JP4453827B2 - Organoxysilane compound having siloxane bond and method for producing the same - Google Patents

Organoxysilane compound having siloxane bond and method for producing the same Download PDF

Info

Publication number
JP4453827B2
JP4453827B2 JP2004297345A JP2004297345A JP4453827B2 JP 4453827 B2 JP4453827 B2 JP 4453827B2 JP 2004297345 A JP2004297345 A JP 2004297345A JP 2004297345 A JP2004297345 A JP 2004297345A JP 4453827 B2 JP4453827 B2 JP 4453827B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
general formula
siloxane bond
same
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2004297345A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2006111533A (en
Inventor
洋一 殿村
透 久保田
克浩 上原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2004297345A priority Critical patent/JP4453827B2/en
Publication of JP2006111533A publication Critical patent/JP2006111533A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4453827B2 publication Critical patent/JP4453827B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、ガラスや金属表面の撥水処理剤、高分子変性剤、シリル化剤等として有用なシロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to an organoxysilane compound having a siloxane bond that is useful as a water-repellent treatment agent for glass or metal surfaces, a polymer modifier, a silylating agent, and the like, and a method for producing the same.

ガラスや金属表面を有機ケイ素化合物で処理し、それぞれの表面に撥水性を付与することは公知である。従来、撥水処理剤としては、例えば特公昭50−15473号公報(特許文献1)、特公昭63−67828号公報(特許文献2)記載のアルキルポリシロキサン化合物が用いられてきた。しかしながら、上記のアルキルポリシロキサン化合物を用いた場合は撥水性は充分でなく(水滴の接触角が小さい、転落角の値が大きい、即ち水滴が滑りにくい)、また耐候性、持続性に劣るという問題点がある。   It is known that glass or metal surfaces are treated with an organosilicon compound to impart water repellency to each surface. Conventionally, as the water repellent treatment agent, for example, alkylpolysiloxane compounds described in JP-B-50-15473 (Patent Document 1) and JP-B-63-67828 (Patent Document 2) have been used. However, when the above alkylpolysiloxane compound is used, the water repellency is not sufficient (the contact angle of the water droplet is small, the value of the falling angle is large, that is, the water droplet is difficult to slip), and the weather resistance and durability are inferior. There is a problem.

耐候性、持続性を改良した撥水処理剤として、「シリコーンハンドブック」(日刊工業新聞社、伊藤邦雄著)p.79,9行目〜p.80,5行目に記載のアルキルオルガノキシシラン化合物、フルオロアルキルオルガノキシシラン化合物が例示される。これらの化合物は、オルガノキシシラン化合物を部分加水分解縮合させたものを撥水処理剤として用いるため、ガラス等の表面の水酸基と共有結合を用いて強固に結合することができ、耐候性、持続性が改良されている。   As a water repellent treatment agent with improved weather resistance and durability, “Silicone Handbook” (by Nikkan Kogyo Shimbun, Kunio Ito) p. 79, 9th line-p. Examples thereof include the alkylorganoxysilane compounds and fluoroalkylorganoxysilane compounds described in the 80th and 5th lines. Since these compounds are obtained by partially hydrolyzing and condensing organoxysilane compounds as water repellent treatment agents, they can be strongly bonded to hydroxyl groups on the surface of glass or the like using covalent bonds, and are resistant to weathering and sustained. Has been improved.

しかしながら、アルキルオルガノキシシラン化合物を用いた場合、上記の撥水性(接触角、転落角)については依然充分ではなかった。また、フルオロアルキルオルガノキシシラン化合物に関しては、撥水性は改良されているものの、高価であり、また一般の溶剤に不溶であるため、撥水剤として使用する際の溶剤として高価で特殊なフッ素系溶剤を用いなければならず、高コスト、環境への負荷がかかるという問題点がある。   However, when an alkylorganoxysilane compound is used, the above water repellency (contact angle, sliding angle) is still not sufficient. In addition, although the water repellency of the fluoroalkylorganoxysilane compound is improved, it is expensive and insoluble in general solvents, so it is an expensive and special fluorine-based solvent as a water repellent. There is a problem that a solvent must be used, which is expensive and burdens the environment.

特公昭50−15473号公報Japanese Patent Publication No. 50-15473 特公昭63−67828号公報Japanese Patent Publication No. 63-67828 「シリコーンハンドブック」日刊工業新聞社、伊藤邦雄著、p.79,9行目〜p.80,5行目“Silicone Handbook”, Nikkan Kogyo Shimbun, Kunio Ito, p. 79, 9th line-p. 80, 5th line

本発明は上記事情に鑑みなされたもので、耐候性、持続性を有し、一般の溶剤に可溶であり、高い撥水性を付与することのできるシロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物及びその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, an organoxysilane compound having a siloxane bond that has weather resistance and durability, is soluble in general solvents, and can impart high water repellency, and the production thereof It aims to provide a method.

本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、下記一般式(1)
(R1nSi{OSi(CH3m(OR23-m4-n (1)
(式中、R1は同一又は異なる炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、少なくとも1つは炭素数3〜10の分岐状のアルキル基、R2は炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、mは0又は1、nは1、2又は3である。)
で示されるシロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物が、一般の溶剤に可溶であり、ガラスや金属表面の撥水処理剤として用いた時に、耐候性、持続性に優れ、且つより高い撥水性を付与することができること、またこの新規化合物がシロキサンを導入することのできる高分子変性剤やシリル化剤としても有用であることを知見し、本発明を完成するに至ったものである。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has found that the following general formula (1)
(R 1) n Si {OSi (CH 3) m (OR 2) 3-m} 4-n (1)
Wherein R 1 is the same or different monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, at least one is a branched alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and R 2 is 1 having 1 to 10 carbon atoms. Valent hydrocarbon group, m is 0 or 1 , and n is 1, 2 or 3.)
The organoxysilane compound having a siloxane bond represented by is soluble in a general solvent and has excellent weather resistance and durability when used as a water-repellent treatment agent for glass and metal surfaces, and has higher water repellency. It has been found that the compound can be imparted, and that the novel compound is also useful as a polymer modifier or silylating agent capable of introducing siloxane, and the present invention has been completed.

