JP7178105B2 - Organosiloxane and method for producing organosiloxane - Google Patents
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Description
本発明は、オルガノシロキサン及びオルガノシロキサンの製造方法に関し、より詳しくは銅触媒を用いたオルガノシロキサン及びオルガノシロキサンの製造方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to an organosiloxane and a method for producing an organosiloxane, and more particularly to an organosiloxane and a method for producing an organosiloxane using a copper catalyst.
シロキサン結合（Ｓｉ－Ｏ－Ｓｉ）は、有機骨格である炭素－炭素（Ｃ－Ｃ）結合や炭素－酸素（Ｃ－Ｏ）結合よりも結合エネルギーが大きく、耐熱性、耐候性等に優れており、シリコーンオイルやシリコーンゴム等に利用され、有機無機ハイブリッド素材の原料としても注目されている重要な化合物である。 Siloxane bond (Si-O-Si) has higher bond energy than carbon-carbon (C-C) bond and carbon-oxygen (C-O) bond, which are organic skeletons, and is excellent in heat resistance, weather resistance, etc. It is an important compound that is used in silicone oil, silicone rubber, etc., and is also attracting attention as a raw material for organic-inorganic hybrid materials.
シロキサン結合の形成方法（オルガノシロキサンの架橋方法）としては、イリジウム錯体の存在下で反応性≡ＳｉＨ単位を有する少なくとも１種のオルガノシロキサンと反応性≡ＳｉＯＨ単位を示す少なくとも１種のオルガノシロキサンを脱水素縮合させる方法が報告されている（特許文献１参照。）。 As a method for forming a siloxane bond (a method for cross-linking an organosiloxane), at least one organosiloxane having a reactive ≡SiH unit and at least one organosiloxane having a reactive ≡SiOH unit are dehydrated in the presence of an iridium complex. A method of elementary condensation has been reported (see Patent Document 1).
オルガノシロキサンの中でも、アルコキシシリル基を有するオルガノシロキサンは、アルコキシシリル基が加水分解・脱水縮合反応等に利用できることから、特に有用な化合物であると言える。また、トリオルガノシロキシ基を有するオルガノシロキサンは、メソポーラスシリカや多次元ネットワークを持つシリコーン材料の原料として有用なことから、特に有用な化合物であると言える。
本発明は、アルコキシシリル基又はトリオルガノシロキシ基を有するオルガノシロキサンを効率良く製造することができるオルガノシロキサンの製造方法を提供することを目的とする。Among organosiloxanes, organosiloxanes having alkoxysilyl groups can be said to be particularly useful compounds because the alkoxysilyl groups can be used in hydrolysis/dehydration condensation reactions and the like. Organosiloxanes having a triorganosiloxy group are useful as raw materials for mesoporous silica and silicone materials having a multidimensional network, and are therefore particularly useful compounds.
An object of the present invention is to provide a method for producing an organosiloxane that can efficiently produce an organosiloxane having an alkoxysilyl group or a triorganosiloxy group.
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、銅錯体の存在下でシラノールとアルコキシ基又はトリオルガノシロキシ基を有するヒドロシランを反応させることにより、アルコキシシリル基又はトリオルガノシロキシ基を有するオルガノシロキサンを効率良く製造することができることを見出し、本発明を完成させた。
即ち、本発明は以下の通りである。The present inventors have made intensive studies to solve the above problems, and found that by reacting a silanol with a hydrosilane having an alkoxy group or a triorganosiloxy group in the presence of a copper complex, an alkoxysilyl group or a triorganosiloxy group is formed. The inventors have found that an organosiloxane having a group can be efficiently produced, and have completed the present invention.
That is, the present invention is as follows.
＜１＞ 銅錯体の存在下、下記式（ａ）で表される構造を有するシラノールと下記式（ｂ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて下記式（ｃ）で表される構造を有するオルガノシロキサンを生成する反応工程を含むことを特徴とするオルガノシロキサンの製造方法。
＜２＞ 前記シラノールが、下記式（Ａ－１）～（Ａ－５）の何れかで表される化合物である、＜１＞に記載のオルガノシロキサンの製造方法。
＜３＞ 前記ヒドロシランが、下記式（Ｂ－１）～（Ｂ－６）の何れかで表される化合物である、＜１＞又は＜２＞に記載のオルガノシロキサンの製造方法。
＜４＞ 前記銅錯体が、下記式（Ｐ－１）～（Ｐ－４）の何れかで表される化合物及び下記式（Ｉ）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を配位子として含む錯体である、＜１＞～＜３＞の何れかに記載のオルガノシロキサンの製造方法。
（式（Ｉ）中、Ｒ９はそれぞれ独立して水素原子、又はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～２０の炭化水素基を、Ｒ１０はそれぞれ独立してヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～２０の炭化水素基を、ｋは０～２の整数を表す。但し、ｋ＝２である場合、Ｒ１０の２つの炭化水素基が連結して環状構造を形成していてもよい。）
＜５＞ 前記オルガノシロキサンが、下記式（Ｃ－１）～（Ｃ－４）の何れかで表される化合物である、＜１＞～＜４＞の何れかに記載のオルガノシロキサンの製造方法。
＜６＞ 下記式（Ｃ－１）～（Ｃ－４）の何れかで表されるオルガノシロキサン。
（式（Ｃ－１）～（Ｃ－４）中、Ｒ１はそれぞれ独立してヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～２０の炭化水素基を、Ｒはそれぞれ独立してヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～２０の炭化水素基、又は－ＳｉＲ’３（Ｒ’はそれぞれ独立して炭素数１～２０の炭化水素基）を表す。）<1> In the presence of a copper complex, a silanol having a structure represented by the following formula (a) and a hydrosilane having a structure represented by the following formula (b) are reacted to form a structure represented by the following formula (c). A method for producing an organosiloxane, comprising a reaction step of producing an organosiloxane having
<2> The method for producing an organosiloxane according to <1>, wherein the silanol is a compound represented by any one of the following formulas (A-1) to (A-5).
<3> The method for producing an organosiloxane according to <1> or <2>, wherein the hydrosilane is a compound represented by any one of the following formulas (B-1) to (B-6).
<4> The copper complex is at least one selected from the group consisting of compounds represented by any of the following formulas (P-1) to (P-4) and compounds represented by the following formula (I) The method for producing an organosiloxane according to any one of <1> to <3>, which is a complex containing the compound of as a ligand.
(In formula (I), each R 9 independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a heteroatom, and each R 10 independently contains a heteroatom. a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, which may be may be.)
<5> The method for producing an organosiloxane according to any one of <1> to <4>, wherein the organosiloxane is a compound represented by any one of the following formulas (C-1) to (C-4). .
<6> An organosiloxane represented by any one of the following formulas (C-1) to (C-4).
(In formulas (C-1) to (C-4), R 1 is each independently a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a heteroatom, R is each independently a heteroatom or —SiR′ 3 (each R′ independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms) which may contain
本発明によれば、オルガノシロキサンを効率良く製造することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, organosiloxane can be manufactured efficiently.
本発明の詳細を説明するに当たり、具体例を挙げて説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り以下の内容に限定されるものではなく、適宜変更して実施することができる。 In describing the details of the present invention, specific examples will be given, but the present invention is not limited to the following contents as long as they do not deviate from the gist of the present invention, and can be implemented with appropriate modifications.
＜オルガノシロキサンの製造方法＞
本発明の一態様であるオルガノシロキサンの製造方法（以下、「本発明の製造方法」と略す場合がある。）は、銅錯体の存在下、下記式（ａ）で表される構造を有するシラノールと下記式（ｂ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させて下記式（ｃ）で表される構造を有するオルガノシロキサンを生成する反応工程（以下、「反応工程」と略す場合がある。）を含むことを特徴とする。
（式（ｂ）及び（ｃ）中、Ｒはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～２０の炭化水素基、又は－ＳｉＲ’３（Ｒ’はそれぞれ独立して炭素数１～２０の炭化水素基）を表す。）
本発明者らは、アルコキシシリル基又はトリオルガノシロキシ基を有するオルガノシロキサンを効率良く製造することができる方法を求めて検討を重ねた結果、銅錯体の存在下で式（ａ）で表される構造を有するシラノールと式（ｂ）で表される構造を有するヒドロシランを反応させることにより、アルコキシシリル基又はトリオルガノシロキシ基を有するオルガノシロキサンを効率良く製造することができることを見出したのである。反応工程は、銅錯体を触媒とするシラノールとヒドロシランの脱水素縮合反応（脱水素カップリング反応）であり、得られるオルガノシロキサンには活性なアルコキシシリル基が維持されるため、又は、かご型シルセスキオキサン（ＰＯＳＳ）などの合成に利用できるトリオルガノシロキシ基を有するため、有機ケイ素化合物の原料として有用な化合物となる。特にトリアルコキシヒドロシラン又はトリオルガノシロキシヒドロシランを効率良く反応させることができるため、下記式で表されるように、三次元的な反応に利用できる、トリアルコキシシリル基又はトリオルガノシロキシ基を有するオルガノシロキサンを製造することができる特長を有する。
なお、式（ａ）、（ｂ）、及び（ｃ）中の波線は、その先の構造が任意であることを意味し、反応に関与しない官能基等を含んでいてもよいものとする。
以下、「式（ａ）で表される構造を有するシラノール」、「式（ｂ）で表される構造を有するヒドロシラン」、「反応工程」の条件、「式（ｃ）で表される構造を有するオルガノシロキサン」等について詳細に説明する。<Method for producing organosiloxane>
A method for producing an organosiloxane that is one embodiment of the present invention (hereinafter sometimes abbreviated as “the production method of the present invention”) comprises a silanol having a structure represented by the following formula (a) in the presence of a copper complex; and a hydrosilane having a structure represented by the following formula (b) to produce an organosiloxane having a structure represented by the following formula (c) (hereinafter sometimes abbreviated as “reaction step”. ).
(In formulas (b) and (c), R is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a heteroatom, or —SiR′ 3 (R′ each independently has 1 to 20 represents a hydrocarbon group).)
The inventors of the present invention have conducted repeated studies seeking a method for efficiently producing an organosiloxane having an alkoxysilyl group or a triorganosiloxy group. It was found that an organosiloxane having an alkoxysilyl group or a triorganosiloxy group can be efficiently produced by reacting a silanol having a structure with a hydrosilane having a structure represented by formula (b). The reaction step is a dehydrogenative condensation reaction (dehydrogenative coupling reaction) between silanol and hydrosilane using a copper complex as a catalyst, and the resulting organosiloxane maintains active alkoxysilyl groups, or a cage-type silyl Since it has a triorganosiloxy group that can be used in the synthesis of sesquioxane (POSS) and the like, it is a useful compound as a raw material for organosilicon compounds. Organosiloxanes having a trialkoxysilyl group or a triorganosiloxy group that can be used for three-dimensional reactions, as represented by the following formula, because they can be reacted particularly efficiently with trialkoxyhydrosilanes or triorganosiloxyhydrosilanes. It has the advantage of being able to manufacture
Note that the wavy lines in formulas (a), (b), and (c) mean that the structure ahead thereof is arbitrary, and may contain functional groups that do not participate in the reaction.
Hereinafter, "silanol having a structure represented by formula (a)", "hydrosilane having a structure represented by formula (b)", conditions of "reaction step", "structure represented by formula (c) Organosiloxane having” and the like will be described in detail.
