JP4433168B2 - Organoxysilane compounds having protected hydroxyl groups - Google Patents

Organoxysilane compounds having protected hydroxyl groups Download PDF

Info

Publication number
JP4433168B2
JP4433168B2 JP2004069325A JP2004069325A JP4433168B2 JP 4433168 B2 JP4433168 B2 JP 4433168B2 JP 2004069325 A JP2004069325 A JP 2004069325A JP 2004069325 A JP2004069325 A JP 2004069325A JP 4433168 B2 JP4433168 B2 JP 4433168B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
compound
butyldimethylsiloxy
spectrum
silane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2004069325A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2005255614A (en
Inventor
洋一 殿村
透 久保田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2004069325A priority Critical patent/JP4433168B2/en
Publication of JP2005255614A publication Critical patent/JP2005255614A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4433168B2 publication Critical patent/JP4433168B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Description

本発明は、シランカップリング剤、表面処理剤、高分子変性剤として有用なトリオルガノシリル基で保護された水酸基を有するオルガノキシシラン化合物に関する。 The present invention is a silane coupling agent, surface treating agent, about the organoxysilane compound having a hydroxyl group protected by a useful triorganosilyl group as a polymer modifier.

官能基を有するアルコキシシラン化合物はシランカップリング剤、表面処理剤、高分子変性剤等に広く用いられており、例えば、アミノ基、(メタ)アクリロキシ基、メルカプト基、エポキシ基、ビニル基等の官能基を有するアルコキシシラン化合物等が挙げられる。このような官能基を有するシラン化合物の1つとして、水酸基を有するアルコキシシラン化合物が考えられる。水酸基を有するアルコキシシラン化合物は、高分子に水酸基を導入することができる高分子変性剤や、シランカップリング剤、表面処理剤として有用である。しかしながら、水酸基を有するシラン化合物は、水酸基とケイ素原子との間で分子間反応を起こし、高分子化してしまうため、安定な状態で存在することができない。
なお、本発明に関連する先行文献としては下記のものが挙げられる。
Alkoxysilane compounds having functional groups are widely used in silane coupling agents, surface treatment agents, polymer modifiers, and the like, such as amino groups, (meth) acryloxy groups, mercapto groups, epoxy groups, vinyl groups, etc. Examples include alkoxysilane compounds having a functional group. As one of the silane compounds having such a functional group, an alkoxysilane compound having a hydroxyl group can be considered. The alkoxysilane compound having a hydroxyl group is useful as a polymer modifier capable of introducing a hydroxyl group into a polymer, a silane coupling agent, or a surface treatment agent. However, a silane compound having a hydroxyl group cannot be present in a stable state because it causes an intermolecular reaction between the hydroxyl group and a silicon atom and becomes a polymer.
In addition, the following are mentioned as prior literature relevant to the present invention.

「ORGANOHALOSILANES Precursors to Silicone」,(オランダ),ELSEVIER PUBLISHING COMPANY,p.350,7〜15行目“ORGANOHALOSILANES Precursors to Silicone” (Netherlands), ELSEVIER PUBLISHING COMPANY, p. 350, 7th to 15th lines

本発明は上記事情に鑑みなされたもので、安定に存在でき、かつ水酸基を有するオルガノキシシラン化合物と同等の効果を発現させることができるトリオルガノシリル基で保護された水酸基を有するオルガノキシシラン化合物を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an organoxysilane compound having a hydroxyl group protected by a triorganosilyl group that can be stably present and can exhibit the same effect as an organoxysilane compound having a hydroxyl group. The purpose is to provide goods .

本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、水酸基をトリオルガノシリル基で保護した下記一般式(1)

Figure 0004433168
(式中、R1、R2、R3、R4は炭素数1〜10の1価炭化水素基、R5、R6は水素原子又はメチル基、Aは炭素数1〜10の直鎖又は分岐状の2価脂肪族炭化水素基、aは0〜5の整数、nは0,1又は2である。)
で示されるオルガノキシシラン化合物が、化合物として安定に存在でき、また、シランカップリング剤、表面処理剤、高分子変性剤として用いた後で、脱保護することにより、容易に水酸基を生成することができ、水酸基を有するオルガノキシシラン化合物を用いたのと同等の効果が発現すること、特にアニオン重合末端変性剤として用いた場合、アニオン重合末端は保護された水酸基とは反応せず、選択的にオルガノキシシラン部位と反応するため、定量的にアニオン重合末端に保護された水酸基を導入することができ、その後脱保護することにより容易に水酸基変性ポリマーを製造できることを知見し、本発明を完成するに至ったものである。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has obtained the following general formula (1) in which a hydroxyl group is protected with a triorganosilyl group.
Figure 0004433168
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and R 4 are monovalent hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, R 5 and R 6 are hydrogen atoms or methyl groups, and A is a straight chain having 1 to 10 carbon atoms. Or a branched divalent aliphatic hydrocarbon group, a is an integer of 0 to 5, and n is 0, 1 or 2.)
The organoxysilane compound represented by can be stably present as a compound, and can easily generate a hydroxyl group by deprotection after being used as a silane coupling agent, surface treatment agent, or polymer modifier. It is possible to produce an effect equivalent to that of using an organoxysilane compound having a hydroxyl group. In particular, when used as an anionic polymerization terminal modifier, the anionic polymerization terminal does not react with a protected hydroxyl group and is selectively used. Since it reacts with the organoxysilane moiety, it can be quantitatively introduced into the hydroxyl group protected at the end of the anionic polymerization, and then it can be easily produced by deprotection to complete the present invention. It has come to be.

従って、本発明は、下記オルガノキシシラン化合物を提供する。
[I]下記一般式(1)

Figure 0004433168
(式中、aは0〜5の整数で、a=0の場合、R 1 2 3 SiO−はトリエチルシロキシ基、t−ブチルジメチルシロキシ基、又はトリイソプロピルシロキシ基を示し、a=1〜5の整数の場合、R 1 、R 2 、R 3 は炭素数1〜10の1価炭化水素基を示し、4は炭素数1〜10の1価炭化水素基、R5、R6は水素原子又はメチル基、Aは炭素数1〜10の直鎖又は分岐状の2価脂肪族炭化水素基、nは0,1又は2である。)
で示されることを特徴とする保護された水酸基を有するオルガノキシシラン化合物。
[II]R5、R6が共に水素原子、Aが−A’−CH2CH2−(A’は炭素数1〜8の直鎖又は分岐状の2価脂肪族炭化水素基である。)、aが0又は1であることを特徴とする[I]記載の保護された水酸基を有するオルガノキシシラン化合物 Accordingly, the present invention provides the following organoxysilane compound.
[I] The following general formula (1)
Figure 0004433168
( Wherein , a is an integer of 0 to 5, and when a = 0, R 1 R 2 R 3 SiO— represents a triethylsiloxy group, a t-butyldimethylsiloxy group, or a triisopropylsiloxy group, and a = 1 In the case of an integer of ˜5, R 1 , R 2 , R 3 represent a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms , R 4 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, R 5 , R 6 Is a hydrogen atom or a methyl group, A is a linear or branched divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms , and n is 0, 1 or 2.)
An organoxysilane compound having a protected hydroxyl group, wherein
[II] R 5 and R 6 are both hydrogen atoms, A is —A′—CH 2 CH 2 — (A ′ is a linear or branched divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. ), An organoxysilane compound having a protected hydroxyl group according to [I], wherein a is 0 or 1 .