従って、本発明は下記シラン化合物及びその製造方法を提供する。
[I] 下記一般式(1)
(R1nSi{OSi(CH3m(OR23-m4-n (1)
(式中、R1は同一又は異なる炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、少なくとも1つは炭素数3〜10の分岐状のアルキル基、R2は炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、mは0又は1、nは1、2又は3である。)
で示されるシロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物。
[II] 前記分岐状のアルキル基が、イソプロピル基、イソブチル基、t−ブチル基及びテキシル基から選ばれるものである[I]のシロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物。
III] 一般式(1)で示されるシロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物が、t−ブチルジメチルシロキシトリメトキシシラン、t−ブチルジメチルシロキシトリエトキシシラン、トリイソプロピルシロキシトリメトキシシラン、又はトリイソプロピルシロキシトリエトキシシランである[I]又は[II]のシロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物。
IV] 下記一般式(2)
(R1nSi(OH)4-n (2)
(式中R1、nは上記と同様である。)
で示されるシラノール化合物と、下記一般式(3)

Figure 0004453827
(式中、R2、mは上記と同様であり、R3、R4は水素原子又は炭素数1〜10の1価炭化水素基、R5は炭素数1〜10の1価炭化水素基である。)
で示されるシリルケテンアセタール化合物とを酸触媒存在下に反応させることを特徴とする[I]のシロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物の製造方法。
] 下記一般式(2)
(R1nSi(OH)4-n (2)
(式中R1、nは上記と同様である。)
で示されるシラノール化合物と、下記一般式(4)
Si(CH3m(OR24-m (4)
(式中、R2、mは上記と同様である。)
で示されるオルガノキシシラン化合物とを触媒存在下に反応させることを特徴とする[I]のシロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物の製造方法。 Accordingly, the present invention provides the following silane compound and a method for producing the same.
[I] The following general formula (1)
(R 1) n Si {OSi (CH 3) m (OR 2) 3-m} 4-n (1)
Wherein R 1 is the same or different monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, at least one is a branched alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and R 2 is 1 having 1 to 10 carbon atoms. Valent hydrocarbon group, m is 0 or 1 , and n is 1, 2 or 3.)
An organoxysilane compound having a siloxane bond represented by
[II] The organoxysilane compound having a siloxane bond according to [I], wherein the branched alkyl group is selected from an isopropyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, and a texyl group.
[ III ] The organoxysilane compound having a siloxane bond represented by the general formula (1) is t-butyldimethylsiloxytrimethoxysilane, t-butyldimethylsiloxytriethoxysilane, triisopropylsiloxytrimethoxysilane, or triisopropylsiloxy. An organoxysilane compound having a siloxane bond of [I] or [II] which is triethoxysilane.
[ IV ] The following general formula (2)
(R 1 ) n Si (OH) 4-n (2)
(Wherein R 1 and n are the same as described above.)
And a silanol compound represented by the following general formula (3)
Figure 0004453827
(Wherein R 2 and m are the same as above, R 3 and R 4 are hydrogen atoms or monovalent hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and R 5 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. .)
A process for producing an organoxysilane compound having a siloxane bond according to [I], wherein the silyl ketene acetal compound represented by formula (I) is reacted in the presence of an acid catalyst.
[ V ] The following general formula (2)
(R 1 ) n Si (OH) 4-n (2)
(Wherein R 1 and n are the same as described above.)
And the following general formula (4)
Si (CH 3 ) m (OR 2 ) 4-m (4)
(In the formula, R 2 and m are the same as above.)
A process for producing an organoxysilane compound having a siloxane bond according to [I], wherein the organoxysilane compound represented by formula (I) is reacted in the presence of a catalyst.

本発明によれば、シロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物を撥水処理剤として用いると、従来の撥水処理剤に比べ、耐候性、持続性に優れ、より高い撥水性を付与することができる。また、この新規化合物は、シロキサンを導入することのできる高分子変性剤やシリル化剤としても有用である。   According to the present invention, when an organoxysilane compound having a siloxane bond is used as a water repellent treatment agent, it is superior in weather resistance and sustainability compared with conventional water repellent treatment agents, and can impart higher water repellency. . This novel compound is also useful as a polymer modifier or silylating agent capable of introducing siloxane.

本発明の化合物は、下記一般式(1)で示されるオルガノキシシラン化合物である。
(R1nSi{OSi(CH3m(OR23-m4-n (1)
(式中、R1は同一又は異なる炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、少なくとも1つは炭素数3〜10の分岐状のアルキル基、R2は炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、mは0又は1、nは1、2又は3である。)
The compound of the present invention is an organoxysilane compound represented by the following general formula (1).
(R 1) n Si {OSi (CH 3) m (OR 2) 3-m} 4-n (1)
Wherein R 1 is the same or different monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, at least one is a branched alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and R 2 is 1 having 1 to 10 carbon atoms. Valent hydrocarbon group, m is 0 or 1 , and n is 1, 2 or 3.)

この場合、上記一般式(1)のR1、R2の1価炭化水素基は、直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられるが、R1がすべて炭素数2以下の1価炭化水素基であると、撥水性が劣るため好ましくない。 In this case, examples of the monovalent hydrocarbon group represented by R 1 and R 2 in the general formula (1) include linear, branched or cyclic alkyl groups, alkenyl groups, aryl groups, aralkyl groups, and the like. If 1 is a monovalent hydrocarbon group having 2 or less carbon atoms, the water repellency is inferior.

アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、テキシル基、オクチル基、デシル基、ノルボルニル基等が挙げられる。
アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、シクロヘキセニル基、ノルボニル基等が挙げられる。
アリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基等が挙げられる。
アラルキル基としては、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基等が挙げられる。
As the alkyl group, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, t-butyl group, pentyl group, cyclopentyl group, hexyl group, cyclohexyl group, texyl group, octyl group, decyl group, norbornyl Groups and the like.
Examples of the alkenyl group include a vinyl group, an allyl group, a propenyl group, a butenyl group, a hexenyl group, a cyclohexenyl group, and a norbornyl group.
Examples of the aryl group include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, and a naphthyl group.
Examples of the aralkyl group include a benzyl group, a phenylethyl group, and a phenylpropyl group.

なお、R2としては、特にアルキル基、とりわけ1〜6、更に好ましくは1〜4のアルキル基であることが好ましい。 R 2 is particularly preferably an alkyl group, particularly 1 to 6, more preferably 1 to 4.

本発明のオルガノキシシラン化合物は、具体的にはイソプロピルジメチルシロキシトリメトキシシラン、イソプロピルジメチルシロキシメチルジメトキシシラン、イソブチルジメチルシロキシトリメトキシシラン、イソブチルジメチルシロキシメチルジメトキシシラン、t−ブチルジメチルシロキシトリメトキシシラン、t−ブチルジメチルシロキシメチルジメトキシシラン、トリイソプロピルシロキシトリメトキシシラン、トリイソプロピルシロキシメチルジメトキシシラン、テキシルジメチルシロキシトリメトキシシラン、テキシルジメチルシロキシメチルジメトキシシラン、t−ブチルジフェニルシロキシトリメトキシシラン、t−ブチルジフェニルシロキシメチルジメトキシシラン、t−ブチルメチルビス(トリメトキシシロキシ)シラン、t−ブチルメチルビス(メチルジメトキシシロキシ)シラン、テキシルメチルビス(トリメトキシシロキシ)シラン、テキシルメチルビス(メチルジメトキシシロキシ)シラン、t−ブチルトリス(トリメトキシシロキシ)シラン、t−ブチルトリス(メチルジメトキシシロキシ)シラン、テキシルトリス(トリメトキシシロキシ)シラン、テキシルトリス(メチルジメトキシシロキシ)シラン、イソプロピルジメチルシロキシトリエトキシシラン、イソプロピルジメチルシロキシメチルジエトキシシラン、イソブチルジメチルシロキシトリエトキシシラン、イソブチルジメチルシロキシメチルジエトキシシラン、t−ブチルジメチルシロキシトリエトキシシラン、t−ブチルジメチルシロキシメチルジエトキシシラン、トリイソプロピルシロキシトリエトキシシラン、トリイソプロピルシロキシメチルジエトキシシラン、テキシルジメチルシロキシトリエトキシシラン、テキシルジメチルシロキシメチルジエトキシシラン、t−ブチルジフェニルシロキシトリエトキシシラン、t−ブチルジフェニルシロキシメチルジエトキシシラン、t−ブチルメチルビス(トリエトキシシロキシ)シラン、t−ブチルメチルビス(メチルジエトキシシロキシ)シラン、テキシルメチルビス(トリエトキシシロキシ)シラン、テキシルメチルビス(メチルジエトキシシロキシ)シラン、t−ブチルトリス(トリエトキシシロキシ)シラン、t−ブチルトリス(メチルジエトキシシロキシ)シラン、テキシルトリス(トリエトキシシロキシ)シラン、テキシルトリス(メチルジエトキシシロキシ)シランであり、好ましくは上記化合物のうち、R1がすべて炭素数3以上、及び/又はR1の少なくとも1つは分岐状のアルキル基である化合物であり、より好ましくはt−ブチルジメチルシロキシトリメトキシシラン、t−ブチルジメチルシロキシトリエトキシシラン、トリイソプロピルシロキシトリメトキシシラン、トリイソプロピルシロキシトリエトキシシランである。 Organoxysilane compound of the present invention specifically with isopropyl dimethylsiloxy trimethoxy silane, isopropyl dimethylsiloxy methyl dimethoxy silane, Lee Seo butyldimethylsiloxy trimethoxysilane, isobutyl butyldimethylsiloxymethyl dimethoxysilane, t - butyl dimethylsiloxy trimethoxysilane, t- butyl dimethylsiloxy methyl dimethoxy silane, Application Benefits isopropyl siloxy trimethoxy silane, triisopropylsiloxy methyl dimethoxy silane, Te hexyl dimethylsiloxy trimethoxysilane, thexyldimethylsilyl dimethylsiloxy methyl dimethoxysilane, t - butyldiphenylsiloxy tri silane, t- butyl butyldiphenylsiloxy methyl dimethoxysilane, t - butyl methyl bis (trimethoxysiloxy Silane, t- butyl methyl bis (methyl-dimethoxy) silane, Te hexyl methyl bis (trimethoxy) silane, thexyl methyl bis (methyl-dimethoxy) silane, t - Buchirutorisu (trimethoxy) silane, t-Buchirutorisu ( methyl dimethoxy) silane, Te Kishirutorisu (trimethoxy) silane, Tekishirutorisu (methyl dimethoxy) silane, with isopropyl dimethylsiloxy triethoxysilane, isopropyl dimethylsiloxy methyl diethoxy silane, Lee Seo butyldimethylsiloxy triethoxysilane, isobutyl dimethylsiloxy methyl diethoxy silane, t - butyl dimethylsiloxy triethoxysilane, t- butyl dimethylsiloxy methyl diethoxy silane, preparative Riiso Propyl siloxy triethoxysilane, triisopropylsiloxy methyl diethoxy silane, Te hexyl dimethylsiloxy triethoxysilane, thexyldimethylsilyl dimethylsiloxy methyl diethoxy silane, t - butyldiphenylsiloxy triethoxysilane, t- butyl butyldiphenylsiloxy methyl diethoxy silane, t - butyl methyl bis (triethoxy siloxy) silane, t- butyl methyl bis (methyl diethoxy) silane, Te hexyl methyl bis (triethoxy siloxy) silane, thexyl methyl bis (methyl diethoxy) silane, t - Buchirutorisu (triethoxy) silane, t-Buchirutorisu (methyl diethoxy) silane, Te Kishirutorisu (triethoxy) silane, Tekishirutorisu (Mechirujietoki Siloxy) and Sila down, preferably of the above compounds, R 1 is any 3 or more carbon atoms, and / or at least one of R 1 is a compound which is branched alkyl group, more preferably t- butyl Dimethylsiloxytrimethoxysilane, t-butyldimethylsiloxytriethoxysilane, triisopropylsiloxytrimethoxysilane, and triisopropylsiloxytriethoxysilane.