反応工程に使用する「式（ａ）で表される構造を有するシラノール」の具体的種類は、特に限定されず、製造目的であるオルガノシロキサンに応じて適宜選択すべきであるが、下記式（Ａ－１）～（Ａ－５）の何れかで表される化合物が挙げられる。以下、「式（Ａ－１）～（Ａ－５）の何れかで表される化合物」について詳細に説明する。
式（Ａ－１）～（Ａ－５）中のＲ１は、それぞれ独立して「ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～２０の炭化水素基」を表しているが、「炭化水素基」は、分岐構造、環状構造、及び炭素－炭素不飽和結合（炭素－炭素二重結合、炭素－炭素三重結合）のそれぞれを有していてもよく、飽和炭化水素基、不飽和炭化水素基、芳香族炭化水素基等の何れであってもよいものとする。
また、「ヘテロ原子を含んでいてもよい」とは、炭化水素基の水素原子がヘテロ原子、即ち、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子等を含む１価の官能基で置換されていてもよいほか、炭化水素基の炭素骨格内部の炭素原子が窒素原子、酸素原子、硫黄原子等を含む２価以上の官能基（連結基）で置換されていてもよいことを意味する。
Ｒ１の炭化水素基の炭素原子数は、通常１５以下、好ましくは１０以下、より好ましくは８以下であり、Ｒ１が芳香族炭化水素基の場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ１に含まれる官能基や連結基としては、アミノ基（－Ｎ＜）、エーテル基（オキサ基、－Ｏ－）、カルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）、フルオロ基（フッ素原子，－Ｆ）、クロロ基（塩素原子，－Ｃｌ）、ブロモ基（臭素原子，－Ｂｒ）、ヨード基（ヨウ素原子，－Ｉ）等が挙げられる。
Ｒ１としては、メチル基（－ＣＨ３，－Ｍｅ）、エチル基（－Ｃ２Ｈ５，－Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（－ｎＣ３Ｈ７，－ｎＰｒ）、ｉ－プロピル基（－ｉＣ３Ｈ７，－ｉＰｒ）、ｎ－ブチル基（－ｎＣ４Ｈ９，－ｎＢｕ）、ｔ－ブチル基（－ｔＣ４Ｈ９，－ｔＢｕ）、ｎ－ペンチル基（－ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ－ヘキシル基（－ｎＣ６Ｈ１３，－ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（－ｃＣ６Ｈ１１，－Ｃｙ）、アリル基（－ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）、ビニル基（－ＣＨ＝ＣＨ２）、フェニル基（－Ｃ６Ｈ５，－Ｐｈ）等が挙げられる。The specific type of "silanol having a structure represented by formula (a)" used in the reaction step is not particularly limited, and should be appropriately selected according to the organosiloxane to be produced, but the following formula ( Examples include compounds represented by any one of A-1) to (A-5). The "compound represented by any one of formulas (A-1) to (A-5)" will be described in detail below.
R 1 in formulas (A-1) to (A-5) each independently represents a “hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a heteroatom”. "Hydrogen group" may have a branched structure, a cyclic structure, and a carbon-carbon unsaturated bond (carbon-carbon double bond, carbon-carbon triple bond), saturated hydrocarbon group, unsaturated carbon It may be a hydrogen group, an aromatic hydrocarbon group, or the like.
Further, the phrase "may contain a heteroatom" means that the hydrogen atoms of the hydrocarbon group are substituted with a heteroatom, i.e., a monovalent functional group containing a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, a halogen atom, etc. In addition, it means that the carbon atoms inside the carbon skeleton of the hydrocarbon group may be substituted with a divalent or higher functional group (linking group) containing a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, or the like.
The number of carbon atoms in the hydrocarbon group for R 1 is usually 15 or less, preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and when R 1 is an aromatic hydrocarbon group, the number of carbon atoms is usually 6 or more. .
Functional groups and linking groups contained in R 1 include amino groups (-N<), ether groups (oxa groups, -O-), carbonyl groups (-C(=O)-), fluoro groups (fluorine atoms, -F), chloro group (chlorine atom, -Cl), bromo group (bromine atom, -Br), iodo group (iodine atom, -I) and the like.
R 1 includes a methyl group (--CH 3 , --Me), an ethyl group (--C 2 H 5 , --Et), an n-propyl group ( -n C 3 H 7 , --n Pr) and an i-propyl group. (- i C 3 H 7 , - i Pr), n-butyl group (- n C 4 H 9 , - n Bu), t-butyl group (- t C 4 H 9 , - t Bu), n-pentyl group (- n C 5 H 11 ), n-hexyl group (- n C 6 H 13 , - n Hex), cyclohexyl group (- c C 6 H 11 , -Cy), allyl group (-CH 2 CH=CH 2 ), vinyl group (-CH=CH 2 ), phenyl group (-C 6 H 5 , -Ph) and the like.
式（Ａ－５）中のＲ２は、「ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～２０のｎ価の炭化水素基」を表しているが、「ヘテロ原子を含んでいてもよい」と「炭化水素基」はＲ１の場合と同義であり、「ｎ価の炭化水素基」はｎ個の結合位置を有する炭化水素基を意味する。
Ｒ２の炭化水素基の炭素原子数は、通常１５以下、好ましくは１０以下、より好ましくは８以下であり、Ｒ２が芳香族炭化水素基の場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ２に含まれる官能基や連結基としては、アミノ基（－Ｎ＜）、エーテル基（オキサ基、－Ｏ－）、カルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）、フルオロ基（フッ素原子，－Ｆ）、クロロ基（塩素原子，－Ｃｌ）、ブロモ基（臭素原子，－Ｂｒ）、ヨード基（ヨウ素原子，－Ｉ）等が挙げられる。
Ｒ２としては、メチレン基（－ＣＨ２－）、エチレン基（－Ｃ２Ｈ４－）、ｎ－プロピレン基（－ｎＣ３Ｈ６－）、ｉ－プロピレン基（－ｉＣ３Ｈ６－）、ｎ－ブチレン基（－ｎＣ４Ｈ８－）、ｎ－ペンチレン基（－ｎＣ５Ｈ１０－）、ｎ－ヘキシレン基（－ｎＣ６Ｈ１２－）、フェニレン基（－Ｃ６Ｈ４－）等が挙げられる。R 2 in formula (A-5) represents “an n-valent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a heteroatom”, but “an n-valent hydrocarbon group which may contain a heteroatom ” and “hydrocarbon group” have the same meanings as in the case of R 1 , and “n-valent hydrocarbon group” means a hydrocarbon group having n bonding positions.
The number of carbon atoms in the hydrocarbon group for R 2 is usually 15 or less, preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and when R 2 is an aromatic hydrocarbon group, the number of carbon atoms is usually 6 or more. .
Functional groups and linking groups contained in R 2 include amino groups (-N<), ether groups (oxa groups, -O-), carbonyl groups (-C(=O)-), fluoro groups (fluorine atoms, -F), chloro group (chlorine atom, -Cl), bromo group (bromine atom, -Br), iodo group (iodine atom, -I) and the like.
R 2 includes a methylene group (-CH 2 -), an ethylene group (-C 2 H 4 -), an n-propylene group (- n C 3 H 6 -), an i-propylene group (- i C 3 H 6 -), n-butylene group (- n C 4 H 8 -), n-pentylene group (- n C 5 H 10 -), n-hexylene group (- n C 6 H 12 -), phenylene group (-C 6 H 4 -) and the like.
式（Ａ－５）中のＲ３は、それぞれ独立して「ヒドロキシル基」、又は「ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～２０の炭化水素基」を表しているが、「ヘテロ原子を含んでいてもよい」と「炭化水素基」はＲ１の場合と同義である。
Ｒ３が炭化水素基である場合の炭化水素基の炭素原子数は、通常１５以下、好ましくは１０以下、より好ましくは８以下であり、Ｒ３が芳香族炭化水素基の場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ３に含まれる官能基や連結基としては、アミノ基（－Ｎ＜）、ヒドロキシル基（－ＯＨ）、エーテル基（オキサ基、－Ｏ－）、カルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）、フルオロ基（フッ素原子，－Ｆ）、クロロ基（塩素原子，－Ｃｌ）、ブロモ基（臭素原子，－Ｂｒ）、ヨード基（ヨウ素原子，－Ｉ）等が挙げられる。
Ｒ３としては、ヒドロキシル基（－ＯＨ）、メチル基（－ＣＨ３，－Ｍｅ）、エチル基（－Ｃ２Ｈ５，－Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（－ｎＣ３Ｈ７，－ｎＰｒ）、ｉ－プロピル基（－ｉＣ３Ｈ７，－ｉＰｒ）、ｎ－ブチル基（－ｎＣ４Ｈ９，－ｎＢｕ）、ｔ－ブチル基（－ｔＣ４Ｈ９，－ｔＢｕ）、ｎ－ペンチル基（－ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ－ヘキシル基（－ｎＣ６Ｈ１３，－ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（－ｃＣ６Ｈ１１，－Ｃｙ）、アリル基（－ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）、ビニル基（－ＣＨ＝ＣＨ２）、フェニル基（－Ｃ６Ｈ５，－Ｐｈ）等が挙げられる。Each R 3 in formula (A-5) independently represents a “hydroxyl group” or a “hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a heteroatom”. "may contain atoms" and "hydrocarbon group" have the same meanings as in the case of R1 .
When R 3 is a hydrocarbon group, the number of carbon atoms in the hydrocarbon group is usually 15 or less, preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and when R 3 is an aromatic hydrocarbon group, the number of carbon atoms is usually 6 or more.
Functional groups and linking groups contained in R 3 include an amino group (-N<), a hydroxyl group (-OH), an ether group (oxa group, -O-), and a carbonyl group (-C(=O)-). , fluoro group (fluorine atom, -F), chloro group (chlorine atom, -Cl), bromo group (bromine atom, -Br), iodine group (iodine atom, -I) and the like.
R 3 includes hydroxyl group (-OH), methyl group (-CH 3 , -Me), ethyl group (-C 2 H 5 , -Et), n-propyl group ( -n C 3 H 7 , -n Pr), i-propyl group (- i C 3 H 7 ,- i Pr), n-butyl group (- n C 4 H 9 ,- n Bu), t-butyl group (- t C 4 H 9 ,- t Bu), n-pentyl group (- n C 5 H 11 ), n-hexyl group (- n C 6 H 13 , - n Hex), cyclohexyl group (- c C 6 H 11 , -Cy), allyl group (-CH 2 CH=CH 2 ), vinyl group (-CH=CH 2 ), phenyl group (-C 6 H 5 , -Ph) and the like.
