JP4456020B2 - スペクトル処理による発光分光による気体種の検出 - Google Patents
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- G01N21/68—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light electrically excited, e.g. electroluminescence using high frequency electric fields
Description
2 真空管
3 分岐励起筐体
4 プラズマ
5 励磁器アンテナ
6 発電機
7 光ファイバ
8 光学的分光計
9 ライン
10 コンピュータ
11 中央ユニット
12 入出力手段
13 表示手段
14 メモリ
14a プログラムゾーン
14b ライブラリゾーン
14c 測定メモリゾーン
14d 結果メモリゾーン
20 測定システム
Claims (11)
- 分析対象の気体混合物に存在するプラズマ(4)によって放射される光線を利用し、測定システム(20)を使用して、プラズマ(4)によって放射された前記光線の生の光スペクトルを採取し、生の光スペクトルを基準光スペクトルのライブラリと比較する、発光分光によって混合物中の気体種を検出する方法であって、該方法は、剪定光スペクトルを生成するステップを含み、該剪定光スペクトルを生成するステップは、生の光スペクトルにおいて、所定の形状基準に対応する有効形状を示すスペクトルのゾーンのみを利用することからなり、続いて前記剪定スペクトルを基準光スペクトルのライブラリと比較し、
所定の形状基準は、光線の振幅が生の光スペクトルにおける波長の関数として変化する変化率が、所定の変化率の閾値より大きいものであり、
最大振幅値および対応する波長値が、振幅の変化率が所定の変化率の閾値より大きくなる生の光スペクトルのゾーンからの剪定光スペクトルから取得される、方法。 - 監視される各気体種に対して少なくとも1つの基準光スペクトルを含む基準光スペクトルのライブラリを確立する前ステップを含み、前記基準光スペクトルは、混合物中の気体種を検出するのに使用される前記測定システム(20)を使用して監視される気体種のスペクトル分析によって得られ、基準光スペクトルの前記ライブラリを剪定光スペクトルとの比較に使用する請求項1に記載の方法。
- 各基準光スペクトルを確立することは、基準光スペクトルを剪定するステップを含み、該基準光スペクトルを剪定するステップを通じて、振幅の変化率が前記基準光スペクトルにおける所定の変化率の閾値より大きい基準光スペクトルのゾーンにおける剪定基準光スペクトルに位置する最大振幅値および対応する波長値を利用する請求項2に記載の方法。
- 監視する気体種に対応するスペクトルの部分を剪定光スペクトルから抽出し、前記気体種の剪定光スペクトルの平均強度値を計算し、該平均強度値の経時変化を特定して、記憶するかまたは表示する請求項1に記載の方法。
- 検出対象の気体種を、分析対象の気体混合物が流れる1つの機器の動作状態を表すように選択し、前記選択された気体種の変化をリアルタイムで監視し、前記変化を基準変化データと比較し、基準変化データからずれていれば警告または制御信号を生成する請求項1に記載の方法。
- 分析対象の気体混合物を扱う処理の進行の状態を表す検出対象の気体種を選択し、前記選択された気体種の変化をリアルタイムで監視し、前記変化を該処理に対する基準変化データと比較し、処理に対する基準変化データからずれていれば警告または制御信号を生成する請求項1に記載の方法。
- 検出されるパージガスによって筐体のパージの進行の状態を表す検出対象の気体種を選択し、前記選択された気体種のリアルタイムの変化を監視し、前記変化をパージに対する基準変化データと比較し、パージに対する変化データがパージの終了を示す状態に達したときに警告または制御信号を生成する請求項1に記載の方法。
- 気体混合物は、その純度が監視される気体であり、監視されている気体に対応する剪定スペクトルの平均値を、混合物中に存在する他の気体種に対する剪定スペクトルの平均値と比較する請求項1に記載の方法。
- 整備されているチャンバの整備の状態を表す気体種を選択し、整備されている前記チャンバにおける前記選択された気体種の変化をリアルタイムで監視し、前記変化をチャンバ整備に対する基準変化データと比較し、前記選択された気体種に対するデータが、チャンバ整備の終了を示す状態に達したときに警告または制御信号を生成する請求項1に記載の方法。
- 請求項1に記載の方法を実施するための装置であって、
検査対象の気体混合物にプラズマ(4)を生成するためのプラズマ源(3、5、6)と、
プラズマ(4)によって放射される光線をピックアップし、光学的分光計(8)に伝送する手段(7)と、
光学的分光計(8)によって出される信号を分析するためのコンピュータ(10)とを備え、
コンピュータ(10)は、中央ユニット(11)と、プログラムメモリ(14a)に記録されたプログラムとを備え、
前記プログラムは、前記方法を実施するための一連の命令を含む装置。 - コンピュータ(10)のメモリ(14)は、分析される気体種の基準光スペクトルを含むライブラリゾーン(14b)を含む請求項10に記載の装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR0450354A FR2866954B1 (fr) | 2004-02-26 | 2004-02-26 | Detection d'especes gazeuses par spectroscopie d'emission optique a traitement de spectre |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005241646A JP2005241646A (ja) | 2005-09-08 |
JP4456020B2 true JP4456020B2 (ja) | 2010-04-28 |
Family
ID=34746545
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005048406A Expired - Fee Related JP4456020B2 (ja) | 2004-02-26 | 2005-02-24 | スペクトル処理による発光分光による気体種の検出 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7468790B2 (ja) |
EP (1) | EP1568988A1 (ja) |
JP (1) | JP4456020B2 (ja) |
FR (1) | FR2866954B1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102004061269A1 (de) * | 2004-12-10 | 2006-06-14 | Siemens Ag | Verfahren zum Reinigen eines Werkstückes mit Halogenionen |
CN100460858C (zh) * | 2005-12-13 | 2009-02-11 | 上海神开石油化工装备股份有限公司 | 钻井液中含油气在线光谱测定方法 |