また、本発明における上記一般式(1)で示されるオルガノキシシラン化合物の製造法は、例えば下記一般式(2)
(R1nSi(OH)4-n (2)
(式中、R1、nは上記と同様である。)
で示されるシラノール化合物と、下記一般式(3)

Figure 0004453827
(式中、R2、mは上記と同様、R3、R4は水素原子又は炭素数1〜10の1価炭化水素基、R5は炭素数1〜10の1価炭化水素基である。)
で示されるシリルケテンアセタール化合物とを酸触媒存在下に反応させる方法が例示される。
ここで、R3〜R5の1価炭化水素基としては、R1、R2と同様のものが例示される。 Moreover, the manufacturing method of the organoxysilane compound shown by the said General formula (1) in this invention is the following General formula (2), for example.
(R 1 ) n Si (OH) 4-n (2)
(In the formula, R 1 and n are the same as above.)
And a silanol compound represented by the following general formula (3)
Figure 0004453827
(Wherein R 2 and m are the same as above, R 3 and R 4 are a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and R 5 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. .)
The method of making it react with the silyl ketene acetal compound shown by the presence of an acid catalyst is illustrated.
Here, examples of the monovalent hydrocarbon group represented by R 3 to R 5 include the same groups as R 1 and R 2 .

上記一般式(2)で示されるシラノール化合物としては、具体的にはイソプロピルジメチルシラノール、イソブチルジメチルシラノール、t−ブチルジメチルシラノール、トリイソプロピルシラノール、テキシルジメチルシラノール、t−ブチルジフェニルシラノール、t−ブチルメチルジシラノール、テキシルメチルジシラノール、t−ブチルトリシラノール、テキシルトリシラノール等が例示される。 The silanol compound represented by the general formula (2), in particular with isopropyl dimethylsilanol, Lee Seo-butyldimethylsilanol, t - butyl dimethyl silanol, triisopropyl silanol, thexyldimethylsilyl silanol, t - butyl diphenyl silanol , t - butyl methyl disilanol, thexyldimethylsilyl methyl disilanol, t- butyl trisilanol, thexyldimethylsilyl tri silanol Lumpur like.

また、上記反応で用いられる上記一般式(3)で示されるシリルケテンアセタール化合物は、特許第3009327号公報記載の不飽和カルボン酸エステルとハイドロジェンシラン化合物との反応により製造することができる。   Moreover, the silyl ketene acetal compound shown by the said General formula (3) used by the said reaction can be manufactured by reaction of the unsaturated carboxylic acid ester and hydrogen silane compound of patent 3009327 gazette.

このシリルケテンアセタール化合物としては、具体的には1−トリメトキシシロキシ−1−メトキシ−1−プロペン、1−メチルジメトキシシロキシ−1−メトキシ−1−プロペン、1−トリメトキシシロキシ−1−エトキシ−1−プロペン、1−メチルジメトキシシロキシ−1−エトキシ−1−プロペン、1−トリメトキシシロキシ−1−ブトキシ−1−プロペン、1−メチルジメトキシシロキシ−1−ブトキシ−1−プロペン、1−トリメトキシシロキシ−1−(2−エチル−1−ヘキシロキシ)−1−プロペン、1−メチルジメトキシシロキシ−1−(2−エチル−1−ヘキシロキシ)−1−プロペン、1−トリエトキシシロキシ−1−メトキシ−1−プロペン、1−メチルジエトキシシロキシ−1−メトキシ−1−プロペン、1−トリエトキシシロキシ−1−エトキシ−1−プロペン、1−メチルジエトキシシロキシ−1−エトキシ−1−プロペン、1−トリエトキシシロキシ−1−ブトキシ−1−プロペン、1−メチルジエトキシシロキシ−1−ブトキシ−1−プロペン、1−トリエトキシシロキシ−1−(2−エチル−1−ヘキシロキシ)−1−プロペン、1−メチルジエトキシシロキシ−1−(2−エチル−1−ヘキシロキシ)−1−プロペン等が例示される。 Specific examples of the silyl ketene acetal compound include 1-trimethoxysiloxy-1-methoxy-1-propene, 1-methyldimethoxysiloxy-1-methoxy-1-propene , and 1 -trimethoxysiloxy-1-ethoxy- 1-propene, 1-methyldimethoxysiloxy-1-ethoxy-1-propene , 1 -trimethoxysiloxy-1-butoxy-1-propene, 1-methyldimethoxysiloxy-1-butoxy-1-propene , 1 -trimethoxy Siloxy-1- (2-ethyl-1-hexyloxy) -1-propene, 1-methyldimethoxysiloxy-1- (2-ethyl-1-hexyloxy) -1-propene , 1 -triethoxysiloxy-1-methoxy- 1-propene, 1-diethoxy-siloxy-1-methoxy-1-propene, 1 Triethoxysiloxy-1-ethoxy-1-propene, 1-diethoxy-siloxy-1-ethoxy-1-propene, 1 - triethoxysiloxy-1-butoxy-1-propene, 1-diethoxy-siloxy-1 Butoxy-1-propene , 1 -triethoxysiloxy-1- (2-ethyl-1-hexyloxy) -1-propene, 1-methyldiethoxysiloxy-1- (2-ethyl-1-hexyloxy) -1-prop Are exemplified.