式（ａ）で表される構造を有するシラノールとしては、下記式で表される化合物等が挙げられる。
反応工程に使用する「式（ｂ）で表される構造を有するヒドロシラン」の具体的種類は、特に限定されず、製造目的であるオルガノシロキサンに応じて適宜選択すべきであるが、下記式（Ｂ－１）～（Ｂ－６）の何れかで表される化合物が挙げられる。以下、「式（Ｂ－１）～（Ｂ－６）の何れかで表される化合物」について詳細に説明する。
式（Ｂ－１）～（Ｂ－６）中のＲ４は、「ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～２０の炭化水素基」を表しているが、「ヘテロ原子を含んでいてもよい」と「炭化水素基」はＲ１の場合と同義である。
Ｒ４の炭化水素基の炭素原子数は、通常１５以下、好ましくは１０以下、より好ましくは８以下であり、Ｒ４が芳香族炭化水素基の場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ４に含まれる官能基や連結基としては、アミノ基（－Ｎ＜）、エーテル基（オキサ基、－Ｏ－）、カルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）、フルオロ基（フッ素原子，－Ｆ）、クロロ基（塩素原子，－Ｃｌ）、ブロモ基（臭素原子，－Ｂｒ）、ヨード基（ヨウ素原子，－Ｉ）等が挙げられる。
Ｒ４としては、メチル基（－ＣＨ３，－Ｍｅ）、エチル基（－Ｃ２Ｈ５，－Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（－ｎＣ３Ｈ７，－ｎＰｒ）、ｉ－プロピル基（－ｉＣ３Ｈ７，－ｉＰｒ）、ｎ－ブチル基（－ｎＣ４Ｈ９，－ｎＢｕ）、ｔ－ブチル基（－ｔＣ４Ｈ９，－ｔＢｕ）、ｎ－ペンチル基（－ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ－ヘキシル基（－ｎＣ６Ｈ１３，－ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（－ｃＣ６Ｈ１１，－Ｃｙ）、アリル基（－ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）、ビニル基（－ＣＨ＝ＣＨ２）、フェニル基（－Ｃ６Ｈ５，－Ｐｈ）、４－メチルフェニル基（－Ｃ６Ｈ４ＣＨ３）等が挙げられる。The specific type of "hydrosilane having a structure represented by formula (b)" used in the reaction step is not particularly limited, and should be appropriately selected according to the organosiloxane to be produced. Examples include compounds represented by any one of B-1) to (B-6). The "compound represented by any one of formulas (B-1) to (B-6)" will be described in detail below.
R 4 in formulas (B-1) to (B-6) represents "a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a heteroatom", but "a hydrocarbon group containing a heteroatom" “may be substituted” and “hydrocarbon group” have the same meanings as in the case of R 1 .
The number of carbon atoms in the hydrocarbon group for R 4 is usually 15 or less, preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and when R 4 is an aromatic hydrocarbon group, the number of carbon atoms is usually 6 or more. .
Functional groups and linking groups contained in R 4 include amino groups (-N<), ether groups (oxa groups, -O-), carbonyl groups (-C(=O)-), fluoro groups (fluorine atoms, -F), chloro group (chlorine atom, -Cl), bromo group (bromine atom, -Br), iodo group (iodine atom, -I) and the like.
R 4 includes a methyl group (--CH 3 , --Me), an ethyl group (--C 2 H 5 , --Et), an n-propyl group ( -n C 3 H 7 , --n Pr) and an i-propyl group. (- i C 3 H 7 , - i Pr), n-butyl group (- n C 4 H 9 , - n Bu), t-butyl group (- t C 4 H 9 , - t Bu), n-pentyl group (- n C 5 H 11 ), n-hexyl group (- n C 6 H 13 , - n Hex), cyclohexyl group (- c C 6 H 11 , -Cy), allyl group (-CH 2 CH=CH 2 ), vinyl group (-CH=CH 2 ), phenyl group (-C 6 H 5 , -Ph), 4-methylphenyl group (-C 6 H 4 CH 3 ) and the like.
式（Ｂ－１）～（Ｂ－６）中のＲは、それぞれ独立して「ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～２０の炭化水素基」、又は「－ＳｉＲ’３（Ｒ’はそれぞれ独立して炭素数１～２０の炭化水素基）」を表しているが、「ヘテロ原子を含んでいてもよい」と「炭化水素基」はＲ１の場合と同義であり、３つの炭化水素基Ｒ’はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
「－ＳｉＲ’３」は好ましくはトリアルキルシリル基であり、「トリアルキルシリル基」の「アルキル」は直鎖状のアルキル基に限られず、分岐構造、環状構造のシクロアルキル基を含むことを意味する。
Ｒの炭化水素基の炭素原子数は、通常１５以下、好ましくは１０以下、より好ましくは８以下であり、Ｒが芳香族炭化水素基の場合の炭素原子数は、通常６以上である。また、Ｒ’の炭化水素基の炭素原子数は、通常１５以下、好ましくは１０以下、より好ましくは８以下であり、Ｒ’が芳香族炭化水素基の場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒに含まれる官能基や連結基としては、アミノ基（－Ｎ＜）、エーテル基（オキサ基、－Ｏ－）、カルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）、フルオロ基（フッ素原子，－Ｆ）、クロロ基（塩素原子，－Ｃｌ）、ブロモ基（臭素原子，－Ｂｒ）、ヨード基（ヨウ素原子，－Ｉ）等が挙げられる。
Ｒとしては、メチル基（－ＣＨ３，－Ｍｅ）、エチル基（－Ｃ２Ｈ５，－Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（－ｎＣ３Ｈ７，－ｎＰｒ）、ｉ－プロピル基（－ｉＣ３Ｈ７，－ｉＰｒ）、ｎ－ブチル基（－ｎＣ４Ｈ９，－ｎＢｕ）、ｔ－ブチル基（－ｔＣ４Ｈ９，－ｔＢｕ）、ｎ－ペンチル基（－ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ－ヘキシル基（－ｎＣ６Ｈ１３，－ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（－ｃＣ６Ｈ１１，－Ｃｙ）、アリル基（－ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２）、ビニル基（－ＣＨ＝ＣＨ２）、フェニル基（－Ｃ６Ｈ５，－Ｐｈ）、トリメチルシリル基（－ＳｉＭｅ３，ＴＭＳ）、トリエチルシリル基（－ＳｉＥｔ３，ＴＥＳ）、ｔ－ブチルジメチルシリル基（－Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃ（ＣＨ３）３，ＴＢＤＭＳ）、トリフェニルシリル基（－Ｓｉ（Ｃ６Ｈ５）３，－ＳｉＰｈ３，ＴＰｈＳ）等が挙げられる。R in formulas (B-1) to (B-6) each independently represents a “hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a heteroatom” or “—SiR′ 3 (R 'each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms)', but 'optionally containing a heteroatom' and 'hydrocarbon group' have the same meanings as in the case of R 1 , and 3 Each of the two hydrocarbon groups R' may be the same or different.
``-SiR' 3 '' is preferably a trialkylsilyl group, and the ``alkyl'' of the ``trialkylsilyl group'' is not limited to linear alkyl groups, and includes branched and cyclic cycloalkyl groups. means.
The number of carbon atoms in the hydrocarbon group for R is usually 15 or less, preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and when R is an aromatic hydrocarbon group, the number of carbon atoms is usually 6 or more. In addition, the number of carbon atoms in the hydrocarbon group of R' is usually 15 or less, preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and when R' is an aromatic hydrocarbon group, the number of carbon atoms is usually 6 or more. is.
Examples of functional groups and linking groups contained in R include amino groups (-N<), ether groups (oxa groups, -O-), carbonyl groups (-C(=O)-), fluoro groups (fluorine atoms, - F), chloro group (chlorine atom, —Cl), bromo group (bromine atom, —Br), iodine group (iodine atom, —I) and the like.
R is a methyl group (-CH 3 ,-Me), an ethyl group (-C 2 H 5 ,-Et), an n-propyl group ( -n C 3 H 7 , -n Pr), an i-propyl group ( - i C 3 H 7 , - i Pr), n-butyl group (- n C 4 H 9 , - n Bu), t-butyl group (- t C 4 H 9 , - t Bu), n-pentyl group (- n C 5 H 11 ), n-hexyl group (- n C 6 H 13 , - n Hex), cyclohexyl group (- c C 6 H 11 , -Cy), allyl group (-CH 2 CH=CH 2 ), vinyl group (-CH=CH 2 ), phenyl group (-C 6 H 5 , -Ph), trimethylsilyl group (-SiMe 3 , TMS), triethylsilyl group (-SiEt 3 , TES), t-butyldimethyl A silyl group (--Si(CH 3 ) 2 C(CH 3 ) 3 , TBDMS), a triphenylsilyl group (--Si(C 6 H 5 ) 3 , --SiPh 3 , TPhS) and the like can be mentioned.
式（ｂ）で表される構造を有するアルコキシヒドロシランとしては、下記式で表される化合物等が挙げられる。
反応工程における「式（ｂ）で表される構造を有するヒドロシラン」の使用量は、「式（ａ）で表される構造を有するシラノール」のシラノール基に対して物質量換算で、通常０．５当量以上、好ましくは０．７５当量以上、より好ましくは１当量以上であり、通常５当量以下、好ましくは４当量以下、より好ましくは２当量以下である。前記範囲内であると、オルガノシロキサンが収率良く生成し易くなる。 The amount of the "hydrosilane having the structure represented by the formula (b)" used in the reaction step is usually 0.00 in terms of substance amount with respect to the silanol groups of the "silanol having the structure represented by the formula (a)". It is 5 equivalents or more, preferably 0.75 equivalents or more, more preferably 1 equivalent or more, and usually 5 equivalents or less, preferably 4 equivalents or less, more preferably 2 equivalents or less. When it is within the above range, the organosiloxane tends to be produced with high yield.
反応工程で使用する「銅錯体」の具体的種類は、特に限定されず、目的に応じて適宜選択することができる。
銅錯体の銅原子（Ｃｕ）の酸化数は、通常０、＋１、＋２、＋３、＋４であるが、好ましくは＋１である。
銅錯体の配位子若しくは対イオン、又はこれらになり得る化合物としては、下記式（Ｐ－１）～（Ｐ－４）の何れかで表される化合物、下記式（Ｉ）で表される化合物、ヒドリドイオン（Ｈ－）、塩化物イオン（Ｃｌ－）、臭化物イオン（Ｂｒ－）、酢酸イオン（ＡｃＯ－）等が挙げられる。以下、「式（Ｐ－１）～（Ｐ－４）の何れかで表される化合物」及び「式（Ｉ）で表される化合物」について詳細に説明する。
The oxidation number of the copper atom (Cu) in the copper complex is usually 0, +1, +2, +3, +4, preferably +1.
The ligand or counterion of the copper complex, or a compound that can be one of these, includes a compound represented by any one of the following formulas (P-1) to (P-4), and a compound represented by the following formula (I). compounds, hydride ions (H − ), chloride ions (Cl − ), bromide ions (Br − ), acetate ions (AcO − ), and the like. The "compound represented by any one of formulas (P-1) to (P-4)" and the "compound represented by formula (I)" are described in detail below.