US9997325B2 (en) | 2008-07-17 | 2018-06-12 | Verity Instruments, Inc. | Electron beam exciter for use in chemical analysis in processing systems |
GB2517706B (en) * | 2013-08-28 | 2016-03-09 | Thermo Electron Mfg Ltd | Background correction in emission spectra |
JP6643202B2 (ja) * | 2016-07-21 | 2020-02-12 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置及びプラズマ処理データを解析する解析方法 |
WO2019126687A1 (en) * | 2017-12-21 | 2019-06-27 | Rutgers, The State University Of New Jersey | Optogalvanic effect detection system |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3836255A (en) * | 1972-04-06 | 1974-09-17 | M Schuman | Spectrometric substance analyzer employing temperature modulation |
US5014217A (en) * | 1989-02-09 | 1991-05-07 | S C Technology, Inc. | Apparatus and method for automatically identifying chemical species within a plasma reactor environment |
US5347460A (en) * | 1992-08-25 | 1994-09-13 | International Business Machines Corporation | Method and system employing optical emission spectroscopy for monitoring and controlling semiconductor fabrication |
US5546322A (en) | 1994-04-12 | 1996-08-13 | International Business Machines Corporation | Method and system for analyzing plasma data |
US5715053A (en) | 1995-10-23 | 1998-02-03 | Loge; Gary W. | Method for determining the concentration of atomic species in gases and solids |
US5658423A (en) * | 1995-11-27 | 1997-08-19 | International Business Machines Corporation | Monitoring and controlling plasma processes via optical emission using principal component analysis |
US5706082A (en) * | 1996-05-14 | 1998-01-06 | Alimenterics Inc. | Optogalvanic spectroscopy with phase independent detection |
US6157867A (en) * | 1998-02-27 | 2000-12-05 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Method and system for on-line monitoring plasma chamber condition by comparing intensity of certain wavelength |
US6046796A (en) * | 1998-04-22 | 2000-04-04 | Advanced Micro Devices, Inc. | Methodology for improved semiconductor process monitoring using optical emission spectroscopy |
US6101971A (en) * | 1998-05-13 | 2000-08-15 | Axcelis Technologies, Inc. | Ion implantation control using charge collection, optical emission spectroscopy and mass analysis |
GB0029218D0 (en) * | 2000-11-30 | 2001-01-17 | Univ Ulster | Improvements relating to gas discharge spectroscopy |
-
2004
- 2004-02-26 FR FR0450354A patent/FR2866954B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-02-15 EP EP05290331A patent/EP1568988A1/fr not_active Withdrawn
- 2005-02-24 US US11/064,483 patent/US7468790B2/en active Active
- 2005-02-24 JP JP2005048406A patent/JP4456020B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005241646A (ja) | 2005-09-08 |
FR2866954B1 (fr) | 2006-07-14 |
US20050190363A1 (en) | 2005-09-01 |
US7468790B2 (en) | 2008-12-23 |
FR2866954A1 (fr) | 2005-09-02 |
EP1568988A1 (fr) | 2005-08-31 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A602 | Written permission of extension of time |
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A521 | Request for written amendment filed |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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