本発明によれば、トリオルガノシリル基で保護された水酸基を有するオルガノキシシラン化合物が、化合物として安定に存在でき、また、シランカップリング剤や高分子変性に用いた後で、トリオルガノシリル基を脱保護することにより、水酸基を有するオルガノキシシラン化合物を用いたのと同等の効果を発現することができる。   According to the present invention, an organoxysilane compound having a hydroxyl group protected with a triorganosilyl group can exist stably as a compound, and after being used for a silane coupling agent or polymer modification, a triorganosilyl group By deprotecting, effects equivalent to those obtained using an organoxysilane compound having a hydroxyl group can be exhibited.

本発明のオルガノキシシラン化合物は、下記一般式(1)

Figure 0004433168
(式中、aは0〜5の整数で、a=0の場合、R 1 2 3 SiO−はトリエチルシロキシ基、t−ブチルジメチルシロキシ基、又はトリイソプロピルシロキシ基を示し、a=1〜5の整数の場合、R 1 、R 2 、R 3 は炭素数1〜10の1価炭化水素基を示し、4は炭素数1〜10の1価炭化水素基、R5、R6は水素原子又はメチル基、Aは炭素数1〜10の直鎖又は分岐状の2価脂肪族炭化水素基、nは0,1又は2である。)
で示されるトリオルガノシリル基で保護された水酸基を有するオルガノキシシラン化合物である。 The organoxysilane compound of the present invention has the following general formula (1)
Figure 0004433168
( Wherein , a is an integer of 0 to 5, and when a = 0, R 1 R 2 R 3 SiO— represents a triethylsiloxy group, a t-butyldimethylsiloxy group, or a triisopropylsiloxy group, and a = 1 In the case of an integer of ˜5, R 1 , R 2 , R 3 represent a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms , R 4 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, R 5 , R 6 Is a hydrogen atom or a methyl group, A is a linear or branched divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms , and n is 0, 1 or 2.)
And an organoxysilane compound having a hydroxyl group protected by a triorganosilyl group.

この場合、上記1価炭化水素基としては、直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、アルケニル基、アリール基等が挙げられるが、特には直鎖状又は分岐状のアルキル基が好ましい。また、上記1価炭化水素基の炭素数は1〜6であることが好ましい。上記2価脂肪族炭化水素基としては、アルキレン基が好ましく、炭素数1〜5であることがより好ましい。   In this case, examples of the monovalent hydrocarbon group include a linear, branched, or cyclic alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, and the like, and a linear or branched alkyl group is particularly preferable. The monovalent hydrocarbon group preferably has 1 to 6 carbon atoms. As said bivalent aliphatic hydrocarbon group, an alkylene group is preferable and it is more preferable that it is C1-C5.