上記一般式(2)で示されるシラノール化合物と、上記一般式(3)で示されるシリルケテンアセタール化合物との配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、シラノール化合物1モルに対しシリルケテンアセタール化合物0.5〜2モル、特に0.8〜1.2モルの範囲が好ましい。   The compounding ratio of the silanol compound represented by the general formula (2) and the silyl ketene acetal compound represented by the general formula (3) is not particularly limited, but from the viewpoint of reactivity and productivity, 1 mol of the silanol compound is used. On the other hand, a range of 0.5 to 2 mol, particularly 0.8 to 1.2 mol, of the silyl ketene acetal compound is preferable.

また、上記反応で用いられる酸触媒としては、具体的には塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等が例示される。   Specific examples of the acid catalyst used in the above reaction include hydrochloric acid, sulfuric acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, and trifluoroacetic acid.

酸触媒の使用量は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、シラノール化合物のシラノール基1モルに対し、0.0001〜0.1モル、特に0.001〜0.05モルの範囲が好ましい。   Although the usage-amount of an acid catalyst is not specifically limited, From the point of reactivity and productivity, the range of 0.0001-0.1 mol, especially 0.001-0.05 mol with respect to 1 mol of silanol groups of a silanol compound. Is preferred.

上記反応の反応温度は特に限定されないが、0〜120℃、特に10〜100℃が好ましい。   Although the reaction temperature of the said reaction is not specifically limited, 0-120 degreeC, Especially 10-100 degreeC is preferable.

なお、上記反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒等が例示される。これらの溶媒は単独で使用してもよく、あるいは2種以上を混合して使用してもよい。   In addition, although the said reaction advances even without a solvent, a solvent can also be used. Solvents used include hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, cyclohexane, heptane, isooctane, benzene, toluene and xylene, ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, and ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate. And aprotic polar solvents such as acetonitrile and N, N-dimethylformamide, and chlorinated hydrocarbon solvents such as dichloromethane and chloroform. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

また、本発明における上記一般式(1)で示されるオルガノキシシラン化合物の製造法として、下記一般式(2)
(R1nSi(OH)4-n (2)
(式中、R1、R2、nは上記と同様である。)
で示されるシラノール化合物と、下記一般式(4)
Si(CH3m(OR24-m (4)
(式中、R2、mは上記と同様である。)
で示されるオルガノキシシラン化合物とを触媒存在下に反応させる方法も例示される。
Moreover, as a manufacturing method of the organoxysilane compound shown by the said General formula (1) in this invention, following General formula (2)
(R 1 ) n Si (OH) 4-n (2)
(Wherein R 1 , R 2 and n are the same as above)
And the following general formula (4)
Si (CH 3 ) m (OR 2 ) 4-m (4)
(In the formula, R 2 and m are the same as above.)
A method of reacting an organoxysilane compound represented by the above in the presence of a catalyst is also exemplified.

上記一般式(4)で示されるオルガノキシシラン化合物としては、具体的にはテトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン等が例示される。   Specific examples of the organoxysilane compound represented by the general formula (4) include tetramethoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltriethoxysilane, and dimethyldiethoxysilane. The

上記一般式(2)で示されるシラノール化合物と、上記一般式(4)で示されるオルガノキシシラン化合物との配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、シラノール化合物1モルに対しオルガノキシシラン化合物0.5〜2モル、特に0.8〜1.2モルの範囲が好ましい。   The compounding ratio of the silanol compound represented by the general formula (2) and the organoxysilane compound represented by the general formula (4) is not particularly limited, but from the viewpoint of reactivity and productivity, 1 mol of the silanol compound is used. On the other hand, the range of 0.5 to 2 mol, particularly 0.8 to 1.2 mol of the organoxysilane compound is preferable.

また、上記反応で用いられる触媒としては、具体的には塩酸、硫酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の酸触媒、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド等の塩基触媒等が例示される。   Specific examples of the catalyst used in the above reaction include hydrochloric acid, sulfuric acid, methanesulfonic acid, benzenesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, trifluoroacetic acid and other acid catalysts, sodium methoxide, Examples include base catalysts such as sodium ethoxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, and tetraalkylammonium hydroxide.

触媒の使用量は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、シラノール化合物のシラノール基1モルに対し、0.0001〜0.1モル、特に0.001〜0.05モルの範囲が好ましい。
上記反応の反応温度は特に限定されないが、0〜120℃、特に10〜100℃が好ましい。
The amount of the catalyst used is not particularly limited, but from the viewpoint of reactivity and productivity, the range of 0.0001 to 0.1 mol, particularly 0.001 to 0.05 mol, relative to 1 mol of silanol groups of the silanol compound. preferable.
Although the reaction temperature of the said reaction is not specifically limited, 0-120 degreeC, Especially 10-100 degreeC is preferable.

