ用カメラ5は固定されていたが、チップ用カメラ5と基板用カメラ6がそれぞれ、カメラ視野が交差せず、直線的に並ぶことなく、同じキャリブレーション用基準マークを検出しなければ、移動自在としてもよい。
本発明のボンディング装置におけるキャリブレーション方法は、ボンディング装置に代表される実装装置の実装を高精度にするとともに、高精度のボンディングが求められる装置の中で、環境条件の変化等、諸々の条件変化する機械的性質を緩和する方法として有用である。
本発明の実施の形態におけるボンディング装置の平面図である。 同ボンディング装置の斜視図である。 同キャリブレーション用治具の平面図である。 同キャリブレーション用治具の正面図である。 同キャリブレーション用治具におけるキャリブレーション用基準マーク部分の断面図である。 同ボンディング装置におけるキャリブレーション方法を説明するフロー図である。 同ボンディング装置にキャリブレーション用治具を取り付けた際の平面図である。 同ボンディング装置にキャリブレーション用治具が傾いて固定された際の平面図である。 同図8における第2キャリブレーション用基準マーク部分の拡大平面図である。 同図8における第1キャリブレーション用基準マーク部分の拡大平面図である。 同他のキャリブレーション用治具の斜視図である。
符号の説明
1 ボンディング装置
3 ボンディングステージ
4 ボンディングツール
5 チップ用カメラ
6 基板用カメラ
7 キャリブレーション用治具
15,16 キャリブレーション用基準マーク
21 ウェハー
22 半導体チップ

Claims (2)

  1. ウェハーが載置されているボンディングステージと、半導体チップの吸着およびボンディングを行うボンディングツールと、前記ボンディングツールで吸着された前記半導体チップのアライメントマークを検出するチップ用カメラと、前記ウェハーのアライメントマークを検出する基板用カメラとを備えたボンディング装置におけるキャリブレーション方法であって、
    前記チップ用カメラもしくは前記基板用カメラ、および前記ボンディングステージが一方向に移動自在に形成されており、
    前記ボンディングステージに設けられ少なくとも2つのキャリブレーション用基準マークを有するとともに超低熱膨張鋳鉄により形成されているキャリブレーション用治具の一方のキャリブレーション用基準マークを前記チップ用カメラにより検出させ、他方のキャリブレーション用基準マークを前記基板用カメラにより検出させることにより、前記ボンディングステージ、前記ボンディングツール、および前記基板用カメラの位置補正を行うことを特徴とする
    ボンディング装置におけるキャリブレーション方法。
  2. 前記チップ用カメラおよび前記基板用カメラがそれぞれ、異なる視野方向で前記各キャリブレーション用基準マークを認識することを特徴とする
    請求項1に記載のボンディング装置におけるキャリブレーション方法。
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