上記一般式(1)のオルガノキシシラン化合物としては、具体的には以下に示すアルコキシシラン化合物が例示される:6−トリメチルシロキシ−−オキサヘキシルトリメトキシシラン、6−トリメチルシロキシ−−オキサヘキシルメチルジメトキシシラン、6−トリメチルシロキシ−−オキサヘキシルジメチルメトキシシラン、6−トリメチルシロキシ−−オキサヘキシルトリエトキシシラン、6−トリメチルシロキシ−−オキサヘキシルメチルジエトキシシラン、6−トリメチルシロキシ−−オキサヘキシルジメチルエトキシシラン、トリエチルシロキシメチルトリメトキシシラン、トリエチルシロキシメチルメチルジメトキシシラン、トリエチルシロキシメチルジメチルメトキシシラン、トリエチルシロキシメチルトリエトキシシラン、トリエチルシロキシメチルメチルジエトキシシラン、トリエチルシロキシメチルジメチルエトキシシラン、2−トリエチルシロキシエチルトリメトキシシラン、2−トリエチルシロキシエチルメチルジメトキシシラン、2−トリエチルシロキシエチルジメチルメトキシシラン、2−トリエチルシロキシエチルトリエトキシシラン、2−トリエチルシロキシエチルメチルジエトキシシラン、2−トリエチルシロキシエチルジメチルエトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルトリメトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルトリエトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルジメチルエトキシシラン、4−トリエチルシロキシブチルトリメトキシシラン、4−トリエチルシロキシブチルメチルジメトキシシラン、4−トリエチルシロキシブチルジメチルメトキシシラン、4−トリエチルシロキシブチルトリエトキシシラン、4−トリエチルシロキシブチルメチルジエトキシシラン、4−トリエチルシロキシブチルジメチルエトキシシラン、6−トリエチルシロキシ−−オキサヘキシルトリメトキシシラン、6−トリエチルシロキシ−−オキサヘキシルメチルジメトキシシラン、6−トリエチルシロキシ−−オキサヘキシルジメチルメトキシシラン、6−トリエチルシロキシ−−オキサヘキシルトリエトキシシラン、6−トリエチルシロキシ−−オキサヘキシルメチルジエトキシシラン、6−トリエチルシロキシ−−オキサヘキシルジメチルエトキシシラン、t−ブチルジメチルシロキシメチルトリメトキシシラン、t−ブチルジメチルシロキシメチルメチルジメトキシシラン、t−ブチルジメチルシロキシメチルジメチルメトキシシラン、t−ブチルジメチルシロキシメチルトリエトキシシラン、t−ブチルジメチルシロキシメチルメチルジエトキシシラン、t−ブチルジメチルシロキシメチルジメチルエトキシシラン、2−(t−ブチルジメチルシロキシ)エチルトリメトキシシラン、2−(t−ブチルジメチルシロキシ)エチルメチルジメトキシシラン、2−(t−ブチルジメチルシロキシ)エチルジメチルメトキシシラン、2−(t−ブチルジメチルシロキシ)エチルトリエトキシシラン、2−(t−ブチルジメチルシロキシ)エチルメチルジエトキシシラン、2−(t−ブチルジメチルシロキシ)エチルジメチルエトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルトリメトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルメチルジメトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルジメチルメトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルトリエトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルメチルジエトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルジメチルエトキシシラン、4−(t−ブチルジメチルシロキシ)ブチルトリメトキシシラン、4−(t−ブチルジメチルシロキシ)ブチルメチルジメトキシシラン、4−(t−ブチルジメチルシロキシ)ブチルジメチルメトキシシラン、4−(t−ブチルジメチルシロキシ)ブチルトリエトキシシラン、4−(t−ブチルジメチルシロキシ)ブチルメチルジエトキシシラン、4−(t−ブチルジメチルシロキシ)ブチルジメチルエトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−−オキサヘキシルトリメトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−−オキサヘキシルメチルジメトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−−オキサヘキシルジメチルメトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−−オキサヘキシルトリエトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−−オキサヘキシルメチルジエトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−−オキサヘキシルジメチルエトキシシラン、トリイソプロピルシロキシメチルトリメトキシシラン、トリイソプロピルシロキシメチルメチルジメトキシシラン、トリイソプロピルシロキシメチルジメチルメトキシシラン、トリイソプロピルシロキシメチルトリエトキシシラン、トリイソプロピルシロキシメチルメチルジエトキシシラン、トリイソプロピルシロキシメチルジメチルエトキシシラン、2−トリイソプロピルシロキシエチルトリメトキシシラン、2−トリイソプロピルシロキシエチルメチルジメトキシシラン、2−トリイソプロピルシロキシエチルジメチルメトキシシラン、2−トリイソプロピルシロキシエチルトリエトキシシラン、2−トリイソプロピルシロキシエチルメチルジエトキシシラン、2−トリイソプロピルシロキシエチルジメチルエトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルトリメトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルトリエトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルジメチルエトキシシラン、4−トリイソプロピルシロキシブチルトリメトキシシラン、4−トリイソプロピルシロキシブチルメチルジメトキシシラン、4−トリイソプロピルシロキシブチルジメチルメトキシシラン、4−トリイソプロピルシロキシブチルトリエトキシシラン、4−トリイソプロピルシロキシブチルメチルジエトキシシラン、4−トリイソプロピルシロキシブチルジメチルエトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−−オキサヘキシルトリメトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−−オキサヘキシルメチルジメトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−−オキサヘキシルジメチルメトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−−オキサヘキシルトリエトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−−オキサヘキシルメチルジエトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−−オキサヘキシルジメチルエトキシシラン等。 Specific examples of the organoxysilane compound of the general formula (1) include the following alkoxysilane compounds : 6 -trimethylsiloxy- 4 -oxahexyltrimethoxysilane, 6-trimethylsiloxy- 4 -oxa Hexylmethyldimethoxysilane, 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexyldimethylmethoxysilane, 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexyltriethoxysilane, 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexylmethyldiethoxysilane, 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexyldimethylethoxysilane, triethylsiloxymethyltrimethoxysilane, triethylsiloxymethylmethyldimethoxysilane, triethylsiloxymethyldimethylmethoxysilane, triethylsiloxymethyl Rutriethoxysilane, triethylsiloxymethylmethyldiethoxysilane, triethylsiloxymethyldimethylethoxysilane, 2-triethylsiloxyethyltrimethoxysilane, 2-triethylsiloxyethylmethyldimethoxysilane, 2-triethylsiloxyethyldimethylmethoxysilane, 2-triethylsiloxy Ethyltriethoxysilane, 2-triethylsiloxyethylmethyldiethoxysilane, 2-triethylsiloxyethyldimethylethoxysilane, 3-triethylsiloxypropyltrimethoxysilane, 3-triethylsiloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-triethylsiloxypropyldimethylmethoxysilane 3-triethylsiloxypropyltriethoxysilane, 3-triethylsiloxypropylmethyl Ethoxysilane, 3-triethylsiloxypropyldimethylethoxysilane, 4-triethylsiloxybutyltrimethoxysilane, 4-triethylsiloxybutylmethyldimethoxysilane, 4-triethylsiloxybutyldimethylmethoxysilane, 4-triethylsiloxybutyltriethoxysilane, 4- triethylsiloxy-butyl methyl diethoxy silane, 4-triethylsiloxy-butyldimethyl silane, 6- triethylsiloxy - 4 - oxa hexyltrimethoxysilane, 6-triethylsiloxy - 4 - oxa hexyl methyl dimethoxy silane, 6- triethylsiloxy - 4 - oxahexyl dimethyl silane, 6- triethylsiloxy - 4 - oxa hexyl triethoxysilane, 6-triethylsiloxy - 4 - Kisa hexyl methyl diethoxy silane, 6- triethylsiloxy - 4 - oxa hexyl dimethyl silane, t- butyl dimethylsiloxy methyltrimethoxysilane, t- butyl dimethylsiloxy methyl dimethoxysilane, t- butyl butyldimethylsiloxymethyl dimethyl silane, t-butyldimethylsiloxymethyltriethoxysilane, t-butyldimethylsiloxymethylmethyldiethoxysilane, t-butyldimethylsiloxymethyldimethylethoxysilane, 2- (t-butyldimethylsiloxy) ethyltrimethoxysilane, 2- (t- Butyldimethylsiloxy) ethylmethyldimethoxysilane, 2- (t-butyldimethylsiloxy) ethyldimethylmethoxysilane, 2- (t-butyldimethylsiloxy) ethyltrie Toxisilane, 2- (t-butyldimethylsiloxy) ethylmethyldiethoxysilane, 2- (t-butyldimethylsiloxy) ethyldimethylethoxysilane, 3- (t-butyldimethylsiloxy) propyltrimethoxysilane, 3- (t- Butyldimethylsiloxy) propylmethyldimethoxysilane, 3- (t-butyldimethylsiloxy) propyldimethylmethoxysilane, 3- (t-butyldimethylsiloxy) propyltriethoxysilane, 3- (t-butyldimethylsiloxy) propylmethyldiethoxy Silane, 3- (t-butyldimethylsiloxy) propyldimethylethoxysilane, 4- (t-butyldimethylsiloxy) butyltrimethoxysilane, 4- (t-butyldimethylsiloxy) butylmethyldimethoxysilane, 4- (t-butyl Rudimethylsiloxy) butyldimethylmethoxysilane, 4- (t-butyldimethylsiloxy) butyltriethoxysilane, 4- (t-butyldimethylsiloxy) butylmethyldiethoxysilane, 4- (t-butyldimethylsiloxy) butyldimethylethoxy silane, 6- (t-butyl dimethylsiloxy) - 4 - oxa hexyltrimethoxysilane, 6- (t-butyl dimethylsiloxy) - 4 - oxa hexyl methyl dimethoxy silane, 6- (t-butyl dimethylsiloxy) - 4 - oxahexyl dimethyl silane, 6- (t-butyl dimethylsiloxy) - 4 - oxa hexyl triethoxysilane, 6- (t-butyl dimethylsiloxy) - 4 - oxa hexyl methyl diethoxy silane, 6- (t-butyldimethyl siloxy) - 4 -Oxahexyldimethylethoxysilane, triisopropylsiloxymethyltrimethoxysilane, triisopropylsiloxymethylmethyldimethoxysilane, triisopropylsiloxymethyldimethylmethoxysilane, triisopropylsiloxymethyltriethoxysilane, triisopropylsiloxymethylmethyldiethoxysilane, triisopropyl Siloxymethyldimethylethoxysilane, 2-triisopropylsiloxyethyltrimethoxysilane, 2-triisopropylsiloxyethylmethyldimethoxysilane, 2-triisopropylsiloxyethyldimethylmethoxysilane, 2-triisopropylsiloxyethyltriethoxysilane, 2-triisopropyl Siloxyethylmethyldiethoxysilane, 2-triisopropylsiloxy Ethyldimethylethoxysilane, 3-triisopropylsiloxypropyltrimethoxysilane, 3-triisopropylsiloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-triisopropylsiloxypropyldimethylmethoxysilane, 3-triisopropylsiloxypropyltriethoxysilane, 3-triisopropylsiloxy Propylmethyldiethoxysilane, 3-triisopropylsiloxypropyldimethylethoxysilane, 4-triisopropylsiloxybutyltrimethoxysilane, 4-triisopropylsiloxybutylmethyldimethoxysilane, 4-triisopropylsiloxybutyldimethylmethoxysilane, 4-triisopropyl Siloxybutyltriethoxysilane, 4-triisopropylsiloxybutylmethyldiethoxysilane, 4 Triisopropylsiloxy-butyldimethyl silane, 6- triisopropylsiloxy - 4 - oxa hexyltrimethoxysilane, 6-triisopropylsiloxy - 4 - oxa hexyl methyl dimethoxy silane, 6- triisopropylsiloxy - 4 - oxa hexyl dimethyl silane, 6-triisopropylsiloxy- 4 -oxahexyltriethoxysilane, 6-triisopropylsiloxy- 4 -oxahexylmethyldiethoxysilane, 6-triisopropylsiloxy- 4 -oxahexyldimethylethoxysilane, and the like.