なお、上記反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒等が例示される。これらの溶媒は単独で使用してもよく、あるいは2種以上を混合して使用してもよい。   In addition, although the said reaction advances even without a solvent, a solvent can also be used. Solvents used include hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, cyclohexane, heptane, isooctane, benzene, toluene and xylene, ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, and ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate. And aprotic polar solvents such as acetonitrile and N, N-dimethylformamide, chlorinated hydrocarbon solvents such as dichloromethane and chloroform, alcohol solvents such as methanol and ethanol, and the like. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

以下、実施例と比較例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example are shown and this invention is demonstrated concretely, this invention is not restrict | limited to the following Example.

[実施例1] t−ブチルジメチルシロキシトリメトキシシラン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、1−トリメトキシシロキシ−1−メトキシ−1−プロペン104.2g(0.5モル)、メタンスルホン酸0.48g(0.005モル)を仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、t−ブチルジメチルシラノール66.2g(0.5モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点83−84℃/2kPaの留分を98.1g得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトルを測定した。
Example 1 t-Butyldimethylsiloxytrimethoxysilane Into a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 104.2 g of 1-trimethoxysiloxy-1-methoxy-1-propene (0.5%) was added. Mol) and 0.48 g (0.005 mol) of methanesulfonic acid were charged and heated to 50 ° C. After the internal temperature was stabilized, 66.2 g (0.5 mol) of t-butyldimethylsilanol was added dropwise over 2 hours and stirred at that temperature for 1 hour. The reaction solution was distilled to obtain 98.1 g of a fraction having a boiling point of 83 to 84 ° C./2 kPa.
A mass spectrum, 1 H-NMR spectrum, and IR spectrum of the obtained fraction were measured.

<質量スペクトル>
m/z 237,195,165,135,119,105
1H−NMRスペクトル(重クロロホルム溶媒):図1にチャートで示す。
IRスペクトル:図2にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物はt−ブチルジメチルシロキシトリメトキシシランであることが確認された。
<Mass spectrum>
m / z 237, 195, 165, 135, 119, 105
1 H-NMR spectrum (deuterated chloroform solvent): FIG. 1 shows a chart.
IR spectrum: shown as a chart in FIG.
From the above results, it was confirmed that the obtained compound was t-butyldimethylsiloxytrimethoxysilane.

参考] トリフェニルシロキシトリメトキシシラン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、1−トリメトキシシロキシ−1−メトキシ−1−プロペン104.2g(0.5モル)、メタンスルホン酸0.48g(0.005モル)を仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、トリフェニルシラノール138.2g(0.5モル)のテトラヒドロフラン(138.2g)溶液を2時間かけて滴下し、80℃で7時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点153−155℃/10Paの留分を172.9g得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトルを測定した。
[ Reference Example 1 ] Triphenylsiloxytrimethoxysilane 104.2 g (0.5 mol) of 1-trimethoxysiloxy-1-methoxy-1-propene was added to a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer. Then, 0.48 g (0.005 mol) of methanesulfonic acid was charged and heated to 50 ° C. After the internal temperature was stabilized, a solution of 138.2 g (0.5 mol) of triphenylsilanol in tetrahydrofuran (138.2 g) was added dropwise over 2 hours and stirred at 80 ° C. for 7 hours. The reaction solution was distilled to obtain 172.9 g of a fraction having a boiling point of 153-155 ° C./10 Pa.
A mass spectrum, 1 H-NMR spectrum, and IR spectrum of the obtained fraction were measured.

<質量スペクトル>
m/z 396,319,289,227,181,151
1H−NMRスペクトル(重クロロホルム溶媒):図3にチャートで示す。
IRスペクトル:図4にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物はトリフェニルシロキシトリメトキシシランであることが確認された。
<Mass spectrum>
m / z 396, 319, 289, 227, 181, 151
1 H-NMR spectrum (deuterated chloroform solvent): shown in the chart of FIG.
IR spectrum: shown in the chart of FIG.
From the above results, it was confirmed that the obtained compound was triphenylsiloxytrimethoxysilane.

参考] シクロヘキシルメチルビス(トリメトキシシロキシ)シラン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、1−トリメトキシシロキシ−1−メトキシ−1−プロペン87.5g(0.42モル)、メタンスルホン酸0.38g(0.004モル)を仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、シクロヘキシルメチルジシラノール32.1g(0.2モル)のテトラヒドロフラン(30ml)溶液を2時間かけて滴下し、その温度で3時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点101−103℃/10Paの留分を45.1g得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトルを測定した。
Reference Example 2 Cyclohexylmethylbis (trimethoxysiloxy) silane In a flask equipped with a stirrer, a refluxer, a dropping funnel, and a thermometer, 87.5 g of 1-trimethoxysiloxy-1-methoxy-1-propene (0. 42 mol) and 0.38 g (0.004 mol) of methanesulfonic acid were charged and heated to 50 ° C. After the internal temperature was stabilized, a solution of 32.1 g (0.2 mol) of cyclohexylmethyldisianol in tetrahydrofuran (30 ml) was added dropwise over 2 hours and stirred at that temperature for 3 hours. The reaction solution was distilled to obtain 45.1 g of a fraction having a boiling point of 101-103 ° C./10 Pa.
A mass spectrum, 1 H-NMR spectrum, and IR spectrum of the obtained fraction were measured.

<質量スペクトル>
m/z 385,369,317,241,211,181
1H−NMRスペクトル(重クロロホルム溶媒):図5にチャートで示す。
IRスペクトル:図6にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物はシクロヘキシルメチルビス(トリメトキシシロキシ)シランであることが確認された。
<Mass spectrum>
m / z 385, 369, 317, 241, 211, 181
1 H-NMR spectrum (deuterated chloroform solvent): FIG. 5 shows a chart.
IR spectrum: shown in the chart of FIG.
From the above results, it was confirmed that the obtained compound was cyclohexylmethylbis (trimethoxysiloxy) silane.