式（Ｐ－１）～（Ｐ－４）中のＲ５は、それぞれ独立して「水素原子」、又は「ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～２０の炭化水素基」を表しているが、「ヘテロ原子を含んでいてもよい」と「炭化水素基」はＲ１の場合と同義である。また、「Ｒ５の２以上が炭化水素基である場合、Ｒ５の２以上の炭化水素基が連結して環状構造を形成していてもよ」いとは、例えば、１個のＰ原子に結合する２個のＲ５が連結してシクロヘプタン構造、シクロヘプテン構造、シクロヘキサン構造、シクロヘキセン構造等を形成していることが挙げられる。
Ｒ５の炭化水素基の炭素原子数は、通常１５以下、好ましくは１０以下、より好ましくは８以下であり、Ｒ５が芳香族炭化水素基の場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ５に含まれる官能基や連結基としては、エーテル基（オキサ基、－Ｏ－）、カルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）、フルオロ基（フッ素原子，－Ｆ）、クロロ基（塩素原子，－Ｃｌ）、ブロモ基（臭素原子，－Ｂｒ）、ヨード基（ヨウ素原子，－Ｉ）等が挙げられる。
Ｒ５としては、水素原子、メチル基（－ＣＨ３，－Ｍｅ）、エチル基（－Ｃ２Ｈ５，－Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（－ｎＣ３Ｈ７，－ｎＰｒ）、ｉ－プロピル基（－ｉＣ３Ｈ７，－ｉＰｒ）、ｎ－ブチル基（－ｎＣ４Ｈ９，－ｎＢｕ）、ｔ－ブチル基（－ｔＣ４Ｈ９，－ｔＢｕ）、ｎ－ペンチル基（－ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ－ヘキシル基（－ｎＣ６Ｈ１３，－ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（－ｃＣ６Ｈ１１，－Ｃｙ）、フェニル基（－Ｃ６Ｈ５，－Ｐｈ）等が挙げられる。R 5 in formulas (P-1) to (P-4) each independently represents a “hydrogen atom” or a “hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a heteroatom”. However, the terms “optionally containing a heteroatom” and “hydrocarbon group” are synonymous with R 1 . Further, "when two or more of R 5 are hydrocarbon groups, the two or more hydrocarbon groups of R 5 may be linked to form a cyclic structure", for example, one P atom For example, the two R5 's that are bonded are linked to form a cycloheptane structure, cycloheptene structure, cyclohexane structure, cyclohexene structure, or the like.
The number of carbon atoms in the hydrocarbon group for R 5 is usually 15 or less, preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and when R 5 is an aromatic hydrocarbon group, the number of carbon atoms is usually 6 or more. .
Functional groups and linking groups contained in R 5 include an ether group (oxa group, -O-), a carbonyl group (-C(=O)-), a fluoro group (fluorine atom, -F), a chloro group (chlorine atom, —Cl), bromo group (bromine atom, —Br), iodo group (iodine atom, —I), and the like.
R 5 is a hydrogen atom, a methyl group (--CH 3 , --Me), an ethyl group (--C 2 H 5 , --Et), an n-propyl group (--n C 3 H 7 , ---n Pr ), i - propyl group (- i C 3 H 7 , - i Pr), n-butyl group (- n C 4 H 9 , - n Bu), t-butyl group (- t C 4 H 9 , - t Bu), n-pentyl group (- n C 5 H 11 ), n-hexyl group (- n C 6 H 13 ,- n Hex), cyclohexyl group (- c C 6 H 11 ,-Cy), phenyl group (-C 6 H 5 , —Ph) and the like.
式（Ｐ－２）中のＲ６は、「ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～３０のｈ価の炭化水素基」を表しているが、「ヘテロ原子を含んでいてもよい」と「炭化水素基」は、Ｒ１の場合と同義であり、「ｈ価の炭化水素基」とは、ｈ個の結合部位を有する炭化水素基を意味する。
Ｒ６の炭化水素基の炭素原子数は、通常２０以下、好ましくは１５以下、より好ましくは１０以下であり、Ｒ６が芳香族炭化水素基の場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ６に含まれる官能基や連結基としては、エーテル基（オキサ基、－Ｏ－）、カルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）、フルオロ基（フッ素原子，－Ｆ）、クロロ基（塩素原子，－Ｃｌ）、ブロモ基（臭素原子，－Ｂｒ）、ヨード基（ヨウ素原子，－Ｉ）等が挙げられる。
Ｒ６としては、メチレン基（－ＣＨ２－）、エチレン基（－Ｃ２Ｈ４－）、ｎ－プロピレン基（－Ｃ３Ｈ６－）、ｎ－ブチレン基（－Ｃ４Ｈ８－）、ｎ－ペンチレン基（－Ｃ５Ｈ１０－）、ｎ－ヘキシレン基（－Ｃ６Ｈ１２－）、フェニレン基（－Ｃ６Ｈ４－）、ビナフチル基等が挙げられる。R 6 in formula (P-2) represents "an h-valent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may contain a heteroatom", but "which may contain a heteroatom ” and “hydrocarbon group” have the same meanings as in the case of R 1 , and “h-valent hydrocarbon group” means a hydrocarbon group having h bonding sites.
The number of carbon atoms in the hydrocarbon group for R 6 is usually 20 or less, preferably 15 or less, more preferably 10 or less, and when R 6 is an aromatic hydrocarbon group, the number of carbon atoms is usually 6 or more. .
Functional groups and linking groups contained in R 6 include an ether group (oxa group, -O-), a carbonyl group (-C(=O)-), a fluoro group (fluorine atom, -F), a chloro group (chlorine atom, —Cl), bromo group (bromine atom, —Br), iodo group (iodine atom, —I), and the like.
R 6 includes a methylene group (--CH 2 --), an ethylene group (--C 2 H 4 --), an n-propylene group (--C 3 H 6 --), and an n-butylene group (--C 4 H 8 --). , n-pentylene group (-C 5 H 10 -), n-hexylene group (-C 6 H 12 -), phenylene group (-C 6 H 4 -), binaphthyl group and the like.
式（Ｐ－３）中のＲ７は、それぞれ独立して「ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～２０の２価の炭化水素基」を表しているが、「ヘテロ原子を含んでいてもよい」と「炭化水素基」は、Ｒ１の場合と同義であり、「２価の炭化水素基」とは、２つの結合部位を有する炭化水素基を意味する。
Ｒ７の炭化水素基の炭素原子数は、通常１５以下、好ましくは１０以下、より好ましくは８以下であり、Ｒ７が芳香族炭化水素基の場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ７に含まれる官能基や連結基としては、エーテル基（オキサ基、－Ｏ－）、カルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）、フルオロ基（フッ素原子，－Ｆ）、クロロ基（塩素原子，－Ｃｌ）、ブロモ基（臭素原子，－Ｂｒ）、ヨード基（ヨウ素原子，－Ｉ）等が挙げられる。
Ｒ７としては、メチレン基（－ＣＨ２－）、エチレン基（－Ｃ２Ｈ４－）、ｎ－プロピレン基（－Ｃ３Ｈ６－）、ｎ－ブチレン基（－Ｃ４Ｈ８－）、ｎ－ペンチレン基（－Ｃ５Ｈ１０－）、ｎ－ヘキシレン基（－Ｃ６Ｈ１２－）、フェニレン基（－Ｃ６Ｈ４－）、ビナフチル基等が挙げられる。Each R 7 in formula (P-3) independently represents “a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a heteroatom”, but “a heteroatom-containing divalent hydrocarbon group "may be present" and "hydrocarbon group" have the same definitions as in the case of R 1 , and "divalent hydrocarbon group" means a hydrocarbon group having two bonding sites.
The number of carbon atoms in the hydrocarbon group for R7 is usually 15 or less, preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and when R7 is an aromatic hydrocarbon group, the number of carbon atoms is usually 6 or more. .
Functional groups and linking groups contained in R 7 include an ether group (oxa group, -O-), a carbonyl group (-C(=O)-), a fluoro group (fluorine atom, -F), a chloro group (chlorine atom, —Cl), bromo group (bromine atom, —Br), iodo group (iodine atom, —I), and the like.
R 7 includes a methylene group (--CH 2 --), an ethylene group (--C 2 H 4 --), an n-propylene group (--C 3 H 6 --), and an n-butylene group (--C 4 H 8 --). , n-pentylene group (-C 5 H 10 -), n-hexylene group (-C 6 H 12 -), phenylene group (-C 6 H 4 -), binaphthyl group and the like.
式（Ｐ－４）中のＲ８は、それぞれ独立して「ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～２０の炭化水素基」を表しているが、「ヘテロ原子を含んでいてもよい」と「炭化水素基」はＲ１の場合と同義である。また、「Ｒ８の２以上の炭化水素基が連結して環状構造を形成していてもよい」とは、２個のＲ８が連結してシクロヘプタン構造、シクロヘプテン構造、シクロヘキサン構造、シクロヘキセン構造等を形成していることが挙げられる。
Ｒ８の炭化水素基の炭素原子数は、通常１５以下、好ましくは１０以下、より好ましくは８以下であり、Ｒ８が芳香族炭化水素基の場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ８に含まれる官能基や連結基としては、エーテル基（オキサ基、－Ｏ－）、カルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）、フルオロ基（フッ素原子，－Ｆ）、クロロ基（塩素原子，－Ｃｌ）、ブロモ基（臭素原子，－Ｂｒ）、ヨード基（ヨウ素原子，－Ｉ）等が挙げられる。
Ｒ８としては、メチル基（－ＣＨ３，－Ｍｅ）、エチル基（－Ｃ２Ｈ５，－Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（－ｎＣ３Ｈ７，－ｎＰｒ）、ｉ－プロピル基（－ｉＣ３Ｈ７，－ｉＰｒ）、ｎ－ブチル基（－ｎＣ４Ｈ９，－ｎＢｕ）、ｔ－ブチル基（－ｔＣ４Ｈ９，－ｔＢｕ）、ｎ－ペンチル基（－ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ－ヘキシル基（－ｎＣ６Ｈ１３，－ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（－ｃＣ６Ｈ１１，－Ｃｙ）、フェニル基（－Ｃ６Ｈ５，－Ｐｈ）等が挙げられる。Each R 8 in formula (P-4) independently represents a “hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a heteroatom”, but “even if it contains a heteroatom "good" and "hydrocarbon group" have the same meanings as in the case of R1 . Further, "two or more hydrocarbon groups of R 8 may be linked to form a cyclic structure" means that two R 8 are linked to form a cycloheptane structure, a cycloheptene structure, a cyclohexane structure, or a cyclohexene structure. etc. is formed.
The number of carbon atoms in the hydrocarbon group for R 8 is usually 15 or less, preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and when R 8 is an aromatic hydrocarbon group, the number of carbon atoms is usually 6 or more. .
Functional groups and linking groups contained in R 8 include an ether group (oxa group, -O-), a carbonyl group (-C(=O)-), a fluoro group (fluorine atom, -F), a chloro group (chlorine atom, —Cl), bromo group (bromine atom, —Br), iodo group (iodine atom, —I), and the like.
R 8 includes a methyl group (--CH 3 , --Me), an ethyl group (--C 2 H 5 , --Et), an n-propyl group ( -n C 3 H 7 , --n Pr) and an i-propyl group. (- i C 3 H 7 , - i Pr), n-butyl group (- n C 4 H 9 , - n Bu), t-butyl group (- t C 4 H 9 , - t Bu), n-pentyl group (- n C 5 H 11 ), n-hexyl group (- n C 6 H 13 , - n Hex), cyclohexyl group (- c C 6 H 11 , -Cy), phenyl group (-C 6 H 5 , -Ph) and the like.