これらの中で、生成物の有用性、製造の容易性の点から、上記一般式(1)のR5、R6が共に水素原子、Aが−A’−CH2CH2−(A’は炭素数1〜8、好ましくは1〜5の直鎖又は分岐状の2価脂肪族炭化水素基、好ましくはアルキレン基)、aが0又は1である化合物がより好ましく、具体的には6−トリメチルシロキシ−−オキサヘキシルトリメトキシシラン、−トリメチルシロキシ−−オキサヘキシルメチルジメトキシシラン、6−トリメチルシロキシ−−オキサヘキシルジメチルメトキシシラン、6−トリメチルシロキシ−−オキサヘキシルトリエトキシシラン、6−トリメチルシロキシ−−オキサヘキシルメチルジエトキシシラン、6−トリメチルシロキシ−−オキサヘキシルジメチルエトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルトリメトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルトリエトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−トリエチルシロキシプロピルジメチルエトキシシラン、6−トリエチルシロキシ−オキサヘキシルトリメトキシシラン、6−トリエチルシロキシ−オキサヘキシルメチルジメトキシシラン、6−トリエチルシロキシ−オキサヘキシルジメチルメトキシシラン、6−トリエチルシロキシ−オキサヘキシルトリエトキシシラン、6−トリエチルシロキシ−オキサヘキシルメチルジエトキシシラン、6−トリエチルシロキシ−オキサヘキシルジメチルエトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルトリメトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルメチルジメトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルジメチルメトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルトリエトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルメチルジエトキシシラン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルジメチルエトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−−オキサヘキシルトリメトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−−オキサヘキシルメチルジメトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−−オキサヘキシルジメチルメトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−−オキサヘキシルトリエトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−−オキサヘキシルメチルジエトキシシラン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−−オキサヘキシルジメチルエトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルトリメトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルトリエトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−トリイソプロピルシロキシプロピルジメチルエトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−−オキサヘキシルトリメトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−−オキサヘキシルメチルジメトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−−オキサヘキシルジメチルメトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−−オキサヘキシルトリエトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−−オキサヘキシルメチルジエトキシシラン、6−トリイソプロピルシロキシ−−オキサヘキシルジメチルエトキシシラン等が例示される。 Among these, from the viewpoint of the usefulness of the product and the ease of production, R 5 and R 6 in the general formula (1) are both hydrogen atoms, and A is —A′—CH 2 CH 2 — (A ′). Is a straight-chain or branched divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, preferably 1 to 5 carbon atoms, preferably an alkylene group, and a compound in which a is 0 or 1, more specifically 6 -Trimethylsiloxy- 4 -oxahexyltrimethoxysilane, 6 -trimethylsiloxy- 4 -oxahexylmethyldimethoxysilane, 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexyldimethylmethoxysilane, 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexyltriethoxysilane 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexylmethyldiethoxysilane, 6-trimethylsiloxy- 4- oxahexyldimethylethoxysila 3-triethylsiloxypropyltrimethoxysilane, 3-triethylsiloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-triethylsiloxypropyldimethylmethoxysilane, 3-triethylsiloxypropyltriethoxysilane, 3-triethylsiloxypropylmethyldiethoxysilane, 3- Triethylsiloxypropyldimethylethoxysilane, 6-triethylsiloxy- 4 -oxahexyltrimethoxysilane, 6-triethylsiloxy- 4 -oxahexylmethyldimethoxysilane, 6-triethylsiloxy- 4 -oxahexyldimethylmethoxysilane, 6-triethylsiloxy- 4 -oxa hexyl triethoxysilane, 6-triethylsiloxy 4 - oxahexyl methyl diethoxy silane, 6- triethylsiloxy 4 - Oki Hexyldimethylethoxysilane, 3- (t-butyldimethylsiloxy) propyltrimethoxysilane, 3- (t-butyldimethylsiloxy) propylmethyldimethoxysilane, 3- (t-butyldimethylsiloxy) propyldimethylmethoxysilane, 3- ( t-butyldimethylsiloxy) propyltriethoxysilane, 3- (t-butyldimethylsiloxy) propylmethyldiethoxysilane, 3- (t-butyldimethylsiloxy) propyldimethylethoxysilane, 6- (t-butyldimethylsiloxy)- 4 - oxa hexyltrimethoxysilane, 6- (t-butyl dimethylsiloxy) - 4 - oxa hexyl methyl dimethoxy silane, 6- (t-butyl dimethylsiloxy) - 4 - oxa hexyl dimethyl silane, 6- (t- Chill dimethylsiloxy) - 4 - oxa hexyl triethoxysilane, 6- (t-butyl dimethylsiloxy) - 4 - oxa hexyl methyl diethoxy silane, 6- (t-butyl dimethylsiloxy) - 4 - oxa hexyl dimethyl silane, 3-triisopropylsiloxypropyltrimethoxysilane, 3-triisopropylsiloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-triisopropylsiloxypropyldimethylmethoxysilane, 3-triisopropylsiloxypropyltriethoxysilane, 3-triisopropylsiloxypropylmethyldiethoxysilane , 3-triisopropylsiloxy dimethyl ethoxy silane, 6- triisopropylsiloxy - 4 - oxa hexyltrimethoxysilane, 6-triisopropyl Shi Carboxymethyl - 4 - oxa hexyl methyl dimethoxy silane, 6- triisopropylsiloxy - 4 - oxa hexyl dimethyl silane, 6- triisopropylsiloxy - 4 - oxa hexyl triethoxysilane, 6-triisopropylsiloxy - 4 - oxa hexyl methyl di Examples include ethoxysilane and 6-triisopropylsiloxy- 4 -oxahexyldimethylethoxysilane.