[実施例] トリイソプロピルシロキシトリエトキシシラン
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、テトラエトキシシラン218.7g(1.05モル)、21%ナトリウムエトキシドのエタノール溶液3.2g(0.01モル)を仕込み、80℃に加熱した。内温が安定した後、トリイソプロピルシラノール174.4g(1.0モル)を2時間かけて滴下し、その温度で2時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点110℃/0.4kPaの留分を310.2g得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトルを測定した。
[Example 2 ] Triisopropylsiloxytriethoxysilane In a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 218.7 g (1.05 mol) of tetraethoxysilane, ethanol solution 3 of 21% sodium ethoxide 3 .2g (0.01 mol) was charged and heated to 80 ° C. After the internal temperature was stabilized, 174.4 g (1.0 mol) of triisopropylsilanol was added dropwise over 2 hours, followed by stirring at that temperature for 2 hours. The reaction solution was distilled to obtain 310.2 g of a fraction having a boiling point of 110 ° C./0.4 kPa.
A mass spectrum, 1 H-NMR spectrum, and IR spectrum of the obtained fraction were measured.

<質量スペクトル>
m/z 293,249,221,207,193,163
1H−NMRスペクトル(重クロロホルム溶媒):図7にチャートで示す。
IRスペクトル:図8にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物はトリイソプロピルシロキシトリエトキシシランであることが確認された。
<Mass spectrum>
m / z 293,249,221,207,193,163
1 H-NMR spectrum (deuterated chloroform solvent): FIG. 7 shows a chart.
IR spectrum: shown in the chart of FIG.
From the above results, it was confirmed that the obtained compound was triisopropylsiloxytriethoxysilane.

[実施例、比較例1] ガラス表面処理剤としての使用
上記実施例にて合成したシロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物0.1モルを0.2%酢酸水13g、エタノール44gの混合液に添加し、10時間撹拌した溶液に、ガラス板を12時間浸漬し、溶液から引き上げた後、70℃で2時間乾燥した。このようにして表面処理したガラスに水滴を垂らし、その接触角を測定した。
[Examples 3 and 4 and Comparative Example 1] Use as a glass surface treatment agent 0.1 mol of an organoxysilane compound having a siloxane bond synthesized in the above example was mixed with 13 g of 0.2% acetic acid water and 44 g of ethanol. The glass plate was immersed in the solution added to the solution and stirred for 10 hours for 12 hours, pulled up from the solution, and then dried at 70 ° C. for 2 hours. Water drops were dropped on the glass thus surface-treated, and the contact angle was measured.

Figure 0004453827
Figure 0004453827

本発明のシロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物を用いて処理することにより、撥水性が向上したことを示している。   It shows that the water repellency was improved by the treatment with the organoxysilane compound having a siloxane bond of the present invention.

実施例1で得られた化合物の核磁気共鳴スペクトルのチャートである。2 is a nuclear magnetic resonance spectrum chart of the compound obtained in Example 1. FIG. 実施例1で得られた化合物の赤外線吸収スペクトルのチャートである。3 is an infrared absorption spectrum chart of the compound obtained in Example 1. FIG. 参考で得られた化合物の核磁気共鳴スペクトルのチャートである。 2 is a nuclear magnetic resonance spectrum chart of the compound obtained in Reference Example 1. FIG. 参考で得られた化合物の赤外線吸収スペクトルのチャートである。 2 is a chart of an infrared absorption spectrum of the compound obtained in Reference Example 1 . 参考で得られた化合物の核磁気共鳴スペクトルのチャートである。 4 is a chart of nuclear magnetic resonance spectrum of the compound obtained in Reference Example 2 . 参考で得られた化合物の赤外線吸収スペクトルのチャートである。 4 is an infrared absorption spectrum chart of the compound obtained in Reference Example 2. FIG. 実施例で得られた化合物の核磁気共鳴スペクトルのチャートである。 2 is a nuclear magnetic resonance spectrum chart of the compound obtained in Example 2. FIG. 実施例で得られた化合物の赤外線吸収スペクトルのチャートである。3 is an infrared absorption spectrum chart of the compound obtained in Example 2. FIG.

Claims (5)

