JP4464905B2 - 平板状物の乾燥システム及び乾燥方法 - Google Patents
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Description
しかし、IPA等の有機溶剤を用いるとなると、防爆設備等の設備コストが上昇するほか、人体や自然環境に悪影響を及ぼすおそれがある。
また、加熱した純水で洗浄を行えば、洗浄後にウエーハに付着している純水は蒸発し易く、比較的短時間で乾燥させることができる。しかし、純水の加熱にヒータが必要であり、ヒータから汚染物質が生じてウエーハを汚染させてしまうおそれがある。また、純水の加熱に時間がかかるなどの問題もある。
ところが、上記のようにウエーハを溝で垂直に支持して乾燥を行っても、特にウエーハが支持されている部分ではウオーターマーク等が残り易いという問題がある。
また、このようなウオーターマーク等は、半導体ウエーハに限らず、マスク基板等の高い清浄度が要求される平板状物において問題となる。
このような制御手段も備えたシステムであれば、水槽内での純水リンスから乾燥ステージでの吸引乾燥まで自動制御により円滑に行うことができるものとなり、平板状物を素早く乾燥させることができる。
このようなロボットハンドを備えたシステムであれば、一度に複数の平板状物を処理することができ、平板状物の乾燥をより効率的に行うことができるものとなる。
ロボットハンドに上記のような吸引用の孔が設けられていれば、平板状物の把持される部分が十分乾燥していなくても、把持する時に、ロボットハンドの孔を通じて乾燥を促進することができるものとなる。従って、確実に把持される部分にステインが残ることなく、平板状物全面にわたって清浄な状態で乾燥させることができる。
給気ダクトにより乾燥ステージの上方からもクリーンエアを吹き付けることができるシステムとすれば、ロボットハンドにより平板状物を乾燥ステージに搬送した後でも上方からのエアによって平板状物の乾燥を促進させることができ、平板状物全面にわたってより確実にかつ高い清浄度で乾燥させることができる。
給気ダクトが固定されたシステムとすれば、給気ダクトからのパーティクルの発生を防ぐことができ、平板状物をより確実に清浄な状態で乾燥させることができるものとなる。
この場合、ロボットハンドで把持された平板状物に対して常にクリーンエアを正確に吹き付けることができ、平板状物全面をより確実にかつ迅速に乾燥させることができる。
乾燥ステージが、複数の平板状物に対する個々の吸引口を有していれば、ロボットハンドに把持された複数の平板状物を一度で迅速に乾燥させることができるものとなる。
乾燥ステージが、上記のような溝と吸引口を有していれば、平板状物の下部を汚染することなく、効率的良く乾燥させることができる。
水槽内の水面の低下に追従するようにロボットハンドを下降させて平板状物の周辺部を把持すれば、平板状物を素早く把持して搬送することができ、乾燥工程全体をより短時間で行うことができる。
平板状物の把持される部分を乾燥させた後にロボットハンドで平板状物を把持すれば、ロボットハンドで把持された部分にウオーターマーク等が残ることを確実に防ぐことができる。
ロボットハンドの吸引用の孔で平板状物の周辺部を吸引しながら把持すれば、平板状物の把持される部分がまだ十分乾燥していなかった場合でも、確実に乾燥させることができ、把持される部分にステインが残ることもない。
排水時に平板状物の全体が純水から出る前に、ロボットハンドにより平板状物の周辺部を把持して搬送すれば、平板状物が水槽内で支えられていた部分にウオーターマーク等が一層残り難くなり、平板状物全体をより一層清浄な状態で乾燥させることができる。
平板状物の最下部と乾燥ステージの吸引口を上記範囲内に近づけて吸引乾燥すれば、平板状物とステージとの接触を防ぐとともに平板状物を迅速に乾燥させることができる。
半導体ウエーハは、特に乾燥後のウオーターマークやステインがその後のデバイス工程などに影響するが、本発明によれば、平板状物の全面にわってステインやウオーターマーク等の跡を残さずに極めて清浄な状態でかつ迅速に乾燥させることができるため、半導体ウエーハの乾燥に特に有効である。
図1は本発明に係る平板状物の乾燥システムの一例を示している。また、図2〜図7は、この乾燥システム1を用いてシリコンウエーハを乾燥させる各工程を概略的に示している。
この乾燥システム1は、チャンバー2の内部に、水槽3、給気ダクト4、ロボットハンド5、乾燥ステージ6を備え、さらにチャンバー2の外部には、水槽3とロボットハンド5と給気ダクト4と乾燥ステージ6の各操作を制御する手段としてコンピュータ20を備えている。