式（Ｐ－１）～（Ｐ－４）の何れかで表される化合物としては、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、トリ－ｎ－ブチルホスフィン（ＰｎＢｕ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、ジシクロヘキシル（フェニル）ホスフィン（ＰＣｙ２Ｐｈ）、シクロヘキシルジ（フェニル）ホスフィン（ＰＣｙＰｈ２）、１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン（ｄｐｐｅ）、１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン（ｄｐｐｐ）、１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン（ｄｐｐｂ）、１，２－ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）ブタン（ｄＣｙｐｂ）、１，１’－ビス（ジイソプロピルホスフィノ）フェロセン（ｄｉＰｒｐｆ）、４，５－ビス（ジフェニルホスフィノ）－９，９－ジメチルキサンテン（Ｘａｎｔｐｈｏｓ）、１，２－ビス（ジメチルホスフィノ）ベンゼン（ＤＰＢ）、２，２’－ビス（ジフェニルホスフィノ）－１，１’－ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）、１，１，１－トリス（ジフェニルホスフィノメチル）エタン（Ｔｒｉｐｈｏｓ Ａ）、ビス（２－ジフェニルホスフィンエチル）フェニルホスフィン（Ｔｒｉｐｈｏｓ Ｂ）等が挙げられる（下記式参照。）。
式（Ｉ）中のＲ９は、それぞれ独立して「水素原子」、又は「ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～２０の炭化水素基」を表しているが、「ヘテロ原子を含んでいてもよい」と「炭化水素基」はＲ１の場合と同義である。
Ｒ９の炭化水素基の炭素原子数は、通常１５以下、好ましくは１０以下、より好ましくは８以下であり、Ｒ９が芳香族炭化水素基の場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ９に含まれる官能基や連結基としては、エーテル基（オキサ基、－Ｏ－）、フルオロ基（フッ素原子，－Ｆ）、クロロ基（塩素原子，－Ｃｌ）、ブロモ基（臭素原子，－Ｂｒ）、ヨード基（ヨウ素原子，－Ｉ）等が挙げられる。
Ｒ９としては、水素原子、メチル基（－ＣＨ３，－Ｍｅ）、エチル基（－Ｃ２Ｈ５，－Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（－ｎＣ３Ｈ７，－ｎＰｒ）、ｉ－プロピル基（－ｉＣ３Ｈ７，－ｉＰｒ）、ｎ－ブチル基（－ｎＣ４Ｈ９，－ｎＢｕ）、ｔ－ブチル基（－ｔＣ４Ｈ９，－ｔＢｕ）、ｎ－ペンチル基（－ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ－ヘキシル基（－ｎＣ６Ｈ１３，－ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（－ｃＣ６Ｈ１１，－Ｃｙ）、フェニル基（－Ｃ６Ｈ５，－Ｐｈ）、２，６－ジイソプロピルフェニル基等が挙げられる。Each R 9 in formula (I) independently represents a “hydrogen atom” or a “hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a heteroatom”. may be contained" and "hydrocarbon group" have the same meanings as in the case of R1 .
The number of carbon atoms in the hydrocarbon group for R 9 is usually 15 or less, preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and when R 9 is an aromatic hydrocarbon group, the number of carbon atoms is usually 6 or more. .
Functional groups and linking groups contained in R 9 include an ether group (oxa group, —O—), a fluoro group (fluorine atom, —F), a chloro group (chlorine atom, —Cl), a bromo group (bromine atom, -Br), an iodine group (iodine atom, -I), and the like.
R 9 is a hydrogen atom, a methyl group (--CH 3 , --Me), an ethyl group (--C 2 H 5 , --Et), an n-propyl group (--n C 3 H 7 , ---n Pr ), i - propyl group (- i C 3 H 7 , - i Pr), n-butyl group (- n C 4 H 9 , - n Bu), t-butyl group (- t C 4 H 9 , - t Bu), n-pentyl group (- n C 5 H 11 ), n-hexyl group (- n C 6 H 13 ,- n Hex), cyclohexyl group (- c C 6 H 11 ,-Cy), phenyl group (-C 6 H 5 ,--Ph), 2,6-diisopropylphenyl group and the like.
式（Ｉ）中のＲ１０は、それぞれ独立して「ヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～２０の炭化水素基」を表しているが、「ヘテロ原子を含んでいてもよい」と「炭化水素基」はＲ１の場合と同義である。また、「ｋ＝２である場合、Ｒ１０の２つの炭化水素基が連結して環状構造を形成していてもよい」とは、２個のＲ１０が連結してシクロヘプタン構造、シクロヘプテン構造、シクロヘキサン構造、シクロヘキセン構造等を形成していることが挙げられる。
Ｒ１０の炭化水素基の炭素原子数は、通常１５以下、好ましくは１０以下、より好ましくは８以下であり、Ｒ１０が芳香族炭化水素基の場合の炭素原子数は、通常６以上である。
Ｒ１０に含まれる官能基や連結基としては、エーテル基（オキサ基、－Ｏ－）、フルオロ基（フッ素原子，－Ｆ）、クロロ基（塩素原子，－Ｃｌ）、ブロモ基（臭素原子，－Ｂｒ）、ヨード基（ヨウ素原子，－Ｉ）等が挙げられる。
Ｒ１０としては、メチル基（－ＣＨ３，－Ｍｅ）、エチル基（－Ｃ２Ｈ５，－Ｅｔ）、ｎ－プロピル基（－ｎＣ３Ｈ７，－ｎＰｒ）、ｉ－プロピル基（－ｉＣ３Ｈ７，－ｉＰｒ）、ｎ－ブチル基（－ｎＣ４Ｈ９，－ｎＢｕ）、ｔ－ブチル基（－ｔＣ４Ｈ９，－ｔＢｕ）、ｎ－ペンチル基（－ｎＣ５Ｈ１１）、ｎ－ヘキシル基（－ｎＣ６Ｈ１３，－ｎＨｅｘ）、シクロヘキシル基（－ｃＣ６Ｈ１１，－Ｃｙ）、フェニル基（－Ｃ６Ｈ５，－Ｐｈ）等が挙げられる。Each R 10 in formula (I) independently represents a “hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a heteroatom”, but “optionally contains a heteroatom”. and “hydrocarbon group” have the same meanings as in the case of R 1 . Further, "when k=2, two hydrocarbon groups of R 10 may be linked to form a cyclic structure" means that two R 10 are linked to form a cycloheptane structure, a cycloheptene structure , a cyclohexane structure, a cyclohexene structure, or the like.
The number of carbon atoms in the hydrocarbon group for R 10 is usually 15 or less, preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and when R 10 is an aromatic hydrocarbon group, the number of carbon atoms is usually 6 or more. .
Functional groups and linking groups contained in R 10 include an ether group (oxa group, —O—), a fluoro group (fluorine atom, —F), a chloro group (chlorine atom, —Cl), a bromo group (bromine atom, -Br), an iodine group (iodine atom, -I), and the like.
R 10 includes a methyl group (--CH 3 , --Me), an ethyl group (--C 2 H 5 , --Et), an n-propyl group ( -n C 3 H 7 , --n Pr) and an i-propyl group. (- i C 3 H 7 , - i Pr), n-butyl group (- n C 4 H 9 , - n Bu), t-butyl group (- t C 4 H 9 , - t Bu), n-pentyl group (- n C 5 H 11 ), n-hexyl group (- n C 6 H 13 , - n Hex), cyclohexyl group (- c C 6 H 11 , -Cy), phenyl group (-C 6 H 5 , -Ph) and the like.
式（Ｉ）で表される化合物としては、１，３－ビス（２，６－ジイソプロピルフェニル）イミダゾリウムクロリド（ＩＰｒ）のカルベン体（Ｎ－ヘテロ環式カルベン（ＮＨＣ））、１，３－ビス（２，６－ジイソプロピルフェニル）イミダゾリニウムクロリド（ＳＩＰｒ）のカルベン体（Ｎ－ヘテロ環式カルベン（ＮＨＣ））等が挙げられる（下記式参照。）。
なお、反応工程において、銅錯体を反応器に直接投入するほか、銅元素を含む前駆体と配位子若しくは対イオンとなり得る化合物を添加剤として投入して、反応器内で目的の配位子を有する銅錯体を形成させてもよい。その結果、形成した銅錯体は複数の構造をとることもある。
具体的には、例えば、水素化（トリフェニルホスフィン）銅ヘキサマーを反応器に入れ、その後、トリ－ｎ－ブチルホスフィンをそこに添加して、目的の銅錯体を形成する方法が挙げられる。なお、水素化（トリフェニルホスフィン）銅ヘキサマーのような銅錯体は、銅元素を含む前駆体として用いることも出来る。
銅元素を含む前駆体としては、例えば、銅錯体で例示した化合物が挙げられ、好ましくは、水素化（トリフェニルホスフィン）銅ヘキサマーが挙げられる。
また、銅元素を含む前駆体と配位子の組み合わせとしては特に限定されないが、好ましくは、水素化（トリフェニルホスフィン）銅ヘキサマーと、上記式（Ｐ－１）～（Ｐ－４）の何れかで表される化合物との組み合わせであり、より好ましくは、水素化（トリフェニルホスフィン）銅ヘキサマーと、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）、トリ－ｎ－ブチルホスフィン（ＰｎＢｕ３）、トリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）、ジシクロヘキシル（フェニル）ホスフィン（ＰＣｙ２Ｐｈ）、シクロヘキシルジ（フェニル）ホスフィン（ＰＣｙＰｈ２）、１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン（ｄｐｐｅ）、１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン（ｄｐｐｐ）、１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン（ｄｐｐｂ）、１，２－ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）ブタン（ｄＣｙｐｂ）、１，１’－ビス（ジイソプロピルホスフィノ）フェロセン（ｄｉＰｒｐｆ）、４，５－ビス（ジフェニルホスフィノ）－９，９－ジメチルキサンテン（Ｘａｎｔｐｈｏｓ）、１，２－ビス（ジメチルホスフィノ）ベンゼン（ＤＰＢ）、２，２’－ビス（ジフェニルホスフィノ）－１，１’－ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）、１，１，１－トリス（ジフェニルホスフィノメチル）エタン（Ｔｒｉｐｈｏｓ Ａ）、及びビス（２－ジフェニルホスフィンエチル）フェニルホスフィン（Ｔｒｉｐｈｏｓ Ｂ）からなる群より選ばれる配位子との組み合わせが挙げられる。Examples of the compound represented by formula (I) include 1,3-bis(2,6-diisopropylphenyl)imidazolium chloride (IPr) carbene (N-heterocyclic carbene (NHC)), 1,3- Examples thereof include bis(2,6-diisopropylphenyl)imidazolinium chloride (SIPr) carbene (N-heterocyclic carbene (NHC)) (see the formula below).
In the reaction step, in addition to directly charging the copper complex into the reactor, a precursor containing a copper element and a compound that can be a ligand or a counterion are added as additives, and the desired ligand is added in the reactor. may form a copper complex having As a result, the formed copper complex may have multiple structures.
Specifically, for example, hydrogenated (triphenylphosphine)copper hexamer is placed in a reactor, and then tri-n-butylphosphine is added thereto to form the desired copper complex. A copper complex such as hydrogenated (triphenylphosphine) copper hexamer can also be used as a precursor containing elemental copper.
Precursors containing a copper element include, for example, the compounds exemplified for the copper complexes, preferably hydrogenated (triphenylphosphine) copper hexamer.
Further, the combination of the precursor containing the copper element and the ligand is not particularly limited, but preferably, hydrogenated (triphenylphosphine) copper hexamer and any of the above formulas (P-1) to (P-4) More preferably, hydrogenated (triphenylphosphine) copper hexamer, triphenylphosphine (PPh 3 ), tri-n-butylphosphine (P n Bu 3 ), tricyclohexyl Phosphine (PCy 3 ), dicyclohexyl(phenyl)phosphine (PCy 2 Ph), cyclohexyldi(phenyl)phosphine (PCyPh 2 ), 1,2-bis(diphenylphosphino)ethane (dppe), 1,2-bis(diphenyl phosphino)propane (dppp), 1,2-bis(diphenylphosphino)butane (dppb), 1,2-bis(dicyclohexylphosphino)butane (dCypb), 1,1′-bis(diisopropylphosphino)ferrocene (d i Prpf), 4,5-bis(diphenylphosphino)-9,9-dimethylxanthene (Xantphos), 1,2-bis(dimethylphosphino)benzene (DPB), 2,2′-bis(diphenyl phosphino)-1,1′-binaphthyl (BINAP), 1,1,1-tris(diphenylphosphinomethyl)ethane (Triphos A), and bis(2-diphenylphosphineethyl)phenylphosphine (Triphos B) A combination with a ligand selected from the group is mentioned.