また、本発明における上記一般式(1)で示される保護された水酸基を有するオルガノキシシラン化合物の製造方法は、例えば、下記一般式(2)
123SiO−(CH2CH2O)a−A’−CH=CH2 (2)
(式中、R1、R2、R3、A’は上記と同様であり、aは0又は1である。)
で示される二重結合を有する化合物と下記一般式(3)
HSi(CH3n(OR43-n (3)
(式中、R4、nは上記と同様である。)
で示されるハイドロジェンオルガノキシシラン化合物とを白金触媒下で反応させる方法が例示される。
Moreover, the manufacturing method of the organoxysilane compound which has the protected hydroxyl group shown by the said General formula (1) in this invention is the following General formula (2), for example.
R 1 R 2 R 3 SiO— (CH 2 CH 2 O) a —A′—CH═CH 2 (2)
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and A ′ are the same as above, and a is 0 or 1.)
And a compound having a double bond represented by the following general formula (3)
HSi (CH 3 ) n (OR 4 ) 3-n (3)
(Wherein R 4 and n are the same as above)
The method of making the hydrogen organoxysilane compound shown by these react with a platinum catalyst is illustrated.

また、上記一般式(2)で示される化合物は、例えば下記一般式(4)
HO−(CH2CH2O)a−A’−CH=CH2 (4)
(式中、aは0又は1である。)
で示される化合物と下記一般式(5)
123SiCl (5)
(式中、R1、R2、R3は上記と同様である。)
で示されるクロロシラン化合物とをアミン化合物等の塩酸捕捉剤存在下に反応させることにより製造できる。
The compound represented by the general formula (2) is, for example, the following general formula (4).
HO— (CH 2 CH 2 O) a —A′—CH═CH 2 (4)
(Wherein, a is 0 or 1)
And a compound represented by the following general formula (5)
R 1 R 2 R 3 SiCl (5)
(In the formula, R 1 , R 2 and R 3 are the same as above.)
It can manufacture by making it react with the chlorosilane compound shown by hydrochloric acid scavengers, such as an amine compound.

上記一般式(2)で示される化合物としては、具体的には、6−トリメチルシロキシ−−オキサ−1−ヘキセン、3−トリエチルシロキシ−1−プロペン、6−トリエチルシロキシ−−オキサ−1−ヘキセン、3−(t−ブチルジメチルシロキシ)−1−プロペン、6−(t−ブチルジメチルシロキシ)−−オキサ−1−ヘキセン、3−トリイソプロピルシロキシ−1−プロペン、6−トリイソプロピルシロキシ−−オキサ−1−ヘキセン等が例示される。 Specific examples of the compound represented by the general formula (2) include 6 -trimethylsiloxy- 4 -oxa-1-hexene, 3-triethylsiloxy-1-propene, and 6-triethylsiloxy- 4 -oxa-1. - hexene, 3- (t-butyl dimethyl siloxy) -1-propene, 6- (t-butyl dimethylsiloxy) - 4 - oxa-1-hexene, 3-triisopropylsiloxy-1-propene, 6- triisopropylsiloxy - 4 - oxa-1-hexene, and the like.

また、上記反応で用いられる上記一般式(3)で示されるハイドロジェンシラン化合物としては、具体的にはトリメトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン等が例示される。   Specific examples of the hydrogensilane compound represented by the general formula (3) used in the above reaction include trimethoxysilane, methyldimethoxysilane, dimethylmethoxysilane, triethoxysilane, methyldiethoxysilane, and dimethylethoxy. Examples include silane and the like.

上記一般式(2)で示される二重結合を有する化合物と、上記一般式(3)で示されるハイドロジェンシラン化合物の配合比は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、二重結合を有する化合物1モルに対しハイドロジェンシラン化合物0.5モル〜2モル、特に0.8モル〜1.2モルの範囲が好ましい。   The compounding ratio of the compound having a double bond represented by the general formula (2) and the hydrogensilane compound represented by the general formula (3) is not particularly limited. The range of 0.5 to 2 moles, particularly 0.8 to 1.2 moles of the hydrogen silane compound is preferred with respect to 1 mole of the compound having a bond.

また、上記反応で用いられる白金触媒としては、具体的には塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金−1,3−ジビニル−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン錯体のトルエン又はキシレン溶液、テトラキストリフェニルホスフィン白金、ジクロロビストリフェニルホスフィン白金、ジクロロビスアセトニトリル白金、ジクロロビスベンゾニトリル白金、ジクロロシクロオクタジエン白金等が例示される。   Specific examples of the platinum catalyst used in the above reaction include chloroplatinic acid, an alcohol solution of chloroplatinic acid, and toluene of platinum-1,3-divinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxane complex. Alternatively, xylene solution, tetrakistriphenylphosphine platinum, dichlorobistriphenylphosphine platinum, dichlorobisacetonitrile platinum, dichlorobisbenzonitrile platinum, dichlorocyclooctadiene platinum and the like are exemplified.

白金触媒の使用量は特に限定されないが、反応性、生産性の点から、二重結合を有する化合物1モルに対し、0.000001モル〜0.01モル、特に0.00001モル〜0.001モルの範囲が好ましい。   Although the usage-amount of a platinum catalyst is not specifically limited, From the point of reactivity and productivity, it is 0.000001 mol-0.01 mol with respect to 1 mol of compounds which have a double bond, Especially 0.00001 mol-0.001. A molar range is preferred.

上記反応の反応温度は特に限定されないが、0℃〜120℃、特に20℃〜100℃が好ましい。   Although the reaction temperature of the said reaction is not specifically limited, 0 to 120 degreeC, Especially 20 to 100 degreeC is preferable.