給気ダクト4は、チャンバー2の天井部に設けられており、HEPAフィルター等のエアフィルターを通じてクリーンエアを所定の風量(風速)で下方に吹き出すことができる。
乾燥ステージ6は、ウエーハWの下部を吸引乾燥するためのものであり、真空ポンプ12のほか、圧力調整用のバルブ10及び圧力計11が設けられている。
また、制御手段のコンピュータ20には、水槽3、給気ダクト4、ロボットハンド5、乾燥ステージ6の全てをシーケンス制御するためのソフトが組み込まれている。
まず、洗浄後のシリコンウエーハWを水槽3内に搬送し、純水7でリンスする。このとき、ウエーハWは水槽内の支持部9により下部の周辺部が支持され、ほぼ垂直に立った状態でリンスが行われる。水槽内の純水7は常温のものを用いることができるが、後により速く乾燥させるため温水を用いてもよい。
リンス中は、給気ダクト4からは必ずしもクリーンエアを吹き出しておく必要はないが、所定の風速でクリーンエアを吹き出しておいてもよい。
図8及び図9は、ロボットハンド5の好適な一例を示している。このロボットハンド5は、主に金属製の支柱骨18とフッ素樹脂とから構成されており、ウエーハWを把持して搬送するための強度を確保できるとともに、ウエーハWを把持したときの汚染を防ぐことができる。各ハンド5a,5bの先端には25枚(1バッチ)のウエーハWを一度に把持するための把持部14,15が設けられている。また、把持部14,15には、図10に拡大して示したようにウエーハWを把持する際にウエーハWの周辺部を吸引するための孔16がそれぞれ形成されている。孔径は例えば1〜5mm程度とすることができる。なお、孔16の形状は特に限定されず、例えば、円形、楕円形、長方形、スリット形状等を採用することができる。さらに、各ハンド5a,5bの内部には各孔16に通じるバキュームライン17が形成されている。
ただし、ウエーハWの把持される部分がまだ乾燥していない状態でロボットハンド5で把持すると、ウオーターマークが残るおそれがある。従って、給気ダクト4からのクリーンエアの吹き付け量を調整することによりウエーハWの把持される部分を乾燥させた後にロボットハンド5で把持するようにする。
また、吸引力も吸引口22の形状等に応じて適宜設定すればよいが、吸引口22からの線速度として1m/秒以上とすることが好ましい。但し、吸引口22からの線速度は必ずしも一定とする必要はない。通常は2〜5MPa程度、特に2.5〜3MPaとすれば、ウエーハWを振動させることなく下部の水分を迅速に吸引乾燥させることができる。
以上のような工程によりウエーハWの乾燥を行えば、純水リンス後のウエーハWはロボットハンド5で周辺部が把持される以外は乾燥ステージ6とも接触せず、ウエーハ全面にわたってステインやウオーターマークが残ることもない。また、水槽内での純水リンスから乾燥ステージ6での吸引乾燥まで円滑に行うことができるので、ウエーハWを極めて清浄な状態で迅速に乾燥させることができる。
(実施例)
図1に示したような乾燥システムを構築し、洗浄後のウエーハを純水リンスした後、乾燥させた。乾燥条件等は以下の通りである。
給気ダクトからのエアの風量(風速)
ロボットハンド直下:3.0m/秒
ウエーハ付近:2.0m/秒
ロボットハンド下降速度:1.5mm/秒
水面低下速度:1.8mm/秒
乾燥ステージの吸引力:−2.7MPa〜−2.9MPa
乾燥ステージとウエーハとの距離:1.0mm
チャンバー内:大気圧
ロボットハンドの材質(PTFE)
乾燥ステージの材質(PEEK)
なお、ロボットハンドの上昇、下降、ウエーハ把持、横送り動作はサーボによって速度制御変更可能とした。
ボックス内のウエーハを取り出して表面状態を目視で調べたところ、全てのウエーハにおいてウオーターマークや汚染は見られなかった。
また、上記実施形態では、25枚(1バッチ)のシリコンウエーハを一度にリンスして乾燥させる場合について説明したが、一度に処理するウエーハの数も特に限定されず、ウエーハを一枚ずつ処理する枚葉式であってもよいし、25枚より多い枚数を一度に処理するようにしてもよい。
Claims (16)
- 平板状物を純水でリンスした後に該平板状物を乾燥させるためのシステムであって、少なくとも、平板状物を立てた状態で該平板状物の周辺部を支持し、該平板状物を純水でリンスするための水槽と、前記純水から出た平板状物に対して上方からクリーンエアを吹き付けるための給気ダクトと、前記クリーンエアが吹き付けられて乾燥された前記平板状物の周辺部を把持し、前記水槽から前記平板状物を搬出するためのロボットハンドと、前記ロボットハンドで把持された前記平板状物と接触することなく、該平板状物の下部を吸引乾燥するための乾燥ステージとを備えたものであることを特徴とする平板状物の乾燥システム。