反応工程における「銅錯体」の使用量（仕込量）は、「式（ａ）で表される構造を有するシラノール」に対して物質量換算で、通常０．００００１当量（０．００１ｍｏｌ％）以上、好ましくは０．０００１当量以上、より好ましくは０．００１当量以上であり、通常０．５０当量以下、好ましくは０．３０当量以下、より好ましくは０．１０当量以下である。前記範囲内であると、オルガノシロキサンが収率良く生成し易くなる。
反応器内で目的の銅錯体を形成させる場合の配位子（添加剤）の使用量（仕込量）は、銅元素を含む前駆体の銅（Ｃｕ）原子１個に対して物質量換算で、通常０．５当量以上、好ましくは１当量以上であり、通常１０当量以下、好ましくは５当量以下、より好ましくは３当量以下である。前記範囲内であると、オルガノシロキサンが収率良く生成し易くなる。The amount of "copper complex" used (amount to be charged) in the reaction step is usually 0.00001 equivalent (0.001 mol%) or more in terms of the amount of substance with respect to "silanol having a structure represented by formula (a)". , preferably 0.0001 equivalent or more, more preferably 0.001 equivalent or more, and usually 0.50 equivalent or less, preferably 0.30 equivalent or less, more preferably 0.10 equivalent or less. When it is within the above range, the organosiloxane tends to be produced with high yield.
The amount (charge) of the ligand (additive) used when forming the target copper complex in the reactor is calculated in terms of the amount of material for one copper (Cu) atom of the precursor containing copper element. , usually 0.5 equivalents or more, preferably 1 equivalents or more, and usually 10 equivalents or less, preferably 5 equivalents or less, more preferably 3 equivalents or less. When it is within the above range, the organosiloxane tends to be produced with high yield.
反応工程は、溶媒を使用しても、無溶媒であってもよい。溶媒を使用する場合の溶媒の種類は、特に限定されないが、原料や触媒が反応しない化合物であるヘキサン、トルエン等の炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４－ジオキサン等のエーテル系溶媒等が挙げられる。 The reaction step may be solvent-based or solvent-free. When a solvent is used, the type of solvent is not particularly limited, but examples include hydrocarbon solvents such as hexane and toluene, which are compounds that do not react with raw materials and catalysts, and ether solvents such as tetrahydrofuran and 1,4-dioxane. be done.
反応工程の反応温度は、通常－８０℃以上、好ましくは０℃以上、通常２００℃以下、好ましくは１００℃以下である。
反応工程の反応時間は、通常９６時間以下、好ましくは４８時間以下、より好ましくは２４時間以下、特に好ましくは１６時間以下である。
反応工程は、通常窒素、アルゴン等の不活性雰囲気下で行う。
前記範囲内であると、オルガノシロキサンがより収率良く生成し易くなる。The reaction temperature in the reaction step is generally −80° C. or higher, preferably 0° C. or higher, and generally 200° C. or lower, preferably 100° C. or lower.
The reaction time of the reaction step is usually 96 hours or less, preferably 48 hours or less, more preferably 24 hours or less, and particularly preferably 16 hours or less.
The reaction process is usually carried out under an inert atmosphere such as nitrogen or argon.
Within the above range, organosiloxane tends to be produced more efficiently.
反応工程によって生成するオルガノシロキサンの具体的種類は、特に限定されず、製造目的に応じて適宜選択することができるが、１つのケイ素原子に３つのアルコキシ基が結合している下記式（Ｃ－１）～（Ｃ－４）の何れかで表される化合物が挙げられる。
なお、Ｒ１、Ｒは、「式（ａ）で表される構造を有するシラノール」、「式（ｂ）で表される構造を有するヒドロシラン」のものと同義である。The specific type of organosiloxane produced by the reaction step is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the purpose of production. 1) to compounds represented by any one of (C-4).
R 1 and R have the same meanings as those of “silanol having a structure represented by formula (a)” and “hydrosilane having a structure represented by formula (b)”.
＜オルガノシロキサン＞
反応工程によって式（Ｃ－１）～（Ｃ－４）の何れかで表される化合物が生成することを前述したが、下記式（Ｃ－１）～（Ｃ－４）の何れかで表されるオルガノシロキサンも本発明の一態様である。
なお、Ｒ１、Ｒは、「式（ａ）で表される構造を有するシラノール」、「式（ｂ）で表される構造を有するヒドロシラン」のものと同義である。<Organosiloxane>
Although it has been described above that the compound represented by any one of formulas (C-1) to (C-4) is produced by the reaction process, the compound represented by any of formulas (C-1) to (C-4) below is also an aspect of the present invention.
R 1 and R have the same meanings as those of “silanol having a structure represented by formula (a)” and “hydrosilane having a structure represented by formula (b)”.
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。 The present invention will be described in more detail with reference to examples below, but modifications can be made as appropriate without departing from the gist of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed to be limited by the specific examples shown below.
＜実施例１＞
反応容器にトリエチルシラノール（６６．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、トリエトキシシラン（８２．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、水素化（トリフェニルホスフィン）銅ヘキサマー（９．８ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、トルエン（１ｍＬ）を加え、アルゴン雰囲気下、２５℃、１６時間反応させた。下記生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）の収率は３７％であった。
生成物の収率はフェニルトリメチルシラン（６０．１ｍｇ、０．４ｍｍｏｌ）を内部標準として用いた２９Ｓｉ－ＮＭＲで求めた。結果を表１に示す。<Example 1>
A reaction vessel was charged with triethylsilanol (66.1 mg, 0.5 mmol), triethoxysilane (82.1 mg, 0.5 mmol), hydrogenated (triphenylphosphine) copper hexamer (9.8 mg, 0.005 mmol), toluene (1 mL). ) was added and reacted at 25° C. for 16 hours under an argon atmosphere. The yield of the following product (Product) was 37%.
The product yield was determined by 29 Si-NMR using phenyltrimethylsilane (60.1 mg, 0.4 mmol) as an internal standard. Table 1 shows the results.
＜実施例２＞
さらにトリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）を０．０３ｍｍｏｌ添加した以外、実施例１と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表１に示す。<Example 2>
Furthermore, the reaction was carried out in the same manner as in Example 1, except that 0.03 mmol of triphenylphosphine (PPh 3 ) was added. Table 1 shows the yield of the product, etc.
＜実施例３＞
トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）の添加量を０．０６ｍｍｏｌに変更した以外、実施例２と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表１に示す。<Example 3>
A reaction was carried out in the same manner as in Example 2, except that the amount of triphenylphosphine (PPh 3 ) added was changed to 0.06 mmol. Table 1 shows the yield of the product, etc.
＜実施例４＞
トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）の添加量を０．０９ｍｍｏｌに変更した以外、実施例２と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表１に示す。<Example 4>
A reaction was carried out in the same manner as in Example 2, except that the amount of triphenylphosphine (PPh 3 ) added was changed to 0.09 mmol. Table 1 shows the yield of the product, etc.
＜実施例５＞
さらにトリ－ｎ－ブチルホスフィン（ＰｎＢｕ３）を０．０３ｍｍｏｌ添加した以外、実施例１と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表１に示す。<Example 5>
A reaction was carried out in the same manner as in Example 1, except that 0.03 mmol of tri-n-butylphosphine (P n Bu 3 ) was added. Table 1 shows the yield of the product, etc.
＜実施例６＞
トリ－ｎ－ブチルホスフィン（ＰｎＢｕ３）の添加量を０．０６ｍｍｏｌに変更した以外、実施例５と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表１に示す。<Example 6>
A reaction was carried out in the same manner as in Example 5, except that the amount of tri-n-butylphosphine (P n Bu 3 ) added was changed to 0.06 mmol. Table 1 shows the yield of the product, etc.
＜実施例７＞
トリ－ｎ－ブチルホスフィン（ＰｎＢｕ３）の添加量を０．０９ｍｍｏｌに変更した以外、実施例５と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表１に示す。<Example 7>
A reaction was carried out in the same manner as in Example 5, except that the amount of tri-n-butylphosphine (P n Bu 3 ) added was changed to 0.09 mmol. Table 1 shows the yield of the product, etc.
＜実施例８＞
トリ－ｎ－ブチルホスフィン（ＰｎＢｕ３）添加量を０．１５ｍｍｏｌに変更した以外、実施例５と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表１に示す。<Example 8>
A reaction was carried out in the same manner as in Example 5, except that the amount of tri-n-butylphosphine (P n Bu 3 ) added was changed to 0.15 mmol. Table 1 shows the yield of the product, etc.
＜実施例９＞
トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）をトリシクロヘキシルホスフィン（ＰＣｙ３）に変更した以外、実施例３と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表２に示す。<Example 9>
A reaction was carried out in the same manner as in Example 3, except that triphenylphosphine (PPh 3 ) was changed to tricyclohexylphosphine (PCy 3 ). Table 2 shows yields of products, etc.
＜実施例１０＞
トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）をジシクロヘキシル（フェニル）ホスフィン（ＰＣｙ２Ｐｈ）に変更した以外、実施例３と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表２に示す。<Example 10>
A reaction was carried out in the same manner as in Example 3, except that triphenylphosphine (PPh 3 ) was changed to dicyclohexyl(phenyl)phosphine (PCy 2 Ph). Table 2 shows yields of products, etc.
＜実施例１１＞
トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）をシクロヘキシルジ（フェニル）ホスフィン（ＰＣｙＰｈ２）に変更した以外、実施例３と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表２に示す。<Example 11>
A reaction was carried out in the same manner as in Example 3, except that triphenylphosphine (PPh 3 ) was changed to cyclohexyldi(phenyl)phosphine (PCyPh 2 ). Table 2 shows yields of products, etc.
＜実施例１２＞
トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）を１，３－ビス（２，６－ジイソプロピルフェニル）イミダゾリウムクロリド（ＩＰｒ）に変更した以外、実施例３と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表２に示す。<Example 12>
A reaction was carried out in the same manner as in Example 3, except that triphenylphosphine (PPh 3 ) was changed to 1,3-bis(2,6-diisopropylphenyl)imidazolium chloride (IPr). Table 2 shows yields of products, etc.
＜実施例１３＞
トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ３）を１，３－ビス（２，６－ジイソプロピルフェニル）イミダゾリニウムクロリド（ＳＩＰｒ）に変更した以外、実施例３と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表２に示す。<Example 13>
A reaction was carried out in the same manner as in Example 3, except that triphenylphosphine (PPh 3 ) was changed to 1,3-bis(2,6-diisopropylphenyl)imidazolinium chloride (SIPr). Table 2 shows yields of products, etc.