なお、上記反応は無溶媒でも進行するが、溶媒を用いることもできる。用いられる溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソオクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素系溶媒等が例示される。これらの溶媒は単独で使用してもよく、あるいは2種以上を混合して使用してもよい。   In addition, although the said reaction advances even without a solvent, a solvent can also be used. Solvents used include hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, cyclohexane, heptane, isooctane, benzene, toluene and xylene, ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, and ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate. And aprotic polar solvents such as acetonitrile and N, N-dimethylformamide, and chlorinated hydrocarbon solvents such as dichloromethane and chloroform. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

また、本発明の上記一般式(1)で示される化合物は、下記一般式(6)

Figure 0004433168
(式中、R1、R2、R3は炭素数1〜10の1価炭化水素基、R5、R6は水素原子又はメチル基、Aは炭素数1〜10の直鎖又は分岐状の2価脂肪族炭化水素基、Xはハロゲン原子、aは0〜5の整数、nは0,1又は2である。)
で示されるハロシラン化合物を、アルコールでアルコキシ化することにより製造することもできる。 In addition, the compound represented by the general formula (1) of the present invention is represented by the following general formula (6).
Figure 0004433168
(In the formula, R 1 , R 2 and R 3 are monovalent hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms, R 5 and R 6 are hydrogen atoms or methyl groups, and A is linear or branched having 1 to 10 carbon atoms. A divalent aliphatic hydrocarbon group, X is a halogen atom, a is an integer of 0 to 5, and n is 0, 1 or 2.)
It can also be produced by alkoxylating a halosilane compound represented by

更に、本発明の上記一般式(1)で示される化合物は、下記一般式(7)

Figure 0004433168
(式中、R1、R2、R3、R5、R6、Aは上記と同様であり、Yはハロゲン原子、aは0〜5の整数である。)
で示されるグリニア試薬と、下記一般式(8)
Si(CH3n(OR44-n (8)
(式中、R4、nは上記と同様である。)
で示されるシラン化合物との反応により製造することもできる。 Furthermore, the compound represented by the general formula (1) of the present invention is represented by the following general formula (7).
Figure 0004433168
(Wherein R 1 , R 2 , R 3 , R 5 , R 6 and A are the same as above, Y is a halogen atom, and a is an integer of 0 to 5)
And the following general formula (8)
Si (CH 3 ) n (OR 4 ) 4-n (8)
(Wherein R 4 and n are the same as above)
It can also manufacture by reaction with the silane compound shown by these.

得られたシラン化合物は、シランカップリング剤、ガラス、シリコンウエハ等に対する表面処理剤、高分子化合物の変性剤として有用である。この場合、かかる用途に使用した後において、トリオルガノシリル基(R123Si−基)を加水分解又は加アルコール分解等の常法によって脱離させ、それまで該トリオルガノシリル基によって保護していた水酸基を脱保護して水酸基を顕出させることができる。 The obtained silane compound is useful as a silane coupling agent, a surface treatment agent for glass, a silicon wafer, and the like, and a polymer compound modifier. In this case, after being used for such applications, the triorganosilyl group (R 1 R 2 R 3 Si— group) is eliminated by a conventional method such as hydrolysis or alcoholysis, and until then, the triorganosilyl group The protected hydroxyl group can be deprotected to reveal the hydroxyl group.

以下、参考例及び実施例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。 Hereinafter, although a reference example and an example are shown and the present invention is explained concretely, the present invention is not restricted to the following example.

参考例1]
3−トリメチルシロキシプロピルトリエトキシシランの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、3−トリメチルシロキシ−1−プロペン39.1g(0.3モル)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3wt%)0.20gを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、トリエトキシシラン49.3g(0.3モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点89−90℃/0.4kPaの留分を62.5g得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトルを測定した。
質量スペクトル
m/z 279, 248, 193, 163, 135
1 H−NMRスペクトル(重クロロホルム溶媒)
図1にチャートで示す。
IRスペクトル
図2にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は3−トリメチルシロキシプロピルトリエトキシシランであることが確認された。
[ Reference Example 1]
Synthesis of 3-trimethylsiloxypropyltriethoxysilane In a flask equipped with a stirrer, reflux, dropping funnel and thermometer, 39.1 g (0.3 mol) of 3-trimethylsiloxy-1-propene, platinum-divinyltetramethyl 0.20 g of a toluene solution of a disiloxane complex (platinum content: 3 wt%) was charged and heated to 50 ° C. After the internal temperature was stabilized, 49.3 g (0.3 mol) of triethoxysilane was added dropwise over 2 hours and stirred at that temperature for 1 hour. The reaction solution was distilled to obtain 62.5 g of a fraction having a boiling point of 89-90 ° C./0.4 kPa.
A mass spectrum, 1 H-NMR spectrum, and IR spectrum of the obtained fraction were measured.
Mass spectrum m / z 279, 248, 193, 163, 135
1 H-NMR spectrum (deuterated chloroform solvent)
A chart is shown in FIG.
IR spectrum is shown in the chart of FIG.
From the above results, it was confirmed that the obtained compound was 3-trimethylsiloxypropyltriethoxysilane.

参考例2]
3−トリメチルシロキシプロピルメチルジエトキシシランの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、3−トリメチルシロキシ−1−プロペン39.1g(0.3モル)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3wt%)0.20gを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、メチルジエトキシシラン40.3g(0.3モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点79−81℃/0.4kPaの留分を61.1g得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトルを測定した。
質量スペクトル
m/z 249, 207, 177, 163, 133
1 H−NMRスペクトル(重クロロホルム溶媒)
図3にチャートで示す。
IRスペクトル
図4にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は3−トリメチルシロキシプロピルメチルジエトキシシランであることが確認された。
[ Reference Example 2]
Synthesis of 3-trimethylsiloxypropylmethyldiethoxysilane In a flask equipped with a stirrer, reflux, dropping funnel and thermometer, 39.1 g (0.3 mol) of 3-trimethylsiloxy-1-propene, platinum-divinyltetra A toluene solution of a methyldisiloxane complex (platinum content 3 wt%) 0.20 g was charged and heated to 50 ° C. After the internal temperature was stabilized, 40.3 g (0.3 mol) of methyldiethoxysilane was added dropwise over 2 hours and stirred at that temperature for 1 hour. The reaction solution was distilled to obtain 61.1 g of a fraction having a boiling point of 79-81 ° C./0.4 kPa.
A mass spectrum, 1 H-NMR spectrum, and IR spectrum of the obtained fraction were measured.
Mass spectrum m / z 249, 207, 177, 163, 133
1 H-NMR spectrum (deuterated chloroform solvent)
FIG. 3 shows a chart.
IR spectrum is shown in the chart of FIG.
From the above results, it was confirmed that the obtained compound was 3-trimethylsiloxypropylmethyldiethoxysilane.