- 前記水槽とロボットハンドと給気ダクトと乾燥ステージの各操作を制御するための制御手段をさらに備えたものであることを特徴とする請求項1に記載の平板状物の乾燥システム。
- 前記ロボットハンドが、複数の平板状物を同時に把持するための把持部を有するものであることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の平板状物の乾燥システム。
- 前記ロボットハンドが、前記平板状物を把持する際に該平板状物の周辺部を吸引するための孔を有するものであることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか一項に記載の平板状物の乾燥システム。
- 前記給気ダクトが、前記乾燥ステージの上方からもクリーンエアを吹き付けるものであることを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか一項に記載の平板状物の乾燥システム。
- 前記給気ダクトが、固定されているものであることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか一項に記載の平板状物の乾燥システム。
- 前記給気ダクトが、前記ロボットハンドに連結され、該ロボットハンドとともに動くものであることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか一項に記載の平板状物の乾燥システム。
- 前記乾燥ステージが、前記ロボットハンドで把持された前記複数の平板状物の下部を同時に吸引乾燥するために個々の平板状物に対する吸引口を有するものであることを特徴とする請求項3ないし請求項7のいずれか一項に記載の平板状物の乾燥システム。
- 前記乾燥ステージが、少なくとも、前記ロボットハンドで把持された平板状物の下部が接触することなく収容される溝を有し、該溝の底部に吸引口が形成されているものであることを特徴とする請求項1ないし請求項8のいずれか一項に記載の平板状物の乾燥システム。
- 平板状物を純水でリンスした後に該平板状物を乾燥させる方法であって、前記請求項1ないし請求項9のいずれか一項に記載の平板状物の乾燥システムを用い、少なくとも、前記水槽において平板状物を立てた状態で純水でリンスする工程と、前記水槽から純水を排出するとともに前記平板状物に対して前記給気ダクトからクリーンエアを吹き付けることにより、少なくとも前記平板状物の把持する部分を乾燥させる工程と、前記ロボットハンドにより前記水槽内の純水と接触することなく前記平板状物の周辺部を把持して該平板状物を前記乾燥ステージに搬送する工程と、前記ロボットハンドで把持された前記平板状物の下部を前記乾燥ステージに接触させることなく吸引乾燥する工程を含むことを特徴とする平板状物の乾燥方法。
- 平板状物を純水でリンスした後に該平板状物を乾燥させる方法であって、少なくとも、水槽内において平板状物を立てた状態で純水でリンスする工程と、前記水槽から純水を排出するとともに前記平板状物に対して上方からクリーンエアを吹き付けることにより、少なくとも前記平板状物の把持する部分を乾燥させる工程と、ロボットハンドにより前記水槽内の純水と接触することなく前記平板状物の周辺部を把持し、該平板状物を乾燥ステージに搬送する工程と、前記ロボットハンドで把持された前記平板状物の下部を前記乾燥ステージに接触させることなく吸引乾燥する工程を含むことを特徴とする平板状物の乾燥方法。
- 前記ロボットハンドにより前記平板状物の周辺部を把持する際、前記水槽内の水面の低下に追従して、前記ロボットハンドを下降させることを特徴とする請求項10又は請求項11に記載の平板状物の乾燥方法。
- 前記ロボットハンドにより前記平板状物の周辺部を把持する際、前記ロボットハンドに設けた前記平板状物の周辺部を吸引するための孔で吸引しながら該平板状物の周辺部を把持することを特徴とする請求項10ないし請求項12のいずれか一項に記載の平板状物の乾燥方法。
- 前記水槽から純水を排出することにより前記平板状物の全体が前記純水から出る前に、前記ロボットハンドにより該平板状物の周辺部を把持することを特徴とする請求項10ないし請求項13のいずれか一項に記載の平板状物の乾燥方法。
- 前記乾燥ステージで前記平板状物の下部を吸引乾燥する際、前記ロボットハンドで把持された平板状物の最下部を、前記乾燥ステージの吸引口に0.5mm〜1.5mmまで近づけて吸引乾燥することを特徴とする請求項10ないし請求項14のいずれか一項に記載の平板状物の乾燥方法。
- 前記平板状物として、半導体ウエーハを乾燥させることを特徴とする請求項10ないし請求項15のいずれか一項に記載の平板状物の乾燥方法。
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