＜実施例１４＞
反応容器にトリエチルシラノール（６６．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、トリエトキシシラン（８２．１ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）、水素化（トリフェニルホスフィン）銅ヘキサマー（９．８ｍｇ、０．００５ｍｍｏｌ）、１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン（ｄｐｐｅ）（１２ｍｇ、０．００３ｍｍｏｌ）、トルエン（１ｍＬ）を加え、アルゴン雰囲気下、２５℃、１６時間反応させた。下記生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）の収率は７８％であった。
生成物の収率はフェニルトリメチルシラン（６０．１ｍｇ、０．４ｍｍｏｌ）を内部標準として用いた２９Ｓｉ－ＮＭＲで求めた。結果を表３に示す。<Example 14>
A reaction vessel was charged with triethylsilanol (66.1 mg, 0.5 mmol), triethoxysilane (82.1 mg, 0.5 mmol), hydrogenated (triphenylphosphine) copper hexamer (9.8 mg, 0.005 mmol), 1,2. -Bis(diphenylphosphino)ethane (dppe) (12 mg, 0.003 mmol) and toluene (1 mL) were added and reacted at 25°C for 16 hours under an argon atmosphere. The yield of the following product (Product) was 78%.
The product yield was determined by 29 Si-NMR using phenyltrimethylsilane (60.1 mg, 0.4 mmol) as an internal standard. Table 3 shows the results.
＜実施例１５＞
１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン（ｄｐｐｅ）を１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン（ｄｐｐｐ）に変更した以外、実施例１４と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表３に示す。<Example 15>
A reaction was carried out in the same manner as in Example 14, except that 1,2-bis(diphenylphosphino)ethane (dppe) was changed to 1,2-bis(diphenylphosphino)propane (dppp). Table 3 shows the yield of the product, etc.
＜実施例１６＞
１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン（ｄｐｐｅ）を１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン（ｄｐｐｂ）に変更した以外、実施例１４と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表３に示す。<Example 16>
A reaction was carried out in the same manner as in Example 14, except that 1,2-bis(diphenylphosphino)ethane (dppe) was changed to 1,2-bis(diphenylphosphino)butane (dppb). Table 3 shows the yield of the product, etc.
＜実施例１７＞
１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン（ｄｐｐｅ）を１，２－ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）ブタン（ｄＣｙｐｂ）に変更した以外、実施例１４と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表３に示す。<Example 17>
A reaction was carried out in the same manner as in Example 14, except that 1,2-bis(diphenylphosphino)ethane (dppe) was changed to 1,2-bis(dicyclohexylphosphino)butane (dCypb). Table 3 shows the yield of the product, etc.
＜実施例１８＞
１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン（ｄｐｐｅ）を１，１’－ビス（ジイソプロピルホスフィノ）フェロセン（ｄｉＰｒｐｆ）に変更した以外、実施例１４と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表３に示す。<Example 18>
A reaction was carried out in the same manner as in Example 14, except that 1,2-bis(diphenylphosphino)ethane (dppe) was changed to 1,1'-bis(diisopropylphosphino)ferrocene (d i Prpf). . Table 3 shows the yield of the product, etc.
＜実施例１９＞
１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン（ｄｐｐｅ）を４，５－ビス（ジフェニルホスフィノ）－９，９－ジメチルキサンテン（Ｘａｎｔｐｈｏｓ）に変更した以外、実施例１４と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表３に示す。<Example 19>
In the same manner as in Example 14, except that 1,2-bis(diphenylphosphino)ethane (dppe) was changed to 4,5-bis(diphenylphosphino)-9,9-dimethylxanthene (Xantphos), the reaction was did Table 3 shows the yield of the product, etc.
＜実施例２０＞
１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン（ｄｐｐｅ）を１，２－ビス（ジメチルホスフィノ）ベンゼン（ＤＰＢ）に変更した以外、実施例１４と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表３に示す。<Example 20>
A reaction was carried out in the same manner as in Example 14, except that 1,2-bis(diphenylphosphino)ethane (dppe) was changed to 1,2-bis(dimethylphosphino)benzene (DPB). Table 3 shows the yield of the product, etc.
＜実施例２１＞
１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン（ｄｐｐｅ）を２，２’－ビス（ジフェニルホスフィノ）－１，１’－ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）に変更した以外、実施例１４と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表３に示す。<Example 21>
By the same method as in Example 14, except that 1,2-bis(diphenylphosphino)ethane (dppe) was changed to 2,2'-bis(diphenylphosphino)-1,1'-binaphthyl (BINAP), reacted. Table 3 shows the yield of the product, etc.
＜実施例２２＞
１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン（ｄｐｐｅ）を１，１，１－トリス（ジフェニルホスフィノメチル）エタン（Ｔｒｉｐｈｏｓ Ａ）に変更した以外、実施例１４と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表３に示す。<Example 22>
A reaction was carried out in the same manner as in Example 14, except that 1,2-bis(diphenylphosphino)ethane (dppe) was changed to 1,1,1-tris(diphenylphosphinomethyl)ethane (Triphos A). rice field. Table 3 shows the yield of the product, etc.
＜実施例２３＞
１，２－ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン（ｄｐｐｅ）をビス（２－ジフェニルホスフィンエチル）フェニルホスフィン（Ｔｒｉｐｈｏｓ Ｂ）に変更した以外、実施例１４と同様の方法により、反応を行った。生成物（Ｐｒｏｄｕｃｔ）等の収率を表３に示す。<Example 23>
A reaction was carried out in the same manner as in Example 14, except that 1,2-bis(diphenylphosphino)ethane (dppe) was changed to bis(2-diphenylphosphineethyl)phenylphosphine (Triphos B). Table 3 shows the yield of the product, etc.
＜実施例２４＞
δH (600 MHz; d-benzene)
3.86 (q, 6H, J = 7.0 Hz, SiOCH2CH3), 1.19 (t, 9H, J = 7.0 Hz, SiOCH2CH3), 1.08 (t, 9H, J = 8.0 Hz, SiCH2CH3), 0.68 (q, 6H, J = 7.9 Hz, SiCH2CH3)
δC (150 MHz; d-benzene)
59.5, 18.8, 7.28, 6.8
δSi (119 MHz; d-benzene)
12.8 (Et3Si), -86.7 (Si(OEt)3)<Example 24>
δH (600MHz; d-benzene)
3.86 (q, 6H, J = 7.0 Hz, SiOCH2CH3 ) , 1.19 (t, 9H, J = 7.0 Hz, SiOCH2CH3 ) , 1.08 (t, 9H, J = 8.0 Hz , SiCH2CH3 ) , 0.68 (q, 6H, J = 7.9Hz , SiCH2CH3 )
δC (150 MHz; d - benzene)
59.5, 18.8, 7.28, 6.8
δ Si (119 MHz; d-benzene)
12.8 (Et3Si), -86.7 (Si(OEt)3 )
＜実施例２５＞
δH (600 MHz; d-benzene)
3.85-7.87 (q, 6H, J = 7.0 Hz, SiOCH2CH3), 1.18 (t, 9H, J = 7.0 Hz, SiOCH2CH3), 1.02 (s, 9H, (CH3)2SiC(CH3)3), 0.19 (s, 6H, (CH3)2SiC(CH3)3)
δC (150 MHz; d-benzene)
59.5, 26.2, 18.8, 2.7
δSi (119 MHz; d-benzene)
13.3 ((CH3)2SiC(CH3)3), -86.7 (Si(OEt)3)<Example 25>
δH (600MHz; d-benzene)
3.85-7.87 (q, 6H, J = 7.0 Hz, SiOCH2CH3 ), 1.18 (t, 9H, J = 7.0 Hz, SiOCH2CH3 ), 1.02 (s, 9H, ( CH3 ) 2SiC ( CH 3 ) 3 ), 0.19 (s, 6H, ( CH3 ) 2SiC ( CH3 ) 3 )
δC (150 MHz; d - benzene)
59.5, 26.2, 18.8, 2.7
δ Si (119 MHz; d-benzene)
13.3 (( CH3 ) 2SiC ( CH3 ) 3 ), -86.7 (Si(OEt) 3 )
＜実施例２６＞
δH (600 MHz; d-benzene)
7.85-7.87 (m, 6H, SiPh), 7.16-7.20 (m, 9H, SiPh), 3.81 (q, 6H, J = 7.0 Hz, SiOCH2CH3), 1.09 (t, 9H, J = 7.0 Hz, SiOCH2CH3)
δC (150 MHz; d-benzene)
136.3, 135.9, 130.6, 128.5, 59.7, 18.61
δSi (119 MHz; d-benzene)
-18.9 (SiPh3), -87.0 (Si(OEt)3)<Example 26>
δH (600MHz; d-benzene)
7.85-7.87 (m, 6H, SiPh), 7.16-7.20 (m, 9H, SiPh), 3.81 (q, 6H, J = 7.0 Hz, SiOCH2CH3 ) , 1.09 (t, 9H, J = 7.0 Hz, SiOCH2CH3 )
δC (150 MHz; d - benzene)
136.3, 135.9, 130.6, 128.5, 59.7, 18.61
δ Si (119 MHz; d-benzene)
-18.9 (SiPh3), -87.0 (Si(OEt)3 )
＜実施例２７＞
δH (600 MHz; d-benzene)
7.82 (s, 4H, SiC6H4Si), 4.31 (septet, 6H, J = 6.1 Hz, Si(OCH(CH3)2)3, 1.22 (d, 36H, 3J (H-H) = 6.1 Hz, Si(OCH(CH3)2)3), 0.49 (s, 12H, SiMe2)
δC (150 MHz; d-benzene)
141.2, 133.2, 66.3, 26.0, 1.1
δSi (119 MHz; d-benzene)
0.0 (SiC6H4Si), -89.5 (Si(OiPr)3)<Example 27>
δH (600MHz; d-benzene)
7.82 (s, 4H, SiC 6 H 4 Si), 4.31 (septet, 6H, J = 6.1 Hz, Si(OCH(CH 3 ) 2 ) 3 , 1.22 (d, 36H, 3 J (HH) = 6.1 Hz, Si(OCH( CH3 ) 2 ) 3 ), 0.49 (s, 12H, SiMe2 )
δC (150 MHz; d - benzene)
141.2, 133.2, 66.3, 26.0, 1.1
δ Si (119 MHz; d-benzene)
0.0 ( SiC6H4Si ), -89.5 ( Si (OiPr) 3 )
＜実施例２８＞
δH (600 MHz; d-benzene)
8.07-8.08 (m, 4H, SiPh2), 7.25-7.27 (m, 4H, SiPh2), 7.19-7.22 (m, 2H, SiPh2), 4. 37 (septet, 6H, J = 6.1 Hz, Si(OCH(CH3)2)3, 1.23 (d, 36H, 3J (H-H) = 6.1 Hz, Si(OCH(CH3)2)3)
δC (150 MHz; d-benzene)
136.2, 135.5, 130.7, 128.7, 66.5, 25.9
δSi (119 MHz; d-benzene)
-46.9 (SiPh2)), -91.2 (Si(OiPr)3)<Example 28>
δH (600MHz; d-benzene)
8.07-8.08 (m, 4H, SiPh2 ), 7.25-7.27 (m, 4H, SiPh2 ), 7.19-7.22 (m, 2H, SiPh2 ), 4.37 (septet, 6H, J = 6.1 Hz, Si (OCH( CH3 ) 2 ) 3 , 1.23 (d, 36H , 3J(HH) = 6.1 Hz, Si(OCH( CH3 ) 2 ) 3 )
δC (150 MHz; d - benzene)