[実施例
3−t−ブチルジメチルシロキシ−1−プロペンの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、t−ブチルジメチルクロロシラン226.1g(1.5モル)、トリエチルアミン167.0g(1.65モル)、ヘキサン500mlを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、アリルアルコール95.9g(1.65モル)を2時間かけて滴下した。滴下後昇温し、還流下で8時間撹拌した。反応液を室温まで冷却後、水300gを加え、生じた塩を溶解した。有機層を硫酸ナトリウム20gで乾燥した後蒸留した。3−t−ブチルジメチルシロキシ−1−プロペンを沸点74−75℃/6.7kPaの留分として230.2g得た(収率89%)。
3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルトリエトキシシランの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、3−t−ブチルジメチルシロキシ−1−プロペン51.7g(0.3モル)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3wt%)0.20gを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、トリエトキシシラン49.3g(0.3モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点81−82℃/0.1kPaの留分を75.6g得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトルを測定した。
質量スペクトル
m/z 321, 279, 237, 193, 165, 135
1 H−NMRスペクトル(重クロロホルム溶媒)
図5にチャートで示す。
IRスペクトル
図6にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルトリエトキシシランであることが確認された。
[Example 1 ]
Synthesis of 3-t-butyldimethylsiloxy-1-propene In a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 226.1 g (1.5 mol) of t-butyldimethylchlorosilane, 167.0 g of triethylamine ( 1.65 mol) and 500 ml of hexane were charged and heated to 50 ° C. After the internal temperature was stabilized, 95.9 g (1.65 mol) of allyl alcohol was added dropwise over 2 hours. After dropping, the temperature was raised and the mixture was stirred for 8 hours under reflux. After cooling the reaction solution to room temperature, 300 g of water was added to dissolve the resulting salt. The organic layer was dried over 20 g of sodium sulfate and distilled. 230.2 g of 3-t-butyldimethylsiloxy-1-propene was obtained as a fraction having a boiling point of 74-75 ° C./6.7 kPa (yield 89%).
Synthesis of 3- (t-butyldimethylsiloxy) propyltriethoxysilane Into a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 51.7 g (0.3% of 3-t-butyldimethylsiloxy-1-propene) was added. Mol), 0.20 g of a toluene solution of platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex (platinum content 3 wt%) was charged and heated to 50 ° C. After the internal temperature was stabilized, 49.3 g (0.3 mol) of triethoxysilane was added dropwise over 2 hours and stirred at that temperature for 1 hour. The reaction solution was distilled to obtain 75.6 g of a fraction having a boiling point of 81-82 ° C./0.1 kPa.
A mass spectrum, 1 H-NMR spectrum, and IR spectrum of the obtained fraction were measured.
Mass spectrum m / z 321, 279, 237, 193, 165, 135
1 H-NMR spectrum (deuterated chloroform solvent)
FIG. 5 shows a chart.
IR spectrum is shown in the chart of FIG.
From the above results, it was confirmed that the obtained compound was 3- (t-butyldimethylsiloxy) propyltriethoxysilane.

[実施例
3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルメチルジエトキシシランの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、3−t−ブチルジメチルシロキシ−1−プロペン51.7g(0.3モル)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3wt%)0.20gを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、メチルジエトキシシラン40.3g(0.3モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点85−86℃/0.15kPaの留分を71.9g得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトルを測定した。
質量スペクトル
m/z 291, 249, 207, 163, 133
1 H−NMRスペクトル(重クロロホルム溶媒)
図7にチャートで示す。
IRスペクトル
図8にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は3−(t−ブチルジメチルシロキシ)プロピルメチルジエトキシシランであることが確認された。
[Example 2 ]
Synthesis of 3- (t-butyldimethylsiloxy) propylmethyldiethoxysilane Into a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 51.7 g (0. 3 mol), 0.20 g of a toluene solution of platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex (platinum content 3 wt%) was charged and heated to 50 ° C. After the internal temperature was stabilized, 40.3 g (0.3 mol) of methyldiethoxysilane was added dropwise over 2 hours and stirred at that temperature for 1 hour. The reaction solution was distilled to obtain 71.9 g of a fraction having a boiling point of 85-86 ° C./0.15 kPa.
A mass spectrum, 1 H-NMR spectrum, and IR spectrum of the obtained fraction were measured.
Mass spectrum m / z 291, 249, 207, 163, 133
1 H-NMR spectrum (deuterated chloroform solvent)
FIG. 7 shows a chart.
IR spectrum is shown as a chart in FIG.
From the above results, it was confirmed that the obtained compound was 3- (t-butyldimethylsiloxy) propylmethyldiethoxysilane.

[実施例
6−トリメチルシロキシ−4−オキサヘキシルトリエトキシシランの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、6−トリメチルシロキシ−−オキサ−1−ヘキセン34.9g(0.2モル)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3wt%)0.13gを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、トリエトキシシラン32.9g(0.2モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点84−90℃/0.010kPaの留分を48.1g得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトルを測定した。
質量スペクトル
m/z 205, 175, 163, 119, 73
1 H−NMRスペクトル(重クロロホルム溶媒)
図9にチャートで示す。
IRスペクトル
図10にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は6−トリメチルシロキシ−−オキサヘキシルトリエトキシシランであることが確認された。
[Example 3 ]
Synthesis of 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexyltriethoxysilane Into a flask equipped with a stirrer, reflux, dropping funnel and thermometer, 34.9 g of 6-trimethylsiloxy- 4 -oxa-1-hexene (0.2% Mol), 0.13 g of a toluene solution of platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex (platinum content 3 wt%) was charged and heated to 50 ° C. After the internal temperature was stabilized, 32.9 g (0.2 mol) of triethoxysilane was added dropwise over 2 hours and stirred at that temperature for 1 hour. The reaction solution was distilled to obtain 48.1 g of a fraction having a boiling point of 84-90 ° C./0.010 kPa.
A mass spectrum, 1 H-NMR spectrum, and IR spectrum of the obtained fraction were measured.
Mass spectrum m / z 205, 175, 163, 119, 73
1 H-NMR spectrum (deuterated chloroform solvent)
FIG. 9 is a chart.
IR spectrum is shown in the chart of FIG.
From the above results, it was confirmed that the obtained compound was 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexyltriethoxysilane.

[実施例
6−トリメチルシロキシ−4−オキサヘキシルメチルジエトキシシランの合成
撹拌機、還流器、滴下ロート及び温度計を備えたフラスコに、6−トリメチルシロキシ−−オキサ−1−ヘキセン34.9g(0.2モル)、白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含量3wt%)0.13gを仕込み、50℃に加熱した。内温が安定した後、メチルジエトキシシラン26.9g(0.2モル)を2時間かけて滴下し、その温度で1時間撹拌した。反応液を蒸留し、沸点74−78℃/0.013kPaの留分を45.1g得た。
得られた留分の質量スペクトル、1H−NMRスペクトル、IRスペクトルを測定した。
質量スペクトル
m/z 221, 175, 145, 133, 73
1 H−NMRスペクトル(重クロロホルム溶媒)
図11にチャートで示す。
IRスペクトル
図12にチャートで示す。
以上の結果より、得られた化合物は6−トリメチルシロキシ−−オキサヘキシルメチルジエトキシシランであることが確認された。
[Example 4 ]
Synthesis of 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexylmethyldiethoxysilane Into a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, a dropping funnel and a thermometer, 34.9 g of 6-trimethylsiloxy- 4 -oxa-1-hexene (0. 2 mol), 0.13 g of a toluene solution of platinum-divinyltetramethyldisiloxane complex (platinum content 3 wt%) was charged and heated to 50 ° C. After the internal temperature was stabilized, 26.9 g (0.2 mol) of methyldiethoxysilane was added dropwise over 2 hours and stirred at that temperature for 1 hour. The reaction solution was distilled to obtain 45.1 g of a fraction having a boiling point of 74-78 ° C./0.013 kPa.
A mass spectrum, 1 H-NMR spectrum, and IR spectrum of the obtained fraction were measured.
Mass spectrum m / z 221, 175, 145, 133, 73
1 H-NMR spectrum (deuterated chloroform solvent)
FIG. 11 shows a chart.
IR spectrum is shown in the chart of FIG.
From the above results, it was confirmed that the obtained compound was 6-trimethylsiloxy- 4 -oxahexylmethyldiethoxysilane.