下記一般式(1)
(R1nSi{OSi(CH3m(OR23-m4-n (1)
(式中、R1は同一又は異なる炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、少なくとも1つは炭素数3〜10の分岐状のアルキル基、R2は炭素数1〜10の1価炭化水素基であり、mは0又は1、nは1、2又は3である。)
で示されるシロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物。
The following general formula (1)
(R 1) n Si {OSi (CH 3) m (OR 2) 3-m} 4-n (1)
Wherein R 1 is the same or different monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, at least one is a branched alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and R 2 is 1 having 1 to 10 carbon atoms. Valent hydrocarbon group, m is 0 or 1 , and n is 1, 2 or 3.)
An organoxysilane compound having a siloxane bond represented by
前記分岐状のアルキル基が、イソプロピル基、イソブチル基、t−ブチル基及びテキシル基から選ばれるものである請求項1記載のシロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物。The organoxysilane compound having a siloxane bond according to claim 1, wherein the branched alkyl group is selected from an isopropyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, and a texyl group. 一般式(1)で示されるシロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物が、t−ブチルジメチルシロキシトリメトキシシラン、t−ブチルジメチルシロキシトリエトキシシラン、トリイソプロピルシロキシトリメトキシシラン、又はトリイソプロピルシロキシトリエトキシシランである請求項1又は2記載のシロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物。 An organoxysilane compound having a siloxane bond represented by the general formula (1) is t-butyldimethylsiloxytrimethoxysilane, t-butyldimethylsiloxytriethoxysilane, triisopropylsiloxytrimethoxysilane, or triisopropylsiloxytriethoxysilane. The organoxysilane compound having a siloxane bond according to claim 1 or 2 . 下記一般式(2)
(R1nSi(OH)4-n (2)
(式中R1、nは上記と同様である。)
で示されるシラノール化合物と、下記一般式(3)
Figure 0004453827
(式中、R2、mは上記と同様であり、R3、R4は水素原子又は炭素数1〜10の1価炭化水素基、R5は炭素数1〜10の1価炭化水素基である。)
で示されるシリルケテンアセタール化合物とを酸触媒存在下に反応させることを特徴とする請求項1記載のシロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物の製造方法。
The following general formula (2)
(R 1 ) n Si (OH) 4-n (2)
(Wherein R 1 and n are the same as described above.)
And a silanol compound represented by the following general formula (3)
Figure 0004453827
(Wherein R 2 and m are the same as above, R 3 and R 4 are hydrogen atoms or monovalent hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, and R 5 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. .)
The method for producing an organoxysilane compound having a siloxane bond according to claim 1, wherein the silyl ketene acetal compound represented by formula (1) is reacted in the presence of an acid catalyst.
下記一般式(2)
(R1nSi(OH)4-n (2)
(式中R1、nは上記と同様である。)
で示されるシラノール化合物と、下記一般式(4)
Si(CH3m(OR24-m (4)
(式中、R2、mは上記と同様である。)
で示されるオルガノキシシラン化合物とを触媒存在下に反応させることを特徴とする請求項1記載のシロキサン結合を有するオルガノキシシラン化合物の製造方法。
The following general formula (2)
(R 1 ) n Si (OH) 4-n (2)
(Wherein R 1 and n are the same as described above.)
And the following general formula (4)
Si (CH 3 ) m (OR 2 ) 4-m (4)
(In the formula, R 2 and m are the same as above.)
The method for producing an organoxysilane compound having a siloxane bond according to claim 1, wherein the organoxysilane compound represented by formula (1) is reacted in the presence of a catalyst.
JP2004297345A 2004-10-12 2004-10-12 Organoxysilane compound having siloxane bond and method for producing the same Active JP4453827B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004297345A JP4453827B2 (en) 2004-10-12 2004-10-12 Organoxysilane compound having siloxane bond and method for producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004297345A JP4453827B2 (en) 2004-10-12 2004-10-12 Organoxysilane compound having siloxane bond and method for producing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006111533A JP2006111533A (en) 2006-04-27
JP4453827B2 true JP4453827B2 (en) 2010-04-21

Family

ID=36380349

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004297345A Active JP4453827B2 (en) 2004-10-12 2004-10-12 Organoxysilane compound having siloxane bond and method for producing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4453827B2 (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5051392B2 (en) * 2008-10-02 2012-10-17 信越化学工業株式会社 Room temperature curable organopolysiloxane composition and automotive control device sealed with the composition
JP2010165930A (en) * 2009-01-16 2010-07-29 Idemitsu Kosan Co Ltd Organic thin-film transistor, manufacturing method thereof and device equipped with the same
JP5046404B2 (en) * 2009-09-25 2012-10-10 信越化学工業株式会社 One-end reactive organopolysiloxane having a polyalkylene oxide group at the ω end and a method for producing the same.
JP7178105B2 (en) * 2017-09-15 2022-11-25 国立研究開発法人産業技術総合研究所 Organosiloxane and method for producing organosiloxane
CN116355419A (en) * 2023-05-22 2023-06-30 江苏至昕新材料有限公司 Low-viscosity high-heat-conductivity silicone grease and preparation method and application thereof

Also Published As

Publication number Publication date
JP2006111533A (en) 2006-04-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7053167B2 (en) Silsesquioxane derivative having functional group
JP5153635B2 (en) Novel epoxy compound and method for producing the same
JP2012121852A (en) Hydrosilylation method, method of producing organosilicon compound, and organosilicon compound
JPH05178998A (en) Production of acrylic organopolysiloxane
US5504235A (en) Method for decomposing polysiloxane
US20050234254A1 (en) Silane compound having at least two protected functional groups and method for preparing the same
JP5664192B2 (en) Method for producing organosilicon compound
JP4453827B2 (en) Organoxysilane compound having siloxane bond and method for producing the same
JP4370831B2 (en) Silsesquioxane derivatives having functional groups
JP5234909B2 (en) Alkoxy group-containing cage-type siloxane compound, silanol group-containing cage-type siloxane compound, and methods for producing them
JP5664191B2 (en) Method for producing organosilicon compound
JP2012219071A (en) Alkoxysilane compound bearing fluoroalkyl group, and manufacturing method for the same
US7402648B2 (en) Method for producing cyclic organic silicon compound and organic silicon resin having alcoholic hydroxyl group
JP5762932B2 (en) Triarylamine derivatives having silanol groups
WO2007007597A1 (en) Novel organosilicon compound and process for producing the same
KR101064063B1 (en) Organic Silicon Resin Having Alcoholic Hydroxyl Group and Method for Producing the Same
JP2000007786A (en) Production of fluoroalkyl group-containing linear siloxane
US6136940A (en) Silacyclobutane compounds, methods of preparing same, and polymers formed therefrom
JP4433168B2 (en) Organoxysilane compounds having protected hydroxyl groups
JP2000344785A (en) Silacyclobutene compound, its production and polymer formed therefrom
JP6020410B2 (en) [3- (2-Norbornyl) -2-norbornyl] silane compound and method for producing the same
JP4547415B2 (en) Organosilicon compounds
JP3029691B2 (en) Organocyclosiloxane and method for producing the same
JP4172342B2 (en) Cyclic organosilicon compound and method for producing the same
CN110372741A (en) The organo-silicon compound and preparation method of the ring containing glycoluril

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061019

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091007

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091014

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20091209

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20091209

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100113

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130212

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4453827

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100126

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160212

Year of fee payment: 6