136.2, 135.5, 130.7, 128.7, 66.5, 25.9
δ Si (119 MHz; d-benzene)
-46.9 ( SiPh2 )), -91.2 ( Si (OiPr) 3 )
＜実施例２９＞
δH (600 MHz; d-benzene)
8.20-8.21 (m, 2H, SiPh), 7.23-7.30 (m, 2H, SiPh), 7.20-7.22 (m, 1H, SiPh), 4.43 (septet, 9H, J = 6.1 Hz, Si(OCH(CH3)2)3, 1.29 (d, 54H, 3J (H-H) = 6.1 Hz, Si(OCH (CH3)2)3)
δC (150 MHz; d-benzene)
135.5, 130.7, 128.7, 127.9, 66.3, 26.0
δSi (119 MHz; d-benzene)
-82.0 (SiPh), -91.9 (Si(OiPr)3)<Example 29>
δH (600MHz; d-benzene)
8.20-8.21 (m, 2H, SiPh), 7.23-7.30 (m, 2H, SiPh), 7.20-7.22 (m, 1H, SiPh), 4.43 (septet, 9H, J = 6.1 Hz, Si(OCH(CH 3 ) 2 ) 3 , 1.29 (d, 54H , 3J(HH) = 6.1 Hz, Si(OCH( CH3 ) 2 ) 3 )
δC (150 MHz; d - benzene)
135.5, 130.7, 128.7, 127.9, 66.3, 26.0
δ Si (119 MHz; d-benzene)
-82.0 (SiPh), -91.9 ( Si (OiPr) 3 )
＜実施例３０＞
δH (600 MHz; d-benzene)
7.81-7.82 (m, 6H, SiPh), 7.19-7.21 (m, 9H, SiPh), 3.69-3.76 (m, 4H, SiOCH2CH3), 1.08 (t, 6H, J = 7.0 Hz, SiOCH2CH3), 0.18 (s, 3H, SiCH3)
δC (150 MHz; d-benzene)
136.5, 135.8, 130.6, 128.6, 58.7, 18.7, 4.6
δSi (119 MHz; d-benzene)
-19.7 (SiPh3), -49.5 (Si(OEt)2Me)<Example 30>
δH (600MHz; d-benzene)
7.81-7.82 (m, 6H, SiPh), 7.19-7.21 (m, 9H, SiPh), 3.69-3.76 (m, 4H, SiOCH2CH3 ), 1.08 (t, 6H, J = 7.0 Hz, SiOCH2CH 3 ), 0.18 (s, 3H , SiCH3)
δC (150 MHz; d - benzene)
136.5, 135.8, 130.6, 128.6, 58.7, 18.7, 4.6
δ Si (119 MHz; d-benzene)
-19.7 ( SiPh3 ), -49.5 (Si(OEt)2Me)
＜実施例３１＞
δH (600 MHz; d-benzene)
7.76-7.77 (m, 6H, SiPh), 7.19-7.20 (m, 9H, SiPh), 3.61 (q, 2H, J = 7.0 Hz, SiOCH2CH3), 1.06 (t, 3H, J = 7.0 Hz, SiOCH2CH3), 0.16 (s, 6H, SiMe2)
δC (150 MHz; d-benzene)
136.7, 135.8, 130.5, 128.7, 58.5, 18.9, -0.3
δSi (119 MHz; d-benzene)
-11.0 (Si(OEt)Me2), -20.2 (SiPh3)<Example 31>
δH (600MHz; d-benzene)
7.76-7.77 (m, 6H, SiPh), 7.19-7.20 (m, 9H, SiPh), 3.61 (q, 2H, J = 7.0 Hz, SiOCH2CH3 ), 1.06 (t, 3H , J = 7.0 Hz, SiOCH2CH3 ) , 0.16 (s, 6H, SiMe2 )
δC (150 MHz; d - benzene)
136.7, 135.8, 130.5, 128.7, 58.5, 18.9, -0.3
δ Si (119 MHz; d-benzene)
-11.0 (Si(OEt)Me2), -20.2 ( SiPh3 )
＜実施例３２＞
δH (600 MHz; d-benzene)
7.82-7.84 (m, 6H, SiPh), 7.20-7.24 (m, 9H, SiPh), 0.14 (s, 27H, Si(OSiMe3)3)
δC (150 MHz; d-benzene)
136.5, 136.0, 130.5, 128.4, 2.0
δSi (119 MHz; d-benzene)
9.5 (Si(OSiMe3)3), -20.0 (SiPh3), -104.7 (Si(OSiMe3)3)<Example 32>
δH (600MHz; d-benzene)
7.82-7.84 (m, 6H, SiPh), 7.20-7.24 (m, 9H, SiPh), 0.14 (s, 27H, Si( OSiMe3)3 )
δC (150 MHz; d - benzene)
136.5, 136.0, 130.5, 128.4, 2.0
δ Si (119 MHz; d-benzene)
9.5 (Si(OSiMe3) 3 ), -20.0 ( SiPh3 ), -104.7 (Si( OSiMe3 ) 3 )
＜実施例３３＞
δH (600 MHz; d-benzene)
8.02-8.04 (m, 4H, SiPh2), 7.19-7.25 (m, 6H, SiPh2), 3.89 (q, 12H, J = 7.0 Hz, Si (OCH2CH3)3), 1.16 (t, 18H, J = 7.0 Hz, Si(OCH2CH3)3)
δC (150 MHz; d-benzene)
135.8, 135.2, 130.8, 128.7, 59.7, 18.6
δSi (119 MHz; d-benzene)
-46.3 (SiPh2)), -88.0 (Si(OEt)3)<Example 33>
δH (600MHz; d-benzene)
8.02-8.04 (m, 4H, SiPh2 ), 7.19-7.25 (m, 6H, SiPh2 ), 3.89 (q, 12H, J = 7.0 Hz, Si( OCH2CH3 ) 3 ) , 1.16 (t, 18H , J = 7.0 Hz, Si ( OCH2CH3 ) 3 )
δC (150 MHz; d - benzene)
135.8, 135.2, 130.8, 128.7, 59.7, 18.6
δ Si (119 MHz; d-benzene)
-46.3 ( SiPh2 )), -88.0 (Si(OEt) 3 )
本発明の製造方法によって製造されたオルガノシロキサンは、シリコーンオイル、シリコーンゴム、有機無機ハイブリッド素材等の原料として使用することができる。 Organosiloxanes produced by the production method of the present invention can be used as raw materials for silicone oils, silicone rubbers, organic-inorganic hybrid materials, and the like.
Claims (3)
前記シラノールが、下記式（Ａ－１）～（Ａ－５）の何れかで表される化合物であり、
前記ヒドロシランが、下記式（Ｂ－１）～（Ｂ－６）の何れかで表される化合物である、オルガノシロキサンの製造方法。
（式（ｂ）及び（ｃ）中、Ｒは炭素原子数１～２０の炭化水素基、又は－ＳｉＲ’３（Ｒ’はそれぞれ独立して炭素数１～２０の炭化水素基）を表す。）
（式（Ａ－１）～（Ａ－５）中、Ｒ１はそれぞれ独立して炭素原子数１～２０の炭化水素基を、Ｒ２ は炭素原子数１～２０のｎ価の炭化水素基を、Ｒ３はそれぞれ独立してヒドロキシル基、又は炭素原子数１～２０の炭化水素基を、ｎは２～１０の整数を表す。）
（式（Ｂ－１）～（Ｂ－６）中、Ｒ４ は炭素原子数１～２０の炭化水素基を、Ｒはそれぞれ独立して炭素原子数１～２０の炭化水素基、又は－ＳｉＲ’３（Ｒ’はそれぞれ独立して炭素数１～２０の炭化水素基）を表す。） In the presence of a copper complex, a silanol having a structure represented by the following formula (a) and a hydrosilane having a structure represented by the following formula (b) are reacted to form an organo having a structure represented by the following formula (c). including a reaction step to produce siloxane;
The silanol is a compound represented by any one of the following formulas (A-1) to (A-5),
A method for producing an organosiloxane, wherein the hydrosilane is a compound represented by any one of the following formulas (B-1) to (B-6).
(In formulas (b) and (c), R represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or —SiR′ 3 (R′ each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms). .)
(In formulas (A-1) to (A-5), R 1 is each independently a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and R 2 is an n-valent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. a hydrogen group, each R 3 independently represents a hydroxyl group or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and n represents an integer of 2 to 10.)
(In formulas (B-1) to (B-6), R 4 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, each R is independently a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, or —SiR' 3 (each R' independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms).
（式（Ｐ－１）～（Ｐ－４）中、Ｒ５はそれぞれ独立して水素原子、又はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～２０の炭化水素基を、Ｒ６はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～３０のｈ価の炭化水素基を、Ｒ７はそれぞれ独立してヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～２０の２価の炭化水素基を、Ｒ８はそれぞれ独立してヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～２０の炭化水素基を、ｈは２～１０の整数を、ｉは１～３の整数を、ｊはそれぞれ独立して０～４の整数を表す。但し、Ｒ５の２以上が炭化水素基である場合、Ｒ５の２以上の炭化水素基が連結して環状構造を形成していてもよく、ｊが２以上の整数である場合、Ｒ８の２以上の炭化水素基が連結して環状構造を形成していてもよい。）
（式（Ｉ）中、Ｒ９はそれぞれ独立して水素原子、又はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～２０の炭化水素基を、Ｒ１０はそれぞれ独立してヘテロ原子を含んでいてもよい炭素原子数１～２０の炭化水素基を、ｋは０～２の整数を表す。但し、ｋ＝２である場合、Ｒ１０の２つの炭化水素基が連結して環状構造を形成していてもよい。） The copper complex contains at least one compound selected from the group consisting of compounds represented by any of the following formulas (P-1) to (P-4) and compounds represented by the following formula (I): 2. The method for producing an organosiloxane according to claim 1, which is a complex containing as a ligand.
(In formulas (P-1) to (P-4), R 5 is each independently a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a hetero atom, and R 6 is a hetero an h-valent hydrocarbon group having 1 to 30 carbon atoms which may contain an atom, and R 7 is each independently a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a hetero atom; , R 8 is each independently a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a heteroatom, h is an integer of 2 to 10, i is an integer of 1 to 3, and j is each independently represents an integer of 0 to 4. However, when two or more of R 5 are hydrocarbon groups, two or more hydrocarbon groups of R 5 may be linked to form a cyclic structure; is an integer of 2 or more, two or more hydrocarbon groups of R 8 may be linked to form a cyclic structure.)
(In formula (I), each R 9 independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms which may contain a heteroatom, and each R 10 independently contains a heteroatom. a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, which may be may be.)
（式（Ｃ－１）～（Ｃ－４）中、Ｒ１はそれぞれ独立して炭素原子数１～２０の炭化水素基を、Ｒはそれぞれ独立して炭素原子数１～２０の炭化水素基、又は－ＳｉＲ’３（Ｒ’はそれぞれ独立して炭素数１～２０の炭化水素基）を表す。） The method for producing an organosiloxane according to claim 1 or 2, wherein the organosiloxane is a compound represented by any one of the following formulas (C-1) to (C-4).
(In formulas (C-1) to (C-4), R 1 is each independently a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and R is each independently a carbon group having 1 to 20 carbon atoms. a hydrogen group, or —SiR′ 3 (each R′ independently represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms).
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