参考例1の化合物の1H−NMRスペクトルである。 2 is a 1 H-NMR spectrum of the compound of Reference Example 1. 参考例1の化合物のIRスペクトルである。 3 is an IR spectrum of the compound of Reference Example 1. 参考例2の化合物の1H−NMRスペクトルである。2 is a 1 H-NMR spectrum of the compound of Reference Example 2. 参考例2の化合物のIRスペクトルである。 4 is an IR spectrum of the compound of Reference Example 2. 実施例の化合物の1H−NMRスペクトルである。 1 is a 1 H-NMR spectrum of the compound of Example 1 . 実施例の化合物のIRスペクトルである。2 is an IR spectrum of the compound of Example 1 . 実施例の化合物の1H−NMRスペクトルである。 2 is a 1 H-NMR spectrum of the compound of Example 2 . 実施例の化合物のIRスペクトルである。 2 is an IR spectrum of the compound of Example 2 . 実施例の化合物の1H−NMRスペクトルである。2 is a 1 H-NMR spectrum of the compound of Example 3 . 実施例の化合物のIRスペクトルである。4 is an IR spectrum of the compound of Example 3 . 実施例の化合物の1H−NMRスペクトルである。2 is a 1 H-NMR spectrum of the compound of Example 4 . 実施例の化合物のIRスペクトルである。 4 is an IR spectrum of the compound of Example 4 .

Claims (2)

下記一般式(1)
Figure 0004433168
(式中、aは0〜5の整数で、a=0の場合、R 1 2 3 SiO−はトリエチルシロキシ基、t−ブチルジメチルシロキシ基、又はトリイソプロピルシロキシ基を示し、a=1〜5の整数の場合、R 1 、R 2 、R 3 は炭素数1〜10の1価炭化水素基を示し、4は炭素数1〜10の1価炭化水素基、R5、R6は水素原子又はメチル基、Aは炭素数1〜10の直鎖又は分岐状の2価脂肪族炭化水素基、nは0,1又は2である。)
で示されることを特徴とする保護された水酸基を有するオルガノキシシラン化合物。
The following general formula (1)
Figure 0004433168
( Wherein , a is an integer of 0 to 5, and when a = 0, R 1 R 2 R 3 SiO— represents a triethylsiloxy group, a t-butyldimethylsiloxy group, or a triisopropylsiloxy group, and a = 1 In the case of an integer of ˜5, R 1 , R 2 , R 3 represent a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms , R 4 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, R 5 , R 6 Is a hydrogen atom or a methyl group, A is a linear or branched divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms , and n is 0, 1 or 2.)
An organoxysilane compound having a protected hydroxyl group, wherein
5、R6が共に水素原子、Aが−A’−CH2CH2−(A’は炭素数1〜8の直鎖又は分岐状の2価脂肪族炭化水素基である。)、aが0又は1であることを特徴とする請求項1記載の保護された水酸基を有するオルガノキシシラン化合物。 R 5 and R 6 are both hydrogen atoms, A is —A′—CH 2 CH 2 — (A ′ is a linear or branched divalent aliphatic hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms), a The organoxysilane compound having a protected hydroxyl group according to claim 1, wherein is 0 or 1.
JP2004069325A 2004-03-11 2004-03-11 Organoxysilane compounds having protected hydroxyl groups Expired - Lifetime JP4433168B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004069325A JP4433168B2 (en) 2004-03-11 2004-03-11 Organoxysilane compounds having protected hydroxyl groups

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004069325A JP4433168B2 (en) 2004-03-11 2004-03-11 Organoxysilane compounds having protected hydroxyl groups

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005255614A JP2005255614A (en) 2005-09-22
JP4433168B2 true JP4433168B2 (en) 2010-03-17

Family

ID=35081699

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004069325A Expired - Lifetime JP4433168B2 (en) 2004-03-11 2004-03-11 Organoxysilane compounds having protected hydroxyl groups

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4433168B2 (en)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101611043B (en) * 2007-02-14 2013-03-13 Jsr株式会社 Material for forming silicon-containing film, and silicon-containing insulating film and method for forming the same
JP4941657B2 (en) * 2007-04-06 2012-05-30 信越化学工業株式会社 Organosilicon compound, method for producing the same, photopolymerizable composition, and inorganic material
JP5105105B2 (en) 2008-12-02 2012-12-19 信越化学工業株式会社 Organosilane compound for forming Si-containing film by plasma CVD method and method for forming Si-containing film

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005255614A (en) 2005-09-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5740953B2 (en) Method for producing organosilicon compound
JP5664192B2 (en) Method for producing organosilicon compound
EP0913401A2 (en) Fluorine-containing siloxane compound and process for production thereof
JP4655790B2 (en) Silicon compounds
JP6052140B2 (en) Organoxysilane compound having bissilylamino group and process for producing the same
JP4655789B2 (en) Silicon compounds
JP4433168B2 (en) Organoxysilane compounds having protected hydroxyl groups
JP2019073652A (en) Polysilazane compound and method for producing the same, water repellent treatment agent containing the same and water repellent treatment method using the same
JP4771075B2 (en) Organoxysilane compound having protected piperazino group and method for producing the same
JP5333971B2 (en) Process for producing organosilicon compound containing β-cyanoester group
KR101097522B1 (en) Process for producing organosilicon compound
JP4336970B2 (en) Silane compound having protected carboxyl group and method for producing the same
JP2012219071A (en) Alkoxysilane compound bearing fluoroalkyl group, and manufacturing method for the same
JP2005298428A (en) Silane compound having two or more protected functional groups, and its production method
JP5402413B2 (en) Organosilicon compound having protected hydroxyl group and method for producing the same
JP4344936B2 (en) Method for producing organosilicon compound containing amino groups at both ends
JP3915875B2 (en) Process for producing N-substituted-3-silylpropylamines and derivatives thereof
JP4453827B2 (en) Organoxysilane compound having siloxane bond and method for producing the same
JP4662042B2 (en) Bisorganoxysilane compound having amino group protected by silyl group and method for producing the same
JP7350253B2 (en) Bishaloalkylsiloxane compound and method for producing the same, and method for producing a siloxane compound having both terminal functionalities
JP2008239489A (en) Novel organosilicon compound
JP2004256503A (en) Method for producing organic silicon compound
JP3972162B2 (en) Process for producing isocyanato group-containing organosilicon compounds
JPH06107671A (en) Organosilicon compound and its production
JP5644515B2 (en) Unsaturated bond-containing silyl group-protected amino acid compound and method for producing the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060119

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090318

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090514

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20091202

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20091215

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4433168

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130108

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160108

Year of fee payment: 6